JPH0934128A

JPH0934128A - カラーフィルターレジスト用現像液

Info

Publication number: JPH0934128A
Application number: JP18389795A
Authority: JP
Inventors: Toshiyoshi Urano; 年由浦野; Shingo Ikeda; 真吾池田; Etsuko Hino; 悦子檜野
Original assignee: Mitsubishi Chemical Corp
Current assignee: Mitsubishi Chemical Corp
Priority date: 1995-07-20
Filing date: 1995-07-20
Publication date: 1997-02-07

Abstract

(57)【要約】【課題】露光量や現像条件の許容範囲が広く、条件設
定が容易で、現像時の発泡による問題もない現像液を提
供する。【解決手段】無機のアルカリ剤とポリオキシアルキレ
ンエーテル基を有するノニオン性界面活性剤とを含有す
るカラーフィルターレジスト用現像液。【効果】無機のアルカリ剤と、ポリオキシアルキレン
エーテル基を有するノニオン性界面活性剤とを組合せる
ことにより、露光量や現像条件の自由度が高められ、ま
た、現像時の発泡を抑制することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はカラーフィルターレ
ジスト用現像液に関する。詳しくは、カラーテレビ、液
晶表示素子、カメラ等に使用される光学的カラーフィル
ターの製造に使用されるカラーフィルターレジスト用現
像液に関する。

【０００２】

【従来の技術及び先行技術】カラーフィルターは、通
常、ブラックマトリックスを設けたガラス、プラスチッ
クシート等の透明基板の表面に、赤，緑，青の３種の異
なる色相により、１０〜５０μｍ幅のストライプ状、モ
ザイク状等の色パターンを数μｍの精度で形成して製造
される。

【０００３】カラーフィルターの代表的な製造方法とし
ては、染色法、印刷法、顔料分散法、電着法等がある。
しかし、これらの方法では、耐熱性が悪い、パターンの
位置精度が悪い、生産コストが高い、生産性が悪い等、
いずれも一長一短があり、用途に応じて各方式等が使い
分けられている。これらの製造方法のうち、色材料を含
有する光重合性組成物を、ブラックマトリックスを設け
た透明基板上に塗布し、画像露光、現像、熱硬化処理を
繰り返すことでカラーフィルター画像を形成する顔料分
散法は、カラーフィルター画素の位置、膜厚等の精度が
高く、寿命が長く、ピンホール等の欠陥が少ない方法で
あるため、従来、広く採用されている。

【０００４】しかし、この方法では、染料と比べ着色力
が低い顔料を使用しているため、多くの顔料添加が必要
であるが、大量の顔料添加は光重合性組成物の現像低下
を招きやすく、一方、添加量が少ない場合には、膜厚を
厚くする必要が生じ、色材画素の透明性を上げることが
困難であるという問題点があった。

【０００５】また、透明基板上に設けるクロム等のブラ
ックマトリックスの形成コストが高いという問題もあっ
た。この問題を解決するものとして、透明基板上に、黒
色材料を含有する光重合性組成物を利用してブラックマ
トリックスを形成する方法が提案されている（特開平１
−２９３３０６号公報、特開平２−９０２号公報等）。

【０００６】しかし、このような黒色材料を含有する光
重合性組成物を使用したブラックマトリックスにおいて
も、大量の顔料添加のため、上述のように光重合性組成
物の現像低下を招くという欠点があった。

【０００７】このような問題を解決するために、本発明
者らは特願平７−９７６８号にて、芳香族ポリグリシジ
ルエーテル化合物と不飽和モノカルボン酸との付加反
応、或いは、芳香族ポリヒドロキシ化合物とエポキシカ
ルボン酸エステルとの付加反応で得られるエチレン性不
飽和二重結合を２個以上有する化合物を含有させること
により、現像時の基板に対する画像露光部の接着性が著
しく向上し、薄膜で高い色材濃度カラーフィルター画像
が形成されることを報告した。また、更に、現像性を高
めたものとして、特願平７−１０１００９号にて、エチ
レン性化合物として、脂環族ポリグリシジルエーテル化
合物と不飽和モノカルボン酸との付加反応、或いは、脂
環族ポリヒドロキシ化合物とエポキシモノカルボン酸エ
ステルとの付加反応、で得られるエチレン性不飽和二重
結合を２個以上有する化合物を用いることを提案した。
また、色材料の分散性を高めたものとして、特願平７−
１３８２０９号にて、エチレン性化合物として下記一般
式（Ｉ）で表される置換基を少なくとも２個含有するカ
ラーフィルターレジストを用いることを提案した。

【０００８】

【化３】

【０００９】（上記（Ｉ）式中、ｍは１〜６の整数を示
し、Ｒ¹ ，Ｒ² は水素原子又はハロゲン原子を示し、Ｒ
³ は置換基を有しても良い炭素数１〜１０のアルキレン
基（該置換基は、水酸基、ハロゲン原子、水酸基を有し
ても良い炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０
のアルコキシ基、炭素数６〜１５のアリール基、炭素数
７〜１５のアラルキル基、炭素数２〜１０のアルケニル
基、炭素数２〜１０のアシルオキシ基である。）を示
し、Ｒ⁴ は水素原子、水酸基を有しても良い炭素数１〜
１０のアルキル基、炭素数６〜１５のアリール基、炭素
数７〜１５のアラルキル基又は炭素数２〜１０のアルケ
ニル基を示し、Ｒ⁵ は水素原子又はメチル基を示す。）このようなエチレン性化合物を含有する光重合性組成物
を用いてカラーフィルターレジストを製造するに当って
は、通常、有機又は無機のアルカリ剤と界面活性剤等を
含有する現像液を使用して、非画像部を溶解させて現像
を行っている。

【００１０】従来用いられている現像液としては、例え
ば、無機のアルカリ剤として炭酸ナトリウムと、スルホ
ン酸ナトリウム塩基を有するアニオン性界面活性剤を主
成分として含有するもの（特開平６−１０９９１６号公
報）、或いは、有機又は無機のアルカリ剤とノニオン性
界面活性剤を主成分として含有するもの（特開平７−１
２０９３５号公報）が知られている。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】上記従来の現像液は共
に、所定の露光量による露光後、限定された現像条件で
現像処理を行った際には、高品質のレジスト画像を形成
させることができるが、露光量が異なる場合、或いは、
現像液の浸漬時間や現像液の濃度が変わると、著しくレ
ジスト画像の品質が低下し易いという欠点がある。ま
た、特に、炭酸ナトリウムとアニオン性界面活性剤とを
組合せたものでは、現像時に発泡し易く、この発泡を抑
えるために消泡剤を添加すると、この消泡剤が現像性の
低下を引き起こし易く、実際のカラーフィルターの製造
ライン上で現像を行う際の障害となっていた。

【００１２】本発明は、上記従来の問題点を解決し、経
時安定性に優れ、露光量や現像条件の許容範囲が広く、
条件設定が容易で、現像時の発泡による問題もないカラ
ーフィルターレジスト用現像液を提供することを目的と
するものである。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明のカラーフィルタ
ーレジスト用現像液は、無機のアルカリ剤とポリオキシ
アルキレンエーテル基を有するノニオン性界面活性剤と
を含有することを特徴とする。

【００１４】本発明に従って、無機のアルカリ剤と、ポ
リオキシアルキレンエーテル基を有するノニオン性界面
活性剤とを組合せることにより、露光量や現像条件の自
由度が高められ、また、現像時の発泡を抑制することが
できる。

【００１５】本発明のカラーフィルターレジスト用現像
液は、ポリグリシジルエーテル化合物と不飽和カルボン
酸との付加反応で得られるエチレン性化合物を含有する
カラーフィルターレジストの現像に好適に使用される。

【００１６】本発明のカラーフィルターレジスト用現像
液において、エチレン性化合物は一般式（Ｉ）又は（I
I）で表される置換基を有することが好ましい。

【００１７】

【化４】

【００１８】

【化５】

【００１９】（上記（Ｉ），（II）式中、ｍは０〜６の
整数を示し、Ｒ¹ ，Ｒ² は水素原子又はハロゲン原子を
示し、Ｒ³ は置換基を有しても良い炭素数１〜１０のア
ルキレン基（該置換基は、水酸基、ハロゲン原子、水酸
基を有しても良い炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数
１〜１０のアルコキシ基、炭素数６〜１５のアリール
基、炭素数７〜１５のアラルキル基、炭素数２〜１０の
アルケニル基、炭素数２〜１０のアシルオキシ基であ
る。）を示し、Ｒ⁴ は水素原子、水酸基を有しても良い
炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数６〜１５のアリー
ル基、炭素数７〜１５のアラルキル基又は炭素数２〜１
０のアルケニル基を示し、Ｒ⁵ は水素原子又はメチル基
を示す。）本発明のカラーフィルターレジスト用現像液は、色材料
として赤、緑又は青色材料を含有し、乾燥膜厚１μｍ以
下に形成した塗膜の、４００〜７００ｎｍの範囲での最
大吸光度が１．１以上であるカラーフィルターを製造す
るためのカラーフィルターレジストの現像に好適に使用
される。

【００２０】本発明のカラーフィルターレジスト用現像
液は、また、色材料として黒色材料を含有し、乾燥膜厚
１μｍ以下に形成した塗膜の、４００〜７００ｎｍの範
囲での最小吸光度が２．０以上であるブラックマトリッ
クスを製造するためのカラーフィルターレジストの現像
に好適に使用される。

【００２１】

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。

【００２２】本発明のカラーフィルターレジスト用現像
液は、無機のアルカリ剤とポリオキシアルキレンエーテ
ル基を有するノニオン性界面活性剤とを含有する水溶液
である。

【００２３】無機のアルカリ剤としては、例えば、炭酸
ナトリウム、炭酸カリウム、珪酸ナトリウム、珪酸カリ
ウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が挙げられ
る。これら無機のアルカリ剤は、現像性の向上、現像時
間の短縮等の目的で現像液の全重量に対して好ましくは
０．０５〜１５重量％、より好ましくは０．１〜１０重
量％、特に好ましくは０．１〜５重量％の範囲で配合さ
れる。無機のアルカリ剤の配合量が上記範囲を超える場
合には、現像時、光硬化画像の小点の欠落等を生じ易
い。

【００２４】これらの無機のアルカリ剤は、有機のアル
カリ剤、例えば、ジエタノールアミン、トリエタノール
アミン、水酸化テトラアルキルアンモニウム塩等に比べ
て、現像時の現像画像の膨潤を起こし難いため、長時間
の浸漬現像、或いは、高濃度現像液による現像時におい
ても現像画像の欠落が少ないという利点がある。

【００２５】特に無機のアルカリ剤のうち、炭酸カリウ
ム及び炭酸ナトリウムは、長時間同一の現像液を使用し
た際、空気中に含まれている炭酸ガスによる現像液の劣
化の影響を受け難く、経時性能安定性に優れる点で好ま
しい。また、無機のアルカリ剤のうち、カリウム塩より
なるアルカリ剤は、カラーフィルターを装着した液晶表
示装置の電子駆動回路に支障をきたすナトリウムを含有
しない点から好ましい。従って、本発明においては、無
機のアルカリ剤として特に炭酸カリウムを用いるのが有
利である。

【００２６】一方、ポリオキシアルキレンエーテル基を
有するノニオン性界面活性剤としては、下記一般式(II
I) の構造を有するものが好ましい。

【００２７】

【化６】

【００２８】（上記(III) 式中、Ｒ⁶ は置換基を有して
も良い炭素数３〜１５のアルキル基、置換基を有しても
良い炭素数６〜１５の芳香族炭化水素基、又は、置換基
を有しても良い炭素数４〜１５の複素芳香族環基（該置
換基としては、炭素数１〜１０のアルキル基、Ｂｒ，Ｃ
ｌ₂ 等のハロゲン原子、炭素数６〜１５の芳香族炭化水
素基、炭素数７〜１７のアラルキル基、炭素数１〜１０
のアルキコキシ基、炭素数２〜１０のアルコキシ−カル
ボニル基、炭素数２〜１５のアシル基が挙げられる。）
を示し、Ｒ⁷ は置換基を有しても良い炭素数１〜１０の
アルキレン基（該置換基としては、炭素数１〜１０のア
ルキル基、炭素数６〜１５の芳香族炭化水素基が挙げら
れる。）を示し、ｒは２〜３０の数を表わす。）特に、上記一般式(III) において、Ｒ⁶ がフェニル基又
はナフチル基であるものが、現像時の非画線部の溶解性
に優れる点で好ましく、また、ｒが５以上のものが、現
像液に対する溶解性に優れ、室温における経時的な該界
面活性剤の沈殿等の問題が抑えられ好ましい。

【００２９】該ノニオン性界面活性剤の配合量は、カラ
ーフィルターレジスト用現像液の全重量に対して、好ま
しくは０．０１〜２０重量％、より好ましくは０．１〜
１０重量％、特に好ましくは０．１〜５重量％である。

【００３０】なお、本発明の現像液を、ブラックマトリ
ックス現像用として用いる場合には、上記ノニオン性界
面活性剤の配合量を増加させた方が現像残り等の発生が
少なくなる。従って、この場合には、ノニオン性界面活
性剤の配合量は、カラーフィルターレジスト用現像液の
全重量に対して、０．０５〜２０重量％、特に０．１５
〜１０重量％、とりわけ０．２〜５重量％の範囲とする
のが好ましい。

【００３１】本発明の現像液には、更に水溶性の有機溶
剤、本発明に係るポリオキシアルキレンエーテル基を有
するノニオン性界面活性剤以外の界面活性剤、水酸基又
はカルボキシ基を有する低分子化合物等を、１０重量％
以下、好ましくは５重量％以下の範囲で配合することが
できる。

【００３２】この場合、水溶性の有機溶剤としては、エ
タノール、プロピオンアルコール、ブタノール、メチル
セロソルブ、ブチルセロソルブ、フェニルセロソルブ、
エチレングリコール、プロピレングリコールモノメチル
エーテル等が挙げられる。

【００３３】本発明に係るノニオン性界面活性剤以外の
界面活性剤としては、ポリエチレングリコール，グリセ
リン等の他のノニオン性界面活性剤、テトラアルキルア
ンモニウム基を有するカチオン性界面活性剤、スルホン
酸塩基，カルボン酸基を有するアニオン性界面活性剤等
を挙げることができる。また、水酸基又はカルボキシ基
を有する低分子化合物としては、１−ナフトール、２−
ナフトール、ピロガロール、安息香酸、コハク酸、グル
タル酸等を挙げることができる。

【００３４】次に、本発明のカラーフィルターレジスト
用現像液を用いて現像を行ってカラーフィルターを製造
する場合に好適なカラーフィルターレジスト（以下「本
発明に係るカラーフィルターレジスト」と称する場合が
ある。）について説明する。

【００３５】本発明に係るカラーフィルターレジスト
は、光を吸収してラジカルを発生する光重合開始剤組成
物と、該ラジカルにより重合が誘起される付加重合性の
エチレン性不飽和二重結合を少なくとも２個以上有する
化合物（以下、「エチレン性化合物」と称す。）とを含
有し、更に好ましくは、相溶性、皮膜形成性、現像性、
接着性等の改善のために、結合剤としての有機高分子物
質を含有する光重合性組成物に、更に色材料を含有する
ものである。

【００３６】これらの構成成分のうち、光重合開始剤組
成物としては、下記のような紫外から可視領域に感度を
有するものを、使用する露光光源に応じて、適宜選択可
能である。

【００３７】即ち、本発明において、上記４００ｎｍ未
満の波長の紫外光を吸収してラジカルを発生する光重合
開始剤組成物としては、例えば、ファインケミカル，１
９９１年，３月１日号Vol ２０，No. ４，Ｐ．１６〜
Ｐ．２６に記載のジアルキルアセトフェノン系，ベンジ
ルジアルキルケタール系，ベンゾイン，ベンゾインアル
キルエーテル系，チオキサントン誘導体，アシルホスフ
ィンオキサイド系等、その他、特開昭５８−４０３０２
号公報，特公昭４５−３７３７７号公報に記載のヘキサ
アリールビイミダゾール系，ｓ−トリハロメチルトリア
ジン系，特開昭５９−１５２３９６号公報に記載のチタ
ノセン系組成物等を用いることができる。

【００３８】一方、波長４００ｎｍ以上５００ｎｍ以下
の可視光に感応する光重合開始剤組成物としては、例え
ば、ヘキサアリールビイミダゾールとラジカル発生剤及
び染料を含有する組成物（特公昭４５−３７３７７号公
報）、ヘキサアリールビイミダゾールと（ｐ−ジアルキ
ルアミノベンジリデン）ケトンを含有する組成物（特開
昭４７−２５２８号、特開昭５４−１５５２９２号各公
報）、環状シス−α−ジカルボニル化合物と染料を含有
する組成物（特開昭４８−８４１８３号公報）、置換ト
リアジンとメロシアニン色素を含有する組成物（特開昭
５４−１５１０２４号公報）、ケトクマリンと活性剤を
含有する組成物（特開昭５２−１１２６８１号、特開昭
５８−１５５０３号、特開昭６０−８８００５号各公
報）、置換トリアジンと増感剤を含有する組成物（特開
昭５８−２９８０３号、特開昭５８−４０３０２号各公
報）、ビイミダゾール、スチレン誘導体、チオールを含
有する組成物（特開昭５９−５６４０３号公報）、ジア
ルキルアミノフェニル基を含有する増感剤とビイミダゾ
ールを含有する組成物（特開平２−６９号、特開昭５７
−１６８０８８号、特開平５−１０７７６１号、特開平
５−２１０２４０号、特開平４−２８８８１８号各公
報）、有機過酸化物と色素を含有する組成物（特開昭５
９−１４０２０３号、特開昭５９−１８９３４０号各公
報）、チタノセン系組成物（特開昭５９−１５２３９６
号、特開昭６１−１５１１９７号、特開昭６３−１０６
０２号、特開昭６３−４１４８４号、特開平２−２９１
号、特開平３−１２４０３号、特開平３−２０２９３
号、特開平３−２７３９３号、特開平３−５２０５０号
各公報）、チタノセンとキサンテン色素さらにアミノ基
或はウレタン基を有する付加重合可能なエチレン性飽和
二重結合含有化合物を組合せた組成物（特開平４−２２
１９５８号、特開平４−２１９７５６号各公報）等が挙
げられる。

【００３９】波長４００ｎｍ以上５００ｎｍ以下の光に
感応する光重合開始剤組成物の好適例としては、波長４
００〜５００ｎｍに吸収を有する増感色素と、２，２’
−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−
テトラフェニルビイミダゾール（以下、「化合物Ｒ−
１」と称す。）、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニ
ル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−カルボエトキ
シフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−ク
ロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−ブ
ロモフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−
クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｏ，
ｐ−ジクロロフェニル）ビイミダゾール等のヘキサアリ
ールビイミダゾール、及び、２−メルカプトベンズチア
ゾール、２−メルカプトベンズオキサゾール、２−メル
カプトベンズイミダゾール等の有機チオール化合物から
なる複合光重合開始剤組成物、或いは、波長４００〜５
００ｎｍに吸収を有する増感色素とジシクロペンタジエ
ニル−Ｔｉ−ビス−２，６−ジフルオロ−３−（ピロー
ル−１−イル）−フェニル−１−イル、ジシクロペンタ
ジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テトラフルオ
ロフェニル−１−イル（以下、「化合物Ｓ−１」と称
す。）、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，
３，４，５，６−ペンタフルオロフェニル−１−イル等
のチタノセン化合物、更に、ｐ−ジエチルアミノ安息香
酸エチル、ミヒラーズケトン等のジアルキルアミノフェ
ニル化合物からなる複合光重合開始剤組成物が挙げられ
る。

【００４０】なお、上記のヘキサビイミダゾールを増感
する色素としては、例えば特開平２−６９号公報，特開
昭５７−１６８０８８号公報，特開平５−１０７７６１
号公報，特開平５−２１０２４０号公報，特願平４−２
８８８１８号に記載の増感色素を挙げることができる。

【００４１】また、チタノセンを増感する色素として
は、例えば特願平５−８３５８８号，特願平５−８４８
１７号，特開平５−８３５８７号公報，特願平６−１２
９４９号，特願平６−７４７４３号，特願平６−１４１
５８８号に記載の増感色素を挙げることができる。

【００４２】また、これらの可視光領域に感応する光重
合開始剤組成物のうち、可視光と共に紫外部にも吸収を
持ち、高い感度を示すものについては、紫外光領域の光
源に対する光重合開始剤組成物として利用しても良い。

【００４３】このような可視光及び紫外光領域に共に高
い感度を示すものとしては、ヘキサアリールビイミダゾ
ール、或いは、チタノセンを含有する光重合開始剤組成
物等を挙げることができる。

【００４４】上記の光重合開始剤組成物のうちでは、ヘ
キサアリールビイミダゾール、チタノセンを含有する光
重合開始剤組成物が高い感度を示すことから好ましく、
特に、チタノセンを含有する光重合開始剤組成物であれ
ば、ヘキサアリールビイミダゾールを含有する光重合開
始剤組成物に比べて、少量で高い感度を示すと共に、高
い乾燥条件でも安定なため、高い色材料濃度を有するカ
ラーフィルターレジストにはより一層好ましい。

【００４５】エチレン性化合物は、光重合開始剤組成物
の存在下で重合が誘起されるエチレン性不飽和結合を少
なくとも二個以上有しているものが好ましく、具体的に
はポリグリシジルエーテル化合物と不飽和モノカルボン
酸との付加反応、或いは、ポリヒドロキシ化合物とエポ
キシモノカルボン酸エステルとの付加反応、で得られる
エチレン性不飽和二重結合を２個以上有するエチレン性
化合物（Ａ）であるが、該エチレン性化合物（Ａ）と共
に、脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸と
の付加反応（エステル反応）で得られる、エチレン性不
飽和二重結合を２個以上含有するエチレン性化合物
（Ｂ）を併用することが好ましい。

【００４６】該エチレン性化合物（Ａ）は透明基板との
接着性、現像性を向上させる機能を果たすものである。

【００４７】該エチレン性化合物（Ａ）の具体的な例と
しては、ハイドロキノン，レゾルシン，ピロガロール等
のポリヒドロキシベンゼン、ビスフェノールＡ，ポリビ
スフェノールＡ，ブロム化ビスフェノールＡ，ポリブロ
ム化ビスフェノールＡ等のビスフェノールＡ誘導体、ノ
ボラック等の芳香族ポリヒドロキシ化合物及びそれらの
核内水素添加物とエピクロルヒドリンをアルカリ条件下
付加反応させて得られるポリグリシジルエーテル化合物
と、（メタ）アクリル酸等の不飽和モノカルボン酸を４
級アンモニウム塩等を触媒にして付加反応させることに
より得られるエチレン性化合物、或いは、ハイドロキノ
ン，レゾルシン，ピロガロール等のポリヒドロキシベン
ゼン、ビスフェノールＡ，ポリビスフェノールＡ，ブロ
ム化ビスフェノールＡ，ポリブロム化ビスフェノールＡ
等のビスフェノールＡ誘導体、ノボラック等の芳香族ポ
リヒドロキシ化合物及びそれらの核内水素添加物とグリ
シジル（メタ）アクリレート、下記［Ｔ−１］又は［Ｔ
−２］等の構造のエポキシ（メタ）アクリレートを、
“SYNTHETIC COMMUNICATION, 24(21) ”3009-3019(199
4) 等に記載の酸又はアルカリの触媒を用いて付加反応
させることにより得られる、前記一般式（Ｉ）又は（I
I）で表される置換基を２個以上有するエチレン性化合
物が挙げられ、より具体的には、例えば、次の［Ｍ−
１］，［Ｍ−２］，［Ｍ−３］，［Ｍ−４］，［Ｍ−
５］，［Ｍ−６］，［Ｍ−７］，［Ｍ−８］，［Ｍ−
９］，［Ｍ−１０］，［Ｍ−１１］，［Ｍ−１２］，
［Ｍ−１３］，［Ｍ−１４］等を挙げることができる。
また、前記の水素添加反応としては、特開平３−１０７
１６０号公報等に記載のラネーＮｉ触媒を用いるもの、
ロジウム，白金等の触媒を用いるものを適宜選択して用
いることができる。

【００４８】

【化７】

【００４９】

【化８】

【００５０】

【化９】

【００５１】

【化１０】

【００５２】

【化１１】

【００５３】特に、ビスフェノールＡ或いはビスフェノ
ールＡ誘導体、及びそれらの核内水素添加物と、エピク
ロルヒドリンとの共縮重合物タイプのエチレン性化合物
（Ａ）を使用した場合、他のエチレン性化合物の場合に
比べ現像時の基板に対する画像の接着性（現像画像接着
性）に優れているため好ましい。

【００５４】とりわけ好ましいエチレン性化合物（Ａ）
としては、２５℃の粘度が１００ｐｓ以上、更に２５℃
の粘度が１０００ｐｓ以上のものが挙げられる。この粘
度が１００ｐｓより著しく低いと、現像画像接着性が低
下する。

【００５５】一方、エチレン性化合物（Ｂ）は、現像時
の非画線部の溶解性を高め、高画質の画像を形成させる
機能を有する。該エチレン性化合物（Ｂ）の具体的な例
としては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレー
ト，トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート，
トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート，ト
リメチロールエタントリ（メタ）アクリレート，ペンタ
エリスリトールジ（メタ）アクリレート，ペンタエリス
リトールトリ（メタ）アクリレート，ペンタエリスリト
ールテトラ（メタ）アクリレート，ジペンタエリスリト
ールテトラ（メタ）アクリレート，ジペンタエリスリト
ールペンタ（メタ）アクリレート，ジペンタエリスリト
ールヘキサ（メタ）アクリレート，グリセロール（メ
タ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸エステル、こ
れらの例示化合物の（メタ）アクリレートをイタコネー
トに代えたイタコン酸エステル、クロトネートに代えた
クロトン酸エステルもしくはマレエートに代えたマレイ
ン酸エステル等がある。これらのうち、特に、４官能〜
６官能のジペンタエリスリトールポリアクリレートが画
像形成性に優れる点から好ましい。

【００５６】前記エチレン性化合物（Ａ）及びエチレン
性化合物（Ｂ）の製造に当っては、ポリグリシジルエー
テル化合物、或いは、ポリヒドロキシ化合物と不飽和モ
ノカルボン酸とを反応させる際に、不飽和モノカルボン
酸と共に飽和のモノカルボン酸を付加させ、該エチレン
性化合物の粘性等の物性を制御することもできる。

【００５７】好ましいエチレン性化合物（Ａ）とエチレ
ン性化合物（Ｂ）との使用割合は、重量比で、エチレン
性化合物（Ａ）：エチレン性化合物（Ｂ）＝１００：０
〜１０：９０、好ましくは９０：１０〜２０：８０、更
に好ましくは８０：２０〜３０：７０である。

【００５８】その他、併用できるエチレン性化合物の例
としては、エチレンビスアクリルアミド等のアクリルア
ミド類、フタル酸ジアリル等のアリルエステル類、ジビ
ニルフタレート等のビニル基含有化合物、不飽和二価カ
ルボン酸とジヒドロキシ化合物との重縮合反応により得
られるポリエステル、不飽和二価カルボン酸とジアミン
との重縮合反応により得られるポリアミド、側鎖に不飽
和結合をもつ二価カルボン酸、例えばイタコン酸、プロ
ピリデンコハク酸、エチリデンマロン酸等とジヒドロキ
シ又はジアミン化合物との縮重合体、側鎖にヒドロキシ
基やハロゲン化メチル基の如き反応活性を有する官能基
を有する重合体、例えば、ポリビニルアルコール、ポリ
（２−ヒドロキシエチルメタクリレート）、ポリエピク
ロルヒドリン等とアクリル酸、メタクリル酸、クロトン
酸等の不飽和カルボン酸との高分子反応により得られる
ポリマー等が挙げられる。

【００５９】本発明に係るカラーフィルターレジスト中
には、該レジストの成膜性、現像性を改良する目的で、
有機高分子物質を結合剤として添加することができる。
この有機高分子物質としては、メチル（メタ）アクリル
酸、エチル（メタ）アクリル酸、プロピル（メタ）アク
リル酸、ブチル（メタ）アクリル酸、２−エチルヘキシ
ル（メタ）アクリル酸、ヒドロキシエチル（メタ）アク
リル酸、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリル酸、ベン
ジル（メタ）アクリル酸等の（メタ）アクリル酸のアル
キルエステル；ヒドロキシフェニル（メタ）アクリル
酸、メトキシフェニル（メタ）アクリル酸等の（メタ）
アクリル酸の置換基を有していても良いフェニルエステ
ル；アクリロニトリル；酢酸ビニル、バーサチック酸ビ
ニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル、ピバリン酸
ビニル等の酸ビニル；スチレン、α−メチル−スチレン
等の共重合体、エピクロロヒドリンとビスフェノールＡ
とのポリエーテル、可溶性ナイロン、ポリビニルアルキ
ルエーテル、ポリアミド、ポリウレタン、ポリエチレン
テレフタレートイソフタレート、アセチルセルロース及
びポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール等が挙
げられる。なお、本明細書において、「（メタ）アクリ
ル」とは「アクリル又はメタクリル」を示す。「（メ
タ）アクリレート」についても同様である。

【００６０】得られる塗膜の皮膜強度、耐塗布溶剤性、
基板接着性を高める目的で、上記有機高分子物質のう
ち、カルボン酸基を有するものの、カルボン酸基の一部
又は全部を、グリシジル（メタ）アクリレート、前記
［Ｔ−１］又は［Ｔ−２］の構造のエポキシ（メタ）ア
クリレートと反応させて、光重合性の有機高分子物質と
することもできる。

【００６１】本発明において、特に好ましい有機高分子
物質としては、基板への接着性を高める目的で、スチレ
ン、α−メチルスチレン、ベンジル（メタ）アクリレー
ト、ヒドロキシフェニル（メタ）アクリル酸、メトキシ
フェニル（メタ）アクリル酸、ヒドロキシフェニル（メ
タ）アクリルアミド、ヒドロキシフェニル（メタ）アク
リルスルホアミド等のフェニル基を有する共重合モノマ
ーを１０〜８０モル％、好ましくは２０〜７０モル％、
より好ましくは３０〜６０モル％の割合で含有し、その
他（メタ）アクリル酸を２〜５０重量％、好ましくは５
〜４０重量％、より好ましくは５〜３０重量％の割合で
含有する共重合体、或いは、全共重合モノマーに対して
２〜５０モル％、好ましくは５〜４０モル％、より好ま
しくは１０〜３０モル％のエポキシ（メタ）アクリレー
トが付加された反応物が望ましい。

【００６２】このような有機高分子物質の分子量として
は、重量平均分子量（Ｍｗ）で１，０００〜１０００，
０００、好ましくは２，０００〜５００，０００、より
好ましくは３，０００〜２００，０００の範囲である。
有機高分子物質のＭｗがこの範囲より著しく低いと、現
像時に画線部分の膜ベリが生じ、逆に有機高分子物質の
Ｍｗが著しく高いと現像時に非画線部の抜け性不良を生
じ易い。

【００６３】前記光重合開始剤組成物の含有量は、光重
合性画像形成材料（色材料を含まない光重合性画像形成
材料）の全固形分に対し、０．１〜４０重量％、好まし
くは０．２〜３０重量％、より好ましくは０．２〜２０
重量％であり、前記エチレン性化合物の含有量は、光重
合性画像形成材料の全固形分に対し、２０〜９９重量
％、好ましくは５０〜９５重量％、より好ましくは６０
〜９０重量％であり、前記有機高分子物質の含有量は、
光重合性画像形成材料の全固形分に対し、０〜８０重量
％、好ましくは１０〜７０重量％、より好ましくは２０
〜６０重量％である。

【００６４】カラーフィルターレジストに使用される色
材料としては、ブラックマトリックス用カラーフィルタ
ーレジストには黒色の色材料であり、赤，緑，青用カラ
ーフィルターレジストには、それに対応する色材料を使
用する。

【００６５】黒色の色材料としては、例えば三菱化学社
製のＭＡ−７，ＭＡ−１００，ＭＡ−２２０，＃５，＃
１０、或いはデグサ社製ＣｏｌｏｒＢｌａｃｋＦＷ
２００，ＣｏｌｏｒＢｌａｃｋＦＷ２，Ｐｒｉｎｔ
ｅｘＶ等のカーボンブラック、特開平５−３１１１０
９号公報，特開平６−１１６１３号公報等に記載の黒
鉛、特開平４−３２２２１９，特開平３−２７４５０３
号公報等に記載の無機黒色顔料、特開平２−２１６１０
２号公報等に記載のアゾ系ブラック色素等の有機黒色顔
料、その他、赤，緑，青、黄、シアン、マジェンタ等の
有機色材料を混合した黒色顔料等を挙げることができ
る。

【００６６】赤，緑，青に対応する色材料としては、具
体的には、ビクトリアピュアブルー（４２５９５）、オ
ーラミンＯ（４１０００）、カチロンブリリアントフラ
ビン（ベーシック１３）、ローダミン６ＧＣＰ（４５１
６０）、ローダミンＢ（４５１７０）、サフラニンＯＫ
７０：１００（５０２４０）、エリオグラウシンＸ（４
２０８０）、Ｎｏ．１２０／リオノールイエロー（２１
０９０）、リオノールイエローＧＲＯ（２１０９０）、
シムラーファーストイエロー８ＧＦ（２１１０５）、ベ
ンジジンイエロー４Ｔ−５６４Ｄ（２１０９５）、シム
ラーファーストレッド４０１５（１２３５５）、リオノ
ールレッド７Ｂ４４０１（１５８５０）、ファーストゲ
ンブルーＴＧＲ−Ｌ（７４１６０）、リオノールブルー
ＳＭ（２６１５０）、リオノールブルーＥＳ（ピグメン
トブルー１５：６、ピグメントブルー１５３６）、リオ
ノーゲンレッドＧＤ（ピグメントレッド１６８、ピグメ
ントレッド１０８）、リオノールグリーン２ＹＳ（ピグ
メントグリーン３６）等が挙げられる（上記の（）内
の数字は、カラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）を意味す
る）。

【００６７】また、更に他の顔料について（Ｃ．Ｉ．）
で示すと、例えば、Ｃ．Ｉ．黄色顔料２０，２４，８
６，９３，１０９，１１０，１１７，１２５，１３７，
１３８，１４７，１４８，１５３，１５４，１６６、
Ｃ．Ｉ．オレンヂ顔料３６，４３，５１，５５，５９，
６１、Ｃ．Ｉ．赤色顔料９，９７，１２２，１２３，１
４９，１６８，１７７，１８０，１９２，２１５，２１
６，２１７，２２０，２２３，２２４，２２６，２２
７，２２８，２４０、Ｃ．Ｉ．バイオレット顔料１９，
２３，２９，３０，３７，４０，５０、Ｃ．Ｉ．青色顔
料１５，１５：１，１５：４，２２，６０，６４、Ｃ．
Ｉ．緑色顔料７、Ｃ．Ｉ．ブラウン顔料２３，２５，２
６等を挙げることができる。

【００６８】これらの色材料のカラーフィルターレジス
ト中の含有量は次の通りである。

【００６９】即ち、黒のカラーフィルターレジストで形
成されるブラックマトリックスは、１．０μｍ以下、好
ましくは０．３〜０．７μｍ、より好ましくは０．３〜
０．６μｍの膜厚に形成した塗膜の、４００〜７００ｎ
ｍの範囲における最小吸光度（O.D.min.）が２．０以
上、好ましくは２．２以上のブラックマトリックスを形
成させるために、該カラーフィルターレジスト中に含有
される前記黒色の色材料の含有量としては、全固形分に
対し、４０〜９０重量％、好ましくは５０〜８０重量
％、より好ましくは６０〜７０重量％の範囲である。

【００７０】一方、赤，緑，青のカラーフィルターレジ
ストで形成される色材画素は、１．０μｍ以下、好まし
くは０．３〜０．７μｍ、より好ましくは０．３〜０．
６μｍの膜厚に形成した塗膜の、４００〜７００ｎｍの
範囲における最大吸光度（O.D.peak.)が１．１以上、好
ましくは１．３以上の色材画素を形成させるために、該
カラーフィルターレジスト中に含有される前記赤，緑，
青の色材料の添加量としては、全固形分に対し、４０〜
９０重量％、好ましくは５０〜８０重量％、より好まし
くは６０〜７０重量％の範囲である。

【００７１】本発明の現像液の対象となるカラーフィル
ターレジストは、このような高い色材料含有率の状態
で、高画質なブラックマトリックス画像又は色材画素を
形成させると共に、各画素上に塗設して形成される色材
光重合性層、或いは、ポリアミド，ポリイミド等の保護
層等の塗布溶剤に対する耐溶剤性、及び、透明基板に対
する高い接着性を与えるものが特に好ましい。

【００７２】このようなカラーフィルターレジストは、
適当な溶剤を用いて調液された塗布液として塗布され
る。

【００７３】本発明に係るカラーフィルターレジストの
塗布に用いられる溶剤としては、メチルセロソルブ、エ
チルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジエチレングリコ
ールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメ
チルエーテルアセテート、メチルエチルケトン、メチル
イソブチルケトン、シクロヘキサノン、トルエン、クロ
ロホルム、ジクロロメチン、酢酸エチル、乳酸メチル、
乳酸エチル、メタノール、エタノール、プロパノール、
ブタノール、テトラハイドロフラン等が挙げられる。

【００７４】塗布液は、これらの溶剤を用いて、カラー
フィルターレジスト（色材料と光重合性画像形成材料と
の合計）濃度が５〜５０重量％、好ましくは１０〜３０
重量％の範囲となるように調液される。

【００７５】ところで、カラーフィルターの製造に当
り、光重合性層の露光の際に、酸素による光重合性層の
感度低下を防止する目的で、色材光重合性層の上に、ポ
リビニルアルコール層等の酸素遮断層を塗設する場合が
あるが、本発明においては、このような酸素遮断層を塗
設することなく、光重合性層を露光、現像して画像形成
することが、工程数の大幅な減少の面から好ましい。酸
素遮断層を設けない場合、色材光重合性組成物中に、ヒ
ドロキシフェニル（メタ）アクリル酸，ヒドロキシフェ
ニル（メタ）アクリルアミド，ヒドロキシフェニル（メ
タ）アクリルスルホアミド等のヒドロキシフェニル基等
の芳香族水酸基を有するモノマーを共重合モノマー成分
として５〜５０モル％，好ましくは１０〜３０モル％の
割合で有する有機高分子物質を使用したり、特開平４−
２１８０４８号公報，特開平５−１９４５３号公報等に
記載のジアゾ化合物を１〜２０重量％，好ましくは２〜
１０重量％含有させたりする。これにより、酸素による
感度低下を低く抑えることができ、酸素遮断層を不要と
することができる。

【００７６】次に、本発明のカラーフィルターレジスト
用現像液を用いてカラーフィルターを製造する方法につ
いて説明する。

【００７７】カラーフィルターの透明基板としては、ポ
リエチレンテレフタレート等のポリエステルやポリプロ
ピレン、ポリエチレン等のポリオレフィン等のプラスチ
ックシート、或いは、各種ガラス板等を挙げることがで
きる。

【００７８】このような透明基板には、表面の接着性等
の物性を改良するために、必要に応じて、コロナ放電処
理、オゾン処理、シランカップリング剤やウレタンポリ
マー等の各種ポリマーの薄膜形成処理等を行うことがで
きる。

【００７９】なお、透明基板の板厚は、０．０５〜１０
ｍｍ、特に０．１〜７ｍｍの範囲であることが好まし
い。また、各種ポリマーの薄膜形成処理を行う場合に
は、その膜厚は０．０１〜１０μｍ、特に０．０５〜５
μｍの範囲であることが好ましい。

【００８０】この透明基板は、通常、赤，緑，青の画素
画像を形成する前に、予め金属薄膜、又は前述のブラッ
クマトリックス用光重合性組成物を利用したブラックマ
トリックスが設けられる。前者の例としては、クロム単
層又はクロムと酸化クロムの２層のものが挙げられ、こ
れらを蒸着又はスパッタリング法等により薄膜を形成し
た後、その上に、感光性被膜を形成し、ストライプ、モ
ザイク、トライアングル等の繰り返しパターンを有する
フォトマスクを用いて露光・現像し、レジスト画像を形
成させ、続いて、該薄膜をエッチング処理により、透明
基板上にブラックマトリックスを形成させたものが挙げ
られる。

【００８１】このようにしてブラックマトリックスを設
けた透明基板上に、赤，緑，青のうちの１つの色の色材
料を含有するカラーフィルターレジストを、スピナー，
ワイヤーバー，フローコーター，ダイコーター，ロール
コーター，スプレー等の塗布装置により塗布した後、５
０〜２００℃、好ましくは１００〜１５０℃の温度で１
５秒〜１０分間、好ましくは３０秒〜５分間乾燥して当
該色材光重合性層を形成させる。なお、ここで、カラー
フィルターレジストの塗布液を塗布、乾燥して得られる
光重合性層の膜厚は、好ましくは０．２〜２μｍ、より
好ましくは０．５〜１μｍである。

【００８２】ここで、乾燥温度は、高温なほど透明基板
に対する接着性が向上するが、一方、高過ぎると光重合
開始剤組成物が分解し、熱重合を誘発して現像不良を起
こし易い。

【００８３】次に、この色材光重合性層上に色材画素用
のネガフォトマスクを置き、該フォトマスクを介して、
紫外又は可視等の光源を用いて画像露光する。この際、
必要に応じて酸素による光重合性層の感度の低下を防ぐ
ため、光重合性層上にポリビニルアルコール層等の酸素
遮断層を塗設した後、露光を行っても良い。

【００８４】続いて、本発明のカラーフィルターレジス
ト用現像液により現像処理を行い透明基板上に第１の色
材画素画像を形成させる。なお、必要に応じてこの現像
処理の前に、光重合層の感度或いはγ値（階調）を高く
する目的で露光試料を７０〜２００℃で１５秒〜２０分
間、好ましくは８０〜１５０℃で３０秒〜１０分間の熱
処理を施すことができる。

【００８５】現像処理は、通常、２０〜４０℃、好まし
くは２５〜３５℃の現像温度で、浸漬現像、スプレー現
像、ブラシ現像、超音波現像等の方法により行われる。

【００８６】現像後の試料は、必要に応じて、該試料の
上に塗布される色材光重合性層、或いは、ポリアミド，
ポリイミド等の保護層の塗布溶剤に対する耐久性、又
は、ガラス基板等の透明基板との接着性を高める目的
で、該試料を１００〜２５０℃，５〜６０分間の熱硬化
処理を行うか、或いは、適正露光量以上の露光量、好ま
しくは、適正露光量の１〜１０倍の露光量による光硬化
処理を施すことができる。

【００８７】続いて、該試料の上に赤，緑，青のうち他
の２色のカラーフィルターレジストについても前記と同
様にしてそれぞれ塗布・乾燥した後、該試料を、色材画
素用のネガフォトマスクを用いて前記と同様に露光、現
像、必要に応じて熱又は光硬化処理を繰り返し行い、ブ
ラックマトリックス間に３色の画素を形成してカラーフ
ィルターを作製する。

【００８８】このようにして作製されたカラーフィルタ
ーは、このままの状態で、上にＩＴＯ（透明電極）が形
成され、カラーディスプレーの部品の一部として使用さ
れるが、更にカラーフィルターの表面平滑性、或いは耐
久性を高める目的でポリアミド，ポリイミド等のトップ
コート層を設けることもできる。

【００８９】画像露光に使用される光源としては、キセ
ノンランプ，ハロゲンランプ，タングステンランプ，高
圧水銀灯，メタルハライドランプ，中圧水銀灯，低圧水
銀灯等のランプ光源、及びアルゴンイオンレーザー，Ｙ
ＡＧレーザー，エキシマーレーザー，窒素レーザー等の
レーザー光源が挙げられる。これらの光源には、必要と
される照射光の波長領域に応じて、適宜光学フィルター
を使用することもできる。

【００９０】ブラックマトリックスを、黒の色材料を含
有する本発明に係るカラーフィルターレジストを利用し
て形成する場合には、透明基板上に赤，緑，青の画素画
像を形成する方法と同様の方法を採用することでブラッ
クマトリックスを形成する。この際、ブラックマトリッ
クスを形成する操作を２回以上繰り返すことで、ブラッ
クマトリックス画像を積層して、目的の透過濃度のブラ
ックマトリックス画像を完成させることも可能である。

【００９１】以上、ブラックマトリックスが形成された
透明基板上に赤，緑，青の画素画像を形成する方法を説
明したが、赤，緑，青の画素画像形成後にブラックマト
リックスを形成する方法も採用可能である。

【００９２】また、本発明に係るカラーフィルターレジ
ストを用いて、透明基板上に、ブラックストライプ、又
は、赤，緑，青の色材画素画像を形成させる際に、該カ
ラーフィルターレジストと透明基板との現像画像接着性
及び／又は熱硬化画像の接着性を高める目的で、該透明
基板上に色材料を含有しない光重合性組成物を光硬化さ
せた光硬化接着層を設けることができる。

【００９３】該光硬化接着層に使用される光重合性組成
物に含有している光重合開始剤組成物、エチレン性化合
物、及び必要に応じて用いられる有機高分子物質は、前
記本発明に係るカラーフィルターレジストの構成成分の
中から適宜選択して用いることができ、このような光硬
化接着層は、この光重合性組成物を、通常、上記と同様
の方法により、乾燥膜厚が０．０１〜２μｍ、好ましく
は０．０２〜１μｍの範囲となるように透明基板上に塗
設した後、該塗布された光重合性組成物層の適正露光量
の１〜１０倍の露光量で露光して光硬化させることによ
り、形成することができる。

【００９４】更に、また、本発明に係るカラーフィルタ
ーレジストを用いて透明基板上に形成されたブラックス
トライプ、又は、赤，緑，青の色材画素等のレジスト画
像の、経時による透明基板からの剥離、傷などの欠陥の
発生を防ぐ目的で、該レジスト画像を形成させた透明基
板の上に、上記の光硬化接着層の場合と同様の方法によ
り、光硬化層を設けることもできる。

【００９５】

【実施例】以下に実施例及び比較例を挙げて本発明を更
に詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り
以下の実施例に限定されるものではない。

【００９６】実施例１〜８、比較例１〜６光重合開始剤組成物として下記 (i),(ii) の種類及び配
合を採用し、有機高分子物質としては下記αを用い、エ
チレン性化合物としては下記〜を用い、下記配合で
黒の色材を含有するブラックマトリックス形成用光重合
性組成物と、該光重合性組成物に対して、重量で３．６
倍量の０．５ｍｍ径ジルコニアビーズを入れたペイント
シェーカーを用いて７時間分散を行って、塗布液を調製
した。

【００９７】

【化１２】

【００９８】

【化１３】

【００９９】

【化１４】

【０１００】［黒の色材光重合性塗布液組成］光重合開始剤組成物：表１，２に記載有機高分子物質：表１，２に記載エチレン性化合物：表１，２に記載塗布溶剤（シクロヘキサノン）：５００重量部黒色顔料(カーホ゛ンフ゛ラック(三菱化学社製「ＭＡ−７」))：添
加率（顔料濃度）は表１，２に記載調製された黒の色材含有光重合性塗布液を、ガラス基板
（コーニング社製Ｎｏ．７０５９）に乾燥膜厚が０．７
μｍになるようにワイヤーバーコーターにより塗布し、
乾燥温度１００℃で２分間乾燥し、更にポリビニルアル
コール水溶液を乾燥膜厚２μｍになるように同様の方法
により塗布、乾燥した。次に、幅３０μｍで縦３３０μ
ｍ、横１１０μｍのピッチで繰り返すブラックマトリッ
クス用ネガフォトマスクを用いて、２Ｋｗ高圧水銀灯に
より表１，２の感度の欄に示す露光量で露光した後、表
１，２に示す成分を配合した水溶液よりなる現像液を用
い２５℃で表１，２に示す時間浸漬し、３ｋｇ／ｍ² の
水圧で３０秒間スプレー水洗して現像処理を行い、ブラ
ックマトリックスを形成させ、次に２００℃，７分間の
熱処理により熱硬化させた。

【０１０１】なお、現像液の調製に用いた、アニオン性
界面活性剤、ジオール類、その他の成分は次の通りであ
る。

【０１０２】［現像液成分］（本発明に係るノニオン性界面活性剤）ａ：ポリエチレンオキシ−β−ナフチルエーテル（日本乳化剤社製「ＮｅｗｃｏｌＢ−１０」前記一般
式(III) におけるｒ＝１０）ｂ：ポリエチレンオキシ−β−ナフチルエーテル（日本乳化剤社製「ＮｅｗｃｏｌＢ−１８」前記一般
式(III) におけるｒ＝１８）ｃ：ポリエチレンアルキルフェニルエーテル（日光ケミカルズ社製「ＮＰ−１０」前記一般式(III)
におけるｒ＝１８）（その他の界面活性剤）ｄ：アルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム（花王社製「ペレックスＮＢＬ」）ｅ：ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム（花王社製「ネオペレックス No.２５」）ｆ：ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸ナトリウ
ム（日光ケミカルズ社製「ＡＫＹＰＯＲＬＭ１００
ＮＶ」）ｇ：ラウリルトリメチルアンモニウムクロライド（無機のアルカリ剤）ｓ：炭酸カリウムｔ：水酸化カリウム（有機のアルカリ剤）ｕ：ジエタノールアミンｖ：テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド（その他の成分）ｐ：エチレングリコール得られた試料を以下の評価方法で評価し、その結果を表
１，２に示した。

【０１０３】［吸光度（Ｏ．Ｄ．）］７００ｎｍの光の
最小吸光度（O.D.min)を測定した。

【０１０４】［顔料濃度］黒の色材光重合性塗布液の固
形分中に含有されている顔料の割合。顔料濃度＝顔料の重量／全固形分重量［感度］ウグラテストチャートを試料上に置き、該チャ
ートの上より各種露光量を変化させながら、２Ｋｗ高圧
水銀灯により露光した後、熱処理、浸漬時間３０秒の現
像処理を施し、得られたウグラテストチャート画像中の
細線画像の最も細いポジとネガの細線の線幅が同じにな
る時の露光量で感度を評価する。露光量が低い程、高感
度であることを示している。

【０１０５】［画質］ウグラテストチャートを用いて適
正露光量で露光し、表１，２の現像液及び浸漬時間で現
像処理を行い色材画像を形成させた。該色材画像の中の
細線画像を４００倍の顕微鏡で観察し、再現されている
最も細い細線の線幅より、画質を下記基準で評価した。
細い細線が再現するほど良好な画質を示している。な
お、Ｆは、感光層が現像処理において全部溶解するか、
或いは、全く溶解しないため、画像が形成されなかった
ことを示す。Ａ：１０μｍ以下の線幅の細線が再現されている。Ｂ：１０〜１５μｍの線幅の細線が再現されている。Ｃ：１５〜２５μｍの線幅の細線が再現されている。Ｄ：２５μｍ以上の線幅の細線が再現されている。

【０１０６】なお、Ｆは、感光層が現像処理において全
部溶解するか、或いは、全く溶解しないため、画像が形
成されなかったことを示す。

【０１０７】なお、適正露光量とは、ウグラテストチャ
ートを試料上に置き、該チャートの上より各種露光量を
変化させながら２Ｋｗ高圧水銀灯により露光した後、熱
処理、各現像液による現像処理を施し、得られたウグラ
テストチャート画像中の細線画像の最も細いポジとネガ
の細線の線幅が同じになる時の露光量を言う。

【０１０８】

【表１】

【０１０９】

【表２】

【０１１０】実施例９実施例１において黒色顔料の代わりに下記の赤色の顔料
を下記の配合量（顔料濃度）で添加したこと以外は、実
施例１と同様にして評価を行ったところ、感度５００ｍ
ｊ／ｃｍ² ，４５５ｎｍの吸光度１．３で同等の画質が
得られた。

【０１１１】赤色顔料：リオノーゲンレッドＧＤ（東洋
インキ製造社製）／リオノーゲンオレンジＲ（東洋イン
キ製造社製）（＝１３：３（重量比））配合量（顔料濃度）：５５重量％実施例１０，１１実施例９において、赤色の顔料の代わりに下記の緑色顔
料（実施例１０）又は青色顔料（実施例１１）を使用し
たこと以外は実施例９と同様にして評価を行ったとこ
ろ、実施例９と同様に良好な感度及び画質が得られた。

【０１１２】緑色顔料：リオノールグリーン２ＹＳ（東
洋インキ製造社製）／リオノーゲンイエロー３Ｇ（東洋
インキ製造社製）（＝９：１７（重量比））青色顔料：リオノールブルーＥＳ（東洋インキ製造社
製）／リオノーゲンバイオレットＲＬ（東洋インキ製造
社製）（＝１３．５：３．５（重量比））

【０１１３】

【発明の効果】以上詳述した通り、本発明のカラーフィ
ルターレジスト用現像液は、経時安定性に優れ、長期間
使用しても安定して高画質が得られ、しかも、露光量や
現像条件の許容範囲が広く、条件設定が容易で、現像時
の発泡による問題もないことから、高品質のカラーフィ
ルターを低コストで容易に、連続的に製造することがで
きる。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】無機のアルカリ剤とポリオキシアルキレ
ンエーテル基を有するノニオン性界面活性剤とを含有す
ることを特徴とするカラーフィルターレジスト用現像
液。
【請求項２】請求項１の現像液において、ポリグリシ
ジルエーテル化合物と不飽和カルボン酸との付加反応で
得られるエチレン性化合物を含有するカラーフィルター
レジストの現像に使用されることを特徴とするカラーフ
ィルターレジスト用現像液。
【請求項３】請求項２の現像液において、エチレン性
化合物が一般式（Ｉ）又は（II）で表される置換基を有
することを特徴とするカラーフィルターレジスト用現像
液。【化１】【化２】（上記（Ｉ），（II）式中、ｍは０〜６の整数を示し、
Ｒ¹ ，Ｒ² は水素原子又はハロゲン原子を示し、Ｒ³ は
置換基を有しても良い炭素数１〜１０のアルキレン基
（該置換基は、水酸基、ハロゲン原子、水酸基を有して
も良い炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０の
アルコキシ基、炭素数６〜１５のアリール基、炭素数７
〜１５のアラルキル基、炭素数２〜１０のアルケニル
基、炭素数２〜１０のアシルオキシ基である。）を示
し、Ｒ⁴ は水素原子、水酸基を有しても良い炭素数１〜
１０のアルキル基、炭素数６〜１５のアリール基、炭素
数７〜１５のアラルキル基又は炭素数２〜１０のアルケ
ニル基を示し、Ｒ⁵ は水素原子又はメチル基を示す。）
【請求項４】請求項１ないし３のいずれか１項の現像
液において、色材料として赤、緑又は青色材料を含有
し、乾燥膜厚１μｍ以下に形成した塗膜の、４００〜７
００ｎｍの範囲での最大吸光度が１．１以上であるカラ
ーフィルターを製造するためのカラーフィルターレジス
トの現像に使用されることを特徴とするカラーフィルタ
ーレジスト用現像液。
【請求項５】請求項１ないし３のいずれか１項の現像
液において、色材料として黒色材料を含有し、乾燥膜厚
１μｍ以下に形成した塗膜の、４００〜７００ｎｍの範
囲での最小吸光度が２．０以上であるブラックマトリッ
クスを製造するためのカラーフィルターレジストの現像
に使用されることを特徴とするカラーフィルターレジス
ト用現像液。