JPH0934131A - 水なし平版印刷版の修正方法 - Google Patents
水なし平版印刷版の修正方法Info
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- JPH0934131A JPH0934131A JP18947695A JP18947695A JPH0934131A JP H0934131 A JPH0934131 A JP H0934131A JP 18947695 A JP18947695 A JP 18947695A JP 18947695 A JP18947695 A JP 18947695A JP H0934131 A JPH0934131 A JP H0934131A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】支持体上に感光層、インキ反発層をこの順に積
層してなる水なし平版印刷版の版面上絵柄内に形成され
た欠点を修正する方法において、特定の錯体を含んだシ
リコーン液を修正液として用いている。 【効果】インキ反発性に優れ、長時間の印刷あるいは大
量の印刷を行った場合でも修正したインキ反発部分が欠
落しない水なし平版印刷版の修正方法となりうる。
層してなる水なし平版印刷版の版面上絵柄内に形成され
た欠点を修正する方法において、特定の錯体を含んだシ
リコーン液を修正液として用いている。 【効果】インキ反発性に優れ、長時間の印刷あるいは大
量の印刷を行った場合でも修正したインキ反発部分が欠
落しない水なし平版印刷版の修正方法となりうる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は水なし平版印刷版原版の
修正方法に関するものであり、さらに詳しくは特定のシ
リコーン組成物からなる修正液を用いることを特徴とす
る水なし平版の修正方法に関するものである。
修正方法に関するものであり、さらに詳しくは特定のシ
リコーン組成物からなる修正液を用いることを特徴とす
る水なし平版の修正方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来から、シリコ−ンゴムやフッ素樹脂
をインキ反発層として使用し、湿し水を用いずに平版印
刷を行うための印刷版、とりわけ選択的に露光現像して
なる感光性平版印刷版原版が種々提案されている。
をインキ反発層として使用し、湿し水を用いずに平版印
刷を行うための印刷版、とりわけ選択的に露光現像して
なる感光性平版印刷版原版が種々提案されている。
【0003】このような水なし平版印刷とは、画線部と
非画線部とを基本的にほぼ同一平面に存在させ、画線部
をインキ受容性、非画線部をインキ反発層としてインキ
の付着性の差異を利用して、画線部のみにインキを着肉
させた後、紙などの被印刷体にインキを転写して印刷を
する平版印刷方法において、非画線部がシリコ−ンゴ
ム、含フッ素化合物などのインキ反発性を有する物質か
らなり、湿し水を用いずに印刷可能であるような印刷方
法を意味する。
非画線部とを基本的にほぼ同一平面に存在させ、画線部
をインキ受容性、非画線部をインキ反発層としてインキ
の付着性の差異を利用して、画線部のみにインキを着肉
させた後、紙などの被印刷体にインキを転写して印刷を
する平版印刷方法において、非画線部がシリコ−ンゴ
ム、含フッ素化合物などのインキ反発性を有する物質か
らなり、湿し水を用いずに印刷可能であるような印刷方
法を意味する。
【0004】例えば、ポジ型水なし平版印刷版原版とし
ては、特公昭54−26923号公報、特公昭56−2
3150号公報などに支持体上に光重合性感光層とイン
キ反発層であるシリコ−ンゴム層とが積層された水なし
平版印刷版原版、また特公平3−56622号公報、特
開昭61−153655号公報などに支持体上に光二量
化型感光層とインキ反発層であるシリコ−ンゴム層とが
積層された水なし平版印刷版原版が提案されている。ネ
ガ型水なし平版印刷版原版としては、特公昭61−54
222号公報などに、支持体上に1,2−ナフトキノン
−2−ジアジド−5−スルホン酸クロリドとフェノ−ル
ホルムアルデヒドノボラック樹脂の部分エステル化物を
多官能イソシアネ−トで架橋した光剥離性感光層、およ
びその上にインキ反発層としてのシリコ−ンゴム層を積
層した水なし平版印刷版原版が提案されている。
ては、特公昭54−26923号公報、特公昭56−2
3150号公報などに支持体上に光重合性感光層とイン
キ反発層であるシリコ−ンゴム層とが積層された水なし
平版印刷版原版、また特公平3−56622号公報、特
開昭61−153655号公報などに支持体上に光二量
化型感光層とインキ反発層であるシリコ−ンゴム層とが
積層された水なし平版印刷版原版が提案されている。ネ
ガ型水なし平版印刷版原版としては、特公昭61−54
222号公報などに、支持体上に1,2−ナフトキノン
−2−ジアジド−5−スルホン酸クロリドとフェノ−ル
ホルムアルデヒドノボラック樹脂の部分エステル化物を
多官能イソシアネ−トで架橋した光剥離性感光層、およ
びその上にインキ反発層としてのシリコ−ンゴム層を積
層した水なし平版印刷版原版が提案されている。
【0005】これらの水なし平版印刷版は、通常ポジフ
ィルムもしくはネガフィルムを通して、活性光線により
露光される。そして、その後、現像処理されることによ
り、画線部に対応したシリコ−ンゴム層のみが剥ぎ取ら
れて感光層が露出し、インキ着肉性の画線部となる。
ィルムもしくはネガフィルムを通して、活性光線により
露光される。そして、その後、現像処理されることによ
り、画線部に対応したシリコ−ンゴム層のみが剥ぎ取ら
れて感光層が露出し、インキ着肉性の画線部となる。
【0006】フッ素樹脂をインキ反発層に用いる感光性
平版印刷版原版としては、特開平2−254449号公
報、特開平2−85855号公報などには、1H,1
H,2H,2H−ヘプタデカフルオロデシルメタクリレ
−トを用いたフッ素樹脂をインキ反発層とする水なし平
版印刷版原版が開示されている。
平版印刷版原版としては、特開平2−254449号公
報、特開平2−85855号公報などには、1H,1
H,2H,2H−ヘプタデカフルオロデシルメタクリレ
−トを用いたフッ素樹脂をインキ反発層とする水なし平
版印刷版原版が開示されている。
【0007】ところで、上記のような水なし平版印刷版
においては、作業場所のゴミの影響、ポジフィルムやネ
ガフィルムのエッジ跡、スクラッチ傷、ピンホールなど
による欠点、あるいは作業中の取り扱いの不手際などに
より、本来非画線部となるべき部分のインキ反発層が欠
落することがある。このような場合、この印刷版を用い
て印刷を行うと、インキ反発層が欠落した部分にインキ
が付着し、満足な印刷物が得られないという問題を生じ
る。
においては、作業場所のゴミの影響、ポジフィルムやネ
ガフィルムのエッジ跡、スクラッチ傷、ピンホールなど
による欠点、あるいは作業中の取り扱いの不手際などに
より、本来非画線部となるべき部分のインキ反発層が欠
落することがある。このような場合、この印刷版を用い
て印刷を行うと、インキ反発層が欠落した部分にインキ
が付着し、満足な印刷物が得られないという問題を生じ
る。
【0008】このような問題を解決するため、特公昭6
1−3417号公報、特公昭61−54217号公報、
特公昭63−19864号公報、特公昭63−2230
3号公報、特公昭63−23547号公報、特開昭62
−163056号公報、特開昭63−63045号公
報、特開昭63−222896号公報、特開昭64−3
4793号公報、特開昭64−49688号公報、特開
平1−167843号公報、特開平1−228898号
公報などには、インキ反発層が欠落した部分にインキ反
発性物質を塗布する方法やインキ反発性を有するシート
を貼り付ける方法が開示されている。
1−3417号公報、特公昭61−54217号公報、
特公昭63−19864号公報、特公昭63−2230
3号公報、特公昭63−23547号公報、特開昭62
−163056号公報、特開昭63−63045号公
報、特開昭63−222896号公報、特開昭64−3
4793号公報、特開昭64−49688号公報、特開
平1−167843号公報、特開平1−228898号
公報などには、インキ反発層が欠落した部分にインキ反
発性物質を塗布する方法やインキ反発性を有するシート
を貼り付ける方法が開示されている。
【0009】しかしながら、上記に挙げた方法を用いる
場合、形成したインキ反発部分と下層の感光層との接着
力が不十分であり、印刷中に修正したインキ反発部分が
欠落してインキが着肉してしまうという問題点があっ
た。とりわけ長時間印刷を行う場合や、大量の印刷を行
う際にこのような問題が顕著に生じていた。
場合、形成したインキ反発部分と下層の感光層との接着
力が不十分であり、印刷中に修正したインキ反発部分が
欠落してインキが着肉してしまうという問題点があっ
た。とりわけ長時間印刷を行う場合や、大量の印刷を行
う際にこのような問題が顕著に生じていた。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】本発明はかかる従来技
術の諸欠点を改良するために創案されたもので、長時間
の印刷あるいは大量の印刷を行った場合でも修正したイ
ンキ反発部分が欠落しない水なし平版印刷版の修正方法
を提供することにある。
術の諸欠点を改良するために創案されたもので、長時間
の印刷あるいは大量の印刷を行った場合でも修正したイ
ンキ反発部分が欠落しない水なし平版印刷版の修正方法
を提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】かかる本発明の目的は、
以下の水なし平版印刷版の修正方法によって達成され
る。すなわち、 (1) 支持体上に感光層およびインキ反発層をこの順
に積層してなる水なし平版印刷版の版面上に形成された
インキ反発層の欠点部分を修正する方法において、下記
(a)〜(c)成分から主としてなる修正液を塗布する
水なし平版印刷版の修正方法において、(a)、(b)
および(c)各成分を、二種類または三種類に分けてそ
れぞれ修正液作製用液とし、該修正液作製用液を、塗布
する直前に混合するか、任意の順番で塗布することを特
徴とする水なし平版印刷版の修正方法。
以下の水なし平版印刷版の修正方法によって達成され
る。すなわち、 (1) 支持体上に感光層およびインキ反発層をこの順
に積層してなる水なし平版印刷版の版面上に形成された
インキ反発層の欠点部分を修正する方法において、下記
(a)〜(c)成分から主としてなる修正液を塗布する
水なし平版印刷版の修正方法において、(a)、(b)
および(c)各成分を、二種類または三種類に分けてそ
れぞれ修正液作製用液とし、該修正液作製用液を、塗布
する直前に混合するか、任意の順番で塗布することを特
徴とする水なし平版印刷版の修正方法。
【0012】(a)水酸基含有有機シロキサン。
【0013】(b)ハイドロジェンシロキサン。
【0014】(c)アルミニウム、バリウム、ベリリウ
ム、カドミウム、カルシウム、セリウム、クロム、コバ
ルト、銅、ジスプロシウム、エルビウム、ヨーロピウ
ム、ガドリウム、金、ハフニウム、ホルミウム、インジ
ウム、イリジウム、鉄、ランタン、鉛、リチウム、ルテ
チウム、マグネシウム、マンガン、モリブデン、ネオジ
ウム、ニッケル、パラジウム、カリウム、プラセオジ
ム、ロジウム、ルテニウム、サマリウム、スカンジウ
ム、銀、ナトリウム、ストロンチウム、テルビウム、タ
リウム、トリウム、ツリウム、ウラン、バナジウム、イ
ッテリビウム、イットリウム、亜鉛、ジルコニウムの群
より選ばれる少なくとも一種の元素を含んだ錯体。
ム、カドミウム、カルシウム、セリウム、クロム、コバ
ルト、銅、ジスプロシウム、エルビウム、ヨーロピウ
ム、ガドリウム、金、ハフニウム、ホルミウム、インジ
ウム、イリジウム、鉄、ランタン、鉛、リチウム、ルテ
チウム、マグネシウム、マンガン、モリブデン、ネオジ
ウム、ニッケル、パラジウム、カリウム、プラセオジ
ム、ロジウム、ルテニウム、サマリウム、スカンジウ
ム、銀、ナトリウム、ストロンチウム、テルビウム、タ
リウム、トリウム、ツリウム、ウラン、バナジウム、イ
ッテリビウム、イットリウム、亜鉛、ジルコニウムの群
より選ばれる少なくとも一種の元素を含んだ錯体。
【0015】(2) 支持体上に感光層およびインキ反
発層をこの順に積層してなる水なし平版印刷版の版面上
に形成されたインキ反発層の欠点部分を修正する方法に
おいて、下記(a)〜(c)成分から主としてなる修正
液を塗布することを特徴とする水なし平版印刷版の修正
方法。
発層をこの順に積層してなる水なし平版印刷版の版面上
に形成されたインキ反発層の欠点部分を修正する方法に
おいて、下記(a)〜(c)成分から主としてなる修正
液を塗布することを特徴とする水なし平版印刷版の修正
方法。
【0016】(a)ビニル基含有有機シロキサン。
【0017】(b)ハイドロジェンシロキサン。
【0018】(c)アルミニウム、バリウム、ベリリウ
ム、カドミウム、カルシウム、セリウム、クロム、コバ
ルト、銅、ジスプロシウム、エルビウム、ヨーロピウ
ム、ガドリウム、金、ハフニウム、ホルミウム、インジ
ウム、イリジウム、鉄、ランタン、鉛、リチウム、ルテ
チウム、マグネシウム、マンガン、モリブデン、ネオジ
ウム、ニッケル、パラジウム、カリウム、プラセオジ
ム、ロジウム、ルテニウム、サマリウム、スカンジウ
ム、銀、ナトリウム、ストロンチウム、テルビウム、タ
リウム、トリウム、ツリウム、ウラン、バナジウム、イ
ッテリビウム、イットリウム、亜鉛、ジルコニウムの群
より選ばれる少なくとも一種の元素を含んだ錯体。
ム、カドミウム、カルシウム、セリウム、クロム、コバ
ルト、銅、ジスプロシウム、エルビウム、ヨーロピウ
ム、ガドリウム、金、ハフニウム、ホルミウム、インジ
ウム、イリジウム、鉄、ランタン、鉛、リチウム、ルテ
チウム、マグネシウム、マンガン、モリブデン、ネオジ
ウム、ニッケル、パラジウム、カリウム、プラセオジ
ム、ロジウム、ルテニウム、サマリウム、スカンジウ
ム、銀、ナトリウム、ストロンチウム、テルビウム、タ
リウム、トリウム、ツリウム、ウラン、バナジウム、イ
ッテリビウム、イットリウム、亜鉛、ジルコニウムの群
より選ばれる少なくとも一種の元素を含んだ錯体。
【0019】(3) 支持体上に感光層およびインキ反
発層をこの順に積層してなる水なし平版印刷版の版面上
に形成されたインキ反発層の欠点部分を修正する方法に
おいて、下記(a)〜(c)成分から主としてなる修正
液を塗布する水なし平版印刷版の修正方法において、
(a)、(b)および(c)各成分を、二種類または三
種類に分けてそれぞれ修正液作製用液とし、該修正液作
製用液を、塗布する直前に混合するか、任意の順番で塗
布することを特徴とする水なし平版印刷版の修正方法。
発層をこの順に積層してなる水なし平版印刷版の版面上
に形成されたインキ反発層の欠点部分を修正する方法に
おいて、下記(a)〜(c)成分から主としてなる修正
液を塗布する水なし平版印刷版の修正方法において、
(a)、(b)および(c)各成分を、二種類または三
種類に分けてそれぞれ修正液作製用液とし、該修正液作
製用液を、塗布する直前に混合するか、任意の順番で塗
布することを特徴とする水なし平版印刷版の修正方法。
【0020】(a)水酸基含有有機シロキサン。
【0021】(b)下記一般式(I)で示される化合
物。
物。
【0022】 R1n SiX4-n (I) (式中、nは0〜3の整数であり、R1はアルキル基、
アルケニル基、アリール基またはこれらの組み合わされ
た一価の基を表し、それらはハロゲン原子、アミノ基、
ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アク
リロキシ基、メタクリロキシ基、メルカプト基等の官能
基を有していてもよい。Xは水酸基、アルコキシ基、ア
セチル基、ケトオキシム基、ハロゲン原子の群より選ば
れる少なくとも一種である。) (c)アルミニウム、バリウム、ベリリウム、カドミウ
ム、カルシウム、セリウム、クロム、コバルト、銅、ジ
スプロシウム、エルビウム、ヨーロピウム、ガドリウ
ム、金、ハフニウム、ホルミウム、インジウム、イリジ
ウム、鉄、ランタン、鉛、リチウム、ルテチウム、マグ
ネシウム、マンガン、モリブデン、ネオジウム、ニッケ
ル、パラジウム、カリウム、プラセオジム、ロジウム、
ルテニウム、サマリウム、スカンジウム、銀、ナトリウ
ム、ストロンチウム、テルビウム、タリウム、トリウ
ム、ツリウム、ウラン、バナジウム、イッテリビウム、
イットリウム、亜鉛、ジルコニウムの群より選ばれる少
なくとも一種の元素を含んだ錯体。
アルケニル基、アリール基またはこれらの組み合わされ
た一価の基を表し、それらはハロゲン原子、アミノ基、
ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アク
リロキシ基、メタクリロキシ基、メルカプト基等の官能
基を有していてもよい。Xは水酸基、アルコキシ基、ア
セチル基、ケトオキシム基、ハロゲン原子の群より選ば
れる少なくとも一種である。) (c)アルミニウム、バリウム、ベリリウム、カドミウ
ム、カルシウム、セリウム、クロム、コバルト、銅、ジ
スプロシウム、エルビウム、ヨーロピウム、ガドリウ
ム、金、ハフニウム、ホルミウム、インジウム、イリジ
ウム、鉄、ランタン、鉛、リチウム、ルテチウム、マグ
ネシウム、マンガン、モリブデン、ネオジウム、ニッケ
ル、パラジウム、カリウム、プラセオジム、ロジウム、
ルテニウム、サマリウム、スカンジウム、銀、ナトリウ
ム、ストロンチウム、テルビウム、タリウム、トリウ
ム、ツリウム、ウラン、バナジウム、イッテリビウム、
イットリウム、亜鉛、ジルコニウムの群より選ばれる少
なくとも一種の元素を含んだ錯体。
【0023】以上のような構成の水なし平版印刷版の修
正方法を用いることにより、長時間の印刷あるいは大量
の印刷を行った場合でも修正したインキ反発部分が欠落
しない水なし平版印刷版の修正方法を提供することがで
きる。
正方法を用いることにより、長時間の印刷あるいは大量
の印刷を行った場合でも修正したインキ反発部分が欠落
しない水なし平版印刷版の修正方法を提供することがで
きる。
【0024】以下に、本発明の構成について、さらに具
体的に説明する。
体的に説明する。
【0025】まず、本発明において使用される水なし平
版印刷版としては、支持体上に感光層およびインキ反発
層をこの順に積層してなる水なし平版印刷版であればよ
く、ポジ型水なし平版印刷版でもネガ型水なし平版印刷
版でもよく、特に限定されない。
版印刷版としては、支持体上に感光層およびインキ反発
層をこの順に積層してなる水なし平版印刷版であればよ
く、ポジ型水なし平版印刷版でもネガ型水なし平版印刷
版でもよく、特に限定されない。
【0026】ここで言う支持体とは、通常の水なし平版
印刷版で用いられるもの、あるいは提案されているもの
であればいずれでもよく、そのまま用いたものでもよ
く、上層にプライマ層を設けて支持体としたものでもよ
い。
印刷版で用いられるもの、あるいは提案されているもの
であればいずれでもよく、そのまま用いたものでもよ
く、上層にプライマ層を設けて支持体としたものでもよ
い。
【0027】また、ここで言う感光層とは、通常の水な
し平版印刷版において提案されている感光層であればど
のようなものでもよい。ポジ型の感光層でもネガ型の感
光層でもよく、特に限定されない。
し平版印刷版において提案されている感光層であればど
のようなものでもよい。ポジ型の感光層でもネガ型の感
光層でもよく、特に限定されない。
【0028】インキ反発層としては、例えばシリコ−ン
ゴムを用いたもの、フッ素樹脂を用いたものなどが挙げ
られるが、これらに限定されず、水なし平版印刷版に使
用可能とされているインキ反発層であれば何でもよい。
これらの中では、材料供給の簡便さなどからシリコ−ン
ゴムを用いたインキ反発層が好ましい。
ゴムを用いたもの、フッ素樹脂を用いたものなどが挙げ
られるが、これらに限定されず、水なし平版印刷版に使
用可能とされているインキ反発層であれば何でもよい。
これらの中では、材料供給の簡便さなどからシリコ−ン
ゴムを用いたインキ反発層が好ましい。
【0029】上記のような水なし平版印刷版には、現像
前まではインキ反発層の表面にプレ−ンまたは凹凸処理
した薄い保護フィルムをラミネ−トまたは薄いプラスチ
ックシ−ト状物を塗布または転写して保護層を設けてあ
る場合もあるが、本発明はこのような水なし平版印刷版
にも十分効果を発揮する。
前まではインキ反発層の表面にプレ−ンまたは凹凸処理
した薄い保護フィルムをラミネ−トまたは薄いプラスチ
ックシ−ト状物を塗布または転写して保護層を設けてあ
る場合もあるが、本発明はこのような水なし平版印刷版
にも十分効果を発揮する。
【0030】また、該水なし平版印刷版とは、通常の露
光現像処理を施した刷版を主として意味するが、未処理
の印刷版でインキ反発層の一部が欠落したようなもので
もよい。この際、露光方法としては、通常提案されてい
る方法で、水銀灯、カ−ボンア−ク灯、キセノンラン
プ、メタルハライドランプ、タングステンランプ、蛍光
灯などを用いて行うことができる。また、現像として
は、水なし平版印刷版において通常提案されている現像
液を使用して行うことができる。
光現像処理を施した刷版を主として意味するが、未処理
の印刷版でインキ反発層の一部が欠落したようなもので
もよい。この際、露光方法としては、通常提案されてい
る方法で、水銀灯、カ−ボンア−ク灯、キセノンラン
プ、メタルハライドランプ、タングステンランプ、蛍光
灯などを用いて行うことができる。また、現像として
は、水なし平版印刷版において通常提案されている現像
液を使用して行うことができる。
【0031】本発明において非画線部とは、該水なし平
版印刷版のインキ反発層を意味し、該インキ反発層表面
は露光現像処理や、インキング処理された後のものであ
ってもよく、また全く未処理のものでもよい。
版印刷版のインキ反発層を意味し、該インキ反発層表面
は露光現像処理や、インキング処理された後のものであ
ってもよく、また全く未処理のものでもよい。
【0032】また、本発明において画線部とは、上記し
た非画線部以外のインキ受容性表面を意味する。
た非画線部以外のインキ受容性表面を意味する。
【0033】次に、本発明に用いる修正液について説明
する。
する。
【0034】本発明における修正液としては、シリコー
ン組成物が用いられている。これらの組成物としては、
以下に示す3種類が挙げられる。
ン組成物が用いられている。これらの組成物としては、
以下に示す3種類が挙げられる。
【0035】(1)下記に示す(a)〜(c)成分から
主としてなるシリコーン組成物。
主としてなるシリコーン組成物。
【0036】(a)水酸基含有有機シロキサン。
【0037】(b)ハイドロジェンシロキサン。
【0038】(c)アルミニウム、バリウム、ベリリウ
ム、カドミウム、カルシウム、セリウム、クロム、コバ
ルト、銅、ジスプロシウム、エルビウム、ヨーロピウ
ム、ガドリウム、金、ハフニウム、ホルミウム、インジ
ウム、イリジウム、鉄、ランタン、鉛、リチウム、ルテ
チウム、マグネシウム、マンガン、モリブデン、ネオジ
ウム、ニッケル、パラジウム、カリウム、プラセオジ
ム、ロジウム、ルテニウム、サマリウム、スカンジウ
ム、銀、ナトリウム、ストロンチウム、テルビウム、タ
リウム、トリウム、ツリウム、ウラン、バナジウム、イ
ッテリビウム、イットリウム、亜鉛、ジルコニウムの群
より選ばれる少なくとも一種の元素を含んだ錯体。
ム、カドミウム、カルシウム、セリウム、クロム、コバ
ルト、銅、ジスプロシウム、エルビウム、ヨーロピウ
ム、ガドリウム、金、ハフニウム、ホルミウム、インジ
ウム、イリジウム、鉄、ランタン、鉛、リチウム、ルテ
チウム、マグネシウム、マンガン、モリブデン、ネオジ
ウム、ニッケル、パラジウム、カリウム、プラセオジ
ム、ロジウム、ルテニウム、サマリウム、スカンジウ
ム、銀、ナトリウム、ストロンチウム、テルビウム、タ
リウム、トリウム、ツリウム、ウラン、バナジウム、イ
ッテリビウム、イットリウム、亜鉛、ジルコニウムの群
より選ばれる少なくとも一種の元素を含んだ錯体。
【0039】水酸基含有有機シロキサンとしては、例え
ば分子量200〜数百万の両末端水酸基構造の線状有機
ポリシロキサンが挙げられるが、末端ではなく内部に水
酸基を有するものでもよく、末端と内部の両方に水酸基
を有するものでもよい。とりわけ、インキ反発性を十分
に引き出すためには、有機基の40%以下がビニル、フ
ェニル、ハロゲン化ビニル、ハロゲン化フェニルであ
り、有機基の60%以上がメチル基あるいはエチル基で
あることが好ましい。また、分子量としては、数千〜数
十万のものが好ましい。分子量が小さすぎると塗布、乾
燥の際に揮発により損失する可能性があり、分子量が大
きすぎると粘度が高くなり作業性が劣るので上記の範囲
が好ましい。具体例としては、両末端水酸基含有のジメ
チルポリシロキサン、両末端水酸基含有のメチルエチル
ポリシロキサン、両末端水酸基含有のメチルフェニルポ
リシロキサン等が挙げられるが、これらに限定されな
い。
ば分子量200〜数百万の両末端水酸基構造の線状有機
ポリシロキサンが挙げられるが、末端ではなく内部に水
酸基を有するものでもよく、末端と内部の両方に水酸基
を有するものでもよい。とりわけ、インキ反発性を十分
に引き出すためには、有機基の40%以下がビニル、フ
ェニル、ハロゲン化ビニル、ハロゲン化フェニルであ
り、有機基の60%以上がメチル基あるいはエチル基で
あることが好ましい。また、分子量としては、数千〜数
十万のものが好ましい。分子量が小さすぎると塗布、乾
燥の際に揮発により損失する可能性があり、分子量が大
きすぎると粘度が高くなり作業性が劣るので上記の範囲
が好ましい。具体例としては、両末端水酸基含有のジメ
チルポリシロキサン、両末端水酸基含有のメチルエチル
ポリシロキサン、両末端水酸基含有のメチルフェニルポ
リシロキサン等が挙げられるが、これらに限定されな
い。
【0040】ハイドロジェンシロキサンとしては、Si
H基を有するシロキサンであれば特に限定されず、どの
ような構造でも分子量でもよいが、好ましくは分子量2
00〜数百万のメチル基含有のハイドロジェンポリシロ
キサン、より好ましくは分子量数千〜数十万のメチル基
含有のハイドロジェンポリシロキサンである。インキ反
発性を十分に引き出すためには、有機基の40%以下が
ビニル、フェニル、ハロゲン化ビニル、ハロゲン化フェ
ニルであり、有機基の60%以上がメチル基あるいはエ
チル基であることが好ましい。また、分子量としては、
分子量が小さすぎると塗布、乾燥の際に揮発により損失
する可能性があり、分子量が大きすぎると粘度が高くな
り作業性が劣るので上記の範囲が好ましい。
H基を有するシロキサンであれば特に限定されず、どの
ような構造でも分子量でもよいが、好ましくは分子量2
00〜数百万のメチル基含有のハイドロジェンポリシロ
キサン、より好ましくは分子量数千〜数十万のメチル基
含有のハイドロジェンポリシロキサンである。インキ反
発性を十分に引き出すためには、有機基の40%以下が
ビニル、フェニル、ハロゲン化ビニル、ハロゲン化フェ
ニルであり、有機基の60%以上がメチル基あるいはエ
チル基であることが好ましい。また、分子量としては、
分子量が小さすぎると塗布、乾燥の際に揮発により損失
する可能性があり、分子量が大きすぎると粘度が高くな
り作業性が劣るので上記の範囲が好ましい。
【0041】錯体としては、具体的には次に示すような
ものが挙げられるが、これらに限定されず、上記に示し
た元素の少なくとも一種を含んだ錯体であればよい。
ものが挙げられるが、これらに限定されず、上記に示し
た元素の少なくとも一種を含んだ錯体であればよい。
【0042】アルミニウム(III)ジ−S−ブトキサ
イドエチルアセトアセテート、アルミニウム(III)
ジイソプロポキサイドエチルアセトアセテート、アルミ
ニウム(III)2,4−ペンタンジオネート、バリウ
ム2,4−ペンタンジオネート、ベリリウム2,4−ペ
ンタンジオネート、カドミウム2,4−ペンタンジオネ
ート、カルシウムヘキサフルオロペンタンジオネート、
セリウム(III)2,4−ペンタンジオネート、クロ
ム(III)ベンゾイルアセトネート、クロム(II
I)2,4−ペンタンジオネート、コバルト(II)
2,4−ペンタンジオネート、コバルト(III)2,
4−ペンタンジオネート、コバルト(II)アセチルア
セトネート、コバルト(II)アセテート、コバルト
(II)クロリド、銅(II)ベンゾイルアセトネー
ト、銅(II)エチルアセトアセテート、銅(II)
2,4−ペンタンジオネート、銅(II)2,2,6,
6−トリメチル−3,5−ヘプタンジオネート、銅(I
I)アセチルアセトネート、ジスプロシウム2,4−ペ
ンタンジオネート、エルビウム2,4−ペンタンジオネ
ート、ユーロピウム(III)ペンタンジオネート、ガ
ドリウム(III)2,4−ペンタンジオネート、ガリ
ウム(III)2,4−ペンタンジオネート、金(ジエ
チル)2,4−ペンタンジオネート、ハフニウム2,4
−ペンタンジオネート、ホルミウム2,4−ペンタンジ
オネート、インジウム2,4−ペンタンジオネート、イ
リジウム(III)2,4−ペンタンジオネート、鉄
(III)ベンゾイルアセトネート、鉄(III)2,
4−ペンタンジオネート、鉄(III)トリフルオロペ
ンタンジオネート、鉄(III)アセチルアセトネー
ト、ランタン2,4−ペンタンジオネート、鉛(II)
ヘキサフルオロペンタンジオネート、鉛 (II)2,
4−ペンタンジオネート、鉛(II)2,2,6,6−
テトラメチル−3,5−ヘプタンジオネート、鉛(I
I)アセチルアセトネート、リチウム2,4−ペンタン
ジオネート、ルテニウム2,4−ペンタンジオネート、
マグネシウム2,4−ペンタンジオネート、マンガン
(II)2,4−ペンタンジオネート、マンガン(II
I)2,4−ペンタンジオネート、マンガン(III)
アセチルアセトネート、モリブデン(IV)オキシドビ
ス(2,4−ペンタンジオネート)、ネオジウム(II
I)2,4−ペンタンジオネート、ニッケル(II)
2,4−ペンタンジオネート、ニッケル(II)アセチ
ルアセトネート、パラジウム2,4−ペンタンジオネー
ト、カリウム2,4−ペンタンジオネート、プラセオジ
ム2,4−ペンタンジオネート、ロジウム(III)
2,4−ペンタンジオネート、ルテニウム(III)
2,4−ペンタンジオネート、サマリウム(III)
2,4−ペンタンジオネート、スカンジウム(III)
2,2,6,6−テトラメチル−3,5−ヘプタンジオ
ネート、銀(I)2,4−ペンタンジオネート、ナトリ
ウムヘキサフルオロペンタンジオネート、ストロンチウ
ムヘキサフルオロペンタンジオネート、テルビウム2,
4−ペンタンジオネート、タリウムベンゾイルアセテー
ト、タリウム2,4−ペンタンジオネート、トリウム
2,4−ペンタンジオネート、ツリウム2,4−ペンタ
ンジオネート、ウラン(IV)オキサイド2,4−ペン
タンジオネート、バナジウム(III)オキシドビス
(2,4−ペンタンジオネート)、バナジウム(II
I)2,4−ペンタンジオネート、バナジウム(II
I)アセチルアセトネート、イッテリビウム2,4−ペ
ンタンジオネート、イットリウム2,4−ペンタンジオ
ネート、亜鉛2,4−ペンタンジオネート、亜鉛アセチ
ルアセトネート、ジルコニウム2,4−ペンタンジオネ
ート、ジルコニウムトリフルオロペンタンジオネート、
ジルコニウムアセチルアセトネート等。これらの内で好
ましいのは、コバルト(II)アセチルアセトネート、
コバルト(II)アセテート、銅(II)ベンゾイルア
セトネート、銅(II)エチルアセトアセテート、銅
(II)アセチルアセトネート、鉄(III)アセチル
アセトネート、鉛(II)アセチルアセトネート、マン
ガン(III)アセチルアセトネート、ニッケル(II
I)アセチルアセトネート、バナジウム(III)アセ
チルアセトネート、亜鉛アセチルアセトネート、ジルコ
ニウムアセチルアセトネート等である。
イドエチルアセトアセテート、アルミニウム(III)
ジイソプロポキサイドエチルアセトアセテート、アルミ
ニウム(III)2,4−ペンタンジオネート、バリウ
ム2,4−ペンタンジオネート、ベリリウム2,4−ペ
ンタンジオネート、カドミウム2,4−ペンタンジオネ
ート、カルシウムヘキサフルオロペンタンジオネート、
セリウム(III)2,4−ペンタンジオネート、クロ
ム(III)ベンゾイルアセトネート、クロム(II
I)2,4−ペンタンジオネート、コバルト(II)
2,4−ペンタンジオネート、コバルト(III)2,
4−ペンタンジオネート、コバルト(II)アセチルア
セトネート、コバルト(II)アセテート、コバルト
(II)クロリド、銅(II)ベンゾイルアセトネー
ト、銅(II)エチルアセトアセテート、銅(II)
2,4−ペンタンジオネート、銅(II)2,2,6,
6−トリメチル−3,5−ヘプタンジオネート、銅(I
I)アセチルアセトネート、ジスプロシウム2,4−ペ
ンタンジオネート、エルビウム2,4−ペンタンジオネ
ート、ユーロピウム(III)ペンタンジオネート、ガ
ドリウム(III)2,4−ペンタンジオネート、ガリ
ウム(III)2,4−ペンタンジオネート、金(ジエ
チル)2,4−ペンタンジオネート、ハフニウム2,4
−ペンタンジオネート、ホルミウム2,4−ペンタンジ
オネート、インジウム2,4−ペンタンジオネート、イ
リジウム(III)2,4−ペンタンジオネート、鉄
(III)ベンゾイルアセトネート、鉄(III)2,
4−ペンタンジオネート、鉄(III)トリフルオロペ
ンタンジオネート、鉄(III)アセチルアセトネー
ト、ランタン2,4−ペンタンジオネート、鉛(II)
ヘキサフルオロペンタンジオネート、鉛 (II)2,
4−ペンタンジオネート、鉛(II)2,2,6,6−
テトラメチル−3,5−ヘプタンジオネート、鉛(I
I)アセチルアセトネート、リチウム2,4−ペンタン
ジオネート、ルテニウム2,4−ペンタンジオネート、
マグネシウム2,4−ペンタンジオネート、マンガン
(II)2,4−ペンタンジオネート、マンガン(II
I)2,4−ペンタンジオネート、マンガン(III)
アセチルアセトネート、モリブデン(IV)オキシドビ
ス(2,4−ペンタンジオネート)、ネオジウム(II
I)2,4−ペンタンジオネート、ニッケル(II)
2,4−ペンタンジオネート、ニッケル(II)アセチ
ルアセトネート、パラジウム2,4−ペンタンジオネー
ト、カリウム2,4−ペンタンジオネート、プラセオジ
ム2,4−ペンタンジオネート、ロジウム(III)
2,4−ペンタンジオネート、ルテニウム(III)
2,4−ペンタンジオネート、サマリウム(III)
2,4−ペンタンジオネート、スカンジウム(III)
2,2,6,6−テトラメチル−3,5−ヘプタンジオ
ネート、銀(I)2,4−ペンタンジオネート、ナトリ
ウムヘキサフルオロペンタンジオネート、ストロンチウ
ムヘキサフルオロペンタンジオネート、テルビウム2,
4−ペンタンジオネート、タリウムベンゾイルアセテー
ト、タリウム2,4−ペンタンジオネート、トリウム
2,4−ペンタンジオネート、ツリウム2,4−ペンタ
ンジオネート、ウラン(IV)オキサイド2,4−ペン
タンジオネート、バナジウム(III)オキシドビス
(2,4−ペンタンジオネート)、バナジウム(II
I)2,4−ペンタンジオネート、バナジウム(II
I)アセチルアセトネート、イッテリビウム2,4−ペ
ンタンジオネート、イットリウム2,4−ペンタンジオ
ネート、亜鉛2,4−ペンタンジオネート、亜鉛アセチ
ルアセトネート、ジルコニウム2,4−ペンタンジオネ
ート、ジルコニウムトリフルオロペンタンジオネート、
ジルコニウムアセチルアセトネート等。これらの内で好
ましいのは、コバルト(II)アセチルアセトネート、
コバルト(II)アセテート、銅(II)ベンゾイルア
セトネート、銅(II)エチルアセトアセテート、銅
(II)アセチルアセトネート、鉄(III)アセチル
アセトネート、鉛(II)アセチルアセトネート、マン
ガン(III)アセチルアセトネート、ニッケル(II
I)アセチルアセトネート、バナジウム(III)アセ
チルアセトネート、亜鉛アセチルアセトネート、ジルコ
ニウムアセチルアセトネート等である。
【0043】これら以外でも、反応性基を有するシロキ
サンあるいはシラン化合物、反応性基を有しないシロキ
サンあるいはシラン化合物等を添加してもよい。例えば
反応性基を有しないポリジメチルシロキサン、反応性基
を有しないポリジエチルシロキサン、両末端ビニル基構
造のポリジメチルシロキサン、内部ビニル基構造のポリ
ジメチルシロキサン、あるいはテトラアセトキシシラ
ン、テトラ(メチルエチルケトオキシム)シラン、テト
ラメトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、エチ
ルトリアセトキシシラン、メチルトリス(メチルエチル
ケトオキシム)シラン、エチルトリス(メチルエチルケ
トオキシム)シラン、ビニルトリス(メチルエチルケト
オキシム)シラン、メチルトリメトキシシラン、メチル
トリエトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定さ
れない。
サンあるいはシラン化合物、反応性基を有しないシロキ
サンあるいはシラン化合物等を添加してもよい。例えば
反応性基を有しないポリジメチルシロキサン、反応性基
を有しないポリジエチルシロキサン、両末端ビニル基構
造のポリジメチルシロキサン、内部ビニル基構造のポリ
ジメチルシロキサン、あるいはテトラアセトキシシラ
ン、テトラ(メチルエチルケトオキシム)シラン、テト
ラメトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、エチ
ルトリアセトキシシラン、メチルトリス(メチルエチル
ケトオキシム)シラン、エチルトリス(メチルエチルケ
トオキシム)シラン、ビニルトリス(メチルエチルケト
オキシム)シラン、メチルトリメトキシシラン、メチル
トリエトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定さ
れない。
【0044】また、修正液の塗布性能の向上や硬化促
進、作業性の向上等の点から、公知の触媒や界面活性
剤、充填剤、染料、顔料、pH指示薬、有機酸、無機
酸、硬化抑制剤、各種の熱硬化性組成物、室温硬化性組
成物、光硬化性組成物等を添加剤として適当量添加する
ことは任意である。これらの添加剤は通常修正液の硬化
後のインキ反発性が保てる程度に添加することが好まし
い。
進、作業性の向上等の点から、公知の触媒や界面活性
剤、充填剤、染料、顔料、pH指示薬、有機酸、無機
酸、硬化抑制剤、各種の熱硬化性組成物、室温硬化性組
成物、光硬化性組成物等を添加剤として適当量添加する
ことは任意である。これらの添加剤は通常修正液の硬化
後のインキ反発性が保てる程度に添加することが好まし
い。
【0045】修正液の各成分の配合割合については特に
限定されないが、好ましくは上記水酸基含有有機シロキ
サン100重量部に対して、ハイドロジェンシロキサン
を0.1〜10000重量部、錯体を0.001〜10
0重量部、必要に応じて上記の添加剤を各々0〜100
00重量部加えて構成するのがよい。とりわけ、水酸基
含有有機シロキサン100重量部に対して、ハイドロジ
ェンシロキサンを1〜1000重量部、錯体を0.01
〜20重量部、必要に応じて上記の添加剤を各々0〜1
00重量部加えて構成するのが好ましい。
限定されないが、好ましくは上記水酸基含有有機シロキ
サン100重量部に対して、ハイドロジェンシロキサン
を0.1〜10000重量部、錯体を0.001〜10
0重量部、必要に応じて上記の添加剤を各々0〜100
00重量部加えて構成するのがよい。とりわけ、水酸基
含有有機シロキサン100重量部に対して、ハイドロジ
ェンシロキサンを1〜1000重量部、錯体を0.01
〜20重量部、必要に応じて上記の添加剤を各々0〜1
00重量部加えて構成するのが好ましい。
【0046】このような修正液は原液のままで用いても
よいが、通常適当な有機溶剤で希釈して用いられる。こ
のような有機溶剤としては特に限定されないが、ヘキサ
ン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素溶剤、ベン
ゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶剤、ア
セトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン
等のケトン系溶剤、テトラヒドロフラン、ジオキサン等
のエーテル系溶剤、N,N−ジメチルホルムアミド等の
極性溶剤といったものが挙げられる。これらの内では塗
布後の硬化をスムーズにするという点から比較的低沸点
の溶剤、あるいは空気中で速やかに蒸発する溶剤が好ま
しい。
よいが、通常適当な有機溶剤で希釈して用いられる。こ
のような有機溶剤としては特に限定されないが、ヘキサ
ン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素溶剤、ベン
ゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶剤、ア
セトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン
等のケトン系溶剤、テトラヒドロフラン、ジオキサン等
のエーテル系溶剤、N,N−ジメチルホルムアミド等の
極性溶剤といったものが挙げられる。これらの内では塗
布後の硬化をスムーズにするという点から比較的低沸点
の溶剤、あるいは空気中で速やかに蒸発する溶剤が好ま
しい。
【0047】(2)下記に示す(a)〜(c)成分から
主としてなるシリコーン組成物。
主としてなるシリコーン組成物。
【0048】(a)ビニル基含有有機シロキサン。
【0049】(b)ハイドロジェンシロキサン。
【0050】(c)アルミニウム、バリウム、ベリリウ
ム、カドミウム、カルシウム、セリウム、クロム、コバ
ルト、銅、ジスプロシウム、エルビウム、ヨーロピウ
ム、ガドリウム、金、ハフニウム、ホルミウム、インジ
ウム、イリジウム、鉄、ランタン、鉛、リチウム、ルテ
チウム、マグネシウム、マンガン、モリブデン、ネオジ
ウム、ニッケル、パラジウム、カリウム、プラセオジ
ム、ロジウム、ルテニウム、サマリウム、スカンジウ
ム、銀、ナトリウム、ストロンチウム、テルビウム、タ
リウム、トリウム、ツリウム、ウラン、バナジウム、イ
ッテリビウム、イットリウム、亜鉛、ジルコニウムの群
より選ばれる少なくとも一種の元素を含んだ錯体。
ム、カドミウム、カルシウム、セリウム、クロム、コバ
ルト、銅、ジスプロシウム、エルビウム、ヨーロピウ
ム、ガドリウム、金、ハフニウム、ホルミウム、インジ
ウム、イリジウム、鉄、ランタン、鉛、リチウム、ルテ
チウム、マグネシウム、マンガン、モリブデン、ネオジ
ウム、ニッケル、パラジウム、カリウム、プラセオジ
ム、ロジウム、ルテニウム、サマリウム、スカンジウ
ム、銀、ナトリウム、ストロンチウム、テルビウム、タ
リウム、トリウム、ツリウム、ウラン、バナジウム、イ
ッテリビウム、イットリウム、亜鉛、ジルコニウムの群
より選ばれる少なくとも一種の元素を含んだ錯体。
【0051】ビニル基含有有機シロキサンとしては、例
えば分子量200〜数百万の両末端ビニル基構造の線状
有機ポリシロキサンが挙げられるが、末端ではなく内部
にビニル基を有するものでもよく、末端と内部の両方に
ビニル基を有するものでもよい。とりわけ、インキ反発
性を十分に引き出すためには、有機基の40%以下が水
酸基、フェニル、ハロゲン化ビニル、ハロゲン化フェニ
ルであり、有機基の60%以上がメチル基あるいはエチ
ル基であることが好ましい。また、分子量としては、数
千〜数十万のものが好ましい。分子量が小さすぎると塗
布、乾燥の際に揮発により損失する可能性があり、分子
量が大きすぎると粘度が高くなり作業性が劣るので上記
の範囲が好ましい。具体例としては、両末端ビニル基含
有のジメチルポリシロキサン、両末端ビニル基含有のメ
チルエチルポリシロキサン、両末端ビニル基含有のメチ
ルフェニルポリシロキサン等が挙げられるが、これらに
限定されない。
えば分子量200〜数百万の両末端ビニル基構造の線状
有機ポリシロキサンが挙げられるが、末端ではなく内部
にビニル基を有するものでもよく、末端と内部の両方に
ビニル基を有するものでもよい。とりわけ、インキ反発
性を十分に引き出すためには、有機基の40%以下が水
酸基、フェニル、ハロゲン化ビニル、ハロゲン化フェニ
ルであり、有機基の60%以上がメチル基あるいはエチ
ル基であることが好ましい。また、分子量としては、数
千〜数十万のものが好ましい。分子量が小さすぎると塗
布、乾燥の際に揮発により損失する可能性があり、分子
量が大きすぎると粘度が高くなり作業性が劣るので上記
の範囲が好ましい。具体例としては、両末端ビニル基含
有のジメチルポリシロキサン、両末端ビニル基含有のメ
チルエチルポリシロキサン、両末端ビニル基含有のメチ
ルフェニルポリシロキサン等が挙げられるが、これらに
限定されない。
【0052】ハイドロジェンシロキサンとしては、
(1)と同様のものが挙げられる。また、錯体も(1)
と同様のものが挙げられる。
(1)と同様のものが挙げられる。また、錯体も(1)
と同様のものが挙げられる。
【0053】これら以外でも、反応性基を有するシロキ
サンあるいはシラン化合物、反応性基を有しないシロキ
サンあるいはシラン化合物等を添加してもよい。例えば
反応性基を有しないポリジメチルシロキサン、反応性基
を有しないポリジエチルシロキサン、両末端水酸基構造
のポリジメチルシロキサン、内部水酸基構造のポリジメ
チルシロキサン、あるいはテトラアセトキシシラン、テ
トラ(メチルエチルケトオキシム)シラン、テトラメト
キシシラン、メチルトリアセトキシシラン、エチルトリ
アセトキシシラン、メチルトリス(メチルエチルケトオ
キシム)シラン、エチルトリス(メチルエチルケトオキ
シム)シラン、ビニルトリス(メチルエチルケトオキシ
ム)シラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエ
トキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されな
い。
サンあるいはシラン化合物、反応性基を有しないシロキ
サンあるいはシラン化合物等を添加してもよい。例えば
反応性基を有しないポリジメチルシロキサン、反応性基
を有しないポリジエチルシロキサン、両末端水酸基構造
のポリジメチルシロキサン、内部水酸基構造のポリジメ
チルシロキサン、あるいはテトラアセトキシシラン、テ
トラ(メチルエチルケトオキシム)シラン、テトラメト
キシシラン、メチルトリアセトキシシラン、エチルトリ
アセトキシシラン、メチルトリス(メチルエチルケトオ
キシム)シラン、エチルトリス(メチルエチルケトオキ
シム)シラン、ビニルトリス(メチルエチルケトオキシ
ム)シラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエ
トキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されな
い。
【0054】また、修正液の塗布性能の向上や硬化促
進、作業性の向上等の点から、公知の触媒や界面活性
剤、充填剤、染料、顔料、pH指示薬、有機酸、無機
酸、硬化抑制剤、各種の熱硬化性組成物、室温硬化性組
成物、光硬化性組成物等を添加剤として適当量添加する
ことは任意である。これらの添加剤は通常修正液の硬化
後のインキ反発性が保てる程度に添加することが好まし
い。
進、作業性の向上等の点から、公知の触媒や界面活性
剤、充填剤、染料、顔料、pH指示薬、有機酸、無機
酸、硬化抑制剤、各種の熱硬化性組成物、室温硬化性組
成物、光硬化性組成物等を添加剤として適当量添加する
ことは任意である。これらの添加剤は通常修正液の硬化
後のインキ反発性が保てる程度に添加することが好まし
い。
【0055】修正液の各成分の配合割合については特に
限定されないが、好ましくは上記ビニル基含有有機シロ
キサン100重量部に対して、ハイドロジェンシロキサ
ンを0.1〜10000重量部、錯体を0.001〜1
00重量部、必要に応じて上記の添加剤を各々0〜10
000重量部加えて構成するのがよい。とりわけ、ビニ
ル基含有有機シロキサン100重量部に対して、ハイド
ロジェンシロキサンを1〜1000重量部、錯体を0.
01〜20重量部、必要に応じて上記の添加剤を各々0
〜100重量部加えて構成するのが好ましい。
限定されないが、好ましくは上記ビニル基含有有機シロ
キサン100重量部に対して、ハイドロジェンシロキサ
ンを0.1〜10000重量部、錯体を0.001〜1
00重量部、必要に応じて上記の添加剤を各々0〜10
000重量部加えて構成するのがよい。とりわけ、ビニ
ル基含有有機シロキサン100重量部に対して、ハイド
ロジェンシロキサンを1〜1000重量部、錯体を0.
01〜20重量部、必要に応じて上記の添加剤を各々0
〜100重量部加えて構成するのが好ましい。
【0056】このような修正液は原液のままで用いても
よいが、通常適当な有機溶剤で希釈して用いられる。有
機溶剤としては(1)と同様のものが挙げられる。
よいが、通常適当な有機溶剤で希釈して用いられる。有
機溶剤としては(1)と同様のものが挙げられる。
【0057】(3)下記に示す(a)〜(c)成分から
主としてなるシリコーン組成物。
主としてなるシリコーン組成物。
【0058】(a)水酸基含有有機シロキサン。
【0059】(b)下記一般式(I)で示される化合
物。
物。
【0060】 R1n SiX4-n (I) (式中、nは0〜3の整数であり、R1はアルキル基、
アルケニル基、アリール基またはこれらの組み合わされ
た一価の基を表し、それらはハロゲン原子、アミノ基、
ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アク
リロキシ基、メタクリロキシ基、メルカプト基等の官能
基を有していてもよい。Xは水酸基、アルコキシ基、ア
セチル基、ケトオキシム基、ハロゲン原子の群より選ば
れる少なくとも一種である。) (c)アルミニウム、バリウム、ベリリウム、カドミウ
ム、カルシウム、セリウム、クロム、コバルト、銅、ジ
スプロシウム、エルビウム、ヨーロピウム、ガドリウ
ム、金、ハフニウム、ホルミウム、インジウム、イリジ
ウム、鉄、ランタン、鉛、リチウム、ルテチウム、マグ
ネシウム、マンガン、モリブデン、ネオジウム、ニッケ
ル、パラジウム、カリウム、プラセオジム、ロジウム、
ルテニウム、サマリウム、スカンジウム、銀、ナトリウ
ム、ストロンチウム、テルビウム、タリウム、トリウ
ム、ツリウム、ウラン、バナジウム、イッテリビウム、
イットリウム、亜鉛、ジルコニウムの群より選ばれる少
なくとも一種の元素を含んだ錯体。
アルケニル基、アリール基またはこれらの組み合わされ
た一価の基を表し、それらはハロゲン原子、アミノ基、
ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アク
リロキシ基、メタクリロキシ基、メルカプト基等の官能
基を有していてもよい。Xは水酸基、アルコキシ基、ア
セチル基、ケトオキシム基、ハロゲン原子の群より選ば
れる少なくとも一種である。) (c)アルミニウム、バリウム、ベリリウム、カドミウ
ム、カルシウム、セリウム、クロム、コバルト、銅、ジ
スプロシウム、エルビウム、ヨーロピウム、ガドリウ
ム、金、ハフニウム、ホルミウム、インジウム、イリジ
ウム、鉄、ランタン、鉛、リチウム、ルテチウム、マグ
ネシウム、マンガン、モリブデン、ネオジウム、ニッケ
ル、パラジウム、カリウム、プラセオジム、ロジウム、
ルテニウム、サマリウム、スカンジウム、銀、ナトリウ
ム、ストロンチウム、テルビウム、タリウム、トリウ
ム、ツリウム、ウラン、バナジウム、イッテリビウム、
イットリウム、亜鉛、ジルコニウムの群より選ばれる少
なくとも一種の元素を含んだ錯体。
【0061】水酸基含有有機シロキサンとしては、
(1)と同様のものが挙げられる。一般式(I)で示さ
れる化合物の具体例としては、テトラアセトキシシラ
ン、テトラ(メチルエチルケトオキシム)シラン、テト
ラメトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、エチ
ルトリアセトキシシラン、メチルトリス(メチルエチル
ケトオキシム)シラン、エチルトリス(メチルエチルケ
トオキシム)シラン、ビニルトリス(メチルエチルケト
オキシム)シラン、メチルトリメトキシシラン、メチル
トリエトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、
3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプ
トプロピルトリメトキシシラン、メチルトリクロロシラ
ン、エチルトリクロロシラン等が挙げられるが、これら
に限定されない。
(1)と同様のものが挙げられる。一般式(I)で示さ
れる化合物の具体例としては、テトラアセトキシシラ
ン、テトラ(メチルエチルケトオキシム)シラン、テト
ラメトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、エチ
ルトリアセトキシシラン、メチルトリス(メチルエチル
ケトオキシム)シラン、エチルトリス(メチルエチルケ
トオキシム)シラン、ビニルトリス(メチルエチルケト
オキシム)シラン、メチルトリメトキシシラン、メチル
トリエトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、
3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプ
トプロピルトリメトキシシラン、メチルトリクロロシラ
ン、エチルトリクロロシラン等が挙げられるが、これら
に限定されない。
【0062】また、錯体は(1)と同様のものが挙げら
れる。
れる。
【0063】これら以外でも、反応性基を有するシロキ
サンあるいはシラン化合物、反応性基を有しないシロキ
サンあるいはシラン化合物等を添加してもよい。例えば
反応性基を有しないポリジメチルシロキサン、反応性基
を有しないポリジエチルシロキサン、両末端ビニル基構
造のポリジメチルシロキサン、内部ビニル基構造のポリ
ジメチルシロキサン、あるいは(1)で示したようなハ
イドロジェンシロキサン等が挙げられるが、これらに限
定されない。
サンあるいはシラン化合物、反応性基を有しないシロキ
サンあるいはシラン化合物等を添加してもよい。例えば
反応性基を有しないポリジメチルシロキサン、反応性基
を有しないポリジエチルシロキサン、両末端ビニル基構
造のポリジメチルシロキサン、内部ビニル基構造のポリ
ジメチルシロキサン、あるいは(1)で示したようなハ
イドロジェンシロキサン等が挙げられるが、これらに限
定されない。
【0064】また、修正液の塗布性能の向上や硬化促
進、作業性の向上等の点から、公知の触媒や界面活性
剤、充填剤、染料、顔料、pH指示薬、有機酸、無機
酸、硬化抑制剤、各種の熱硬化性組成物、室温硬化性組
成物、光硬化性組成物等を添加剤として適当量添加する
ことは任意である。これらの添加剤は通常修正液の硬化
後のインキ反発性が保てる程度に添加することが好まし
い。
進、作業性の向上等の点から、公知の触媒や界面活性
剤、充填剤、染料、顔料、pH指示薬、有機酸、無機
酸、硬化抑制剤、各種の熱硬化性組成物、室温硬化性組
成物、光硬化性組成物等を添加剤として適当量添加する
ことは任意である。これらの添加剤は通常修正液の硬化
後のインキ反発性が保てる程度に添加することが好まし
い。
【0065】修正液の各成分の配合割合については特に
限定されないが、好ましくは上記水酸基含有有機シロキ
サン100重量部に対して、一般式(I)で示される化
合物を0.1〜10000重量部、錯体を0.001〜
100重量部、必要に応じて上記の添加剤を各々0〜1
0000重量部加えて構成するのがよい。とりわけ、水
酸基含有有機シロキサン100重量部に対して、一般式
(I)で示される化合物を1〜1000重量部、錯体を
0.01〜20重量部、必要に応じて上記の添加剤を各
々0〜100重量部加えて構成するのが好ましい。
限定されないが、好ましくは上記水酸基含有有機シロキ
サン100重量部に対して、一般式(I)で示される化
合物を0.1〜10000重量部、錯体を0.001〜
100重量部、必要に応じて上記の添加剤を各々0〜1
0000重量部加えて構成するのがよい。とりわけ、水
酸基含有有機シロキサン100重量部に対して、一般式
(I)で示される化合物を1〜1000重量部、錯体を
0.01〜20重量部、必要に応じて上記の添加剤を各
々0〜100重量部加えて構成するのが好ましい。
【0066】このような修正液は原液のままで用いても
よいが、通常適当な有機溶剤で希釈して用いられる。有
機溶剤としては(1)と同様のものが挙げられる。
よいが、通常適当な有機溶剤で希釈して用いられる。有
機溶剤としては(1)と同様のものが挙げられる。
【0067】上記の(1)〜(3)で示した修正液は、
(1)についてはあらかじめ混合して用いてもよいが、
修正液として使用するまで長期に保存しなけらばならな
い場合には、適当に2種類の修正液作製用液、場合によ
っては3種類の修正液作製用液に分けておき、修正を行
う際に任意の順番に塗布、あるいは修正を行う直前に混
合して用いることが可能である。液の分け方については
特に限定はなく、上記(1)〜(3)の修正液の成分
(a)、(b)、(c)について以下のように分けられ
る。
(1)についてはあらかじめ混合して用いてもよいが、
修正液として使用するまで長期に保存しなけらばならな
い場合には、適当に2種類の修正液作製用液、場合によ
っては3種類の修正液作製用液に分けておき、修正を行
う際に任意の順番に塗布、あるいは修正を行う直前に混
合して用いることが可能である。液の分け方については
特に限定はなく、上記(1)〜(3)の修正液の成分
(a)、(b)、(c)について以下のように分けられ
る。
【0068】(A液)成分(a)と成分(b)から主
としてなる液。
としてなる液。
【0069】(B液)成分(c)から主としてなる液。
【0070】(A液)成分(a)と成分(c)から主
としてなる液。
としてなる液。
【0071】(B液)成分(b)から主としてなる液。
【0072】(A液)成分(b)と成分(c)から主
としてなる液。
としてなる液。
【0073】(B液)成分(a)から主としてなる液。
【0074】(A液)成分(a)から主としてなる
液。
液。
【0075】(B液)成分(b)から主としてなる液。
【0076】(C液)成分(c)から主としてなる液。
【0077】このように液を2、3種類に分けた場合、
(A液)〜(C液)に上述の添加剤を適当量ずつ加える
ことは任意である。
(A液)〜(C液)に上述の添加剤を適当量ずつ加える
ことは任意である。
【0078】次に、このような修正液を用いた水なし平
版印刷版の修正方法の詳細について説明する。
版印刷版の修正方法の詳細について説明する。
【0079】好ましい態様として、以下の2つが挙げら
れる。
れる。
【0080】 インキ反発層の欠点部分を含む版面上
に網点構造の穴を開けたシートを貼り付け、このシート
の上からインキ反発性溶液である修正液を塗布、硬化せ
しめた後、このシートを除去することで網点構造のイン
キ反発部分を形成する。
に網点構造の穴を開けたシートを貼り付け、このシート
の上からインキ反発性溶液である修正液を塗布、硬化せ
しめた後、このシートを除去することで網点構造のイン
キ反発部分を形成する。
【0081】 インキ反発層の欠点部分を含む版面上
に網点構造の穴を開けたインキ受容性のシートを貼り付
け、このシートの上からインキ反発性溶液である修正液
を塗布、硬化せしめることで網点構造のインキ反発部分
を形成する。
に網点構造の穴を開けたインキ受容性のシートを貼り付
け、このシートの上からインキ反発性溶液である修正液
を塗布、硬化せしめることで網点構造のインキ反発部分
を形成する。
【0082】つまり、本発明における網点構造の穴を開
けたシートとしては、大きく分けて以下の2種類に分類
される。
けたシートとしては、大きく分けて以下の2種類に分類
される。
【0083】インキ反発層の欠点部分を含む版面上に
貼り付け、インキ反発性溶液を塗布、硬化させた後に除
去するシート。
貼り付け、インキ反発性溶液を塗布、硬化させた後に除
去するシート。
【0084】インキ反発層の欠点部分を含む版面上に
貼り付けるインキ受容性のシート。
貼り付けるインキ受容性のシート。
【0085】化させた後に除去するシート。
【0086】厳密に言うと、はに含まれるが、は
かなり特殊なものなので、2種類に分類した方が好まし
い。
かなり特殊なものなので、2種類に分類した方が好まし
い。
【0087】以下、順番にこれらのシートについて説明
していく。
していく。
【0088】のシートの材質としては、インキ反発性
溶液を塗布、硬化させた後に除去するものであるので、
それ自身あるいは粘着剤を通してインキ受容層に接着で
きるものでありかつ網点構造の穴を開けることが可能な
ものであれば特に限定されない。具体的には紙、ポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリエチレン
テレフタレートやポリブチレンテレフタレート、ポリエ
チレンナフタレートのようなポリエステル、セロファン
などの各種プラスチックでシートになるもの、クロロプ
レンゴム、NBR、シリコーンゴムのようなゴム弾性を
有するもの、テフロンのようなインキ反発性を有するも
の、アルミニウム、銅、亜鉛、鋼などの金属板などが挙
げられるが、こらら以外のものでもよく、それぞれ単独
で用いても二種以上を組み合わせて用いてもよい。特
に、ポリエステルやポリプロピレン、シリコーンゴム、
テフロンなどは薄膜で強固であるので好ましい。また、
粘着剤としては、通常用いられている各種の粘着剤やポ
リマを用いることができ、特に限定はされないが、イン
キ受容層の上に貼り付け、作業終了後に除去するという
点を考慮し、インキ反発性を有しない材質のもの、ある
いはシート除去の際に版面に残らない材質のものが好ま
しい。
溶液を塗布、硬化させた後に除去するものであるので、
それ自身あるいは粘着剤を通してインキ受容層に接着で
きるものでありかつ網点構造の穴を開けることが可能な
ものであれば特に限定されない。具体的には紙、ポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリエチレン
テレフタレートやポリブチレンテレフタレート、ポリエ
チレンナフタレートのようなポリエステル、セロファン
などの各種プラスチックでシートになるもの、クロロプ
レンゴム、NBR、シリコーンゴムのようなゴム弾性を
有するもの、テフロンのようなインキ反発性を有するも
の、アルミニウム、銅、亜鉛、鋼などの金属板などが挙
げられるが、こらら以外のものでもよく、それぞれ単独
で用いても二種以上を組み合わせて用いてもよい。特
に、ポリエステルやポリプロピレン、シリコーンゴム、
テフロンなどは薄膜で強固であるので好ましい。また、
粘着剤としては、通常用いられている各種の粘着剤やポ
リマを用いることができ、特に限定はされないが、イン
キ受容層の上に貼り付け、作業終了後に除去するという
点を考慮し、インキ反発性を有しない材質のもの、ある
いはシート除去の際に版面に残らない材質のものが好ま
しい。
【0089】のシートの材質としては、インキ受容性
でありかつ網点構造の穴を開けることが可能なものであ
れば特に限定されない。具体的には紙、ポリエチレン、
ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレートやポリブ
チレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートのよ
うなポリエステル、セロファンなどの各種プラスチック
でシートになるもの、クロロプレンゴムやNBRのよう
なゴム弾性を有するもの、アルミニウム、銅、亜鉛、鋼
などの金属板などが挙げられるが、こらら以外のもので
もよく、それぞれ単独で用いても二種以上を組み合わせ
て用いてもよい。特に、ポリエステルやポリプロピレン
などは薄膜で強固であるので好ましい。また粘着剤とし
てはと同様のものが挙げられるが、この場合はシート
を除去しないので、インキ反発性を有する材質のもので
も問題なく、また一度貼り付けると剥がすことができな
い通常の接着剤を用いてもよい。のシートを用いる場
合、シートは剥がさないので、粘着剤は印刷時に印刷面
に加わる強力なシェアに打ち勝って印刷版に強固に粘着
しなければならない。そのため、粘着力が下記の測定方
法において50g/cm以上であることが好ましく、よ
り好ましくは100g/cm以上である。
でありかつ網点構造の穴を開けることが可能なものであ
れば特に限定されない。具体的には紙、ポリエチレン、
ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレートやポリブ
チレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートのよ
うなポリエステル、セロファンなどの各種プラスチック
でシートになるもの、クロロプレンゴムやNBRのよう
なゴム弾性を有するもの、アルミニウム、銅、亜鉛、鋼
などの金属板などが挙げられるが、こらら以外のもので
もよく、それぞれ単独で用いても二種以上を組み合わせ
て用いてもよい。特に、ポリエステルやポリプロピレン
などは薄膜で強固であるので好ましい。また粘着剤とし
てはと同様のものが挙げられるが、この場合はシート
を除去しないので、インキ反発性を有する材質のもので
も問題なく、また一度貼り付けると剥がすことができな
い通常の接着剤を用いてもよい。のシートを用いる場
合、シートは剥がさないので、粘着剤は印刷時に印刷面
に加わる強力なシェアに打ち勝って印刷版に強固に粘着
しなければならない。そのため、粘着力が下記の測定方
法において50g/cm以上であることが好ましく、よ
り好ましくは100g/cm以上である。
【0090】粘着力の測定方法としては、下記の方法を
用いる。
用いる。
【0091】すなわち、23℃、63%RHの環境化
で、テンシロン(東洋ボールドウィン(株)製)に16
0℃の剥離角度になるように試料(版面に該シートをあ
らかじめ貼り付けておく)を取りつけた後、20mm/
分の剥離速度で該シートを版面から剥離する。その剥離
抵抗値をロードセル(最大1kg)にて計測し、レコー
ダーに記録する。記録された値(重量)を該シートの幅
(長さ)で規格化し、これを上記した粘着力と定義す
る。一般にはg/cmの単位が用いられる。
で、テンシロン(東洋ボールドウィン(株)製)に16
0℃の剥離角度になるように試料(版面に該シートをあ
らかじめ貼り付けておく)を取りつけた後、20mm/
分の剥離速度で該シートを版面から剥離する。その剥離
抵抗値をロードセル(最大1kg)にて計測し、レコー
ダーに記録する。記録された値(重量)を該シートの幅
(長さ)で規格化し、これを上記した粘着力と定義す
る。一般にはg/cmの単位が用いられる。
【0092】次に、本発明に用いられる網点構造の穴の
開いたシートの、網点構造の穴を開ける方法について説
明する。
開いたシートの、網点構造の穴を開ける方法について説
明する。
【0093】本来、絵柄内の網点は、印刷物の元になる
写真をスキャナーにより色分解する際に同時に網点分解
されて形成されている。従って、このスキャナーが色分
解した際の情報を使い、この情報通りにシートに穴を開
けていく方法が好ましいが、厳密に同じ構造の網点を開
ける必要がない場合には簡易的に穴を開けてもよい。穴
を開ける手段としては、レーザー光や紫外光、赤外光な
どの光、熱、電気、電子線、あるいは微小径を有する針
などを用いる機械的手段などが用いられるが、これらに
限定されず、スキャナーによって得られた網点形状に関
する情報を利用して、網点形状を忠実に再現できるよう
な方法であれば何でもよい。例えば、レーザー光を用い
る場合、スキャナーから得られた情報に基づいてレーザ
ー光を網点の大きさまで絞り込んでシートに穴を開ける
方法が挙げられる。
写真をスキャナーにより色分解する際に同時に網点分解
されて形成されている。従って、このスキャナーが色分
解した際の情報を使い、この情報通りにシートに穴を開
けていく方法が好ましいが、厳密に同じ構造の網点を開
ける必要がない場合には簡易的に穴を開けてもよい。穴
を開ける手段としては、レーザー光や紫外光、赤外光な
どの光、熱、電気、電子線、あるいは微小径を有する針
などを用いる機械的手段などが用いられるが、これらに
限定されず、スキャナーによって得られた網点形状に関
する情報を利用して、網点形状を忠実に再現できるよう
な方法であれば何でもよい。例えば、レーザー光を用い
る場合、スキャナーから得られた情報に基づいてレーザ
ー光を網点の大きさまで絞り込んでシートに穴を開ける
方法が挙げられる。
【0094】
【実施例】以下に実施例により本発明を更に詳しく説明
するが、本発明はこれらに限定されない。
するが、本発明はこれらに限定されない。
【0095】実施例1 厚さ0.30mmのアルミ板(住友軽金属(株)製)を
3%水酸化ナトリウム水溶液に浸して脱脂し、水洗、乾
燥して支持体を得た。
3%水酸化ナトリウム水溶液に浸して脱脂し、水洗、乾
燥して支持体を得た。
【0096】こうして得られた支持体の上に、下記のプ
ライマ組成物を塗布し、200℃、2分間熱処理して5
μmのプライマ層を設けた。
ライマ組成物を塗布し、200℃、2分間熱処理して5
μmのプライマ層を設けた。
【0097】 (a)ポリウレタン樹脂“ミラクトン”P22S 75重量部 (日本ポリウレタン(株)製) (b)ブッロクイソシアネ−ト“タケテ−ト”B830 15重量部 (武田薬品工業(株)製) (c)エポキシ・フェノ−ル・尿素樹脂“SJ9372” 10重量部 (関西ペイント(株)製) (d)酸化チタン 10重量部 (e)ジメチルホルムアミド 790重量部 次いで、上記プライマ層上に下記の組成物よりなる感光
液を塗布し、115℃、1分間熱乾燥して2μmの感光
層を設けた。
液を塗布し、115℃、1分間熱乾燥して2μmの感光
層を設けた。
【0098】 (a)ポリウレタン樹脂“ミラクトン”P22S 40重量部 (日本ポリウレタン(株)製) (b)メタキシリレンジアミン1モルにグリシジルメタクリレ 37重量部 ート4モルを付加した化合物 (c)1,9−ノナンジオ−ルの両末端の水酸基にアクリル酸 14重量部 を反応させたもの (d)4,4´−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン 8重量部 (e)ビクトリアピュアブル−BOHベンゼンスルホン酸塩 1重量部 (f)プロピレングリコ−ルモノメチルエ−テル 900重量部 次いで、上記感光層上に下記の組成物よりなるシリコ−
ンゴム組成物を乾燥窒素気流下で塗布し、115℃、3
分間加熱硬化して2μmのシリコ−ンゴム層を設けた。
ンゴム組成物を乾燥窒素気流下で塗布し、115℃、3
分間加熱硬化して2μmのシリコ−ンゴム層を設けた。
【0099】 (a)両末端水酸基を有するポリジメチルシロキサン 90重量部 (分子量40000) (b)エチルトリアセトキシシラン 9.9重量部 (c)ジブチル錫ジラウレ−ト 0.1重量部 (d)“アイソパ−”E(エクソン化学(株)製) 900重量部 上記のようにして得られた積層板に、厚さ12μmの片
面マット化ポリエステルフィルム“ルミラ−”(東レ
(株)製)をマット化されていない面がシリコ−ンゴム
層と接するようにしてカレンダロ−ラを用いてラミネ−
トして保護層とし、ポジ型水なし平版印刷版原版を得
た。
面マット化ポリエステルフィルム“ルミラ−”(東レ
(株)製)をマット化されていない面がシリコ−ンゴム
層と接するようにしてカレンダロ−ラを用いてラミネ−
トして保護層とし、ポジ型水なし平版印刷版原版を得
た。
【0100】画像評価は200線/インチ1〜99%の
網点を有するポジフィルムと光学濃度差0.15である
グレ−スケ−ル(G/S)を張込み用のポリエステルフ
ィルム上に張込み、ヌア−ク社製 FT261V UN
DS ULTRA−PLUSFIIPTOP PLAT
EMAKER真空露光機を用いて、30秒間真空密着し
たのち、30カウント露光し、ラミネ−トフィルム剥離
した。
網点を有するポジフィルムと光学濃度差0.15である
グレ−スケ−ル(G/S)を張込み用のポリエステルフ
ィルム上に張込み、ヌア−ク社製 FT261V UN
DS ULTRA−PLUSFIIPTOP PLAT
EMAKER真空露光機を用いて、30秒間真空密着し
たのち、30カウント露光し、ラミネ−トフィルム剥離
した。
【0101】その後、自動現像装置TWL1160(東
レ(株)製)を用い、液温度40℃の前処理液PP−F
(東レ(株)製)を用い、現像液には純水を用い、染色
液には以下の組成を有する液を用いて現像を行い、水な
し平版印刷版を得た。
レ(株)製)を用い、液温度40℃の前処理液PP−F
(東レ(株)製)を用い、現像液には純水を用い、染色
液には以下の組成を有する液を用いて現像を行い、水な
し平版印刷版を得た。
【0102】 (a)エチルカルビト−ル 18重量部 (b)水 79.9重量部 (c)クリスタルバイオレット 0.1重量部 (d)2−エチルヘキサン酸 2重量部 このようにして得た水なし平版印刷版とは別に、上記と
同じ水なし平版印刷版および上記とポジフィルムを用
い、絵柄のインキ反発層の一部が露光されない様に光を
遮断して上記と同様の露光、現像処理をして、絵柄内の
インキ反発層の一部に欠点を持つ水なし平版印刷版を得
た。
同じ水なし平版印刷版および上記とポジフィルムを用
い、絵柄のインキ反発層の一部が露光されない様に光を
遮断して上記と同様の露光、現像処理をして、絵柄内の
インキ反発層の一部に欠点を持つ水なし平版印刷版を得
た。
【0103】このようにして得たインキ反発層の一部に
欠点を有する水なし平版印刷版を、以下のものを用いて
絵柄修正した。
欠点を有する水なし平版印刷版を、以下のものを用いて
絵柄修正した。
【0104】針によりポジフィルムと同じ形状の網点
の穴を開けたシリコーンゴムシート 以下の組成を有するシリコーンガム溶液(修正液) (a)両末端ビニル基を有するポリジメチルシロキサン 88重量部 (分子量30000) (b)(CH 3 ) 3 SiO(Si(CH 3 ) 2 O)30-(SiH(CH3 )O) 10Si(CH 3 ) 3 10重量部 (c)両末端メチル基を有するポリジメチルシロキサン 10重量部 (分子量30000) (d)鉄(III)アセチルアセトナート 2重量部 (e)アセチルアセトン 10重量部 (f)メチルイソブチルケトン 130重量部 まず、のシリコーンゴムシートを”プリット”(コク
ヨ(株)製:口紅タイプのり)を用いて欠点部分に貼り
付け、その上からのシリコーンガム液を塗布し、室温
で10分間乾燥させた。その後、のシートを剥がした
所、欠点の部分が修正され、欠点のない水なし平版印刷
版と同じ絵柄を形成することができた。
の穴を開けたシリコーンゴムシート 以下の組成を有するシリコーンガム溶液(修正液) (a)両末端ビニル基を有するポリジメチルシロキサン 88重量部 (分子量30000) (b)(CH 3 ) 3 SiO(Si(CH 3 ) 2 O)30-(SiH(CH3 )O) 10Si(CH 3 ) 3 10重量部 (c)両末端メチル基を有するポリジメチルシロキサン 10重量部 (分子量30000) (d)鉄(III)アセチルアセトナート 2重量部 (e)アセチルアセトン 10重量部 (f)メチルイソブチルケトン 130重量部 まず、のシリコーンゴムシートを”プリット”(コク
ヨ(株)製:口紅タイプのり)を用いて欠点部分に貼り
付け、その上からのシリコーンガム液を塗布し、室温
で10分間乾燥させた。その後、のシートを剥がした
所、欠点の部分が修正され、欠点のない水なし平版印刷
版と同じ絵柄を形成することができた。
【0105】このようにして得た2種類の水なし平版印
刷版を用い、オフセット印刷機(小森スプリント4色
機)に取り付け、大日本インキ化学工業(株)製”ドラ
イオカラー”墨インキを用い、上質紙に印刷を行った
所、欠点を修正した印刷版を用いて印刷した印刷物と無
修正の完全な印刷版を用いて印刷した印刷物とに差は見
られなかった。
刷版を用い、オフセット印刷機(小森スプリント4色
機)に取り付け、大日本インキ化学工業(株)製”ドラ
イオカラー”墨インキを用い、上質紙に印刷を行った
所、欠点を修正した印刷版を用いて印刷した印刷物と無
修正の完全な印刷版を用いて印刷した印刷物とに差は見
られなかった。
【0106】実施例2 実施例1と同様にして得たインキ反発層の一部に欠点を
含む印刷版を、以下のものを用いて絵柄修正した。
含む印刷版を、以下のものを用いて絵柄修正した。
【0107】レーザー光によりポジフィルムと同じ形
状の網点の穴を開けたポリプロピレンフィルムシート”
トレファン”(東レ(株)製) 以下の組成を有するシリコーンガム溶液(修正液) (A液) (a)両末端ビニル基を有するポリジメチルシロキサン 90重量部 (分子量25000) (b)メチルエチルケトン 110重量部 (B液) (a)(CH 3 ) 3 SiO(Si(CH 3 ) 2 O)20-(SiH(CH3 )O) 15Si(CH 3 ) 3 8重量部 (b)両末端水酸基を有するポリジメチルシロキサン 10重量部 (分子量50000) (c)ニッケル(II)2,4−ペンタンジオネート 2重量部 (d)アセチルアセトン 10重量部 (e)メチルエチルケトン 70重量部 まず、のポリプロピレンフィルムシートを”SH−4
280”(東レダウコーニングシリコーン(株)製:シ
リコーン系粘着剤)を用いて欠点部分に貼り付け、その
上からのシリコーンガム液(A液)と(B液)を重量
比1:1の割合でこの順に塗布し、室温で15分間乾燥
させた。その後、”キムワイプ”(十條キンバリー
(株)製ワイパー)を用いてのシート上の余分な液
を拭き取った所、不必要な液はきれいに除去され、ポ
ジフィルムと同じ形状の網点の穴の部分にのみシリコー
ンゴムが形成され、欠点のない水なし平版印刷版と同じ
絵柄を形成することができた。
状の網点の穴を開けたポリプロピレンフィルムシート”
トレファン”(東レ(株)製) 以下の組成を有するシリコーンガム溶液(修正液) (A液) (a)両末端ビニル基を有するポリジメチルシロキサン 90重量部 (分子量25000) (b)メチルエチルケトン 110重量部 (B液) (a)(CH 3 ) 3 SiO(Si(CH 3 ) 2 O)20-(SiH(CH3 )O) 15Si(CH 3 ) 3 8重量部 (b)両末端水酸基を有するポリジメチルシロキサン 10重量部 (分子量50000) (c)ニッケル(II)2,4−ペンタンジオネート 2重量部 (d)アセチルアセトン 10重量部 (e)メチルエチルケトン 70重量部 まず、のポリプロピレンフィルムシートを”SH−4
280”(東レダウコーニングシリコーン(株)製:シ
リコーン系粘着剤)を用いて欠点部分に貼り付け、その
上からのシリコーンガム液(A液)と(B液)を重量
比1:1の割合でこの順に塗布し、室温で15分間乾燥
させた。その後、”キムワイプ”(十條キンバリー
(株)製ワイパー)を用いてのシート上の余分な液
を拭き取った所、不必要な液はきれいに除去され、ポ
ジフィルムと同じ形状の網点の穴の部分にのみシリコー
ンゴムが形成され、欠点のない水なし平版印刷版と同じ
絵柄を形成することができた。
【0108】このようにして得た2種類の水なし平版印
刷版を用い、オフセット印刷機(小森スプリント4色
機)に取り付け、大日本インキ化学工業(株)製”ドラ
イオカラー”墨インキを用い、上質紙に印刷を行った
所、欠点を修正した印刷版を用いて印刷した印刷物と無
修正の完全な印刷版を用いて印刷した印刷物とに差は見
られなかった。
刷版を用い、オフセット印刷機(小森スプリント4色
機)に取り付け、大日本インキ化学工業(株)製”ドラ
イオカラー”墨インキを用い、上質紙に印刷を行った
所、欠点を修正した印刷版を用いて印刷した印刷物と無
修正の完全な印刷版を用いて印刷した印刷物とに差は見
られなかった。
【0109】実施例3 厚さ0.24mmのアルミ板(住友軽金属(株)製)の
表面に砂目形状を設け、支持体を得た。
表面に砂目形状を設け、支持体を得た。
【0110】こうして得られた支持体の上に、下記のプ
ライマ組成物を塗布し、200℃、2分間熱処理して5
μmのプライマ層を設けた。
ライマ組成物を塗布し、200℃、2分間熱処理して5
μmのプライマ層を設けた。
【0111】 (a)2−ヒドロキシエチルメタクリレ−ト、メタクリル酸 100重量部 ドデシルのモル比40/60の共重合樹脂 (分子量40000) (b)γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン 5重量部 (東芝シリコ−ン(株)製) (c)酸化亜鉛(堺化学(株)製微細亜鉛華) 55重量部 (d)“KET−YELLOW402” 10重量部 (大日本インキ化学(株)製黄色顔料) (e)乳酸メチル 650重量部 (f)シクロヘキサノン 80重量部 次いで、上記プライマ層上に下記の組成物よりなる感光
液を塗布し、115℃、1分間熱乾燥して2μmの感光
層を設けた。
液を塗布し、115℃、1分間熱乾燥して2μmの感光
層を設けた。
【0112】 (a)1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5−スルホン 90重量部 クロリドとフェノールホルムアルデヒドノボラック樹 脂(住友デュレズ製:”スミライトレジン”PR50 622)の部分エステル化物(元素分析法によるエス テル化度20%) (b)4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート 20重量部 (c)2−ヒドロキシエチルメタクリレ−ト、メタクリル酸 10重量部 ドデシルのモル比40/60の共重合樹脂 (分子量40000) (d)テトラヒドロフラン 780重量部 次いで、上記感光層上に下記の組成物よりなるシリコ−
ンゴム組成物を乾燥窒素気流下で塗布し、115℃、3
分間加熱硬化して2μmのシリコ−ンゴム層を設けた。
ンゴム組成物を乾燥窒素気流下で塗布し、115℃、3
分間加熱硬化して2μmのシリコ−ンゴム層を設けた。
【0113】 (a)両末端ビニル基を有するポリジメチルシロキサン 100重量部 (分子量50000) (b) (CH3 ) 3 SiO(Si(CH 3 ) 2 O) 30-(SiH(CH3 )O) 10Si(CH 3 ) 3 9.8重量部 (c)塩化白金酸/メチルビニルサイクリック錯体 0.1重量部 (d)アセチルアセトンアルコ−ル 0.1重量部 (e)ポリジメチルシロキサン(分子量約100000) 10重量部 (f)“アイソパ−”E(エクソン化学(株)製) 880重量部 上記のようにして得られた積層板に、厚さ8μmの片面
マット化ポリプロピレンフィルム“トレファン”(東レ
(株)製)をマット化されていない面がシリコ−ンゴム
層と接するようにしてカレンダロ−ラを用いてラミネ−
トして保護層とし、ネガ型水なし平版印刷版原版を得
た。
マット化ポリプロピレンフィルム“トレファン”(東レ
(株)製)をマット化されていない面がシリコ−ンゴム
層と接するようにしてカレンダロ−ラを用いてラミネ−
トして保護層とし、ネガ型水なし平版印刷版原版を得
た。
【0114】かかる印刷版原版にメタルハライドランプ
(岩崎電気(株)製アイドルフィン2000)を用い、
UVメーター(オーク製作所製、ライトメジャータイプ
UV−402A)で11mW/cm2 の照度で6秒間全
面露光を施した。
(岩崎電気(株)製アイドルフィン2000)を用い、
UVメーター(オーク製作所製、ライトメジャータイプ
UV−402A)で11mW/cm2 の照度で6秒間全
面露光を施した。
【0115】画像評価は200線/インチ1〜99%の
網点を有するネガフィルムと光学濃度差0.15である
グレ−スケ−ル(G/S)を張込み用のポリエステルフ
ィルム上に張込み、ヌア−ク社製 FT261V UN
DS ULTRA−PLUSFIIPTOP PLAT
EMAKER真空露光機を用いて、30秒間真空密着し
たのち、30カウント露光し、ラミネ−トフィルム剥離
した。
網点を有するネガフィルムと光学濃度差0.15である
グレ−スケ−ル(G/S)を張込み用のポリエステルフ
ィルム上に張込み、ヌア−ク社製 FT261V UN
DS ULTRA−PLUSFIIPTOP PLAT
EMAKER真空露光機を用いて、30秒間真空密着し
たのち、30カウント露光し、ラミネ−トフィルム剥離
した。
【0116】その後、自動現像装置TWL1160(東
レ(株)製)を用い、液温度40℃の以下の組成を有す
る前処理液を用い、現像液には純水を用い、染色液には
以下の組成を有する液を用いて現像を行い、水なし平版
印刷版を得た。
レ(株)製)を用い、液温度40℃の以下の組成を有す
る前処理液を用い、現像液には純水を用い、染色液には
以下の組成を有する液を用いて現像を行い、水なし平版
印刷版を得た。
【0117】 (前処理液組成) (a)ジエチレングリコール 80重量部 (b)ジグリコールアミン 14重量部 (c)水 6重量部 (染色液) (a)エチルカルビト−ル 18重量部 (b)水 9.9重量部 (c)クリスタルバイオレット 0.1重量部 (d)2−エチルヘキサン酸 2重量部 このようにして得た水なし平版印刷版とは別に、上記と
同じ水なし平版印刷版および上記とネガフィルムを用
い、絵柄のインキ反発層の一部が露光される様にして上
記と同様の露光、現像処理をして、絵柄内のインキ反発
層の一部に欠点を持つ水なし平版印刷版を得た。
同じ水なし平版印刷版および上記とネガフィルムを用
い、絵柄のインキ反発層の一部が露光される様にして上
記と同様の露光、現像処理をして、絵柄内のインキ反発
層の一部に欠点を持つ水なし平版印刷版を得た。
【0118】このようにして得たインキ反発層の一部に
欠点を有する水なし平版印刷版を、以下のものを用いて
絵柄修正した。
欠点を有する水なし平版印刷版を、以下のものを用いて
絵柄修正した。
【0119】針によりネガフィルムと同じ形状の網点
の穴を開けたシリコーンゴムシート 以下の組成を有するシリコーンガム溶液 (A液) (a)両末端水酸基を有するポリジメチルシロキサン 100重量部 (分子量60000) (b)アセトン 100重量部 (B液) (a)テトラアセトキシシラン 8重量部 (b)両末端フェニル基を有するポリジメチルシロキサン 8重量部 (分子量100000) (c)銅(II)エチルアセトアセテート 2重量部 (d)アセチルアセトン 2重量部 (e)アセトン 80重量部 まず、のシリコーンゴムシートを”プリット”(コク
ヨ(株)製:口紅タイプのり)を用いて欠点部分に貼り
付け、その上からのシリコーンガム液を塗布し、室温
で10分間乾燥させた。その後、のシートを剥がした
所、欠点の部分が修正され、欠点のない水なし平版印刷
版と同じ絵柄を形成することができた。
の穴を開けたシリコーンゴムシート 以下の組成を有するシリコーンガム溶液 (A液) (a)両末端水酸基を有するポリジメチルシロキサン 100重量部 (分子量60000) (b)アセトン 100重量部 (B液) (a)テトラアセトキシシラン 8重量部 (b)両末端フェニル基を有するポリジメチルシロキサン 8重量部 (分子量100000) (c)銅(II)エチルアセトアセテート 2重量部 (d)アセチルアセトン 2重量部 (e)アセトン 80重量部 まず、のシリコーンゴムシートを”プリット”(コク
ヨ(株)製:口紅タイプのり)を用いて欠点部分に貼り
付け、その上からのシリコーンガム液を塗布し、室温
で10分間乾燥させた。その後、のシートを剥がした
所、欠点の部分が修正され、欠点のない水なし平版印刷
版と同じ絵柄を形成することができた。
【0120】このようにして得た2種類の水なし平版印
刷版を用い、オフセット印刷機(小森スプリント4色
機)に取り付け、大日本インキ化学工業(株)製”ドラ
イオカラー”墨インキを用い、上質紙に印刷を行った
所、欠点を修正した印刷版を用いて印刷した印刷物と無
修正の完全な印刷版を用いて印刷した印刷物とに差は見
られなかった。
刷版を用い、オフセット印刷機(小森スプリント4色
機)に取り付け、大日本インキ化学工業(株)製”ドラ
イオカラー”墨インキを用い、上質紙に印刷を行った
所、欠点を修正した印刷版を用いて印刷した印刷物と無
修正の完全な印刷版を用いて印刷した印刷物とに差は見
られなかった。
【0121】実施例4 実施例3と同様にして得たインキ反発層の一部に欠点を
含む印刷版を、以下のものを用いて絵柄修正した。
含む印刷版を、以下のものを用いて絵柄修正した。
【0122】レーザー光によりネガフィルムと同じ形
状の網点の穴を開けたポリプロピレンフィルムシート
“トレファン”(東レ(株)製) 以下の組成を有するシリコーンガム溶液(修正液) (A液) (a)両末端水酸基を有するポリジメチルシロキサン 100重量部 (分子量18000) (b)ヘキサン 100重量部 (B液) (a)両末端および内部にSiH基を少なくとも3個以上有する 10重量部 ハイドロジェンシロキサン(分子量10000) (b)両末端メチル基を有するポリジメチルシロキサン 10重量部 (分子量10000) (c)コバルト(II)アセチルアセトネート 2重量部 (d)アセチルアセトン 8重量部 (e)シクロヘキサノン 70重量部 まず、のポリプロピレンフィルムシートを3−アミノ
プロピルトリエトキシシランを用いて欠点部分に貼り付
け、その上からのシリコーンガム液(A液)と(B
液)を重量比1:1の割合でこの順に塗布し、室温で1
5分間乾燥させた。その後、“ハイゼガーゼ”(旭化成
工業(株)製)を用いてのシート上の余分な液を拭
き取った所、不必要な液はきれいに除去され、ネガフ
ィルムと同じ形状の網点の部分の穴の部分にのみシリコ
ーンゴムが形成され、欠点のない水なし平版印刷版と同
じ絵柄を形成することができた。
状の網点の穴を開けたポリプロピレンフィルムシート
“トレファン”(東レ(株)製) 以下の組成を有するシリコーンガム溶液(修正液) (A液) (a)両末端水酸基を有するポリジメチルシロキサン 100重量部 (分子量18000) (b)ヘキサン 100重量部 (B液) (a)両末端および内部にSiH基を少なくとも3個以上有する 10重量部 ハイドロジェンシロキサン(分子量10000) (b)両末端メチル基を有するポリジメチルシロキサン 10重量部 (分子量10000) (c)コバルト(II)アセチルアセトネート 2重量部 (d)アセチルアセトン 8重量部 (e)シクロヘキサノン 70重量部 まず、のポリプロピレンフィルムシートを3−アミノ
プロピルトリエトキシシランを用いて欠点部分に貼り付
け、その上からのシリコーンガム液(A液)と(B
液)を重量比1:1の割合でこの順に塗布し、室温で1
5分間乾燥させた。その後、“ハイゼガーゼ”(旭化成
工業(株)製)を用いてのシート上の余分な液を拭
き取った所、不必要な液はきれいに除去され、ネガフ
ィルムと同じ形状の網点の部分の穴の部分にのみシリコ
ーンゴムが形成され、欠点のない水なし平版印刷版と同
じ絵柄を形成することができた。
【0123】このようにして得た2種類の水なし平版印
刷版を用い、オフセット印刷機(小森スプリント4色
機)に取り付け、大日本インキ化学工業(株)製“ドラ
イオカラー”墨インキを用い、上質紙に印刷を行ったと
ころ、欠点を修正した印刷版を用いて印刷した印刷物と
無修正の完全な印刷版を用いて印刷した印刷物とに差は
見られなかった。
刷版を用い、オフセット印刷機(小森スプリント4色
機)に取り付け、大日本インキ化学工業(株)製“ドラ
イオカラー”墨インキを用い、上質紙に印刷を行ったと
ころ、欠点を修正した印刷版を用いて印刷した印刷物と
無修正の完全な印刷版を用いて印刷した印刷物とに差は
見られなかった。
【0124】実施例5 実施例1において、修正液を以下のように変える以外は
全て実施例1と同様の操作を行った所、実施例1と同様
に良好な修正が可能であった。(修正液は(A液)と
(B液)を重量比1:1でこの順に塗布して使用。) (A液) (a)両末端ビニル基を有するポリジメチルシロキサン 44重量部 (分子量30000) (b)鉄(III)アセチルアセトネート 1重量部 (c)アセチルアセトン 5重量部 (d)メチルイソブチルケトン 50重量部 (B液) (a) (CH3 ) 3 SiO(Si(CH 3 ) 2 O) 30-(SiH(CH3 )O) 10Si(CH 3 ) 3 5重量部 (b)両末端メチル基を有するポリジメチルシロキサン 10重量部 (分子量30000) (c)メチルイソブチルケトン 35重量部 実施例6 実施例1において、修正液を以下のように変える以外は
全て実施例1と同様の操作を行った所、実施例1と同様
に良好な修正が可能であった。(修正液は(A液)、
(B液)、(C液)を重量比1:1:1でこの順に塗布
して使用。) (A液) (a)両末端ビニル基を有するポリジメチルシロキサン 50重量部 (分子量30000) (b)メチルイソブチルケトン 50重量部 (B液) (a)鉄(III)アセチルアセトネート 5重量部 (b)アセチルアセトン 25重量部 (c)メチルイソブチルケトン 70重量部 (C液) (a) (CH3 ) 3 SiO(Si(CH 3 ) 2 O) 30-(SiH(CH3 )O) 10Si(CH 3 ) 3 20重量部 (b)両末端メチル基を有するポリジメチルシロキサン 10重量部 (分子量30000) (c)メチルイソブチルケトン 70重量部
全て実施例1と同様の操作を行った所、実施例1と同様
に良好な修正が可能であった。(修正液は(A液)と
(B液)を重量比1:1でこの順に塗布して使用。) (A液) (a)両末端ビニル基を有するポリジメチルシロキサン 44重量部 (分子量30000) (b)鉄(III)アセチルアセトネート 1重量部 (c)アセチルアセトン 5重量部 (d)メチルイソブチルケトン 50重量部 (B液) (a) (CH3 ) 3 SiO(Si(CH 3 ) 2 O) 30-(SiH(CH3 )O) 10Si(CH 3 ) 3 5重量部 (b)両末端メチル基を有するポリジメチルシロキサン 10重量部 (分子量30000) (c)メチルイソブチルケトン 35重量部 実施例6 実施例1において、修正液を以下のように変える以外は
全て実施例1と同様の操作を行った所、実施例1と同様
に良好な修正が可能であった。(修正液は(A液)、
(B液)、(C液)を重量比1:1:1でこの順に塗布
して使用。) (A液) (a)両末端ビニル基を有するポリジメチルシロキサン 50重量部 (分子量30000) (b)メチルイソブチルケトン 50重量部 (B液) (a)鉄(III)アセチルアセトネート 5重量部 (b)アセチルアセトン 25重量部 (c)メチルイソブチルケトン 70重量部 (C液) (a) (CH3 ) 3 SiO(Si(CH 3 ) 2 O) 30-(SiH(CH3 )O) 10Si(CH 3 ) 3 20重量部 (b)両末端メチル基を有するポリジメチルシロキサン 10重量部 (分子量30000) (c)メチルイソブチルケトン 70重量部
【0125】
【発明の効果】本発明の水なし平版印刷版の修正方法
は、上記のように構成されているので、インキ反発性に
優れ、長時間の印刷あるいは大量の印刷を行った場合で
も修正したインキ反発部分が欠落しない水なし平版印刷
版の修正方法となりうる。
は、上記のように構成されているので、インキ反発性に
優れ、長時間の印刷あるいは大量の印刷を行った場合で
も修正したインキ反発部分が欠落しない水なし平版印刷
版の修正方法となりうる。
Claims (21)
- 【請求項1】 支持体上に感光層およびインキ反発層を
この順に積層してなる水なし平版印刷版の版面上に形成
されたインキ反発層の欠点部分を修正する方法におい
て、下記(a)〜(c)成分から主としてなる修正液を
塗布する水なし平版印刷版の修正方法において、
(a)、(b)および(c)各成分を、二種類または三
種類に分けてそれぞれ修正液作製用液とし、該修正液作
製用液を、塗布する直前に混合するか、任意の順番で塗
布することを特徴とする水なし平版印刷版の修正方法。 (a)水酸基含有有機シロキサン。 (b)ハイドロジェンシロキサン。 (c)アルミニウム、バリウム、ベリリウム、カドミウ
ム、カルシウム、セリウム、クロム、コバルト、銅、ジ
スプロシウム、エルビウム、ヨーロピウム、ガドリウ
ム、金、ハフニウム、ホルミウム、インジウム、イリジ
ウム、鉄、ランタン、鉛、リチウム、ルテチウム、マグ
ネシウム、マンガン、モリブデン、ネオジウム、ニッケ
ル、パラジウム、カリウム、プラセオジム、ロジウム、
ルテニウム、サマリウム、スカンジウム、銀、ナトリウ
ム、ストロンチウム、テルビウム、タリウム、トリウ
ム、ツリウム、ウラン、バナジウム、イッテリビウム、
イットリウム、亜鉛、ジルコニウムの群より選ばれる少
なくとも一種の元素を含んだ錯体。 - 【請求項2】 (a)、(b)および(c)各成分を、
下記(A液)および(B液)の二種類の修正液作製用液
に分けることを特徴とする請求項1記載の水なし平版印
刷版の修正方法。 (A液)成分(a)および(b)から主としてなる液。 (B液)成分(c)から主としてなる液。 - 【請求項3】 (a)、(b)および(c)各成分を、
下記(A液)および(B液)の二種類の修正液作製用液
に分けることを特徴とする請求項1記載の水なし平版印
刷版の修正方法。 (A液)成分(a)および(c)から主としてなる液。 (B液)成分(b)から主としてなる液。 - 【請求項4】 (a)、(b)および(c)各成分を、
下記(A液)および(B液)の二種類の修正液作製用液
に分けることを特徴とする請求項1記載の水なし平版印
刷版の修正方法。 (A液)成分(a)から主としてなる液。 (B液)成分(b)および(c)から主としてなる液。 - 【請求項5】 (a)、(b)および(c)各成分を、
下記(A液)、(B液)、(C液)の三種類の修正液作
製用液に分けることを特徴とする請求項1記載の水なし
平版印刷版の修正方法。 (A液)成分(a)から主としてなる液。 (B液)成分(b)から主としてなる液。 (C液)成分(c)から主としてなる液。 - 【請求項6】 支持体上に感光層およびインキ反発層を
この順に積層してなる水なし平版印刷版の版面上に形成
されたインキ反発層の欠点部分を修正する方法におい
て、下記(a)〜(c)成分から主としてなる修正液を
塗布することを特徴とする水なし平版印刷版の修正方
法。 (a)ビニル基含有有機シロキサン。 (b)ハイドロジェンシロキサン。 (c)アルミニウム、バリウム、ベリリウム、カドミウ
ム、カルシウム、セリウム、クロム、コバルト、銅、ジ
スプロシウム、エルビウム、ヨーロピウム、ガドリウ
ム、金、ハフニウム、ホルミウム、インジウム、イリジ
ウム、鉄、ランタン、鉛、リチウム、ルテチウム、マグ
ネシウム、マンガン、モリブデン、ネオジウム、ニッケ
ル、パラジウム、カリウム、プラセオジム、ロジウム、
ルテニウム、サマリウム、スカンジウム、銀、ナトリウ
ム、ストロンチウム、テルビウム、タリウム、トリウ
ム、ツリウム、ウラン、バナジウム、イッテリビウム、
イットリウム、亜鉛、ジルコニウムの群より選ばれる少
なくとも一種の元素を含んだ錯体。 - 【請求項7】 (a)、(b)および(c)各成分を、
二種類または三種類に分けてそれぞれ修正液作製用液と
し、該修正液作製用液を、塗布する直前に混合するか、
任意の順番で塗布することを特徴とする請求項6記載の
水なし平版印刷版の修正方法。 - 【請求項8】 (a)、(b)および(c)各成分を、
下記(A液)および(B液)の二種類の修正液作製用液
に分けることを特徴とする請求項7記載の水なし平版印
刷版の修正方法。 (A液)成分(a)および(b)から主としてなる液。 (B液)成分(c)から主としてなる液。 - 【請求項9】 (a)、(b)および(c)各成分を、
下記(A液)および(B液)の二種類の修正液作製用液
に分けることを特徴とする請求項7記載の水なし平版印
刷版の修正方法。 (A液)成分(a)および(c)から主としてなる液。 (B液)成分(b)から主としてなる液。 - 【請求項10】 (a)、(b)および(c)各成分
を、下記(A液)および(B液)の二種類の修正液作製
用液に分けることを特徴とする請求項7記載の水なし平
版印刷版の修正方法。 (A液)成分(a)から主としてなる液。 (B液)成分(b)および(c)から主としてなる液。 - 【請求項11】 (a)、(b)および(c)各成分
を、下記(A液)、(B液)、(C液)の三種類の修正
液作製用液に分けることを特徴とする請求項7記載の水
なし平版印刷版の修正方法。 (A液)成分(a)から主としてなる液。 (B液)成分(b)から主としてなる液。 (C液)成分(c)から主としてなる液。 - 【請求項12】 支持体上に感光層およびインキ反発層
をこの順に積層してなる水なし平版印刷版の版面上に形
成されたインキ反発層の欠点部分を修正する方法におい
て、下記(a)〜(c)成分から主としてなる修正液を
塗布する水なし平版印刷版の修正方法において、
(a)、(b)および(c)各成分を、二種類または三
種類に分けてそれぞれ修正液作製用液とし、該修正液作
製用液を、塗布する直前に混合するか、任意の順番で塗
布することを特徴とする水なし平版印刷版の修正方法。 (a)水酸基含有有機シロキサン。 (b)下記一般式(I)で示される化合物。 R1n SiX4-n (I) (式中、nは0〜3の整数であり、R1はアルキル基、
アルケニル基、アリール基またはこれらの組み合わされ
た一価の基を表し、それらはハロゲン原子、アミノ基、
ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アク
リロキシ基、メタクリロキシ基、メルカプト基等の官能
基を有していてもよい。Xは水酸基、アルコキシ基、ア
セチル基、ケトオキシム基、ハロゲン原子の群より選ば
れる少なくとも一種である。) (c)アルミニウム、バリウム、ベリリウム、カドミウ
ム、カルシウム、セリウム、クロム、コバルト、銅、ジ
スプロシウム、エルビウム、ヨーロピウム、ガドリウ
ム、金、ハフニウム、ホルミウム、インジウム、イリジ
ウム、鉄、ランタン、鉛、リチウム、ルテチウム、マグ
ネシウム、マンガン、モリブデン、ネオジウム、ニッケ
ル、パラジウム、カリウム、プラセオジム、ロジウム、
ルテニウム、サマリウム、スカンジウム、銀、ナトリウ
ム、ストロンチウム、テルビウム、タリウム、トリウ
ム、ツリウム、ウラン、バナジウム、イッテリビウム、
イットリウム、亜鉛、ジルコニウムの群より選ばれる少
なくとも一種の元素を含んだ錯体。 - 【請求項13】 (a)、(b)および(c)各成分
を、下記(A液)および(B液)の二種類の修正液作製
用液に分けることを特徴とする請求項12記載の水なし
平版印刷版の修正方法。 (A液)成分(a)および(b)から主としてなる液。 (B液)成分(c)から主としてなる液。 - 【請求項14】 (a)、(b)および(c)各成分
を、下記(A液)および(B液)の二種類の修正液作製
用液に分けることを特徴とする請求項12記載の水なし
平版印刷版の修正方法。 (A液)成分(a)および(c)から主としてなる液。 (B液)成分(b)から主としてなる液。 - 【請求項15】 (a)、(b)および(c)各成分
を、下記(A液)および(B液)の二種類の修正液作製
用液に分けることを特徴とする請求項12記載の水なし
平版印刷版の修正方法。 (A液)成分(a)から主としてなる液。 (B液)成分(b)および(c)から主としてなる液。 - 【請求項16】 (a)、(b)および(c)各成分
を、下記(A液)、(B液)、(C液)の三種類の修正
液作製用液に分けることを特徴とする請求項12記載の
水なし平版印刷版の修正方法。 (A液)成分(a)から主としてなる液。 (B液)成分(b)から主としてなる液。 (C液)成分(c)から主としてなる液。 - 【請求項17】 (c)成分がアルミニウム、バリウ
ム、ベリリウム、カドミウム、カルシウム、セリウム、
クロム、コバルト、銅、金、インジウム、イリジウム、
鉄、ランタン、鉛、リチウム、ルテチウム、マグネシウ
ム、マンガン、ニッケル、パラジウム、カリウム、ロジ
ウム、ルテニウム、スカンジウム、銀、ナトリウム、ス
トロンチウム、タリウム、ウラン、バナジウム、亜鉛、
ジルコニウムの群より選ばれる少なくとも一種の元素を
含んだ錯体であることを特徴とする請求項1〜16のい
ずれか記載の水なし平版印刷版の修正方法。 - 【請求項18】 支持体上に感光層およびインキ反発層
をこの順に積層してなる水なし平版印刷版の版面上に形
成されたインキ反発層の欠点部分を修正する方法におい
て、該インキ反発層の欠点部分を含む版面上に網点構造
の穴を開けたシートを貼り付け、このシートの上からイ
ンキ反発性溶液である修正液を塗布、硬化せしめた後、
このシートを除去することで網点構造のインキ反発部分
を形成することを特徴とする請求項1〜17のいずれか
記載の水なし平版印刷版の修正方法。 - 【請求項19】 支持体上に感光層およびインキ反発層
をこの順に積層してなる水なし平版印刷版の版面上に形
成されたインキ反発層の欠点部分を修正する方法におい
て、該インキ反発層の欠点部分を含む版面上に網点構造
の穴を開けたインキ受容性のシートを貼り付け、このシ
ートの上からインキ反発性溶液である修正液を塗布、硬
化せしめることで網点構造のインキ反発部分を形成する
請求項1〜17のいずれか記載の水なし平版印刷版の修
正方法。 - 【請求項20】 網点構造の穴の開いたシートが、網点
構造の穴を開けることが可能なシートから作製したもの
であることを特徴とする請求項18または19記載の水
なし平版印刷版の修正方法。 - 【請求項21】 網点構造の穴の開いたシートが、光、
熱、電気、電子、機械的手段の群より選ばれる少なくと
も一つの手段を用いて網点構造の穴を開けることが可能
なシートから作製されたものであることを特徴とする請
求項18〜20のいずれか記載の水なし平版印刷版の修
正方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18947695A JPH0934131A (ja) | 1995-07-25 | 1995-07-25 | 水なし平版印刷版の修正方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18947695A JPH0934131A (ja) | 1995-07-25 | 1995-07-25 | 水なし平版印刷版の修正方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0934131A true JPH0934131A (ja) | 1997-02-07 |
Family
ID=16241905
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18947695A Pending JPH0934131A (ja) | 1995-07-25 | 1995-07-25 | 水なし平版印刷版の修正方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0934131A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011506741A (ja) * | 2007-12-20 | 2011-03-03 | ブルースター・シリコーン・フランス・エスアエス | 室温において加硫してエラストマーになることができるオルガノポリシロキサン組成物及び新規のオルガノポリシロキサン重縮合触媒 |
| JP2011506739A (ja) * | 2007-12-20 | 2011-03-03 | ブルースター・シリコーン・フランス・エスアエス | 室温で加硫してエラストマーを得ることができるオルガノポリシロキサン組成物および新規オルガノポリシロキサン重縮合触媒 |
| JP2012530178A (ja) * | 2009-06-19 | 2012-11-29 | ブルースター・シリコーンズ・フランス | 金属触媒の存在下での脱水素縮合による架橋に適したシリコーン組成物 |
| JP2012530175A (ja) * | 2009-06-19 | 2012-11-29 | ブルースター・シリコーンズ・フランス | 金属触媒の存在下において脱水素縮合によって架橋可能なシリコーン組成物 |
| JP2017538849A (ja) * | 2014-11-07 | 2017-12-28 | ブルースター・シリコーン・フランス・エスアエスBluestar Silicones France Sas | シリコーン組成物を架橋させる新規の触媒 |
-
1995
- 1995-07-25 JP JP18947695A patent/JPH0934131A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011506741A (ja) * | 2007-12-20 | 2011-03-03 | ブルースター・シリコーン・フランス・エスアエス | 室温において加硫してエラストマーになることができるオルガノポリシロキサン組成物及び新規のオルガノポリシロキサン重縮合触媒 |
| JP2011506739A (ja) * | 2007-12-20 | 2011-03-03 | ブルースター・シリコーン・フランス・エスアエス | 室温で加硫してエラストマーを得ることができるオルガノポリシロキサン組成物および新規オルガノポリシロキサン重縮合触媒 |
| JP2012530178A (ja) * | 2009-06-19 | 2012-11-29 | ブルースター・シリコーンズ・フランス | 金属触媒の存在下での脱水素縮合による架橋に適したシリコーン組成物 |
| JP2012530175A (ja) * | 2009-06-19 | 2012-11-29 | ブルースター・シリコーンズ・フランス | 金属触媒の存在下において脱水素縮合によって架橋可能なシリコーン組成物 |
| JP2017538849A (ja) * | 2014-11-07 | 2017-12-28 | ブルースター・シリコーン・フランス・エスアエスBluestar Silicones France Sas | シリコーン組成物を架橋させる新規の触媒 |
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