JPH0933914A - 偏光パターンを移動するための装置 - Google Patents

偏光パターンを移動するための装置

Info

Publication number
JPH0933914A
JPH0933914A JP8177771A JP17777196A JPH0933914A JP H0933914 A JPH0933914 A JP H0933914A JP 8177771 A JP8177771 A JP 8177771A JP 17777196 A JP17777196 A JP 17777196A JP H0933914 A JPH0933914 A JP H0933914A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical member
member according
liquid crystal
layer
polarization
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP8177771A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3100339B2 (ja
Inventor
Hubert Seiberle
ザイベルレ フーベルト
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
F Hoffmann La Roche AG
Original Assignee
F Hoffmann La Roche AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by F Hoffmann La Roche AG filed Critical F Hoffmann La Roche AG
Publication of JPH0933914A publication Critical patent/JPH0933914A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3100339B2 publication Critical patent/JP3100339B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133528—Polarisers
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3016—Polarising elements involving passive liquid crystal elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
    • G02F1/133753—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers with different alignment orientations or pretilt angles on a same surface, e.g. for grey scale or improved viewing angle
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
    • G02F1/133753—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers with different alignment orientations or pretilt angles on a same surface, e.g. for grey scale or improved viewing angle
    • G02F1/133757—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers with different alignment orientations or pretilt angles on a same surface, e.g. for grey scale or improved viewing angle with different alignment orientations

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 非偏光又は均一偏光から局所的に異なる偏光
を製造する偏光マスクを提供する。 【解決手段】 光出力側で互いに制限され、かつ少なく
とも断続的に異なる偏光方向を有する帯域が存在する光
学部材。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光学部材が偏光−
感応層の露光において偏光マスクとして使用される、入
射光からの所定の偏光方向を有する直線偏光を製造する
ための光学部材、該部材の製造及びそれらの好ましい使
用に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】用語“製造”は、非偏光から直線偏光を
実際に製造すること及び既に直線的に偏光した入射光の
偏光方向を変化させることの両方を表すものとして、こ
の説明の目的として理解されるべきである。異方性材料
特性が直線偏光を照射することにより誘発される分野に
おいて、種々の方法及び材料が近年知られるようになっ
た。異方性特性−即ち、ミクロ的に見て小さい帯域での
材料の好ましい方向−は、偏光位置により変化し得る。
光学異方性に加え、これらの材料に工業的興味を与える
立体異方性が、さらに存在する。ポリマー材料と接触し
ている液晶は、該材料の立体異方性によりそれらの好ま
しい方向で配向する。これらの光構造可能な(photostru
cturable) ポリマーはそれ故、液晶の配向層として著し
く適しており、配向方向をμm の範囲で変化できる。米
国特許第4,974,941 号明細書は、染料のシス−トランス
−異性化による適切な波長の直線偏光を照射することに
より好ましい方向が誘発されるゲスト−ホスト系を基礎
とする方法を記載している。このように照射した表面と
接触している液晶は、好ましい方向で配向している。こ
の配向方法は可逆的である−即ち、第二の偏光方向の光
を有する層をさらに照射することにより、既述した配向
方向は再び回転し得る。再配向工程を、必要とされるだ
け繰り返すことができ、それ故、特に再配列可能な光学
メモリーに関してが興味深い。米国特許第5,389,698 号
明細書は、前述した可逆的配向方法と対照的に、非可逆
的異方性ポリマー網状構造を構成する光構造可能配向層
を開示している。直線偏光で露光中に網状構造で誘発さ
れた光学的及び配向特性は光安定であり、さらに露光し
てもさらに再配向出来ない。これらの光- 配向ポリマー
網状構造(PPN)はそれ故、安定な、構造化又は非構造化L
C配向層あるいは非−吸収性カラーフィルター、直線又
はコレステリック偏光フィルター、光学的遅延層等のよ
うな光学素子を必要とするところはどこでも使用されて
いる。
【０００３】概して、光構造可能配向層の露光におい
て、少なくとも２つの異なる光の偏光状態は、一定のパ
ターンで書く様、使用されなくてはならない。偏光パタ
ーンを光構造可能層に付ける(impress) 種々の露光方法
が現在知られている。公知の方法は全て、全情報が平行
形で伝えられないが、連続的に−即ち、２工程以上の露
光工程で、伝えられなくてはならないという欠点を有し
ている。それ故、公知の方法は複雑で、費用がかかり、
かつ時間を消費する。例えば、情報を点状で光構造可能
層に施すのにスキャナーを使用できる。この場合、偏光
方向は点毎に変化し得る。しかしながら、高情報内容の
パターンの伝達において、パターンに対する全露光時間
が受入れ可能な限界を越えないならば、非常に短い露光
時間のみを各点について利用できる。その結果、配向に
必要なエネルギーを、短時間で層の小領域に施すべきで
あり、光構造可能材料の熱負荷は、厳しく抑えられてい
る。米国特許第5,389,698 号明細書に記載されている別
の可能性は、層がマスクを通過する偏光で照射されるこ
とである。これにより、同じ配向方向を有する層の帯域
又は領域の全部が同時に露光できるようになる。それ
故、多くの異なる配向方向を、さらにマスクを用いるこ
とにより層に書くことができる。この方法では、各配向
方向、調節されるべき偏光フィルターの伝達方向及び各
時に変更及び配置されるべきマスクに対し露光工程が必
要である。マスクの位置付けは特に時間を消費する操作
である。
【０００４】偏光子の特定の透過方向が、この順次露光
工程における各マスクに関連しているので、偏光子自身
がマスクの一部分となり得る。この種の偏光マスクを、
公知技術、例えば、偏光フィルムにフィルムをラミネー
トすることで、種々の方法により製造できる。この種の
偏光マスクは、必要な偏光方向全部が、一度の露光工程
で光構造可能層に完全な偏光パターンを移せるよう一つ
のマスクに統合することができるならば、改良され得
る。LC配向層を製造するためのこの種の偏光マスクは、
欧州特許第632,311 号公報に記述されているが、そのよ
うな偏光マスクを製造する方法については全く示されて
いない。実際、偏光フィルムの製造における一般的な方
法を拡張すれば、広領域に渡る不変の偏光方向に自動的
に到る。米国特許第5,327,285 号明細書は、μm の範囲
で帯域状に異なる２つの偏光方向を有する偏光子を製造
する方法を開示している。この方法は偏光子フィルムを
製造する技術を基礎としている。２つの偏光子フィルム
の偏光特性は、化学的又は機械的処理によって帯域状で
消去され、正確に互いに90゜離れて一緒に積層されてい
る。しかしながら、２つのフィルムを位置付け、それら
を接合するという厳しい条件があるので、異なる配向帯
域を必要なだけ小さく作成することは出来ない。又、比
較的厚い偏光フィルムを互いに積み重ねることにより起
こる視差誤差により、可能な偏光方向の数が２に限定さ
れる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、例え
ば、偏光配向パターンを一度の露光工程で偏光−感応層
に書き込むことを可能にするマスクを製造するのに使用
するために、帯域状で異なる偏光方向で、直線偏光が製
造されることを可能にする光学部材を考案することであ
る。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この目的のために、本発
明により、光出力側で互いに制限されており、かつ少な
くとも断続的に異なる偏光方向を有する帯域が存在す
る。
【０００７】
【発明の実施の形態】又、本発明の好ましい態様におい
て、液晶層が異なる方向で帯域状に配向される入射光
は、液晶層を通過した後偏光し、配向パターンに従っ
て、光の偏光面が変化する。好ましくは、帯域が、入射
直線偏光の偏光面が種々の角度に回転しているように、
光学回転の異なる力を有する。用語“回転力”は、本明
細書中において、ねじれた液晶が光の偏光方向を回転さ
せる能力及び複屈折により種々の偏光方向を作りだす能
力の両方を示すものとして理解されるべきである。液晶
層の配向は、対応する構造化配向層により不変的に、も
しくは電極を有する液晶セルにおいて動的に、決定し得
る。後者の場合、配向パターンは、分離している画素点
を電気的に活性化することにより非常に簡単に変えられ
る。これらの偏光マスクの転換特性により、マスクがコ
ンピュター制御下、何分の一秒かで変換されるのを可能
にする、大きな柔軟性が提供される。それ故、文章、数
又はイメージのような情報の個々の項目は迅速に伝達さ
れ得る。他方、偏光パターンの不変性は、配向層を有す
る個々の基板上の架橋液晶層により、又は液晶セルのい
ずれかにより達成できるが、後者の場合、該セルの２つ
の配向層の少なくとも一つが構造化配向を有さなくては
ならない。
【０００８】不変の偏光パターンを有する偏光マスクに
より提供された偏光方向は、要求されるように画素毎に
調節できるべきであり、該マスクの使用は、３以上の異
なる配向方向を有するパターンを移すことが必要とされ
る場合に特に有用である。この目的に必要な構造化配向
を形成するのに、種々の技術を使用できる。異なる配向
方向の光でマスクを通して露光した光構造可能材料を、
この場合にも使用できるのが好ましい。又、偏光マスク
を製造するこのオン−オフ工程を、例えば、異なる方向
で研磨し、研磨されていない帯域を覆うか、機械的な型
押しにより配向パターンを付けることによって実施でき
るが、これらの工程は、配向層を大量生産するのには手
が込みすぎているだろう。偏光マスクを通して露光する
場合、入射光は、液晶層の前に置かれており、不変の透
過方向を有している従来の偏光子により、又は二色性分
子により液晶をドープすることのいずれかにより偏光で
き、光構造可能材料のスペクトル感度により同じものが
選ばれる。本発明の態様を、添付の図に関して、以後、
説明する。
【０００９】
【実施例】
【実施例１】光構造可能PPN 層の製造 桂皮酸誘導体は、例えば、PPN 材料として考え得る。高
ガラス転移点(Tg=133℃) を有する材料をPPN 層の例と
して選択した：
【化１】 PPN 材料をNMP に濃度５％まで溶解した。次にこの溶液
を用いて、PPN 層をガラスプレートに2000rpm でスピン
コーティングにより施した。次に該層を130 ℃において
ヒートベンチ上で２時間、そして130 ℃において真空下
でさらに４時間乾燥した。次に、該層を５分間室温下で
200 ワットの極高圧水銀ランプの直線偏光に曝し、その
後該層を液晶の配向層として使用できた。
【実施例２】架橋LCモノマーから成る層の製造（図１参照） PPN 層１を実施例１のように製造し、使用した基板２は
UV透過性珪硼酸ガラスプレートである。UV光の偏光方向
は、プレートの左及び右半分の放射に対して45゜偏って
いた。未だ公表されていない特許出願RAN4701/152 に記
載されているように、架橋性LCモノマーの混合物をアニ
ソールに20％濃度まで溶解し、露光したPPN 層に室温下
でスピンコートすることにより該混合物を施した。光誘
発架橋のため、該層に真空下で150 ワットキセノンラン
プからの等方性光を30分間照射した。架橋した液晶層
（LCP)3 は、機械的、熱的及びUVストレスの点で安定で
あった。架橋層を交差偏光子下で観察した時、複屈折で
あることが分かった。プレートの左及び右半分の光学軸
４、５は、角度45゜を形成した。液晶はPPN 層の配向を
引き継ぎ、架橋工程中に配向を保持した。
【００１０】
【実施例３】複屈折マスクによるPPN 層の露光（図２参照） 実施例２で製造した層の光学遅延は、336nm 水銀線付近
で約170nm であった。次に、プレート１、２及び３を、
層側が互いに接触するようにPPN 材料で被覆したガラス
プレート上に複屈折マスクとして設置した。次に、PPN
層を複屈折マスクを通過する波長336nm の偏光UV光６で
５分間照射した。UV光の偏光方向を、複屈折マスクの左
半分の光学軸に対して平行に調節した。それ故、UV光の
偏光方向はマスクの左半分を通過中は維持され、プレー
トの右半分はλ／２遅れプレートとして働き、その結
果、偏光方向に90゜回転した。露光後、液晶層をPPN 層
にスピンコーティングより実施例２のように施した。傾
斜補償板により、プレートの左及び右半分上の液晶はプ
レートの平面上で互いに垂直であることが分かった。90
゜未満で通過する入射光の偏光面を回転させる複屈折マ
スクは同様に製造できる。この目的に対し、異なる配向
の光学軸間の角度は、45゜未満でなくてはいけない。こ
の方法は、光学軸の方向が互いに異なる多くの帯域を有
する偏光マスクを製造するのに使用することも出来る。
【００１１】
【実施例４】構造的に配向した、偏光回転マスクとしてのLCセル（図
３参照） 実施例２におけるように、PPN 被覆した珪硼酸ガラスプ
レート７を、直線偏光UV光で照射した。その偏光方向は
プレートの左半分及び右半分の照射間に45゜回転した。
ポリイミド配向層を、第二の珪硼酸ガラスプレート８に
施し、長手方向の端に平行に布で研磨した。次に、２つ
のガラスプレートを結合し、PPN プレートの左半分がポ
リイミド層と結合して平行セルを形成するように、厚さ
６μm のLCを形成した。同様に、PPN の右半分及びポリ
イミド層の配向方向が角度45゜を形成した。次に、セル
をネマチック液晶で充填した。偏光子９を、研磨方向に
平行な透過方向にポリイミドで被覆したガラスプレート
の背面に設置した場合、セルの左半分は、偏光子上の分
析器の透過方向が偏光子の透過方向と垂直に配置されて
いる時に最大の暗さであった。しかしながら、セルの右
半分は、分析器が45゜回転したとき最大の暗さであっ
た。結果として、入射光の偏光面は、セルの左半分を通
過中変化しないが、右半分では45゜回転した。このセル
を、別のPPN 被覆ガラスプレート上にPPN 側により配置
した。次に、PPN 層をセルを通してポリイミド研磨方向
に平行に偏向したUV光で照射した。次に、液晶層をスピ
ンコーティングにより、PPN 層に施した。後者の層を交
差偏光子下で観察した時、液晶が配向し、配向方向はプ
レートの左半分と右半分間で45゜異なっていることが分
かった。
【００１２】
【実施例５】電気的に転換可能な偏向−回転マスク（図４参照） ポリイミド層14、15を、スピンコーティングにより１×
１cmITO 電極12、13を有する２つの珪硼酸ガラスプレー
ト10、11に施した。配向方向16、17を、各プレートにつ
いて布でポリイミド層を研磨することにより前もって決
定した。研磨方向は、２つのプレート間で45゜異なっ
た。次に、厚さ６μm のスペーサーを介して、２つの電
極表面が重なるように液晶セルを形成した。次に、セル
をネマチック液晶混合物18で充填した。壁面配向が異な
るため、45゜ねじれを有する回転セルを作った。セル底
部の偏光子19の透過方向が、研磨方向に対して平行に配
列している時、セル上に設置した分析器は最大明度を得
るため、45゜回転させなくてはならなかった。分析器を
さらに90゜回転することにより、セルは最大の暗さを生
じた。十分大きな電圧を２つのITO 電極に印加した時、
電極表面付近の液晶分子は、ガラス表面に垂直な縦軸に
配向した。この帯域では、透過光は偏光子により前もっ
て決定された偏向方向を保持していた。即ち、分析器は
最大明度のため、偏光子に平行に調節されなくてはなら
なかった。このセルをPPN 被覆ガラスプレート上に設置
した。透過方向が偏光子付近のガラスプレートの研磨方
向に平行であるように、セルの背面に偏光子を設置し
た。次にPPN 層を偏光子及びセルを通して露光する間、
セルは活性であった。照射後、液晶層をPPN 層にスピン
コーティングにより施した。この液晶層が交差偏光子の
下に配置されると、液晶が配向していることが分かっ
た。液晶セルの転換された部分を通して露光した領域の
配向方向は、他の帯域における方向と45゜異なった。
【００１３】
【実施例６】LCP 偏光子 実施例２におけるように、珪硼酸ガラスプレート上のPP
N 層を、左半分では長手方向の端に平行な偏光で、かつ
右半分では、45゜の偏光で照射することにより配向し
た。架橋性LCモノマーの混合物を、以下のシアノターフ
ェニル分子３％でドープした。
【化２】 最大吸収が、用いたPPN 材料の場合と同じ波長（λmax=
310nm)で起こるため、シアノターフェニルを選択した。
ドープした混合物をアニソール中に40％濃度まで溶解
し、スピンコーティングにより室温下で露光したPPN 層
に施した。液晶は、PPN 露光により決定した配向に引き
継ぎ、続いて起こる架橋後に、その様な配向を保持し
た。シアノターフェニル類は、それ自身、液晶マトリッ
クスに従って配向し、このことは、指導子(director)に
平行な310nm で測定した透過率が、指導子に垂直な透過
率と比較して20倍小さいという事実から明らかとなっ
た。使用した架橋性液晶分子は300nm 以上の範囲での吸
収に寄与しないため、これはシアノターフェニル類の二
色性によるべきである。得られたプレートを、その層側
面がPPN 被覆ガラスプレート上で下に向かうようにし
て、偏光マスクとして設置し、マスク側面から等方性UV
光を照射した。次に、液晶層をPPN 層にスピンコーティ
ングにより施した。スピンコートした層を交差偏光子の
下に設置すると、液晶が配向し、プレートの左半分と右
半分の配向方向が互いに45゜異なっていることが分かっ
た。LCP 偏光マスクを感光性材料の配向パターンを生成
させるのに使用することにより、外部の偏光子を使用す
る必要がない。偏光及び偏光面の決定を偏光マスクによ
り画素毎に処理される。
【００１４】
【実施例７】構造的に配向した、偏光マスクとしての液晶セル 実施例２におけるように、珪硼酸ガラスプレート上のPP
N 層を、左半分において長手方向の端に平行となるよう
に、かつ右半分において長手方向の端に対して45゜とな
るように偏光を照射することにより配向した。ポリイミ
ド配向層を第二の珪硼酸ガラスプレート上に施し、長手
方向の端に平行に布で研磨した。次に、２つのガラスプ
レートを、PPN プレートの左半分がポリイミドプレート
と結合して、平行セルを形成するように厚さ６μm のLC
セルを形成した。同様に、PPN の右半分の配向方向及び
ポリイミド層の配向方向が互いに角度45゜を形成した。
次に、セルを１％シアノターフェニルでドープした液晶
混合物で充填した。透過方向が研磨方向に平行であるよ
うポリイミド被覆ガラスプレートの背面に偏光子が設置
されている場合、セルの左半分は、偏光子上の分析器の
透過方向が偏光子の透過方向に垂直である時に最も暗い
状態であった。しかしながら、セルの右半分は、分析器
が45゜回転した時に最も暗い状態であった。入射光の偏
光面は、セルの左半分を通過中は変化せず、右半分を通
過中は45゜回転した。このセルを、別のPPN 被覆ガラス
プレート上に、PPN 側を介して設置した。次に、PPN 層
をセルを通過する等方性UV光で照射し、その後、液晶を
スピンコーティングによりPPN 層に施した。次にこの層
が交差偏光子の下に設置した時、プレートの左半分と右
半分における配向方向は、互いに45゜異なっていた。こ
の実施例により、構造的に配向したLCD 偏光マスクによ
る露光は、追加的な外部偏光子を必要としないことが分
かる。
【００１５】
【実施例８】自己−偏光転換可能LCD マスク ITO の指電極を、珪硼酸ガラスプレート上に１cm2 の領
域で製造した。プレートの端に平行に配置されている電
極路の幅は20μm であり、路間の距離は40μmであっ
た。次に、ポリイミド層を上部に施し、電極路方向に対
し45゜で布を用いて研磨した。電極のない第二の珪硼酸
プレートをポリイミドで被覆し、２つのプレートを組合
わせた後に平行セルが生ずるように、長手方向の端に対
して45゜で研磨した。プレート間の距離は６μm であっ
た。負の誘電異方性を有するネマチック液晶混合物を１
％シアノターフェニルでドープし、セル中に装填した。
適当な高電圧を該指に印加した時、電極プレート付近の
電極分子は電極路に平行に配向した。その結果、液晶は
指電極付近で45゜ねじれを有する構造を有し、一方、平
行の確認は電極外部の転換していない帯域におけるまま
であった。次に、セルをPPN 被覆ガラスプレート上に設
置した。次に、PPN 層に転換セルを通して等方性UV光を
照射し、その後、液晶層をPPN 層にスピンコーティング
により施した。次に液晶層が交差偏光子の下に設置する
と、液晶が配向し、指電極領域で覆われている帯域にお
ける配向方向は、外部の帯域における配向方向と45゜異
なっていることが分かった。この構造においても外部の
偏光子を必要としなかった。ドープした液晶混合物でUV
光を偏光した。偏光面は、セルの活性化により45゜転換
可能である。それ故、情報の異なる項目を変換する間に
マスクを変化させる必要はない。
【図面の簡単な説明】
【図１】帯域状で種々の配向を有する架橋したLCモノマ
ーの層を製造するための配置を示す。
【図２】図１に従って製造した層を複屈折マスクとして
使用する場合の配置を示す。
【図３】構造的に配向したLCセルを偏光−回転マスクと
して使用する場合の配置を示す。
【図４】電気的に転換可能な偏光−回転マスクを示す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０２Ｆ 1/1343 Ｇ０２Ｆ 1/1343 1/137 ５００ 1/137 ５００

Claims (28)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 入射光から所定の偏光方向を有する直線
    偏光を製造するための光学部材であって、光出力側で互
    いに制限され、かつ少なくとも断続的に異なる偏光方向
    を有する帯域が存在することを特徴とする光学部材。
  2. 【請求項２】 前記帯域が光学回転の異なる力を有し、
    該帯域で入射直線偏光の偏光面が異なる角度で回転する
    請求項１記載の光学部材。
  3. 【請求項３】 前記帯域が、互いに異なる偏光方向を有
    する直線偏光子である請求項１記載の光学部材。
  4. 【請求項４】 二色性分子が、異なる配向の帯域を有す
    る配向した液晶層に埋め込まれている請求項３記載の光
    学部材。
  5. 【請求項５】 前記液晶が液晶セル中に設置され、配向
    層により片面又は両面で配向されている請求項４記載の
    光学部材。
  6. 【請求項６】 少なくとも一つの光学的に異方性の層か
    ら成る請求項１記載の光学部材であって、層面の少なく
    とも２つの帯域における光学軸の方向が互いに異なる光
    学部材。
  7. 【請求項７】 少なくとも一つの前記異方性層が液晶か
    ら成り、前記光学軸が前記液晶の配向方向によって決定
    される請求項６記載の光学部材。
  8. 【請求項８】 液晶が配向層を有する２つの透明なプレ
    ート間に配置され、２つの前記プレートの配向方向が互
    いに相対的に少なくとも一つの反対の帯域で回転してお
    り、前記液晶のねじれが存在し、結果として直線偏光の
    偏光面が光誘導により回転される請求項１記載の光学部
    材。
  9. 【請求項９】 前記液晶に接触している２つの基板のう
    ちの少なくとも一つが、該液晶を十分な電圧を施すこと
    により変形できるように電極を有する請求項４又は８記
    載の光学部材。
  10. 【請求項10】 前記電極が、指電極として少なくともあ
    る点まで工夫されており、電圧が施された時に前記液晶
    に平面的な変形を付与する請求項９記載の光学部材。
  11. 【請求項11】 前記液晶が、０゜から360 ゜の倍数の間
    の所望の角度で帯域状にねじれている請求項４又は８か
    ら１０のいずれかに記載の光学部材。
  12. 【請求項12】 前記液晶が、０゜から180 ゜の間の所望
    の角度で帯域状にねじれている請求項４又は８から１０
    のいずれかに記載の光学部材。
  13. 【請求項13】 前記液晶が帯域状に異なってねじれてい
    る請求項４又は８から１０のいずれかに記載の光学部
    材。
  14. 【請求項14】 少なくとも２つの帯域のねじれが（ｎ＊
    90゜＋45゜）で異なっており、ｎが正もしくは負の整数
    又は０である請求項１３記載の光学部材。
  15. 【請求項15】 少なくとも２つの帯域のねじれが（ｎ＊
    180 ゜＋45゜）で異なっており、ｎが正もしくは負の整
    数又は０である請求項１３記載の光学部材。
  16. 【請求項16】 前記液晶層の帯域状で異なる配向が、局
    所的に配向パターンが変化する少なくとも一つの配向層
    により引き起こされる請求項３、４及び７から１５のい
    ずれかに記載の光学部材。
  17. 【請求項17】 前記配向層が光構造されている請求項１
    ６記載の光学部材。
  18. 【請求項18】 前記光構造されている配向層が光構造さ
    れたポリマー網状構造から成る請求項１７記載の光学部
    材。
  19. 【請求項19】 前記液晶層が重合又は架橋液晶（LCP)か
    ら成る請求項３、４及び７から１５のいずれかに記載の
    光学部材。
  20. 【請求項20】 二色性分子自身が重合性又は架橋性であ
    る請求項３又は１９記載の光学部材。
  21. 【請求項21】 配向層及びLCP 層から成る層構造が、片
    面のみで透明基板と接触している請求項１９又は２０記
    載の光学部材。
  22. 【請求項22】 配向方向が０゜から180 ゜の間の所望の
    角度で帯域状に異なる請求項２１記載の光学部材。
  23. 【請求項23】 光線上に局所的に変化する偏光パターン
    を付けるための請求項１〜２２のいずれかに記載の光学
    部材の使用。
  24. 【請求項24】 光線上に動的に変化可能な偏光パターン
    を付するための請求項９又は１０記載の光学部材の使
    用。
  25. 【請求項25】 非偏光線上に局所的に変化する偏光パタ
    ーンを付するための請求項２〜４及び９〜２２のいずれ
    かに記載の光学部材の使用。
  26. 【請求項26】 偏光−コード化光による情報の平行移動
    のための請求項１〜２２のいずれかに記載の光学部材の
    使用。
  27. 【請求項27】 完全な偏光パターンを偏光−感応光構造
    可能層上に同時に移すためのマスクとしての請求項１〜
    ２２のいずれかに記載の光学部材の使用。
  28. 【請求項28】 完全な偏光パターンを偏光−感応光構造
    可能層上に同時に移すためのマスクとしての請求項１〜
    ２２のいずれかに記載の光学部材の使用であって、露光
    されるべき光層がPPN 材料から成る使用。
JP08177771A 1995-07-11 1996-07-08 偏光パターンを移動するための偏光マスク Expired - Lifetime JP3100339B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CH02036/95-7 1995-07-11
CH203695 1995-07-11

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0933914A true JPH0933914A (ja) 1997-02-07
JP3100339B2 JP3100339B2 (ja) 2000-10-16

Family

ID=4224435

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP08177771A Expired - Lifetime JP3100339B2 (ja) 1995-07-11 1996-07-08 偏光パターンを移動するための偏光マスク

Country Status (6)

Country Link
US (1) US6496239B2 (ja)
EP (1) EP0753785B1 (ja)
JP (1) JP3100339B2 (ja)
KR (1) KR100289026B1 (ja)
CN (1) CN1117289C (ja)
SG (1) SG50744A1 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11231134A (ja) * 1998-02-13 1999-08-27 Fuji Xerox Co Ltd 光学フィルムの作製方法及び作製装置
JP2013200520A (ja) * 2012-03-26 2013-10-03 Arisawa Mfg Co Ltd 位相差板の製造方法
WO2021261044A1 (ja) * 2020-06-26 2021-12-30 株式会社ジャパンディスプレイ 表示装置及び偏光軸回転素子

Families Citing this family (68)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE59707681D1 (de) * 1996-10-28 2002-08-14 Rolic Ag Zug Vernetzbare, photoaktive Silanderivate
DE59814236D1 (de) 1997-02-24 2008-07-17 Rolic Ag Photovernetzbare Polymere
EP0860455B1 (de) * 1997-02-24 2008-06-04 Rolic AG Photovernetzbare Polymere
CN1163765C (zh) 1997-05-09 2004-08-25 罗利克有限公司 光学元件和包含它的防伪或防拷贝元器件
US20040120040A1 (en) * 1998-11-13 2004-06-24 Rolic Ag Optical component
JP2001133630A (ja) * 1999-11-04 2001-05-18 Fuji Photo Film Co Ltd 異方性膜及び液晶表示素子
US6909473B2 (en) 2002-01-07 2005-06-21 Eastman Kodak Company Display apparatus and method
US7061561B2 (en) 2002-01-07 2006-06-13 Moxtek, Inc. System for creating a patterned polarization compensator
US6751003B2 (en) * 2002-09-12 2004-06-15 Eastman Kodak Company Apparatus and method for selectively exposing photosensitive materials using a reflective light modulator
US20060115082A1 (en) * 2002-12-16 2006-06-01 Kevenaar Thomas A M Authentication system with visual encryption using polarisation of light
US7180553B2 (en) * 2003-06-22 2007-02-20 Realtek Semiconductor Corp. Dual mode television tuner capable of processing both digital and satellite television signals and method thereof
JP2005091480A (ja) * 2003-09-12 2005-04-07 Nitto Denko Corp 異方性フィルムの製造方法
JP4341904B2 (ja) * 2003-09-12 2009-10-14 日東電工株式会社 異方性フィルムの製造方法
US7570424B2 (en) 2004-12-06 2009-08-04 Moxtek, Inc. Multilayer wire-grid polarizer
US7630133B2 (en) 2004-12-06 2009-12-08 Moxtek, Inc. Inorganic, dielectric, grid polarizer and non-zero order diffraction grating
US7961393B2 (en) 2004-12-06 2011-06-14 Moxtek, Inc. Selectively absorptive wire-grid polarizer
US7800823B2 (en) 2004-12-06 2010-09-21 Moxtek, Inc. Polarization device to polarize and further control light
CN101846811A (zh) * 2005-03-01 2010-09-29 荷兰聚合物研究所 介晶膜中的偏振光栅
DE102005027676A1 (de) * 2005-06-15 2007-01-11 Atotech Deutschland Gmbh Verfahren zur Herstellung von anisotropen Wellenleiterstrukturen zur Übertragung von Lichtwellen
KR100604941B1 (ko) * 2005-06-15 2006-07-28 삼성전자주식회사 변형 조명을 구현하는 포토마스크, 제조방법 및 이를이용한 패턴 형성방법
US20070264581A1 (en) * 2006-05-09 2007-11-15 Schwarz Christian J Patterning masks and methods
US8755113B2 (en) 2006-08-31 2014-06-17 Moxtek, Inc. Durable, inorganic, absorptive, ultra-violet, grid polarizer
US7799486B2 (en) * 2006-11-21 2010-09-21 Infineon Technologies Ag Lithography masks and methods of manufacture thereof
US7789515B2 (en) 2007-05-17 2010-09-07 Moxtek, Inc. Projection device with a folded optical path and wire-grid polarizer
US8643822B2 (en) * 2007-07-03 2014-02-04 Jds Uniphase Corporation Non-etched flat polarization-selective diffractive optical elements
KR101443216B1 (ko) * 2007-09-05 2014-09-24 삼성전자주식회사 광 반응성 재료를 이용한 유기발광소자 및 그 제조 방법
DE102007044486B4 (de) 2007-09-18 2010-02-18 Leonhard Kurz Gmbh & Co. Kg Sicherheitselement zur Erhöhung der Fälschungssicherheit eines Sicherheitsdokuments und Sicherheitsdokument
WO2009112206A2 (en) 2008-03-11 2009-09-17 Rolic Ltd. Optical biometric security element
US8471999B2 (en) * 2008-04-24 2013-06-25 The Hong Kong University Of Science And Technology Low voltage liquid crystal lens with variable focal length
CN101590784B (zh) * 2008-05-26 2012-09-26 中国印钞造币总公司 复合防伪元件
EP2372433B1 (en) * 2009-02-03 2018-04-11 LG Chem, Ltd. Method for manufacturing an optical filter for a stereoscopic image display device
US8248696B2 (en) 2009-06-25 2012-08-21 Moxtek, Inc. Nano fractal diffuser
US9557456B2 (en) 2010-01-29 2017-01-31 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Broadband optics for manipulating light beams and images
US11366254B2 (en) 2010-01-29 2022-06-21 Beam Engineering For Advanced Measurements Co. High-efficiency wide-angle beam steering system
US10197715B1 (en) 2013-03-15 2019-02-05 Beam Engineering For Advanced Measurements Co. Methods of diffractive lens and mirror fabrication
US9983479B2 (en) * 2010-04-21 2018-05-29 Beam Engineering For Advanced Measurements Co. Fabrication of high efficiency, high quality, large area diffractive waveplates and arrays
US10114239B2 (en) 2010-04-21 2018-10-30 Beam Engineering For Advanced Measurements Co. Waveplate lenses and methods for their fabrication
US20110262844A1 (en) 2010-04-21 2011-10-27 Beam Engineering For Advanced Measurement Co. Fabrication of high efficiency, high quality, large area diffractive waveplates and arrays
CN103038680B (zh) 2010-06-30 2015-12-02 3M创新有限公司 具有空间选择性双折射减小的延迟膜组合
WO2012003213A1 (en) 2010-06-30 2012-01-05 3M Innovative Properties Company Diffuse reflective optical films with spatially selective birefringence reduction
US8611007B2 (en) 2010-09-21 2013-12-17 Moxtek, Inc. Fine pitch wire grid polarizer
US8913321B2 (en) 2010-09-21 2014-12-16 Moxtek, Inc. Fine pitch grid polarizer
US8866997B2 (en) 2010-11-02 2014-10-21 Arizona Board Of Regents On Behalf Of The University Of Arizona Patterned electronic and polarization optical devices
US10254453B2 (en) 2010-11-02 2019-04-09 Arizona Board Of Regents On Behalf Of The University Of Arizona Thin-film broadband and wide-angle devices for generating and sampling polarization states
KR101743524B1 (ko) * 2010-12-13 2017-06-05 엘지디스플레이 주식회사 액정표시장치 및 그 제조방법
US8873144B2 (en) 2011-05-17 2014-10-28 Moxtek, Inc. Wire grid polarizer with multiple functionality sections
US8913320B2 (en) 2011-05-17 2014-12-16 Moxtek, Inc. Wire grid polarizer with bordered sections
US8922890B2 (en) 2012-03-21 2014-12-30 Moxtek, Inc. Polarizer edge rib modification
KR102184244B1 (ko) * 2012-05-30 2020-12-01 롤리크 아게 개별적으로 패턴화된 이방성을 갖는 소자들의 신속 제조
WO2014120325A2 (en) * 2012-11-19 2014-08-07 The Arizona Board Of Regents On Behalf Of The Universiy Of Arizona Optical elements comprising cholesteric liquid crystal polymers
US10107945B2 (en) 2013-03-01 2018-10-23 Beam Engineering For Advanced Measurements Co. Vector vortex waveplates
US10185182B2 (en) * 2013-03-03 2019-01-22 Beam Engineering For Advanced Measurements Co. Mechanical rubbing method for fabricating cycloidal diffractive waveplates
WO2014145792A1 (en) * 2013-03-15 2014-09-18 Polaris Sensor Technologies, Inc. Long wave infrared imaging polarimeter, and method of assembly
US9632223B2 (en) 2013-10-24 2017-04-25 Moxtek, Inc. Wire grid polarizer with side region
EP3132307A4 (en) 2014-04-16 2017-04-05 Beam Engineering For Advanced Measurements Co. Methods and apparatus for human vision correction using diffractive waveplate lenses
CN104062818B (zh) * 2014-06-27 2017-10-24 上海天马微电子有限公司 一种液晶显示装置及其制造方法
US9976911B1 (en) 2015-06-30 2018-05-22 Beam Engineering For Advanced Measurements Co. Full characterization wavefront sensor
US10191296B1 (en) 2015-06-30 2019-01-29 Beam Engineering For Advanced Measurements Co. Laser pointer with reduced risk of eye injury
US10436957B2 (en) 2015-10-27 2019-10-08 Beam Engineering For Advanced Measurements Co. Broadband imaging with diffractive waveplate coated mirrors and diffractive waveplate objective lens
GB201608900D0 (en) * 2016-05-20 2016-07-06 Barco Nv Selective projection display screen
CN106054462A (zh) * 2016-06-20 2016-10-26 武汉华星光电技术有限公司 透明显示器
US10423045B2 (en) 2016-11-14 2019-09-24 Beam Engineering For Advanced Measurements Co. Electro-optical diffractive waveplate beam shaping system
US10712485B1 (en) * 2017-02-28 2020-07-14 Facebook Technologies, Llc Composite optical coating on a curved optical surface
US10274805B2 (en) 2017-06-13 2019-04-30 Beam Engineering For Advanced Measurements Co. Polarization-independent switchable lens system
RU2683873C1 (ru) * 2017-09-29 2019-04-02 Государственное образовательное учреждение высшего образования Московской области Московский государственный областной университет (МГОУ) Способ формирования поляризационно-чувствительного материала, поляризационно-чувствительный материал, полученный указанным способом, и поляризационно-оптические элементы и устройства, включающие указанный поляризационно-чувствительный материал
US11175441B1 (en) 2018-03-05 2021-11-16 Beam Engineering For Advanced Measurements Co. Polarization-independent diffractive optical structures
US11982906B1 (en) 2018-03-05 2024-05-14 Beam Engineering For Advanced Measurements Co. Polarization-independent diffractive optical structures
US11294240B2 (en) 2019-08-10 2022-04-05 Beam Engineering For Advanced Measurements Co. Diffractive waveplate devices that operate over a wide temperature range

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63250621A (ja) * 1987-04-07 1988-10-18 Canon Inc 光変調素子
JPH03252606A (ja) * 1990-03-02 1991-11-11 Hitachi Ltd 偏光板、偏光板の製造方法及び液晶表示素子
JPH08292432A (ja) * 1995-04-20 1996-11-05 Nippon Oil Co Ltd 光学フィルムの製造方法

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4974941A (en) * 1989-03-08 1990-12-04 Hercules Incorporated Process of aligning and realigning liquid crystal media
US5327285A (en) 1990-06-11 1994-07-05 Faris Sadeg M Methods for manufacturing micropolarizers
US5157526A (en) 1990-07-06 1992-10-20 Hitachi, Ltd. Unabsorbing type polarizer, method for manufacturing the same, polarized light source using the same, and apparatus for liquid crystal display using the same
JP3329473B2 (ja) * 1991-03-07 2002-09-30 株式会社日立製作所 偏光光源、該光源を用いた表示装置
DE59209499D1 (de) 1991-07-26 1998-10-22 Rolic Ag Orientierte Photopolymere und Verfahren zu ihrer Herstellung
EP0525478B1 (de) * 1991-07-26 1997-06-11 F. Hoffmann-La Roche Ag Flüssigkristallanzeigezelle
DE69421757T2 (de) * 1993-06-29 2000-06-21 Yasufumi Iimura Verfahren zur Orientierung von Flüssigkristall-Molekülen in einer Flüssigkristall-Anzeigezelle mit vielfachdomänen Struktur

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63250621A (ja) * 1987-04-07 1988-10-18 Canon Inc 光変調素子
JPH03252606A (ja) * 1990-03-02 1991-11-11 Hitachi Ltd 偏光板、偏光板の製造方法及び液晶表示素子
JPH08292432A (ja) * 1995-04-20 1996-11-05 Nippon Oil Co Ltd 光学フィルムの製造方法

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11231134A (ja) * 1998-02-13 1999-08-27 Fuji Xerox Co Ltd 光学フィルムの作製方法及び作製装置
JP2013200520A (ja) * 2012-03-26 2013-10-03 Arisawa Mfg Co Ltd 位相差板の製造方法
WO2013145550A1 (ja) * 2012-03-26 2013-10-03 株式会社有沢製作所 位相差板の製造方法
TWI571659B (zh) * 2012-03-26 2017-02-21 有澤製作所股份有限公司 相位差板的製造方法
WO2021261044A1 (ja) * 2020-06-26 2021-12-30 株式会社ジャパンディスプレイ 表示装置及び偏光軸回転素子
US12117677B2 (en) 2020-06-26 2024-10-15 Japan Display Inc. Display device with polarization axis rotation element and polarizer

Also Published As

Publication number Publication date
US20020027624A1 (en) 2002-03-07
SG50744A1 (en) 2001-01-16
EP0753785A1 (de) 1997-01-15
EP0753785B1 (de) 2016-05-11
CN1117289C (zh) 2003-08-06
KR100289026B1 (ko) 2001-05-02
JP3100339B2 (ja) 2000-10-16
CN1159588A (zh) 1997-09-17
US6496239B2 (en) 2002-12-17
KR970007436A (ko) 1997-02-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3100339B2 (ja) 偏光パターンを移動するための偏光マスク
JP3881706B2 (ja) 光学的要素
US6160597A (en) Optical component and method of manufacture
JP2543666B2 (ja) 光学素子及びその製造方法
US5434687A (en) Liquid crystal display device having polarization areas or orientation areas in radial or concentric ring pattern
JP2980558B2 (ja) Ｐｐｎ 層に傾き角を形成する方法
US5767994A (en) Orientation film of photopolymer in a liquid crystal display and a method of forming the film
US6738114B1 (en) Liquid crystal film structures with phase-retardation surface regions formed therein
JP4647782B2 (ja) 光学部材、配向層及び層状化可能な重合性混合物
TWI250327B (en) Reflecting board, liquid crystal device and electronic device
US6888612B2 (en) Liquid crystal film structures with phase-retardation surface regions formed therein
JP2004514934A (ja) 液晶表示ラミネート及びその製造方法
US6169591B1 (en) Method for manufacturing a multidomain LCD panel using mask of different photo transmittances and/or resin photosensitive to UV and visible light
JP2011076120A (ja) 液晶セルに選択配列を与える方法
KR100684182B1 (ko) 액정 중합체 소자의 제조방법, 당해 방법에 의해 제조된 액정 중합체 소자 및 당해 소자를 포함하는 광학 장치
CN116224667B (zh) 可调液晶全息器件及其制备方法、全息光场调制装置
JP2000226448A (ja) 高分子膜の光学的異方性発現方法、リオトロピック液晶の配向方法、配向色素膜、及び、配向色素膜の製造方法
HK1011092A (en) Transfer of polarisation patterns to polarisation sensitive photolayers
JP3524245B2 (ja) 液晶表示素子
JP3263509B2 (ja) 液晶表示器の製造方法
JP3291373B2 (ja) 液晶表示器の製造方法
CN120522925A (zh) 用于信息加密的可穿戴液晶聚合物薄膜的制备方法
JPH0821987A (ja) 高分子液晶層の製造方法
HK1091553B (en) Method of forming light polarization film
HK1091553A1 (zh) 形成光偏振膜的方法

Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 19980921

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20000725

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080818

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080818

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090818

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090818

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100818

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110818

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110818

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120818

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120818

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130818

Year of fee payment: 13

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term