JPH0934110A - 光重合性組成物、ラジカル発生方法、平版印刷版作成用感光材料及びそれを用いた平版印刷版の作成方法 - Google Patents
光重合性組成物、ラジカル発生方法、平版印刷版作成用感光材料及びそれを用いた平版印刷版の作成方法Info
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- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 46
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 30
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 30
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims abstract description 23
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 22
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 20
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 18
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 claims abstract description 10
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 6
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 5
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 48
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 43
- -1 halogen ion Chemical class 0.000 claims description 29
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 15
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- AZUHIVLOSAPWDM-UHFFFAOYSA-N 2-(1h-imidazol-2-yl)-1h-imidazole Chemical group C1=CNC(C=2NC=CN=2)=N1 AZUHIVLOSAPWDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims description 6
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 abstract description 14
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 abstract description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract description 2
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 abstract description 2
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 abstract description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 36
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 36
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 18
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 14
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 12
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 11
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 11
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 10
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 10
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 9
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 8
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 8
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 7
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 7
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 6
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 6
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N itaconic acid Chemical group OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical group OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 6
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 6
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Chemical group OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-M crotonate Chemical group C\C=C\C([O-])=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-M 0.000 description 5
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 5
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 5
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 5
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 4
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 4
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 4
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Natural products O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 4
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 4
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 4
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 4
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 4
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M methacrylate group Chemical group C(C(=C)C)(=O)[O-] CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 4
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 4
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 4
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 4
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical group OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N Benzyl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 3
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 3
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 3
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 3
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 3
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 3
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 description 3
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 3
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 3
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 238000000866 electrolytic etching Methods 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 3
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 3
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical class I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 3
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 3
- 235000011007 phosphoric acid Nutrition 0.000 description 3
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 3
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 3
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 3
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 3
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 3
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 3
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 3
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 3
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 3
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- SZCWBURCISJFEZ-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-2,2-dimethylpropyl) 3-hydroxy-2,2-dimethylpropanoate Chemical compound OCC(C)(C)COC(=O)C(C)(C)CO SZCWBURCISJFEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M (4z)-1-(3-methylbutyl)-4-[[1-(3-methylbutyl)quinolin-1-ium-4-yl]methylidene]quinoline;iodide Chemical compound [I-].C12=CC=CC=C2N(CCC(C)C)C=CC1=CC1=CC=[N+](CCC(C)C)C2=CC=CC=C12 QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229920002818 (Hydroxyethyl)methacrylate Polymers 0.000 description 2
- JIVGSHFYXPRRSZ-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethoxybenzaldehyde Chemical compound COC1=CC=CC(C=O)=C1OC JIVGSHFYXPRRSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWZMWHWAWHPNHN-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(O)COC(=O)C=C GWZMWHWAWHPNHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 2-naphthol Chemical compound C1=CC=CC2=CC(O)=CC=C21 JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- GNKZMNRKLCTJAY-UHFFFAOYSA-N 4'-Methylacetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=C(C)C=C1 GNKZMNRKLCTJAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N Acetamide Chemical compound CC(N)=O DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- KXDAEFPNCMNJSK-UHFFFAOYSA-N Benzamide Chemical compound NC(=O)C1=CC=CC=C1 KXDAEFPNCMNJSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 2
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 2
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CQHKDHVZYZUZMJ-UHFFFAOYSA-N [2,2-bis(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxypropyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(CO)COC(=O)C=C CQHKDHVZYZUZMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FHLPGTXWCFQMIU-UHFFFAOYSA-N [4-[2-(4-prop-2-enoyloxyphenyl)propan-2-yl]phenyl] prop-2-enoate Chemical compound C=1C=C(OC(=O)C=C)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(OC(=O)C=C)C=C1 FHLPGTXWCFQMIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 2
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 2
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 2
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 2
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 2
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012461 cellulose resin Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N coumarin Chemical compound C1=CC=C2OC(=O)C=CC2=C1 ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 2
- ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N cyclopentadiene Chemical compound C1C=CC=C1 ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001227 electron beam curing Methods 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KEMQGTRYUADPNZ-UHFFFAOYSA-N heptadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O KEMQGTRYUADPNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- 238000010297 mechanical methods and process Methods 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 125000005641 methacryl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 2
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 2
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 2
- 229920006287 phenoxy resin Polymers 0.000 description 2
- 239000013034 phenoxy resin Substances 0.000 description 2
- 150000004714 phosphonium salts Chemical class 0.000 description 2
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 2
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 2
- 229920001610 polycaprolactone Polymers 0.000 description 2
- 239000004632 polycaprolactone Substances 0.000 description 2
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 2
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N ε-Caprolactone Chemical compound O=C1CCCCCO1 PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NOOLISFMXDJSKH-UTLUCORTSA-N (+)-Neomenthol Chemical compound CC(C)[C@@H]1CC[C@@H](C)C[C@@H]1O NOOLISFMXDJSKH-UTLUCORTSA-N 0.000 description 1
- PJMXUSNWBKGQEZ-UHFFFAOYSA-N (4-hydroxyphenyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=C(O)C=C1 PJMXUSNWBKGQEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DSSYKIVIOFKYAU-XCBNKYQSSA-N (R)-camphor Chemical compound C1C[C@@]2(C)C(=O)C[C@@H]1C2(C)C DSSYKIVIOFKYAU-XCBNKYQSSA-N 0.000 description 1
- VZXTWGWHSMCWGA-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical compound NC1=NC=NC(N)=N1 VZXTWGWHSMCWGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005208 1,4-dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 description 1
- VBICKXHEKHSIBG-UHFFFAOYSA-N 1-monostearoylglycerol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCC(O)CO VBICKXHEKHSIBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FLPJVCMIKUWSDR-UHFFFAOYSA-N 2-(4-formylphenoxy)acetamide Chemical compound NC(=O)COC1=CC=C(C=O)C=C1 FLPJVCMIKUWSDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IXAUCVOJRVFRBJ-UHFFFAOYSA-N 4-(trichloromethyl)triazine Chemical class ClC(Cl)(Cl)C1=CC=NN=N1 IXAUCVOJRVFRBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxystyrene Chemical compound OC1=CC=C(C=C)C=C1 FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 102100033806 Alpha-protein kinase 3 Human genes 0.000 description 1
- 101710082399 Alpha-protein kinase 3 Proteins 0.000 description 1
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000623 Cellulose acetate phthalate Polymers 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000723346 Cinnamomum camphora Species 0.000 description 1
- NOOLISFMXDJSKH-UHFFFAOYSA-N DL-menthol Natural products CC(C)C1CCC(C)CC1O NOOLISFMXDJSKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCXXMTOCNZCJGO-UHFFFAOYSA-N Glycerol trioctadecanoate Natural products CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCC(OC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCC)COC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCC DCXXMTOCNZCJGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013032 Hydrocarbon resin Substances 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XQAVYBWWWZMURF-UHFFFAOYSA-N OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)CO Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)CO XQAVYBWWWZMURF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940123973 Oxygen scavenger Drugs 0.000 description 1
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004697 Polyetherimide Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- 229920001131 Pulp (paper) Polymers 0.000 description 1
- NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N Quinacridone Chemical compound N1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C1C(=O)C3=CC=CC=C3NC1=C2 NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001800 Shellac Polymers 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- PJANXHGTPQOBST-VAWYXSNFSA-N Stilbene Natural products C=1C=CC=CC=1/C=C/C1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N Sulfurous acid Chemical compound OS(O)=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-M Thiocyanate anion Chemical compound [S-]C#N ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-M Trifluoroacetate Chemical compound [O-]C(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- 229920002433 Vinyl chloride-vinyl acetate copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000011354 acetal resin Substances 0.000 description 1
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 1
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 description 1
- FLCWLOFMVFESNI-UHFFFAOYSA-N acridine-9(10H)-thione Chemical compound C1=CC=C2C(=S)C3=CC=CC=C3NC2=C1 FLCWLOFMVFESNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001278 adipic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- WUOACPNHFRMFPN-UHFFFAOYSA-N alpha-terpineol Chemical compound CC1=CCC(C(C)(C)O)CC1 WUOACPNHFRMFPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000010407 anodic oxide Substances 0.000 description 1
- 239000001000 anthraquinone dye Substances 0.000 description 1
- BTFJIXJJCSYFAL-UHFFFAOYSA-N arachidyl alcohol Natural products CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCO BTFJIXJJCSYFAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004760 aramid Substances 0.000 description 1
- 150000008365 aromatic ketones Chemical class 0.000 description 1
- 229920003235 aromatic polyamide Polymers 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000987 azo dye Substances 0.000 description 1
- 238000007611 bar coating method Methods 0.000 description 1
- 235000013871 bee wax Nutrition 0.000 description 1
- 239000012166 beeswax Substances 0.000 description 1
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 239000001518 benzyl (E)-3-phenylprop-2-enoate Substances 0.000 description 1
- 235000019445 benzyl alcohol Nutrition 0.000 description 1
- NGHOLYJTSCBCGC-QXMHVHEDSA-N benzyl cinnamate Chemical compound C=1C=CC=CC=1\C=C/C(=O)OCC1=CC=CC=C1 NGHOLYJTSCBCGC-QXMHVHEDSA-N 0.000 description 1
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 150000001638 boron Chemical class 0.000 description 1
- 244000309464 bull Species 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229960000846 camphor Drugs 0.000 description 1
- 229930008380 camphor Natural products 0.000 description 1
- 239000004204 candelilla wax Substances 0.000 description 1
- 235000013868 candelilla wax Nutrition 0.000 description 1
- 229940073532 candelilla wax Drugs 0.000 description 1
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 239000004203 carnauba wax Substances 0.000 description 1
- 235000013869 carnauba wax Nutrition 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 229940081734 cellulose acetate phthalate Drugs 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229940074979 cetyl palmitate Drugs 0.000 description 1
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 1
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- PMMYEEVYMWASQN-IMJSIDKUSA-N cis-4-Hydroxy-L-proline Chemical compound O[C@@H]1CN[C@H](C(O)=O)C1 PMMYEEVYMWASQN-IMJSIDKUSA-N 0.000 description 1
- NGHOLYJTSCBCGC-UHFFFAOYSA-N cis-cinnamic acid benzyl ester Natural products C=1C=CC=CC=1C=CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 NGHOLYJTSCBCGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052570 clay Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- VVOLVFOSOPJKED-UHFFFAOYSA-N copper phthalocyanine Chemical compound [Cu].N=1C2=NC(C3=CC=CC=C33)=NC3=NC(C3=CC=CC=C33)=NC3=NC(C3=CC=CC=C33)=NC3=NC=1C1=CC=CC=C12 VVOLVFOSOPJKED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960000956 coumarin Drugs 0.000 description 1
- 235000001671 coumarin Nutrition 0.000 description 1
- 150000003983 crown ethers Chemical class 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- SQIFACVGCPWBQZ-UHFFFAOYSA-N delta-terpineol Natural products CC(C)(O)C1CCC(=C)CC1 SQIFACVGCPWBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- SOCTUWSJJQCPFX-UHFFFAOYSA-N dichromate(2-) Chemical compound [O-][Cr](=O)(=O)O[Cr]([O-])(=O)=O SOCTUWSJJQCPFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMYWOWFOOVUPFY-UHFFFAOYSA-L dihydroxy(dioxo)chromium;phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O.O[Cr](O)(=O)=O WMYWOWFOOVUPFY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- VPNOHCYAOXWMAR-UHFFFAOYSA-N docosan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCN VPNOHCYAOXWMAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 description 1
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 238000007765 extrusion coating Methods 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 235000010985 glycerol esters of wood rosin Nutrition 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- IUJAMGNYPWYUPM-UHFFFAOYSA-N hentriacontane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC IUJAMGNYPWYUPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXDJXZJSCPSGGI-UHFFFAOYSA-N hexadecanoic acid hexadecyl ester Natural products CCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)CCCCCCCCCCCCCCC PXDJXZJSCPSGGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 229920006270 hydrocarbon resin Polymers 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-N hydrogen thiocyanate Natural products SC#N ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004816 latex Substances 0.000 description 1
- 229920000126 latex Polymers 0.000 description 1
- 239000011254 layer-forming composition Substances 0.000 description 1
- 239000000944 linseed oil Substances 0.000 description 1
- 235000021388 linseed oil Nutrition 0.000 description 1
- 239000006247 magnetic powder Substances 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 150000002688 maleic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229940041616 menthol Drugs 0.000 description 1
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000113 methacrylic resin Substances 0.000 description 1
- CXKWCBBOMKCUKX-UHFFFAOYSA-M methylene blue Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC2=[S+]C3=CC(N(C)C)=CC=C3N=C21 CXKWCBBOMKCUKX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229960000907 methylthioninium chloride Drugs 0.000 description 1
- 239000004200 microcrystalline wax Substances 0.000 description 1
- 235000019808 microcrystalline wax Nutrition 0.000 description 1
- 239000012170 montan wax Substances 0.000 description 1
- XZSZONUJSGDIFI-UHFFFAOYSA-N n-(4-hydroxyphenyl)-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 XZSZONUJSGDIFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POVITWJTUUJBNK-UHFFFAOYSA-N n-(4-hydroxyphenyl)prop-2-enamide Chemical compound OC1=CC=C(NC(=O)C=C)C=C1 POVITWJTUUJBNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LKKPNUDVOYAOBB-UHFFFAOYSA-N naphthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC4=CC=CC=C4C=C3C(N=C3C4=CC5=CC=CC=C5C=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=C2C(C=CC=C2)=C2)C2=C1N=C1C2=CC3=CC=CC=C3C=C2C4=N1 LKKPNUDVOYAOBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000025 natural resin Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N norbornene Chemical compound C1[C@@H]2CC[C@H]1C=C2 JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- LYRFLYHAGKPMFH-UHFFFAOYSA-N octadecanamide Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(N)=O LYRFLYHAGKPMFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000003901 oxalic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M perchlorate Inorganic materials [O-]Cl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 150000008301 phosphite esters Chemical class 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 238000006303 photolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000015843 photosynthesis, light reaction Effects 0.000 description 1
- 150000003021 phthalic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920006350 polyacrylonitrile resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 1
- 229920001601 polyetherimide Polymers 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000002491 polymer binding agent Substances 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- BHZRJJOHZFYXTO-UHFFFAOYSA-L potassium sulfite Chemical compound [K+].[K+].[O-]S([O-])=O BHZRJJOHZFYXTO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000019252 potassium sulphite Nutrition 0.000 description 1
- SCUZVMOVTVSBLE-UHFFFAOYSA-N prop-2-enenitrile;styrene Chemical compound C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 SCUZVMOVTVSBLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000004208 shellac Substances 0.000 description 1
- 235000013874 shellac Nutrition 0.000 description 1
- ZLGIYFNHBLSMPS-ATJNOEHPSA-N shellac Chemical compound OCCCCCC(O)C(O)CCCCCCCC(O)=O.C1C23[C@H](C(O)=O)CCC2[C@](C)(CO)[C@@H]1C(C(O)=O)=C[C@@H]3O ZLGIYFNHBLSMPS-ATJNOEHPSA-N 0.000 description 1
- 229940113147 shellac Drugs 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003549 soybean oil Substances 0.000 description 1
- 235000012424 soybean oil Nutrition 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N stilbene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C=CC1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021286 stilbenes Nutrition 0.000 description 1
- 229920000638 styrene acrylonitrile Polymers 0.000 description 1
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003505 terpenes Chemical class 0.000 description 1
- 235000007586 terpenes Nutrition 0.000 description 1
- 229940116411 terpineol Drugs 0.000 description 1
- RSEHMVDVWGHIAQ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl naphthalene-1-sulfonate Chemical compound C1=CC=C2C(S(=O)(=O)OC(C)(C)C)=CC=CC2=C1 RSEHMVDVWGHIAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 1
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N trichloroethylene Natural products ClCC(Cl)Cl UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005590 trimellitic acid group Chemical class 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- MWOOGOJBHIARFG-UHFFFAOYSA-N vanillin Chemical compound COC1=CC(C=O)=CC=C1O MWOOGOJBHIARFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FGQOOHJZONJGDT-UHFFFAOYSA-N vanillin Natural products COC1=CC(O)=CC(C=O)=C1 FGQOOHJZONJGDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000012141 vanillin Nutrition 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- 229910052845 zircon Inorganic materials 0.000 description 1
- GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N zirconium(iv) silicate Chemical compound [Zr+4].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 赤外光で書込ができ、解像度、感度の良好な
画像を形成でき、保存性の良好な光重合性組成物、赤外
光により高感度にラジカルを発生するラジカル発生方
法、半導体レーザーの発振波長域である近赤外線領域に
高い感光性を有し、かつ保存安定性に優れた平版印刷版
作成用感光材料及びそれを用いた平版印刷版の作成方法
を提供する。 【構成】 支持体上に、重合性化合物、下記一般式
(I)、(II)、(III)又は(IV)で表されるオニウ
ム塩の少なくとも一つ、光熱変換素子及びラジカル発生
剤を含有する光重合性組成物。 【化1】 R1〜R4、R10〜R13:アルキル基、アリール基、アラ
ルキル基、 R1〜R4、R10〜R13が各々、互いに結合
して環を形成しても可。R5、R6、R7:アルキル基、
アリール基、R5〜R7が互いに結合して環を形成しても
可。R8、R9:アリール基、X-:対アニオン。
画像を形成でき、保存性の良好な光重合性組成物、赤外
光により高感度にラジカルを発生するラジカル発生方
法、半導体レーザーの発振波長域である近赤外線領域に
高い感光性を有し、かつ保存安定性に優れた平版印刷版
作成用感光材料及びそれを用いた平版印刷版の作成方法
を提供する。 【構成】 支持体上に、重合性化合物、下記一般式
(I)、(II)、(III)又は(IV)で表されるオニウ
ム塩の少なくとも一つ、光熱変換素子及びラジカル発生
剤を含有する光重合性組成物。 【化1】 R1〜R4、R10〜R13:アルキル基、アリール基、アラ
ルキル基、 R1〜R4、R10〜R13が各々、互いに結合
して環を形成しても可。R5、R6、R7:アルキル基、
アリール基、R5〜R7が互いに結合して環を形成しても
可。R8、R9:アリール基、X-:対アニオン。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、新規なラジカル発生剤
を用いた光重合性組成物及びラジカル発生方法に関し、
更に詳しくは、オニウム塩(ホスホニウム塩、スルホニ
ウム塩、ヨードニウム塩、アンモニウム塩)、光熱変換
素子及びラジカル発生剤を利用した光重合性組成物、ラ
ジカル発生方法、平版印刷版作成用感光材料及びそれを
用いた平版印刷版の作成方法に関する。
を用いた光重合性組成物及びラジカル発生方法に関し、
更に詳しくは、オニウム塩(ホスホニウム塩、スルホニ
ウム塩、ヨードニウム塩、アンモニウム塩)、光熱変換
素子及びラジカル発生剤を利用した光重合性組成物、ラ
ジカル発生方法、平版印刷版作成用感光材料及びそれを
用いた平版印刷版の作成方法に関する。
【0002】
【従来の技術】重合性化合物、光重合開始剤、着色剤及
び必要に応じて有機高分子バインダーから成る光重合性
組成物を用いる画像形成媒体は、カラープルーフ等の着
色画像の作成用として、例えば特開昭61−18853
7号、同61−286858号に開示されている。これ
らは一般に、感光性層を画像様に露光した後、未露光部
を液体で溶出して露光部より成る画像を形成するもので
あり、光重合開始剤は色素と組み合わせることにより紫
外から可視の分光感度を有する。
び必要に応じて有機高分子バインダーから成る光重合性
組成物を用いる画像形成媒体は、カラープルーフ等の着
色画像の作成用として、例えば特開昭61−18853
7号、同61−286858号に開示されている。これ
らは一般に、感光性層を画像様に露光した後、未露光部
を液体で溶出して露光部より成る画像を形成するもので
あり、光重合開始剤は色素と組み合わせることにより紫
外から可視の分光感度を有する。
【0003】又、特開平3−111402号、同4−1
46905号、同4−362935号には、近赤外染料
と硼素塩の組合せによる光重合開始剤が知られている。
これらの組合せでは、感度は高いものの感度の経時変動
が大きく、保存安定性に問題がある。
46905号、同4−362935号には、近赤外染料
と硼素塩の組合せによる光重合開始剤が知られている。
これらの組合せでは、感度は高いものの感度の経時変動
が大きく、保存安定性に問題がある。
【0004】更に、特公昭43−19161号には、ビ
スイミダゾールに紫外線を照射してラジカルを発生さ
せ、ロイコ色素を発色させた後、可視光線により画像を
定着させる方式が開示されている。この方法に示された
ように、ビスイミダゾールは一般に紫外線により開裂し
てラジカルを発生することが知られているが、単に赤外
色素と組み合わせただけではラジカルを発生しない。
スイミダゾールに紫外線を照射してラジカルを発生さ
せ、ロイコ色素を発色させた後、可視光線により画像を
定着させる方式が開示されている。この方法に示された
ように、ビスイミダゾールは一般に紫外線により開裂し
てラジカルを発生することが知られているが、単に赤外
色素と組み合わせただけではラジカルを発生しない。
【0005】別の形態として、オニウム塩の光又は熱分
解によるラジカルを用いて画像を得ようとする方法も報
告されている。例えばBull.Chem.Soc.J
apan(ブルティン・オブ・ザ・ケミカル・ソサエテ
ィ・オブ・ジャパン)43,567(1970)には、
オニウム塩の熱分解で生成するラジカルを用いてモノマ
ーを重合することにより画像を得る方法が開示されてい
るが、光熱変換材料(本発明で言う光熱変換素子)と組
み合わせて用いた記載はない。
解によるラジカルを用いて画像を得ようとする方法も報
告されている。例えばBull.Chem.Soc.J
apan(ブルティン・オブ・ザ・ケミカル・ソサエテ
ィ・オブ・ジャパン)43,567(1970)には、
オニウム塩の熱分解で生成するラジカルを用いてモノマ
ーを重合することにより画像を得る方法が開示されてい
るが、光熱変換材料(本発明で言う光熱変換素子)と組
み合わせて用いた記載はない。
【0006】又、光重合系を利用した感光性平版印刷版
材料、及びそれを利用する平版印刷版の作成方法は多数
知られている。
材料、及びそれを利用する平版印刷版の作成方法は多数
知られている。
【0007】従来、これらの平版印刷版形成方法に利用
される光重合性組成物の光重合開始剤としては、ベンゾ
フェノン、チオキサントン、キノン、チオアクリドン等
の芳香族ケトン類、ベンゾイン、ベンジル、ベンジルケ
タール等が用いられている。これらの光重合開始剤は、
その感光波長が紫外線領域にあるため、マスク材料を密
着し、水銀灯などの紫外光源で露光した後、未露光部を
溶出現像するものである。
される光重合性組成物の光重合開始剤としては、ベンゾ
フェノン、チオキサントン、キノン、チオアクリドン等
の芳香族ケトン類、ベンゾイン、ベンジル、ベンジルケ
タール等が用いられている。これらの光重合開始剤は、
その感光波長が紫外線領域にあるため、マスク材料を密
着し、水銀灯などの紫外光源で露光した後、未露光部を
溶出現像するものである。
【0008】近年、画像処理、光源、画像形成技術の進
歩に伴い、従来よりも長波の光に感度を有する感光材料
が要望されている。1例を挙げると、通信回線により伝
送される画像信号、電子製版システムや画像処理システ
ムからの出力信号で、光源を変調し、感光材料に直接走
査露光をして、印刷版を形成する所謂ダイレクト製版シ
ステムである。この時の光源としてはレーザーが適して
いる。特に、小型で低コストの、半導体レーザーの走査
露光を用い、高解像度で印刷版を直接形成できる感光性
平版印刷版材料の開発が望まれていた。
歩に伴い、従来よりも長波の光に感度を有する感光材料
が要望されている。1例を挙げると、通信回線により伝
送される画像信号、電子製版システムや画像処理システ
ムからの出力信号で、光源を変調し、感光材料に直接走
査露光をして、印刷版を形成する所謂ダイレクト製版シ
ステムである。この時の光源としてはレーザーが適して
いる。特に、小型で低コストの、半導体レーザーの走査
露光を用い、高解像度で印刷版を直接形成できる感光性
平版印刷版材料の開発が望まれていた。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】本発明は従来技術の問
題点を改良すべく為されたものである。即ち、本発明の
第1の目的は、赤外光で書込ができ、解像度、感度の良
好な画像を形成できる光重合性組成物を提供することに
ある。第2の目的は、保存性の良好な光重合性組成物の
提供にある。第3の目的は、赤外光により高感度にラジ
カルを発生するラジカル発生方法の提供にある。第4の
目的は、半導体レーザーの発振波長域である近赤外線領
域に高い感光性を有し、かつ保存安定性に優れた平版印
刷版作成用感光材料及びそれを用いた平版印刷版の作成
方法を提供することにある。
題点を改良すべく為されたものである。即ち、本発明の
第1の目的は、赤外光で書込ができ、解像度、感度の良
好な画像を形成できる光重合性組成物を提供することに
ある。第2の目的は、保存性の良好な光重合性組成物の
提供にある。第3の目的は、赤外光により高感度にラジ
カルを発生するラジカル発生方法の提供にある。第4の
目的は、半導体レーザーの発振波長域である近赤外線領
域に高い感光性を有し、かつ保存安定性に優れた平版印
刷版作成用感光材料及びそれを用いた平版印刷版の作成
方法を提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意検討の
結果、光熱変換素子、オニウム塩及びラジカル発生剤の
組合せにより、高感度でラジカル発生が可能であるとい
う予期せざる結果を見い出し本発明を完成するに至っ
た。
結果、光熱変換素子、オニウム塩及びラジカル発生剤の
組合せにより、高感度でラジカル発生が可能であるとい
う予期せざる結果を見い出し本発明を完成するに至っ
た。
【0011】即ち、本発明の上記目的は下記の構成によ
って達成される。
って達成される。
【0012】(1)支持体上に、重合性化合物、下記一
般式(I)、(II)、(III)又は(IV)で表されるオ
ニウム塩の少なくとも一つ、光熱変換素子及びラジカル
発生剤を含有する光重合性組成物。
般式(I)、(II)、(III)又は(IV)で表されるオ
ニウム塩の少なくとも一つ、光熱変換素子及びラジカル
発生剤を含有する光重合性組成物。
【0013】
【化2】
【0014】式中、R1〜R4及びR10〜R13は各々、ア
ルキル基、アリール基又はアラルキル基を表し、 R1〜
R4及びR10〜R13が各々、互いに結合して環を形成し
てもよい。R5、R6及びR7は各々、アルキル基又はア
リール基を表し、R5〜R7が互いに結合して環を形成し
てもよい。R8及びR9は各々、アリール基を表し、X-
は対アニオンを表す。
ルキル基、アリール基又はアラルキル基を表し、 R1〜
R4及びR10〜R13が各々、互いに結合して環を形成し
てもよい。R5、R6及びR7は各々、アルキル基又はア
リール基を表し、R5〜R7が互いに結合して環を形成し
てもよい。R8及びR9は各々、アリール基を表し、X-
は対アニオンを表す。
【0015】(2)ラジカル発生剤がビスイミダゾール
誘導体である(1)に記載の光重合性組成物。
誘導体である(1)に記載の光重合性組成物。
【0016】(3)前記オニウム塩のX-で表される対
アニオンがハロゲンイオンである(1)に記載の光重合
性組成物。
アニオンがハロゲンイオンである(1)に記載の光重合
性組成物。
【0017】(4)ハロゲンイオンが塩素イオン又は臭
素イオンである(3)に記載の画像形成材料。
素イオンである(3)に記載の画像形成材料。
【0018】(5)(2)に記載の光重合性組成物を赤
外光で露光するラジカル発生方法。
外光で露光するラジカル発生方法。
【0019】(6)親水性支持体上に、少なくとも感光
層及び保護層をこの順に設けて成る平版印刷版作成用感
光材料において、前記感光層がエチレン性不飽和結合を
少なくとも一つ有する化合物、バインダー成分、前記一
般式(I)、(II)、(III)又は(IV)で表されるオ
ニウム塩の少なくとも一つ、光熱変換素子及びラジカル
発生剤を含有する平版印刷版作成用感光材料。
層及び保護層をこの順に設けて成る平版印刷版作成用感
光材料において、前記感光層がエチレン性不飽和結合を
少なくとも一つ有する化合物、バインダー成分、前記一
般式(I)、(II)、(III)又は(IV)で表されるオ
ニウム塩の少なくとも一つ、光熱変換素子及びラジカル
発生剤を含有する平版印刷版作成用感光材料。
【0020】(7)(6)に記載の平版印刷版作成用感
光材料を用いる平版印刷版の作成方法において、前記感
光材料の感光層に半導体レーザーで像様に走査露光を行
った後、保護層及び感光層の未露光部を溶出除去する平
版印刷版の作成方法。
光材料を用いる平版印刷版の作成方法において、前記感
光材料の感光層に半導体レーザーで像様に走査露光を行
った後、保護層及び感光層の未露光部を溶出除去する平
版印刷版の作成方法。
【0021】以下、本発明をより具体的に説明する。
【0022】まず、一般式(I)で表されるホスホニウ
ム塩化合物(以下、本発明のホスホニウム塩と記す)に
ついて詳述する。
ム塩化合物(以下、本発明のホスホニウム塩と記す)に
ついて詳述する。
【0023】R1〜R4で表される置換基の具体例として
は以下の如くである。
は以下の如くである。
【0024】アルキル基としては直鎖、分岐アルキル基
が含まれ、例えばメチル、エチル、ブチル、i−ブチ
ル、ヘキシル、オクチル、ステアリル基等が挙げられ
る。発色濃度の点から炭素数1〜10のアルキル基が好
ましく、特にブチル基が好ましい。これらのアルキル基
は互いに結合して環を形成してもよく、シクロアルキル
基としては5〜7員環のもの(例えばシクロペンチル、
シクロヘキシル基等)が好ましい。
が含まれ、例えばメチル、エチル、ブチル、i−ブチ
ル、ヘキシル、オクチル、ステアリル基等が挙げられ
る。発色濃度の点から炭素数1〜10のアルキル基が好
ましく、特にブチル基が好ましい。これらのアルキル基
は互いに結合して環を形成してもよく、シクロアルキル
基としては5〜7員環のもの(例えばシクロペンチル、
シクロヘキシル基等)が好ましい。
【0025】アリール基としてはフェニル、ナフチル基
等が挙げられ、アラルキル基としてはベンジル、フェネ
チル基等が挙げられる。
等が挙げられ、アラルキル基としてはベンジル、フェネ
チル基等が挙げられる。
【0026】これらの基は更に置換されていてもよく、
置換基としてハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アル
キル基、アリール基、ヒドロキシル基、アミノ基(アル
キル置換アミノ基を含む)、アルコキシ基、カルバモイ
ル基、−COOR基、−OCOR基(Rはアルキル基、
アリール基等の有機基)が挙げられる。
置換基としてハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アル
キル基、アリール基、ヒドロキシル基、アミノ基(アル
キル置換アミノ基を含む)、アルコキシ基、カルバモイ
ル基、−COOR基、−OCOR基(Rはアルキル基、
アリール基等の有機基)が挙げられる。
【0027】X-で表される対アニオンとしては、1価
のアニオンであれば特に制約されないが、好ましくはハ
ロゲンイオンであり、更に塩素及び臭素アニオンが発色
濃度の点で望ましい。対アニオンの具体例としては、ブ
ロマイド、クロライド、アイオダイド、フルオライド、
パークロレート、ベンゾエート、チオシアナート、アセ
テート、トリフルオロアセテート、ヘキサフルオロホス
フェート、ナイトレート、サリシネート等が挙げられ
る。
のアニオンであれば特に制約されないが、好ましくはハ
ロゲンイオンであり、更に塩素及び臭素アニオンが発色
濃度の点で望ましい。対アニオンの具体例としては、ブ
ロマイド、クロライド、アイオダイド、フルオライド、
パークロレート、ベンゾエート、チオシアナート、アセ
テート、トリフルオロアセテート、ヘキサフルオロホス
フェート、ナイトレート、サリシネート等が挙げられ
る。
【0028】次に、一般式(II)で表されるスルホニウ
ム塩化合物(以下、本発明のスルホニウム塩と記す)に
ついて詳述する。
ム塩化合物(以下、本発明のスルホニウム塩と記す)に
ついて詳述する。
【0029】R5〜R7で表される置換基の具体例として
は以下の如くである。
は以下の如くである。
【0030】アルキル基としては直鎖、分岐アルキル基
が含まれ、メチル、エチル、ブチル、i−ブチル、ヘキ
シル、オクチル、ステアリル基等が挙げられる。発色濃
度の点から炭素数1〜10のアルキル基が好ましく、特
にブチル基が好ましい。これらのアルキル基は互いに結
合して環を形成してもよく、シクロアルキル基としては
5〜7員環のもの(例えばシクロペンチル、シクロヘキ
シル基等)が好ましい。
が含まれ、メチル、エチル、ブチル、i−ブチル、ヘキ
シル、オクチル、ステアリル基等が挙げられる。発色濃
度の点から炭素数1〜10のアルキル基が好ましく、特
にブチル基が好ましい。これらのアルキル基は互いに結
合して環を形成してもよく、シクロアルキル基としては
5〜7員環のもの(例えばシクロペンチル、シクロヘキ
シル基等)が好ましい。
【0031】アリール基としてはフェニル、ナフチル等
が挙げられる。
が挙げられる。
【0032】R5〜R7が互いに結合してS+と共に形成
する環としては、ベンゾチアチオピリリウム環などが挙
げられる。
する環としては、ベンゾチアチオピリリウム環などが挙
げられる。
【0033】これらの基は更に置換されていてもよく、
置換基としては、前記一般式(I)で述べた基と同様の
基が挙げられる。
置換基としては、前記一般式(I)で述べた基と同様の
基が挙げられる。
【0034】X-で表される対アニオンは、一般式
(I)のX-と同義である。
(I)のX-と同義である。
【0035】更に、一般式(III)で表されるヨードニ
ウム塩化合物(以下、本発明のヨードニウム塩と記す)
について詳述する。
ウム塩化合物(以下、本発明のヨードニウム塩と記す)
について詳述する。
【0036】R8及びR9で表されるアリール基としては
フェニル、ナフチル基等が挙げられるが、これらの基は
更に置換されていてもよく、置換基としては、前記一般
式(I)で述べた基と同様の基が挙げられる。
フェニル、ナフチル基等が挙げられるが、これらの基は
更に置換されていてもよく、置換基としては、前記一般
式(I)で述べた基と同様の基が挙げられる。
【0037】X-で表される対アニオンは、一般式
(I)のX-と同義である。
(I)のX-と同義である。
【0038】次に、一般式(IV)で表されるアンモニウ
ム塩化合物(以下、本発明のアンモニウム塩と記す)に
ついて詳述する。
ム塩化合物(以下、本発明のアンモニウム塩と記す)に
ついて詳述する。
【0039】R10〜R13で表される置換基の具体例とし
ては以下の如くである。
ては以下の如くである。
【0040】アルキル基としては直鎖、分岐アルキル基
が含まれ、例えばメチル、エチル、ブチル、i-ブチル、
ヘキシル、オクチル、ステアリル等が挙げられる。発色
濃度の点から炭素数1〜10のアルキル基が好ましく、
特にブチル基が好ましい。これらのアルキル基は互いに
結合して環を形成してもよく、シクロアルキル基として
は5〜7員環のもの(例えばシクロペンチル、シクロヘ
キシル基等)が好ましい。
が含まれ、例えばメチル、エチル、ブチル、i-ブチル、
ヘキシル、オクチル、ステアリル等が挙げられる。発色
濃度の点から炭素数1〜10のアルキル基が好ましく、
特にブチル基が好ましい。これらのアルキル基は互いに
結合して環を形成してもよく、シクロアルキル基として
は5〜7員環のもの(例えばシクロペンチル、シクロヘ
キシル基等)が好ましい。
【0041】アリール基としてはフェニル、ナフチル基
等が挙げられ、アラルキル基としてはベンジル、フェネ
チル基等が挙げられる。
等が挙げられ、アラルキル基としてはベンジル、フェネ
チル基等が挙げられる。
【0042】これらの基は更に置換されていてもよく、
置換基として、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ア
ルキル基、アリール基、ヒドロキシル基、アミノ基(ア
ルキル置換アミノ基を含む)、アルコキシ基、カルバモ
イル基、−COOR基、−OCOR(Rはアルキル基、
アリール基等の有機基)が挙げられる。
置換基として、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ア
ルキル基、アリール基、ヒドロキシル基、アミノ基(ア
ルキル置換アミノ基を含む)、アルコキシ基、カルバモ
イル基、−COOR基、−OCOR(Rはアルキル基、
アリール基等の有機基)が挙げられる。
【0043】以下に、本発明のオニウム塩の代表的具体
例を挙げるが、これらに限定されない。
例を挙げるが、これらに限定されない。
【0044】
【化3】
【0045】
【化4】
【0046】
【化5】
【0047】
【化6】
【0048】
【化7】
【0049】
【化8】
【0050】本発明のオニウム塩の添加量は、オニウム
塩の種類及び使用形態により異なるが、画像形成材料1
m2当たり0.2〜5gが好ましい。
塩の種類及び使用形態により異なるが、画像形成材料1
m2当たり0.2〜5gが好ましい。
【0051】次に、光熱変換素子について詳述する。
【0052】本発明に用いる光熱変換素子は、光を吸収
し効率良く熱に変換する物質であればよく、半導体レー
ザーを光源として使用する場合には、近赤外に吸収を持
つものが好ましい。例えば、カーボンブラックや磁性粉
や黒色染料を初め、赤外染料として、各種シアニン色
素、アントラキノン系、インドアニリン金属錯体系、ア
ズレニウム系、クロコニウム系、スクアリリウム系、ジ
チオール金属錯体系、キレート系、ナフタロシアニン金
属錯体系、分子間CT系色素等を用いることができる。
これらの色素は勿論、公知の方法によって合成すること
ができるが、下記のような市販品を用いることもでき
る。
し効率良く熱に変換する物質であればよく、半導体レー
ザーを光源として使用する場合には、近赤外に吸収を持
つものが好ましい。例えば、カーボンブラックや磁性粉
や黒色染料を初め、赤外染料として、各種シアニン色
素、アントラキノン系、インドアニリン金属錯体系、ア
ズレニウム系、クロコニウム系、スクアリリウム系、ジ
チオール金属錯体系、キレート系、ナフタロシアニン金
属錯体系、分子間CT系色素等を用いることができる。
これらの色素は勿論、公知の方法によって合成すること
ができるが、下記のような市販品を用いることもでき
る。
【0053】日本化薬:IR750(アントラキノン
系);IR002,IR003(アルミニウム系);I
R820(ポリメチン系);IRG022,IRG03
3(ジインモニウム系);CY−2,CY−4,CY−
9,CY−20、三井東圧;KIR103,SIR10
3(フタロシアニン系);KIR101,SIR114
(アントラキノン系);PA1001,PA1005,
PA1006,SIR128(金属錯体系)、大日本イ
ンキ化学;Fastogen blue8120、みど
り化学;MIR−101,1011,1021。
系);IR002,IR003(アルミニウム系);I
R820(ポリメチン系);IRG022,IRG03
3(ジインモニウム系);CY−2,CY−4,CY−
9,CY−20、三井東圧;KIR103,SIR10
3(フタロシアニン系);KIR101,SIR114
(アントラキノン系);PA1001,PA1005,
PA1006,SIR128(金属錯体系)、大日本イ
ンキ化学;Fastogen blue8120、みど
り化学;MIR−101,1011,1021。
【0054】以下に好ましく用いられる光熱変換素子の
代表的化合物例を挙げる。
代表的化合物例を挙げる。
【0055】
【化9】
【0056】
【化10】
【0057】
【化11】
【0058】
【化12】
【0059】
【化13】
【0060】光熱変換素子の添加量は、通常、固形分組
成の2〜80重量%、好ましくは20〜70重量%であ
り、ラジカル開始剤と同層に添加することが好ましい
が、複数の層で構成される場合には別層に添加してもよ
い。
成の2〜80重量%、好ましくは20〜70重量%であ
り、ラジカル開始剤と同層に添加することが好ましい
が、複数の層で構成される場合には別層に添加してもよ
い。
【0061】次にラジカル発生剤について説明する。
【0062】本発明の様式に従えば、赤外光によって光
熱変換素子から熱が発生し、熱によって本発明の特徴で
あるオニウム塩とラジカル発生剤の相互作用によりラジ
カルを発生すると考えている。
熱変換素子から熱が発生し、熱によって本発明の特徴で
あるオニウム塩とラジカル発生剤の相互作用によりラジ
カルを発生すると考えている。
【0063】ラジカル発生剤としては、具体的にハロゲ
ン化物(α−ハロアセトフェノン類、トリクロロメチル
トリアジン類等)、アゾ化合物、芳香族カルボニル化合
物(ベンゾインエステル類、ケタール類、アセトフェノ
ン類、o−アシルオキシイミノケトン類、アシルホスフ
ィンオキサイド類等)、ヘキサアリールビスイミダゾー
ル化合物、過酸化物などが挙げられるが、好ましくはビ
スイミダゾール誘導体である。具体例を以下に示すが、
これらに限られるものではない。
ン化物(α−ハロアセトフェノン類、トリクロロメチル
トリアジン類等)、アゾ化合物、芳香族カルボニル化合
物(ベンゾインエステル類、ケタール類、アセトフェノ
ン類、o−アシルオキシイミノケトン類、アシルホスフ
ィンオキサイド類等)、ヘキサアリールビスイミダゾー
ル化合物、過酸化物などが挙げられるが、好ましくはビ
スイミダゾール誘導体である。具体例を以下に示すが、
これらに限られるものではない。
【0064】
【化14】
【0065】本発明のラジカル発生剤の添加量は、ラジ
カル発生剤の種類及び使用形態により異なるが、画像形
成材料1m2当たり0.1〜10gが好ましい。
カル発生剤の種類及び使用形態により異なるが、画像形
成材料1m2当たり0.1〜10gが好ましい。
【0066】感光層は、オニウム塩、ラジカル発生剤及
び光熱変換素子をバインダーと共に溶剤中に溶解、又は
溶媒中に微粒子状に分散させ調製した感光層塗布液を、
支持体上に塗布し適宜に乾燥して形成する。感光層の厚
さは、乾燥膜厚で5〜100μmが好ましい。
び光熱変換素子をバインダーと共に溶剤中に溶解、又は
溶媒中に微粒子状に分散させ調製した感光層塗布液を、
支持体上に塗布し適宜に乾燥して形成する。感光層の厚
さは、乾燥膜厚で5〜100μmが好ましい。
【0067】支持体としては、紙、合成紙(例えばポリ
プロピレンを主成分とする合成紙)、樹脂のフィルム又
はシ−ト、更には樹脂を2層以上積層してなるプラスチ
ックフィルム又はシート、あるいは各種高分子材料、金
属、セラミックもしくは木材パルプやセルロースパル
プ、サルファイトパルプなどで抄造された紙等に、樹脂
層を積層したフィルム又はシートなどを挙げることがで
きる。このような樹脂のフィルム又はシ−トを構成する
樹脂としては、アクリル酸エステル、メタクリル酸エス
テル等のアクリル樹脂、ポリエチレンテレフタレート、
ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレー
ト、ポリカーボネート、ポリアリレート等のポリエステ
ル系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ
弗化ビニリデン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
スチレン等のポリオレフィン系樹脂、ナイロン、芳香族
ポリアミド等のポリアミド系樹脂、ポリエーテルエーテ
ルケトン、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリ
イミド、ポリエーテルイミド、ポリパラバン酸、フェノ
キシ樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹
脂、アルキッド樹脂、フェノール樹脂、弗素樹脂、シリ
コーン樹脂などが挙げられる。
プロピレンを主成分とする合成紙)、樹脂のフィルム又
はシ−ト、更には樹脂を2層以上積層してなるプラスチ
ックフィルム又はシート、あるいは各種高分子材料、金
属、セラミックもしくは木材パルプやセルロースパル
プ、サルファイトパルプなどで抄造された紙等に、樹脂
層を積層したフィルム又はシートなどを挙げることがで
きる。このような樹脂のフィルム又はシ−トを構成する
樹脂としては、アクリル酸エステル、メタクリル酸エス
テル等のアクリル樹脂、ポリエチレンテレフタレート、
ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレー
ト、ポリカーボネート、ポリアリレート等のポリエステ
ル系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ
弗化ビニリデン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
スチレン等のポリオレフィン系樹脂、ナイロン、芳香族
ポリアミド等のポリアミド系樹脂、ポリエーテルエーテ
ルケトン、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリ
イミド、ポリエーテルイミド、ポリパラバン酸、フェノ
キシ樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹
脂、アルキッド樹脂、フェノール樹脂、弗素樹脂、シリ
コーン樹脂などが挙げられる。
【0068】平版印刷版作成用として用いる場合の感光
層を設ける支持体としては、アルミニウム、亜鉛、銅、
鋼等の金属板、並びにクロム、亜鉛、銅、ニッケル、ア
ルミニウム、鉄等がメッキ又は蒸着された金属板、紙、
プラスチックフィルム及びガラス板、樹脂が塗布された
紙、アルミニウム等の金属箔が張られた紙、親水化処理
したプラスチックフィルム等が挙げられる。これらの
内、好ましいのは、アルミニウム板である。
層を設ける支持体としては、アルミニウム、亜鉛、銅、
鋼等の金属板、並びにクロム、亜鉛、銅、ニッケル、ア
ルミニウム、鉄等がメッキ又は蒸着された金属板、紙、
プラスチックフィルム及びガラス板、樹脂が塗布された
紙、アルミニウム等の金属箔が張られた紙、親水化処理
したプラスチックフィルム等が挙げられる。これらの
内、好ましいのは、アルミニウム板である。
【0069】本発明の支持体としては、砂目立て処理、
陽極酸化処理及び必要に応じて封孔処理等の表面処理が
施されたアルミニウム板を用いることがより好ましい。
陽極酸化処理及び必要に応じて封孔処理等の表面処理が
施されたアルミニウム板を用いることがより好ましい。
【0070】これらの処理には公知の方法を用いること
ができる。砂目立て処理の方法としては、例えば機械的
方法、電解によりエッチングする方法が挙げられる。機
械的方法としては、例えばボール研磨法、ブラシ研磨
法、液体ホーニングによる研磨法、バフ研磨法が挙げら
れる。
ができる。砂目立て処理の方法としては、例えば機械的
方法、電解によりエッチングする方法が挙げられる。機
械的方法としては、例えばボール研磨法、ブラシ研磨
法、液体ホーニングによる研磨法、バフ研磨法が挙げら
れる。
【0071】アルミニウム材の組成等に応じて上述の各
種方法を単独あるいは組み合わせて用いることができ
る。好ましいのは、電解エッチングによる方法である。
種方法を単独あるいは組み合わせて用いることができ
る。好ましいのは、電解エッチングによる方法である。
【0072】電解エッチングは、燐酸、硫酸、塩酸、硝
酸等の酸の単独ないし2種以上混合した浴で行われる。
砂目立て処理の後、必要に応じてアルカリ又は酸の水溶
液によってデスマット処理を行い、中和して水洗する。
陽極酸化処理には、電解液として、硫酸、クロム酸、蓚
酸、燐酸、マロン酸等を1種又は2種以上含む溶液を用
いアルミニウム板を陽極として電解して行われる。形成
された陽極酸化皮膜量は1〜50mg/dm2が適当で
あり、好ましくは10〜40mg/dm2である。陽極
酸化皮膜量は、例えばアルミニウム板を燐酸クロム酸溶
液に浸積し、酸化皮膜を溶解し、板の皮膜溶解前後の重
量変化測定等から求められる。
酸等の酸の単独ないし2種以上混合した浴で行われる。
砂目立て処理の後、必要に応じてアルカリ又は酸の水溶
液によってデスマット処理を行い、中和して水洗する。
陽極酸化処理には、電解液として、硫酸、クロム酸、蓚
酸、燐酸、マロン酸等を1種又は2種以上含む溶液を用
いアルミニウム板を陽極として電解して行われる。形成
された陽極酸化皮膜量は1〜50mg/dm2が適当で
あり、好ましくは10〜40mg/dm2である。陽極
酸化皮膜量は、例えばアルミニウム板を燐酸クロム酸溶
液に浸積し、酸化皮膜を溶解し、板の皮膜溶解前後の重
量変化測定等から求められる。
【0073】封孔処理は、沸騰水処理、水蒸気処理、珪
酸ナトリウム処理、重クロム酸塩水溶液処理などが具体
例として挙げられる。この他に、アルミニウム板支持体
に対して、水溶性高分子化合物や弗化ジルコン等の金属
塩水溶液による下引処理を施すこともできる。
酸ナトリウム処理、重クロム酸塩水溶液処理などが具体
例として挙げられる。この他に、アルミニウム板支持体
に対して、水溶性高分子化合物や弗化ジルコン等の金属
塩水溶液による下引処理を施すこともできる。
【0074】支持体の厚さは通常3〜1000μmが好
ましく、8〜300μmがより好ましい。
ましく、8〜300μmがより好ましい。
【0075】感光層に用いられるバインダー樹脂として
は、公知の種々のポリマーを使用することができる。具
体的なバインダーの詳細は、米国特許4,072,52
7号に記載されており、より好ましくは特開昭54−9
8613号に記載されている如き芳香族性水酸基を有す
る単量体、例えばN−(4−ヒドロキシフェニル)アク
リルアミド、N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリ
ルアミド、o−、m−又はp−ヒドロキシスチレン、o
−、m−又はp−ヒドロキシフェニルメタクリレート等
と他の単量体との共重合物、米国特許4,123,27
6号中に記載されるようなヒドロキシエチルアクリレー
ト単位又はヒドロキシエチルメタクリレートを含むポリ
マー、シェラック、ロジン等の天然樹脂、ポリビニルア
ルコール、米国特許3,751,257号中に記載され
るようなポリアミド樹脂、米国特許3,660,097
号中に記載されるような線状ポリウレタン樹脂、ポリビ
ニルアルコールのフタレート化樹脂、ビスフェノールA
とエピクロルヒドリンから縮合されたエポキシ樹脂、酢
酸セルロース、セルロースアセテートフタレート等のセ
ルロース樹脂などが挙げられる。
は、公知の種々のポリマーを使用することができる。具
体的なバインダーの詳細は、米国特許4,072,52
7号に記載されており、より好ましくは特開昭54−9
8613号に記載されている如き芳香族性水酸基を有す
る単量体、例えばN−(4−ヒドロキシフェニル)アク
リルアミド、N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリ
ルアミド、o−、m−又はp−ヒドロキシスチレン、o
−、m−又はp−ヒドロキシフェニルメタクリレート等
と他の単量体との共重合物、米国特許4,123,27
6号中に記載されるようなヒドロキシエチルアクリレー
ト単位又はヒドロキシエチルメタクリレートを含むポリ
マー、シェラック、ロジン等の天然樹脂、ポリビニルア
ルコール、米国特許3,751,257号中に記載され
るようなポリアミド樹脂、米国特許3,660,097
号中に記載されるような線状ポリウレタン樹脂、ポリビ
ニルアルコールのフタレート化樹脂、ビスフェノールA
とエピクロルヒドリンから縮合されたエポキシ樹脂、酢
酸セルロース、セルロースアセテートフタレート等のセ
ルロース樹脂などが挙げられる。
【0076】バインダー樹脂としては、これら樹脂の中
から1種又は2種以上のものを組み合わせて用いること
ができる。中でも塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル
共重合樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリスチ
レン、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテル
スルホン、ポリビニルブチラール、スチレン−アクリロ
ニトリル、ポリビニルアセタール、ニトロセルロース、
エチルセルロース等の溶剤可溶性ポリマーが好ましい。
から1種又は2種以上のものを組み合わせて用いること
ができる。中でも塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル
共重合樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリスチ
レン、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテル
スルホン、ポリビニルブチラール、スチレン−アクリロ
ニトリル、ポリビニルアセタール、ニトロセルロース、
エチルセルロース等の溶剤可溶性ポリマーが好ましい。
【0077】これらのバインダーは、1種又は2種以上
を有機溶媒に溶解して用いるだけでなく、ラテックス分
散の形で使用してもよい。バインダーの使用量として
は、本発明の画像形成材料の目的に応じて、又、単層構
成であるか重層構成であるかにより異なるが、支持体1
m2当たり1.0〜20gが好ましい。
を有機溶媒に溶解して用いるだけでなく、ラテックス分
散の形で使用してもよい。バインダーの使用量として
は、本発明の画像形成材料の目的に応じて、又、単層構
成であるか重層構成であるかにより異なるが、支持体1
m2当たり1.0〜20gが好ましい。
【0078】次に重合性化合物について詳述する。
【0079】重合可能な化合物としては公知のモノマー
が特に制限なく使用することができる。具体的モノマー
としては、例えば、2−エチルヘキシルアクリレート、
2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプ
ロピルアクリレート等の単官能アクリル酸エステル及び
その誘導体あるいはこれらのアクリレートをメタクリレ
ート、イタコネート、クロトネート、マレエート等に代
えた化合物;ポリエチレングリコールジアクリレート、
ペンタエリスリトールジアクリレート、ビスフェノール
Aジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチル
グリコールのε−カプロラクトン付加物のジアクリレー
ト等の2官能アクリル酸エステル及びその誘導体あるい
はこれらのアクリレートをメタクリレート、イタコネー
ト、クロトネート、マレエート等に代えた化合物;ある
いはトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレー
ト、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペ
ンタエリスリトールヘキサアクリレート、ピロガロール
トリアクリレート等の多官能アクリル酸エステル及びそ
の誘導体あるいはこれらのアクリレートをメタクリレー
ト、イタコネート、クロトネート、マレエート等に代え
た化合物等を挙げることができる。又、適当な分子量の
オリゴマーにアクリル酸又はメタアクリル酸を導入し、
光重合性を付与した所謂プレポリマーと呼ばれるものも
好適に使用できる。
が特に制限なく使用することができる。具体的モノマー
としては、例えば、2−エチルヘキシルアクリレート、
2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプ
ロピルアクリレート等の単官能アクリル酸エステル及び
その誘導体あるいはこれらのアクリレートをメタクリレ
ート、イタコネート、クロトネート、マレエート等に代
えた化合物;ポリエチレングリコールジアクリレート、
ペンタエリスリトールジアクリレート、ビスフェノール
Aジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチル
グリコールのε−カプロラクトン付加物のジアクリレー
ト等の2官能アクリル酸エステル及びその誘導体あるい
はこれらのアクリレートをメタクリレート、イタコネー
ト、クロトネート、マレエート等に代えた化合物;ある
いはトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレー
ト、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペ
ンタエリスリトールヘキサアクリレート、ピロガロール
トリアクリレート等の多官能アクリル酸エステル及びそ
の誘導体あるいはこれらのアクリレートをメタクリレー
ト、イタコネート、クロトネート、マレエート等に代え
た化合物等を挙げることができる。又、適当な分子量の
オリゴマーにアクリル酸又はメタアクリル酸を導入し、
光重合性を付与した所謂プレポリマーと呼ばれるものも
好適に使用できる。
【0080】この他に、特開昭58−212994号、
同61−6649号、同62−46688号、同62−
48589号、同62−173295号、同62−18
7092号、同63−67189号、特開平1−244
891号等に記載の化合物などを挙げることができ、更
に「11290の化学商品」化学工業日報社,286〜
294頁に記載の化合物、「UV・EB硬化ハンドブッ
ク(原料編)」高分子刊行会,11〜65頁に記載の化
合物なども好適に用いることができる。
同61−6649号、同62−46688号、同62−
48589号、同62−173295号、同62−18
7092号、同63−67189号、特開平1−244
891号等に記載の化合物などを挙げることができ、更
に「11290の化学商品」化学工業日報社,286〜
294頁に記載の化合物、「UV・EB硬化ハンドブッ
ク(原料編)」高分子刊行会,11〜65頁に記載の化
合物なども好適に用いることができる。
【0081】これらの中で、分子内に2個以上のアクリ
ル基又はメタクリル基を有する化合物が本発明において
は好ましく、更に分子量が10,000以下、より好ま
しくは5,000以下のものが望ましい。又、本発明で
は、これらのモノマー又はプレポリマーの内、1種又は
2種以上を混合して用いることができる。
ル基又はメタクリル基を有する化合物が本発明において
は好ましく、更に分子量が10,000以下、より好ま
しくは5,000以下のものが望ましい。又、本発明で
は、これらのモノマー又はプレポリマーの内、1種又は
2種以上を混合して用いることができる。
【0082】エチレン性不飽和基を有する化合物は、感
光層中に好ましくは20〜80重量%、より好ましくは
30〜60重量%含有される。
光層中に好ましくは20〜80重量%、より好ましくは
30〜60重量%含有される。
【0083】平版印刷版作成用感光材料(以下、単に感
光材料とも称す)は、光熱変換材料を含む感光層の他
に、中間層、保護層、下引層等の補助層を有してもよ
い。
光材料とも称す)は、光熱変換材料を含む感光層の他
に、中間層、保護層、下引層等の補助層を有してもよ
い。
【0084】次に、本発明の感光材料を用いた画像形成
方法について説明する。感光材料を画像様に露光すると
露光量に応じて光熱変換材料により熱が発生し、この熱
によりラジカル発生剤とオニウム塩が相互作用してラジ
カルが生成する。ラジカル重合により画像形成をする材
料に用いた場合には、生成したラジカルにより重合が起
こり画像が形成される。感光材料に対する露光には、太
陽光、タングステン光、水銀ランプ、ハロゲンランプ、
キセノンランプ、レーザー光、発光ダイオード、CRT
等を用いることができる。上記のラジカル重合により画
像形成をする材料としては感光性層に少なくともエチレ
ン性不飽和結合を有する重合可能な化合物、及び必要に
応じて着色剤を含有している。このようなエチレン性不
飽和結合を有する重合可能な化合物としては、架橋可能
な公知のモノマーが特に制限なく使用することができ
る。具体的モノマーとしては、例えば、2−エチルヘキ
シルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレー
ト、2−ヒドロキシプロピルアクリレート等の単官能ア
クリル酸エステル及びその誘導体あるいはこれらのアク
リレートをメタクリレート、イタコネート、クロトネー
ト、マレエート等に代えた化合物、ポリエチレングリコ
ールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレ
ート、ビスフェノールAジアクリレート、ヒドロキシピ
バリン酸ネオペンチルグリコールのε−カプロラクトン
付加物のジアクリレート等の2官能アクリル酸エステル
及びその誘導体あるいはこれらのアクリレートをメタク
リレート、イタコネート、クロトネート、マレエート等
に代えた化合物、あるいはトリメチロールプロパントリ
(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ
アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレ
ート、ピロガロールトリアクリレート等の多官能アクリ
ル酸エステル及びその誘導体あるいはこれらのアクリレ
ートをメタクリレート、イタコネート、クロトネート、
マレエート等に代えた化合物等を挙げることができる。
又、エチレン性不飽和結合を有する樹脂は、適当な分子
量のオリゴマーにアクリル酸又はメタアクリル酸を導入
し、光重合性を付与した、所謂プレポリマーと呼ばれる
ものも好適に使用できる。この他に、特開昭58−21
2994号、同61−6649号、同62−46688
号、同62−48589号、同62−173295号、
同62−187092号、同63−67189号、特開
平1−244891号等に記載の化合物などを挙げるこ
とができ、更に「11290の化学商品」(前出),2
86〜294頁に記載の化合物、「UV・EB硬化ハン
ドブック(原料編)」(前出),11〜65頁に記載の
化合物なども本発明においては好適に用いることができ
る。これらの中で、分子内に2個以上のアクリル又はメ
タクリル基を有する化合物が本発明においては好まし
く、更に分子量が10,000以下、より好ましくは
5,000以下のものが好ましい。又、本発明では、こ
れらのモノマーあるいはプレポリマーのうち1種又は2
種以上を混合して用いることができる。
方法について説明する。感光材料を画像様に露光すると
露光量に応じて光熱変換材料により熱が発生し、この熱
によりラジカル発生剤とオニウム塩が相互作用してラジ
カルが生成する。ラジカル重合により画像形成をする材
料に用いた場合には、生成したラジカルにより重合が起
こり画像が形成される。感光材料に対する露光には、太
陽光、タングステン光、水銀ランプ、ハロゲンランプ、
キセノンランプ、レーザー光、発光ダイオード、CRT
等を用いることができる。上記のラジカル重合により画
像形成をする材料としては感光性層に少なくともエチレ
ン性不飽和結合を有する重合可能な化合物、及び必要に
応じて着色剤を含有している。このようなエチレン性不
飽和結合を有する重合可能な化合物としては、架橋可能
な公知のモノマーが特に制限なく使用することができ
る。具体的モノマーとしては、例えば、2−エチルヘキ
シルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレー
ト、2−ヒドロキシプロピルアクリレート等の単官能ア
クリル酸エステル及びその誘導体あるいはこれらのアク
リレートをメタクリレート、イタコネート、クロトネー
ト、マレエート等に代えた化合物、ポリエチレングリコ
ールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレ
ート、ビスフェノールAジアクリレート、ヒドロキシピ
バリン酸ネオペンチルグリコールのε−カプロラクトン
付加物のジアクリレート等の2官能アクリル酸エステル
及びその誘導体あるいはこれらのアクリレートをメタク
リレート、イタコネート、クロトネート、マレエート等
に代えた化合物、あるいはトリメチロールプロパントリ
(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ
アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレ
ート、ピロガロールトリアクリレート等の多官能アクリ
ル酸エステル及びその誘導体あるいはこれらのアクリレ
ートをメタクリレート、イタコネート、クロトネート、
マレエート等に代えた化合物等を挙げることができる。
又、エチレン性不飽和結合を有する樹脂は、適当な分子
量のオリゴマーにアクリル酸又はメタアクリル酸を導入
し、光重合性を付与した、所謂プレポリマーと呼ばれる
ものも好適に使用できる。この他に、特開昭58−21
2994号、同61−6649号、同62−46688
号、同62−48589号、同62−173295号、
同62−187092号、同63−67189号、特開
平1−244891号等に記載の化合物などを挙げるこ
とができ、更に「11290の化学商品」(前出),2
86〜294頁に記載の化合物、「UV・EB硬化ハン
ドブック(原料編)」(前出),11〜65頁に記載の
化合物なども本発明においては好適に用いることができ
る。これらの中で、分子内に2個以上のアクリル又はメ
タクリル基を有する化合物が本発明においては好まし
く、更に分子量が10,000以下、より好ましくは
5,000以下のものが好ましい。又、本発明では、こ
れらのモノマーあるいはプレポリマーのうち1種又は2
種以上を混合して用いることができる。
【0085】エチレン性不飽和結合を有する重合可能な
化合物は、感光性層形成組成物中、通常5重量%以上、
より好ましくは15重量%以上にするのが好ましい。
化合物は、感光性層形成組成物中、通常5重量%以上、
より好ましくは15重量%以上にするのが好ましい。
【0086】感光層には必要に応じてバインダー樹脂が
用いられる。バインダー樹脂としては、ポリエステル系
樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、ポリウレタン系樹
脂、ポリアミド系樹脂、セルロース系樹脂、オレフィン
系樹脂、塩化ビニル系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、
スチレン系樹脂、ポリカーボネート、ポリビニルアルコ
ール、ポリビニルピロリドン、ポリスルホン、ポリカプ
ロラクトン樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、尿素樹
脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ゴム系樹脂等が挙
げられる。又、樹脂内に不飽和結合を有する樹脂、例え
ばジアリルフタレート樹脂及びその誘導体、塩素化ポリ
プロピレンなどは、前述のエチレン性不飽和結合を有す
る化合物と重合させることが可能なため用途に応じて好
適に用いることができる。バインダー樹脂としては前述
の樹脂の中から、1種又は2種以上のものを組み合わせ
て用いることができる。
用いられる。バインダー樹脂としては、ポリエステル系
樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、ポリウレタン系樹
脂、ポリアミド系樹脂、セルロース系樹脂、オレフィン
系樹脂、塩化ビニル系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、
スチレン系樹脂、ポリカーボネート、ポリビニルアルコ
ール、ポリビニルピロリドン、ポリスルホン、ポリカプ
ロラクトン樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、尿素樹
脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ゴム系樹脂等が挙
げられる。又、樹脂内に不飽和結合を有する樹脂、例え
ばジアリルフタレート樹脂及びその誘導体、塩素化ポリ
プロピレンなどは、前述のエチレン性不飽和結合を有す
る化合物と重合させることが可能なため用途に応じて好
適に用いることができる。バインダー樹脂としては前述
の樹脂の中から、1種又は2種以上のものを組み合わせ
て用いることができる。
【0087】これらのバインダー樹脂は、前記エチレン
性不飽和結合を有する重合可能な化合物100重量部に
対して500重量部以下、より好ましくは200重量部
以下の範囲で使用するのが好ましい。
性不飽和結合を有する重合可能な化合物100重量部に
対して500重量部以下、より好ましくは200重量部
以下の範囲で使用するのが好ましい。
【0088】本発明の1形態として着色剤により着色し
てもよい。着色剤は、少なくとも350〜700nmの
波長範囲において任意の点の吸光度(本発明において吸
光度とは透過濃度を意味する)が3.0以上になるよう
構成されている。この着色剤は感光層内に含まれる。
てもよい。着色剤は、少なくとも350〜700nmの
波長範囲において任意の点の吸光度(本発明において吸
光度とは透過濃度を意味する)が3.0以上になるよう
構成されている。この着色剤は感光層内に含まれる。
【0089】着色剤としては、カーボンブラック、酸化
チタン、酸化鉄、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、
アントラキノン系顔料、キナクリドン系顔料や、クリス
タルバイオレット、メチレンブルー、アゾ系染料、アン
トラキノン系染料、シアニン系染料等の公知の顔料及び
/又は染料を上記吸光度を満足するように1種又は2種
以上を組み合わせて感光層に含有させる。
チタン、酸化鉄、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、
アントラキノン系顔料、キナクリドン系顔料や、クリス
タルバイオレット、メチレンブルー、アゾ系染料、アン
トラキノン系染料、シアニン系染料等の公知の顔料及び
/又は染料を上記吸光度を満足するように1種又は2種
以上を組み合わせて感光層に含有させる。
【0090】着色剤の添加量としては、感光層又は色材
層形成組成物中10〜80重量%が好ましく、より好ま
しくは15〜70重量%である。
層形成組成物中10〜80重量%が好ましく、より好ま
しくは15〜70重量%である。
【0091】感光層又は色材層内へ着色剤を添加せしめ
るためには、着色剤以外の感光層組成物内に、着色剤を
サンドミル、ボールミル、アトライター、超音波分散
機、ジェットミル、ホモジナイザー、遊星ミル等公用の
装置を用いて分散・混合し、更に必要に応じて塗工液を
濾過して使用すればよい。
るためには、着色剤以外の感光層組成物内に、着色剤を
サンドミル、ボールミル、アトライター、超音波分散
機、ジェットミル、ホモジナイザー、遊星ミル等公用の
装置を用いて分散・混合し、更に必要に応じて塗工液を
濾過して使用すればよい。
【0092】本発明に係る感光層には、目的を損なわな
い範囲で増感剤、熱重合禁止剤、熱溶融性化合物、酸素
補足剤、可塑剤等の他の成分を含有せしめることは任意
である。
い範囲で増感剤、熱重合禁止剤、熱溶融性化合物、酸素
補足剤、可塑剤等の他の成分を含有せしめることは任意
である。
【0093】増感剤としては、特開昭64−13140
号に記載のトリアジン系化合物、特開昭64−1314
1号に記載の芳香族オニウム塩、芳香族ハロニウム塩、
特開昭64−13143号に記載の有機過酸化物、特公
昭45−37377号や米国特許3,652,275号
に記載のビスイミダゾール化合物、チオール類等が挙げ
られる。増感剤の添加量は、エチレン性不飽和結合を有
する重合可能な化合物とバインダーの合計量100重量
部に対して10重量部以下、好ましくは0.01〜5重
量部程度添加される。
号に記載のトリアジン系化合物、特開昭64−1314
1号に記載の芳香族オニウム塩、芳香族ハロニウム塩、
特開昭64−13143号に記載の有機過酸化物、特公
昭45−37377号や米国特許3,652,275号
に記載のビスイミダゾール化合物、チオール類等が挙げ
られる。増感剤の添加量は、エチレン性不飽和結合を有
する重合可能な化合物とバインダーの合計量100重量
部に対して10重量部以下、好ましくは0.01〜5重
量部程度添加される。
【0094】熱重合防止剤としては、キノン系、フェノ
ール系等の化合物が好ましく用いられる。例えばハイド
ロキノン、ピロガロール、p−メトキシフェノール、カ
テコール、β−ナフトール、2,6−ジ−t−ブチル−
p−クレゾール等が挙げられる。エチレン性不飽和結合
を有する重合可能な化合物とバインダーの合計量100
重量部に対して10重量部以下、好ましくは0.01〜
5重量部程度添加される。
ール系等の化合物が好ましく用いられる。例えばハイド
ロキノン、ピロガロール、p−メトキシフェノール、カ
テコール、β−ナフトール、2,6−ジ−t−ブチル−
p−クレゾール等が挙げられる。エチレン性不飽和結合
を有する重合可能な化合物とバインダーの合計量100
重量部に対して10重量部以下、好ましくは0.01〜
5重量部程度添加される。
【0095】酸素クエンチャーとしてはN,N−ジアル
キルアニリン誘導体が好ましく、例えば米国特許4,7
72,541号の11カラム58行目〜12カラム35
行目に記載の化合物が挙げられる。
キルアニリン誘導体が好ましく、例えば米国特許4,7
72,541号の11カラム58行目〜12カラム35
行目に記載の化合物が挙げられる。
【0096】可塑剤としてはフタル酸エステル類、トリ
メリット酸エステル類、アジピン酸エステル類、その他
飽和あるいは不飽和カルボン酸エステル類、枸櫞酸エス
テル類、エポキシ化大豆油、エポキシ化亜麻仁油、ステ
アリン酸エポキシ類、正燐酸エステル類、亜燐酸エステ
ル類、グリコールエステル類などが挙げられる。
メリット酸エステル類、アジピン酸エステル類、その他
飽和あるいは不飽和カルボン酸エステル類、枸櫞酸エス
テル類、エポキシ化大豆油、エポキシ化亜麻仁油、ステ
アリン酸エポキシ類、正燐酸エステル類、亜燐酸エステ
ル類、グリコールエステル類などが挙げられる。
【0097】熱溶融性化合物としては、常温で固体であ
り、加熱時に可逆的に液体となる化合物が用いられる。
前記熱溶融性物質としては、テルピネオール、メントー
ル、1,4−シクロヘキサンジオール、フェノール等の
アルコール類;アセトアミド、ベンズアミド等のアミド
類;クマリン、桂皮酸ベンジル等のエステル類;ジフェ
ニルエーテル、クラウンエーテル等のエーテル類;カン
ファー、p−メチルアセトフェノン等のケトン類;バニ
リン、ジメトキシベンズアルデヒド等のアルデヒド類;
ノルボルネン、スチルベン等の炭化水素類;マルガリン
酸等の高級脂肪酸;エイコサノール等の高級アルコー
ル;パルミチン酸セチル等の高級脂肪酸エステル;ステ
アリン酸アミド等の高級脂肪酸アミド;ベヘニルアミン
等の高級アミンなどに代表される単分子化合物、蜜蝋、
キャンデリラワックス、パラフィンワックス、エステル
ワックス、モンタン蝋、カルナバワックス、アミドワッ
クス、ポリエチレンワックス、マイクロクリスタリンワ
ックスなどのワックス類、エステルガム、ロジンマレイ
ン酸樹脂、ロジンフェノール樹脂等のロジン誘導体、フ
ェノール樹脂、ケトン樹脂、エポキシ樹脂、ジアリルフ
タレート樹脂、テルペン系炭化水素樹脂、シクロペンタ
ジエン樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリカプロラクト
ン系樹脂、ポリエチレングリコール、ポリプロピレング
リコールなどのポリオレフィンオキサイドなどに代表さ
れる高分子化合物などを挙げることができる。
り、加熱時に可逆的に液体となる化合物が用いられる。
前記熱溶融性物質としては、テルピネオール、メントー
ル、1,4−シクロヘキサンジオール、フェノール等の
アルコール類;アセトアミド、ベンズアミド等のアミド
類;クマリン、桂皮酸ベンジル等のエステル類;ジフェ
ニルエーテル、クラウンエーテル等のエーテル類;カン
ファー、p−メチルアセトフェノン等のケトン類;バニ
リン、ジメトキシベンズアルデヒド等のアルデヒド類;
ノルボルネン、スチルベン等の炭化水素類;マルガリン
酸等の高級脂肪酸;エイコサノール等の高級アルコー
ル;パルミチン酸セチル等の高級脂肪酸エステル;ステ
アリン酸アミド等の高級脂肪酸アミド;ベヘニルアミン
等の高級アミンなどに代表される単分子化合物、蜜蝋、
キャンデリラワックス、パラフィンワックス、エステル
ワックス、モンタン蝋、カルナバワックス、アミドワッ
クス、ポリエチレンワックス、マイクロクリスタリンワ
ックスなどのワックス類、エステルガム、ロジンマレイ
ン酸樹脂、ロジンフェノール樹脂等のロジン誘導体、フ
ェノール樹脂、ケトン樹脂、エポキシ樹脂、ジアリルフ
タレート樹脂、テルペン系炭化水素樹脂、シクロペンタ
ジエン樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリカプロラクト
ン系樹脂、ポリエチレングリコール、ポリプロピレング
リコールなどのポリオレフィンオキサイドなどに代表さ
れる高分子化合物などを挙げることができる。
【0098】更に、感光性層には、必要に応じて酸化防
止剤、フィラー、帯電防止剤などをを添加してもよい。
止剤、フィラー、帯電防止剤などをを添加してもよい。
【0099】酸化防止剤としては、クロマン系化合物、
クラマン系化合物、フェノール系化合物、ハイドロキノ
ン誘導体、ヒンダードアミン誘導体、スピロインダン系
化合物、硫黄系化合物、燐系化合物などが挙げられ、特
開昭59−182785号、同60−130735号、
同61−159644号、特開平1−127387号、
「11290の化学商品」(前出),862〜868頁
等に記載の化合物、及び写真その他の画像記録材料に耐
久性を改善するものとして公知の化合物を挙げることが
できる。
クラマン系化合物、フェノール系化合物、ハイドロキノ
ン誘導体、ヒンダードアミン誘導体、スピロインダン系
化合物、硫黄系化合物、燐系化合物などが挙げられ、特
開昭59−182785号、同60−130735号、
同61−159644号、特開平1−127387号、
「11290の化学商品」(前出),862〜868頁
等に記載の化合物、及び写真その他の画像記録材料に耐
久性を改善するものとして公知の化合物を挙げることが
できる。
【0100】フィラーとしては、無機微粒子や有機樹脂
粒子を挙げることができる。無機微粒子としては、シリ
カゲル、炭酸カルシウム、酸化チタン、酸化亜鉛、硫酸
バリウム、タルク、クレー、カオリン、酸性白土、活性
白土、アルミナ等を挙げることができ、有機微粒子とし
ては、弗素樹脂粒子、グアナミン樹脂粒子、アクリル樹
脂粒子、シリコン樹脂粒子等の樹脂粒子、帯電防止剤と
しては、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性
剤、非イオン性界面活性剤、高分子帯電防止剤、導電性
微粒子などの他、「11290の化学商品」(前出),
875〜876頁などに記載の化合物も好適に用いるこ
とができる。
粒子を挙げることができる。無機微粒子としては、シリ
カゲル、炭酸カルシウム、酸化チタン、酸化亜鉛、硫酸
バリウム、タルク、クレー、カオリン、酸性白土、活性
白土、アルミナ等を挙げることができ、有機微粒子とし
ては、弗素樹脂粒子、グアナミン樹脂粒子、アクリル樹
脂粒子、シリコン樹脂粒子等の樹脂粒子、帯電防止剤と
しては、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性
剤、非イオン性界面活性剤、高分子帯電防止剤、導電性
微粒子などの他、「11290の化学商品」(前出),
875〜876頁などに記載の化合物も好適に用いるこ
とができる。
【0101】本発明において、感光層は単層で形成され
てもよいし、2層以上の複数層で構成されてもよい。
又、複数層で構成する場合は、組成の異なる感光性層で
構成してもよく、この場合は着色剤を含有しない感光層
を含んでいてもよい。
てもよいし、2層以上の複数層で構成されてもよい。
又、複数層で構成する場合は、組成の異なる感光性層で
構成してもよく、この場合は着色剤を含有しない感光層
を含んでいてもよい。
【0102】感光層の厚みは0.2〜10μmが好まし
く、より好ましくは0.5〜5μmである。
く、より好ましくは0.5〜5μmである。
【0103】感光層は、形成成分を溶媒に分散あるいは
溶解して塗工液を調製し、前記中間層上に直接積層塗布
し乾燥するか、又は後述するカバーシート上に塗布し乾
燥して形成される。
溶解して塗工液を調製し、前記中間層上に直接積層塗布
し乾燥するか、又は後述するカバーシート上に塗布し乾
燥して形成される。
【0104】塗工法に用いる溶媒としては、水、アルコ
ール類(エタノール、プロパノール等)、セロソルブ類
(メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等)、芳香族類
(トルエン、キシレン、クロルベンゼン等)、ケトン類
(アセトン、メチルエチルケトン等)、エステル系溶剤
(酢酸エチル、酢酸ブチル等)、エーテル類(テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン等)、塩素系溶剤(クロロホル
ム、トリクロルエチレン等)、アミド系溶剤(ジメチル
ホルムアミド、N−メチルピロリドン等)、ジメチルス
ルホキシド等が挙げられる。
ール類(エタノール、プロパノール等)、セロソルブ類
(メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等)、芳香族類
(トルエン、キシレン、クロルベンゼン等)、ケトン類
(アセトン、メチルエチルケトン等)、エステル系溶剤
(酢酸エチル、酢酸ブチル等)、エーテル類(テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン等)、塩素系溶剤(クロロホル
ム、トリクロルエチレン等)、アミド系溶剤(ジメチル
ホルムアミド、N−メチルピロリドン等)、ジメチルス
ルホキシド等が挙げられる。
【0105】塗工には、従来から公知のグラビアロール
による面順次塗別け塗布法、押出し塗布法、ワイヤーバ
ー塗布法、ロール塗布法等を採用することができる。
による面順次塗別け塗布法、押出し塗布法、ワイヤーバ
ー塗布法、ロール塗布法等を採用することができる。
【0106】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明
する。
する。
【0107】(支持体A及びBの作成)厚さ0.24m
mのアルミニウム板(材質1050,調質H16)を6
5℃に保たれた5%水酸化ナトリウム水溶液に浸漬し、
1分間脱脂処理を行った後、水洗した。この脱脂したア
ルミニウム板を、25℃に保たれた10%塩酸水溶液中
に1分間浸漬して中和した後、水洗した。
mのアルミニウム板(材質1050,調質H16)を6
5℃に保たれた5%水酸化ナトリウム水溶液に浸漬し、
1分間脱脂処理を行った後、水洗した。この脱脂したア
ルミニウム板を、25℃に保たれた10%塩酸水溶液中
に1分間浸漬して中和した後、水洗した。
【0108】次いで、このアルミニウム板を1.0重量
%の塩酸水溶液中、25℃・100A/dm2の条件で
交流電流により60秒間電解粗面化を行った後、60℃
に保たれた5%水酸化ナトリウム水溶液中で10秒間の
デスマット処理を行った。この粗面化アルミニウム板を
40%燐酸溶液中で、30℃・4A/dm2の条件で6
分間陽極酸化処理を行い、更に硅酸ナトリウムで封孔処
理を行って支持体を作成した。
%の塩酸水溶液中、25℃・100A/dm2の条件で
交流電流により60秒間電解粗面化を行った後、60℃
に保たれた5%水酸化ナトリウム水溶液中で10秒間の
デスマット処理を行った。この粗面化アルミニウム板を
40%燐酸溶液中で、30℃・4A/dm2の条件で6
分間陽極酸化処理を行い、更に硅酸ナトリウムで封孔処
理を行って支持体を作成した。
【0109】(平版印刷版用感光材料の作成)上記支持
体上に、下記組成の光重合性組成物塗布液をワイヤーバ
ーを用いて、乾燥膜厚2.0μmとなるように塗布し感
光層を形成した。
体上に、下記組成の光重合性組成物塗布液をワイヤーバ
ーを用いて、乾燥膜厚2.0μmとなるように塗布し感
光層を形成した。
【0110】光重合性組成物 バインダー樹脂(ヒドロキシエチルメタクリレート/メチルメタクリレート/ ブチルアクリレート/アクリル酸=30/50/5/15) 50重量部 モノマー(ジペンタエリスリトールヘキサクリレート) 50重量部 ラジカル発生剤(A−1) 5重量部 光熱変換材料(IR−5) 10重量部 オニウム塩(Q−1) 5重量部 メチルエチルケトン 400重量部 感光層上に、ポリビニルアルコール(日本合成化学社
製:ゴーセノールGL−05)の10%水溶液を乾燥膜
厚2.0μmとなるようにワイヤーバーで塗布・乾燥し
て保護層を設けた。得られた感光材料を遮光下で80℃
・2分熱処理して評価用感光材料1とした。
製:ゴーセノールGL−05)の10%水溶液を乾燥膜
厚2.0μmとなるようにワイヤーバーで塗布・乾燥し
て保護層を設けた。得られた感光材料を遮光下で80℃
・2分熱処理して評価用感光材料1とした。
【0111】(画像作成と評価)作成した感光材料を以
下の条件で画像露光した。
下の条件で画像露光した。
【0112】光源:LT090MD(シャープ製,出力
100mW,主波長830nm) 光学効率:67% 露光ビーム径:1/e2=10μm(パワー密度:85
307W/cm2) 露光ピッチ:6μm 露光後の感光材料を、以下の組成の現像液中に25℃、
45秒浸漬して、保護層及び未露光部の感光層を溶出し
たものを水洗後、乾燥して画像を得た。
100mW,主波長830nm) 光学効率:67% 露光ビーム径:1/e2=10μm(パワー密度:85
307W/cm2) 露光ピッチ:6μm 露光後の感光材料を、以下の組成の現像液中に25℃、
45秒浸漬して、保護層及び未露光部の感光層を溶出し
たものを水洗後、乾燥して画像を得た。
【0113】現像液組成 ベンジルアルコール 360重量部 ジエタノールアミン 210重量部 ペレックスNBL 180重量部 (花王製:t−ブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム) 亜硫酸カリウム 90重量部 水 3000重量部 感度と保存性を以下のように評価した。
【0114】<感度>画像形成に必要な最低露光エネル
ギー(10μmの線幅が再現できる露光量)を測定し
た。値が小さい程、高感度である。
ギー(10μmの線幅が再現できる露光量)を測定し
た。値が小さい程、高感度である。
【0115】<保存性>55℃・20%RHに7日間保
存後の感度を測定した。保存前の感度との差が少ない
程、保存性が良好である。
存後の感度を測定した。保存前の感度との差が少ない
程、保存性が良好である。
【0116】次に感光層の組成を表1に示すように変更
した以外は感光材料1と同様に感光材料2〜20を作成
し、同様に画像を作成し評価した。
した以外は感光材料1と同様に感光材料2〜20を作成
し、同様に画像を作成し評価した。
【0117】
【表1】
【0118】
【化15】
【0119】表の結果から、ラジカル発生剤とオニウム
塩が組み合わされることにより、初めて感度が良好で保
存後の変動も少ないことが解る。
塩が組み合わされることにより、初めて感度が良好で保
存後の変動も少ないことが解る。
【0120】
【発明の効果】本発明により、近赤外線領域に高い感度
を有し、かつ保存安定性に優れた平版印刷版作成用感光
材料を用いて平版印刷版を提供できた。
を有し、かつ保存安定性に優れた平版印刷版作成用感光
材料を用いて平版印刷版を提供できた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G03F 7/031 G03F 7/031 7/20 505 7/20 505
Claims (7)
- 【請求項1】 支持体上に、重合性化合物、下記一般式
(I)、(II)、(III)又は(IV)で表されるオニウ
ム塩の少なくとも一つ、光熱変換素子及びラジカル発生
剤を含有する光重合性組成物。 【化1】 〔式中、R1〜R4及びR10〜R13は各々、アルキル基、
アリール基又はアラルキル基を表し、 R1〜R4及びR
10〜R13が各々、互いに結合して環を形成してもよい。
R5、R6及びR7は各々、アルキル基又はアリール基を
表し、R5〜R7が互いに結合して環を形成してもよい。
R8及びR9は各々、アリール基を表し、X-は対アニオ
ンを表す。〕 - 【請求項2】 ラジカル発生剤がビスイミダゾール誘導
体であることを特徴とする請求項1記載の光重合性組成
物。 - 【請求項3】 前記オニウム塩のX-で表される対アニ
オンがハロゲンイオンであることを特徴とする請求項1
記載の光重合性組成物。 - 【請求項4】 ハロゲンイオンが塩素イオン又は臭素イ
オンであることを特徴とする請求項3記載の画像形成材
料。 - 【請求項5】 請求項2に記載の光重合性組成物を赤外
光で露光することを特徴とするラジカル発生方法。 - 【請求項6】 親水性支持体上に、少なくとも感光層及
び保護層をこの順に設けて成る平版印刷版作成用感光材
料において、前記感光層がエチレン性不飽和結合を少な
くとも一つ有する化合物、バインダー成分、前記一般式
(I)、(II)、(III)又は(IV)で表されるオニウ
ム塩の少なくとも一つ、光熱変換素子及びラジカル発生
剤を含有することを特徴とする平版印刷版作成用感光材
料。 - 【請求項7】 請求項6に記載の平版印刷版作成用感光
材料を用いる平版印刷版の作成方法において、前記感光
材料の感光層に半導体レーザーで像様に走査露光を行っ
た後、保護層及び感光層の未露光部を溶出除去すること
を特徴とする平版印刷版の作成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7180086A JPH0934110A (ja) | 1995-07-17 | 1995-07-17 | 光重合性組成物、ラジカル発生方法、平版印刷版作成用感光材料及びそれを用いた平版印刷版の作成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7180086A JPH0934110A (ja) | 1995-07-17 | 1995-07-17 | 光重合性組成物、ラジカル発生方法、平版印刷版作成用感光材料及びそれを用いた平版印刷版の作成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0934110A true JPH0934110A (ja) | 1997-02-07 |
Family
ID=16077211
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7180086A Pending JPH0934110A (ja) | 1995-07-17 | 1995-07-17 | 光重合性組成物、ラジカル発生方法、平版印刷版作成用感光材料及びそれを用いた平版印刷版の作成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0934110A (ja) |
Cited By (31)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1096315A1 (en) * | 1999-10-29 | 2001-05-02 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Negative-type image recording material and precursor for negative-type lithographic printing plate |
| US6352812B1 (en) | 1998-06-23 | 2002-03-05 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Thermal digital lithographic printing plate |
| US6352811B1 (en) | 1998-06-23 | 2002-03-05 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Thermal digital lithographic printing plate |
| US6358669B1 (en) | 1998-06-23 | 2002-03-19 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Thermal digital lithographic printing plate |
| EP1234662A2 (en) | 2001-02-23 | 2002-08-28 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Image-recording material |
| US6534238B1 (en) | 1998-06-23 | 2003-03-18 | Kodak Polychrome Graphics, Llc | Thermal digital lithographic printing plate |
| EP1160095A3 (en) * | 2000-05-30 | 2003-12-03 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Heat-sensitive composition and planographic printing plate precursor |
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| EP1491333A1 (en) | 2000-03-01 | 2004-12-29 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Image recording material |
| US6846614B2 (en) | 2002-02-04 | 2005-01-25 | Kodak Polychrome Graphics Llc | On-press developable IR sensitive printing plates |
| US6864040B2 (en) | 2001-04-11 | 2005-03-08 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Thermal initiator system using leuco dyes and polyhalogene compounds |
| US6893797B2 (en) | 2001-11-09 | 2005-05-17 | Kodak Polychrome Graphics Llc | High speed negative-working thermal printing plates |
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