JPH045659A

JPH045659A - フォトマスク基板支持装置

Info

Publication number: JPH045659A
Application number: JP2105466A
Authority: JP
Inventors: Haruhiko Kususe; 治彦楠瀬
Original assignee: Mitsubishi Electric Corp
Current assignee: Mitsubishi Electric Corp
Priority date: 1990-04-23
Filing date: 1990-04-23
Publication date: 1992-01-09

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕この発明は、露光装置、座標測定器などに使用するフォ
トマスク基板を支持するためのフォトマスク基板支持装
置に関するものである。

〔従来の技術〕

第１２図、第１３図は従来のフォトマスク基板支持装置
を示し、平板状のステージ（２）の上面に真空溝（２１
）が形成されていて、排気ボート（２２）から真空７１
１（２１）を真空引きすることにより、フォトマスク基
板を吸着してステージ（２）と略平行に支持するもので
ある。

また、他の従来のフォトマスク基板支持装置として第１
４図、第１５図に示すものがあり、ステージ（２）に、
高さ調整ねしく３１）、押上ロッド（３２）、レバー（
３３）およびスプリング（３４）からなるクランプ手段
を設け、フォトマスク基板（１）の微小な面積部分を機
械的にクランプするもので、電子ビーム露光装置のよう
に、ステージが真空中にあるため真空吸着ができない場
合に適用されている。

〔発明が解決しようとする課題〕

以上のような従来のフォトマスク基板支持装置は、前者
にあっては、フォトマスク基板は真空吸着してステージ
に固定していたので、この面の吸着面の平面度が十分で
ない場合はフォトマスク基板がそり、このため露光装置
においては描画位置精度が悪化した。また後者では、フ
ォトマスク基板の微小な面を機械的にクランプして支持
するため、ステージ移動時の加速に対し、フォトマスク
基板がずれることを防ぐために充分大きな圧力でフォト
マスク基板をクランプする必要があった。

そのためこの圧力によりフォトマスク基板が歪み、描画
位置精度が悪化することがあった。

また、これらが露光袋Ｗでなく座標測定器の場合におい
ては、同じ理由により座標測定値の誤差となる問題点が
あった。

この発明は上記のような問題点を解決するためになされ
たもので、支持したフォトマスク基板が歪むことがなく
、また、ステージ移動時の加速に対してフォトマスク基
板がずれることがないフォトマスク基板支持装置を得る
ことを目的とする。

〔課題を解決するための手段〕

この発明に係るフォトマスク基板支持装置は、フォトマ
スク基板の下面の３箇所の部位に球を同定し、露光装置
または座標測定器のステージ側にこの球を受ける係合部
を設けることによって基板の支持を行う。

〔作　用〕

この発明においては、フォトマスク基板に取付けられた
３個の球の内１個はステージ側のビットに係合させ、フ
ォトマスク基板の回転軸の中心とする、また他の１個は
溝に係合させてフォトマスク基板の回転角度を規制する
。また残りの１個は平坦な部分に乗せフォトマスク基板
の傾斜のみを規制する。

〔実施例〕

第１図〜第５図はこの発明の一実施例を示し、フォトマ
スク基板（１）下面の仮想三角形の頂点位置に、それぞ
れ球体（３ａ）　、　（３ｂ）　、　（３ｃ）が接着剤
（４）によって接着されている。ステージ（２）の上面
には、球体（３ａ）　、　（３ｂ）　、　（３ｃ）にそ
れぞれ対応する位置に、断面Ｖ字状のビット（５）、こ
のビット（５）に向かうＶ渭（６）および平坦面（７）
が設けられていて、球体（３ａ）　、　（３ｂ）　、　
（３ｃ）がそれぞれ係合することによってステージ（２
）にフォトマスク基板（１）を支持する。

球（３ａ）はフォトマスク基板（１）の回転軸中心とな
る第１の支持点、球（３ｂ）はフォトマスク基板（１）
の回転角度を決定する第２の支持点、また、球（３ｃ）
はフォトマスク基板（１）の傾斜を規制する第３の支持
点となっている。

かかる構成により、フォトマスク基板（１）に歪を与え
ない重力程度の圧力でフォトマスク基板（１）を支持し
ているにも拘わらず、フォトマスク基板（１）のずれを
生じることなく、描画位置精度を高めることができる。

なお、上記実施例では、Ｖ字状のビット、■溝を用いた
が、第６図に示すように、円筒形または角形のビット（
５）、溝（６）を用いてもよく、また第７図に示すよう
にＵ字形のビット（５）、渭（６）でもよい。さらに、
球体に代えて、第８図に示すように、半球体（３ｄ）、
あるいは、第９図に示すように、円筒体（３ｅ）として
もよく、断面が円弧状であればよい。

また、球体のような突起側をフォトマスク基板に設けた
が、逆に、突起側をステージに配置し、フォトマスク基
板にピッＩ−や溝を形成してもよい。

さらに、第１０図、第１１図に示すように、ピッ）、（
５）、Ｖ講り６）に係合する球体（３ａ）　、−（３ｂ
）はフォトマスク基板（１）に固着し、平坦面（７）に
当接する球体（３ｃ）をステージ（２）に固着するなど
、種々の変形が考えられる。

また、フォトマスク基板に対する部品の固定は接着剤を
用いたが。金属等を用いて溶接してもよい。また融着し
てもよい。

ｔた、本例ではステージがフォトマスク基板を直接支持
する構造としたが、カセットを介する構成としてもよい
。ただし、この場合は当然フォトマスク基板をカセット
に支持する部分は本発明の構造とする。

また、ステージの加速度が重力によるフォトマスク基板
の支持力を上回り、フォトマスク基板がずれてしまう場
合は、球の真上の部分をフォトマスク基板に上部から必
要充分な圧力でステージ側に押し付ける機構を有するも
のとすればよい。

また、本例ではフォトマスク基板の高さ及び傾斜角度は
固定であるが、必要であればビット、■清、及び平坦な
部分の高さを圧電駆動素子等で調整できる構造とするこ
とも考えられる。

さらに、本例ではフォトマスク基板の下部に球を取り付
ける構造としたが、反対に上部に取り付け、フォトマス
ク基板の下部から押し上げて支持する構造としてもよい
。

〔発明の効果〕

以上の説明から明らかなように、この発明は、球体など
を溝およびビットに係合させてフォトマスク基板を支持
するため、フォトマスク基板にかかる重力による力程度
の小さい固定圧力でもステージ移動時の加速度が充分小
さい場合はフォトマスク基板のずれがない支持が可能と
なる。そのため、フォトマスク基板の歪みが少なく、露
光装置においては描画位置精度が、また座標測定器にお
いては座標測定精度が向上する。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の一実施例の平面図、第２図〜第５図
はそれぞれ第１図の■−■線、Ｉ［［−Ｉ線、ＩＶ−Ｉ
Ｖ線およびＶ−■線に沿う平面による断面図、第６図〜
第１１図はそれぞれ他の実施例の要部断面図、第１２図
は従来のフォトマスクの基板支持装置の平面図、第１３
図は第１２図のｘｍ−ｘｍ線に沿う平面による断面図、
第１４図は従来の他のフォトマスク基板支持装置の平面
図、第１５図は第１４図のｘｖ−ｘｖ線に沿う平面によ
る断面図である。（１）・・フォトマスク基板、（２）・・ステージ、（
３ａ）〜（３ｃ）・・球体（第１、第２、第３の支持点
）、（５）・・ビット、（６）・・■溝、（７）・・平
坦面。なお、各図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。

Claims

【特許請求の範囲】　フォトマスク基板を平板状のステージに略平行に支持
するフォトマスク基板支持装置において、断面円弧状の
突起体と凹部との係合でなり、前記フォトマスク基板と
前記ステージ間の仮想三角形の２つの頂点にそれぞれ配
置された、前記フォトマスク基板の回転軸の中心となる
第１の支持点と、前記フォトマスク基板の回転角度を決
定する第２の支持点と、断面円弧状の突起体と平坦面との係合でなり、前記仮想
三角形の他の１つの頂点に配置され、前記フォトマスク
基板の傾斜を規制する第３の支持点と、を備えてなることを特徴とするフォトマスク基板支持装
置。