JPH0935257A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPH0935257A JPH0935257A JP15672295A JP15672295A JPH0935257A JP H0935257 A JPH0935257 A JP H0935257A JP 15672295 A JP15672295 A JP 15672295A JP 15672295 A JP15672295 A JP 15672295A JP H0935257 A JPH0935257 A JP H0935257A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 磁気記録媒体の基板と磁気ヘッドとの摺動耐
久性を向上させた磁気記録媒体の製造方法を提案する。 【構成】 ガラス基板を用いた磁気記録媒体の製造にお
いて、磁性層等の成膜に先だって、紫外線レーザを用
い、基板に対して０．０１Ｊ／ｃｍ2 以上加工閾値以下
のエネルギー密度の当該レーザパルスビームを２回以上
１０００回以下連続照射することにより、テクスチャ加
工を施す。
久性を向上させた磁気記録媒体の製造方法を提案する。 【構成】 ガラス基板を用いた磁気記録媒体の製造にお
いて、磁性層等の成膜に先だって、紫外線レーザを用
い、基板に対して０．０１Ｊ／ｃｍ2 以上加工閾値以下
のエネルギー密度の当該レーザパルスビームを２回以上
１０００回以下連続照射することにより、テクスチャ加
工を施す。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気ディスク装置等の
磁気記録媒体の製造方法に関し、さらに詳しくは磁気デ
ィスク（以下、ＨＤという）と磁気ヘッドとの摺動耐久
性を向上させた磁気記録媒体の製造方法に関する。
磁気記録媒体の製造方法に関し、さらに詳しくは磁気デ
ィスク（以下、ＨＤという）と磁気ヘッドとの摺動耐久
性を向上させた磁気記録媒体の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】磁気記録の高密度化の進歩はまさに日進
月歩の勢いであり、かつて１０年で１０倍といわれたハ
ードディスク・ドライブ（ＨＤＤ）の記録密度向上速度
が最近では１０年で１００倍という声も聞かれている。
ＨＤＤは俗にウィンチェスター様式と呼ばれる、ＨＤ／
磁気ヘッド間の接触摺動−ヘッド浮上−接触摺動を基本
動作とするＣＳＳ（接触起動停止）方式が主流である。
この方式はＨＤＤの高記録密度化を一気に加速した画期
的なものであるが、一方で深刻なトライポロジー上の課
題を持ち込む端緒にもなった。近年の記録密度の向上
は、ディスクの回転速度の増加と磁気ヘッドの浮上高さ
の低減を伴い、ＣＳＳ方式における摺動耐久性／安定性
やＨＤ表面の平滑性への要求はますます強まっている現
状である。磁気ヘッド／ＨＤ間の摺動耐久性を向上させ
る鍵は、材料強度向上と潤滑性も含めた摩擦係数低下に
あるが、ＨＤの側でいえば、従来トップコート技術の検
討（ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）保護膜、各
種塗布潤滑剤等）と並んでＨＤ表面の粗面化によって摩
擦係数を低減させる努力が払われてきた。これはテクス
チャ処理と呼ばれ、接触面積の実効的低減によって摩擦
係数を下げてＣＳＳ耐久性／安定性を高めることを目的
としたものである。粗面化は基本的にはＨＤ表面に所定
範囲の高低差を有する凹凸を形成することである。この
テクスチャ処理はＨＤ製造における不可決の要素技術と
なっている。
月歩の勢いであり、かつて１０年で１０倍といわれたハ
ードディスク・ドライブ（ＨＤＤ）の記録密度向上速度
が最近では１０年で１００倍という声も聞かれている。
ＨＤＤは俗にウィンチェスター様式と呼ばれる、ＨＤ／
磁気ヘッド間の接触摺動−ヘッド浮上−接触摺動を基本
動作とするＣＳＳ（接触起動停止）方式が主流である。
この方式はＨＤＤの高記録密度化を一気に加速した画期
的なものであるが、一方で深刻なトライポロジー上の課
題を持ち込む端緒にもなった。近年の記録密度の向上
は、ディスクの回転速度の増加と磁気ヘッドの浮上高さ
の低減を伴い、ＣＳＳ方式における摺動耐久性／安定性
やＨＤ表面の平滑性への要求はますます強まっている現
状である。磁気ヘッド／ＨＤ間の摺動耐久性を向上させ
る鍵は、材料強度向上と潤滑性も含めた摩擦係数低下に
あるが、ＨＤの側でいえば、従来トップコート技術の検
討（ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）保護膜、各
種塗布潤滑剤等）と並んでＨＤ表面の粗面化によって摩
擦係数を低減させる努力が払われてきた。これはテクス
チャ処理と呼ばれ、接触面積の実効的低減によって摩擦
係数を下げてＣＳＳ耐久性／安定性を高めることを目的
としたものである。粗面化は基本的にはＨＤ表面に所定
範囲の高低差を有する凹凸を形成することである。この
テクスチャ処理はＨＤ製造における不可決の要素技術と
なっている。
【０００３】上記テクスチャ技術は、当然のことながら
基板材質と不可分の関係にあり、従来のＮｉ−Ｐ被覆Ａ
ｌ基板の場合には、研磨粉等を用いた機械的研磨によっ
て凹凸を形成する手法が主流であった。また、ガラス基
板等ではリソグラフィー、或いはそれと印刷技法を組み
合わせたエッチング技術等が提案され、一部では実用化
されている。
基板材質と不可分の関係にあり、従来のＮｉ−Ｐ被覆Ａ
ｌ基板の場合には、研磨粉等を用いた機械的研磨によっ
て凹凸を形成する手法が主流であった。また、ガラス基
板等ではリソグラフィー、或いはそれと印刷技法を組み
合わせたエッチング技術等が提案され、一部では実用化
されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】テクスチャ技術全般に
言えることとして、精密な凹凸制御と並んで工程上の効
率性も必要要件であるが、両者はしばしば拮抗する関係
にあり、特に前述のようなＨＤＤの高記録密度化が驚く
べき速さで進行している現今の状勢下では、従来技術は
所定仕様を満足しきれないだけではなく、もはや工夫や
改良の蓄積ではカバーし得ない様々な問題点を露呈しつ
つある。例えば、機械研磨法では既に微細加工制御の限
界付近にあり、凹凸の高低のみならず、ゾーンテクスチ
ャリング等で重要になるテクスチャ領域の精密制御でも
根本的な困難に遭遇している。具体的には一定の割合で
発生する所定範囲外の高低差を示す凹凸（過研磨、バリ
等）の発生や、テクスチャ境界のぼやけ等である。ま
た、リソグラフィ的手法は、精密制御の点では問題ない
ものの、工程の複雑さが避けられず、それが効率面での
アキレス腱になっている。他方、ＨＤＤの高記録容量
化、高品質化は必然的にＨＤ製造環境の高いクリーン度
達成を包含するものであり、各種汚染物、塵埃の高いレ
ベルでの除去／排除が各工程に対する至上目標となって
いる現状である。この観点からすれば各工程が乾式であ
ることが望ましく、この乾式テクスチャリングに対して
大きな期待が持たれている。レーザ光を物質加工や測定
に応用する試みはレーザの発明当初から始まったと言え
るが、昨今のレーザ光源の発達／開発は基本特性やハン
ドリング性の目覚ましい向上をもたらし、高エネルギー
加工から超微細加工、精密測定まで利用技術の広い裾野
を形成している。レーザビームによって物質を成膜し、
或いは物質表面を加工するレーザアブレーション（爆
蝕）ないしレーザエッチングは８０年代から盛んに検討
されている技術であるが、これによってテクスチャを施
す、所謂レーザテクスチャ技術が最近関心を集めている
（例えばＵＳＰ５０６２０２１、特開昭６２−２０９７
９８号公報）。これはレーザビームの特徴を生かして形
成する個々の表面凹凸の精密制御が可能である上、基本
的に乾式過程であるという利点がある。さらに基板材質
に合わせたレーザ種ないし波長、エネルギー密度を選択
できる自由度／汎用性も具備しているといえる。しかし
ながら、ガラス、珪素等の所謂代替基板の場合、レーザ
種ないし波長、エネルギー密度を限定しない単純なレー
ザビームの照射／アブレーションでは、飛散微粒子の再
付着や過蝕による凹凸形状の不整等が起り、クラック発
生やＣＳＳ特性を却って悪化させる等の問題を発生する
確率が高い。
言えることとして、精密な凹凸制御と並んで工程上の効
率性も必要要件であるが、両者はしばしば拮抗する関係
にあり、特に前述のようなＨＤＤの高記録密度化が驚く
べき速さで進行している現今の状勢下では、従来技術は
所定仕様を満足しきれないだけではなく、もはや工夫や
改良の蓄積ではカバーし得ない様々な問題点を露呈しつ
つある。例えば、機械研磨法では既に微細加工制御の限
界付近にあり、凹凸の高低のみならず、ゾーンテクスチ
ャリング等で重要になるテクスチャ領域の精密制御でも
根本的な困難に遭遇している。具体的には一定の割合で
発生する所定範囲外の高低差を示す凹凸（過研磨、バリ
等）の発生や、テクスチャ境界のぼやけ等である。ま
た、リソグラフィ的手法は、精密制御の点では問題ない
ものの、工程の複雑さが避けられず、それが効率面での
アキレス腱になっている。他方、ＨＤＤの高記録容量
化、高品質化は必然的にＨＤ製造環境の高いクリーン度
達成を包含するものであり、各種汚染物、塵埃の高いレ
ベルでの除去／排除が各工程に対する至上目標となって
いる現状である。この観点からすれば各工程が乾式であ
ることが望ましく、この乾式テクスチャリングに対して
大きな期待が持たれている。レーザ光を物質加工や測定
に応用する試みはレーザの発明当初から始まったと言え
るが、昨今のレーザ光源の発達／開発は基本特性やハン
ドリング性の目覚ましい向上をもたらし、高エネルギー
加工から超微細加工、精密測定まで利用技術の広い裾野
を形成している。レーザビームによって物質を成膜し、
或いは物質表面を加工するレーザアブレーション（爆
蝕）ないしレーザエッチングは８０年代から盛んに検討
されている技術であるが、これによってテクスチャを施
す、所謂レーザテクスチャ技術が最近関心を集めている
（例えばＵＳＰ５０６２０２１、特開昭６２−２０９７
９８号公報）。これはレーザビームの特徴を生かして形
成する個々の表面凹凸の精密制御が可能である上、基本
的に乾式過程であるという利点がある。さらに基板材質
に合わせたレーザ種ないし波長、エネルギー密度を選択
できる自由度／汎用性も具備しているといえる。しかし
ながら、ガラス、珪素等の所謂代替基板の場合、レーザ
種ないし波長、エネルギー密度を限定しない単純なレー
ザビームの照射／アブレーションでは、飛散微粒子の再
付着や過蝕による凹凸形状の不整等が起り、クラック発
生やＣＳＳ特性を却って悪化させる等の問題を発生する
確率が高い。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記に鑑み提
案されたもので、ガラス基板を用いた磁気記録媒体の製
造方法において、磁性層や保護層等の成膜に先だって、
ＹＡＧレーザの高調波、エキシマレーザ等に代表される
紫外線レーザを用い、基板に対して０．０１Ｊ／ｃｍ2
以上加工閾値以下のエネルギー密度の当該レーザパルス
ビームを２回以上１０００回以下連続照射することによ
り、テクスチャ加工を施すことを特徴とする磁気記録媒
体の製造方法に関するものである。
案されたもので、ガラス基板を用いた磁気記録媒体の製
造方法において、磁性層や保護層等の成膜に先だって、
ＹＡＧレーザの高調波、エキシマレーザ等に代表される
紫外線レーザを用い、基板に対して０．０１Ｊ／ｃｍ2
以上加工閾値以下のエネルギー密度の当該レーザパルス
ビームを２回以上１０００回以下連続照射することによ
り、テクスチャ加工を施すことを特徴とする磁気記録媒
体の製造方法に関するものである。
【０００６】一般に、セラミックスや高分子材料等の物
質にレーザビームを照射する時、レーザビームのエネル
ギー密度が一定の閾値を越えると急激に加工深さが増大
する（図１に示すようなレーザダメージの非線形性）
が、その閾値以下の領域でパルスビーム照射を連続的に
施すと、コーン状構造体と呼ばれる円錐状突起物が形成
されることが知られている（例えばジャーナル・オブ・
アプライド・フィジックス誌、４９巻、４５３頁、１９
８６年）。本発明者等は前述の問題に関して、レーザ照
射条件、照射雰囲気等について詳細に検討を加えた結
果、課題解決の要諦はレーザビームで形成される基板上
の凹凸の形状制御であり、レーザビームのエネルギー密
度分布を工夫することにより図２（Ａ），（Ｂ）で示さ
れる所期形状の構造物を適宜に形成し得ることを見いだ
して本発明に至ったものである。
質にレーザビームを照射する時、レーザビームのエネル
ギー密度が一定の閾値を越えると急激に加工深さが増大
する（図１に示すようなレーザダメージの非線形性）
が、その閾値以下の領域でパルスビーム照射を連続的に
施すと、コーン状構造体と呼ばれる円錐状突起物が形成
されることが知られている（例えばジャーナル・オブ・
アプライド・フィジックス誌、４９巻、４５３頁、１９
８６年）。本発明者等は前述の問題に関して、レーザ照
射条件、照射雰囲気等について詳細に検討を加えた結
果、課題解決の要諦はレーザビームで形成される基板上
の凹凸の形状制御であり、レーザビームのエネルギー密
度分布を工夫することにより図２（Ａ），（Ｂ）で示さ
れる所期形状の構造物を適宜に形成し得ることを見いだ
して本発明に至ったものである。
【０００７】即ち、本発明では、ＹＡＧやエキシマ等に
よる紫外線レーザを０．０１Ｊ／ｃｍ2 以上加工閾値以
下のエネルギー密度で２回以上１０００回以下パルス状
に基板に連続照射することにより、図２（Ａ）に示すよ
うな所期の形状を有する突起部を形成でき、磁気ヘッド
／ＨＤ間の起動−摺動−浮上−摺動−停止を繰り返す所
謂ＣＳＳ特性に優れたテクスチャ処理を基板に施すもの
である。尚、レーザパルスビームを１０００回以上連続
照射することはスループットの関係上、好ましくない。
図３には、本発明で用いられるレーザパルスビームとレ
ーザシングルビームで加工されたガラス表面の、図２
（Ａ），（Ｂ）で示される凹凸形状の出現頻度を示す。
レーザビームのエネルギー密度が一定の値を越えると、
突起部〔図２（Ａ）〕の出現頻度が急減する。レーザシ
ングルビームを照射して基板に加工を施す場合、加工閾
値を越える過度のエネルギーの集中が必要で、本発明で
求める所期の突起部を選択的に形成することが困難であ
る。一方、本発明では、レーザパルスビームを連続的に
基板に照射するため、０．０１Ｊ／ｃｍ2 以上加工閾値
以下のエネルギー密度のレーザ照射でも十分凹凸形状が
形成されるばかりか、突起部の大きさや出現頻度を選択
的に設定できる利点がある。０．０１Ｊ／ｃｍ2 より小
さいエネルギー密度でも加工自体は可能であるが、十分
に大きい突起部が得られないため、実用上（磁気記録媒
体の基板表面のテクスチャとして）適していない。突起
部の加工は、レーザビームの照射間隔が重ならない範囲
で行うことが望ましい。ビームが重なりあうと不定形の
凹凸が形成され易くＨＤの摺動耐久性が低下する。逆
に、ビームの照射間隔を一定以上に広げた場合、凹凸の
形成されない領域が拡大し磁気ヘッドとＨＤとの接触面
積増加をもたらし摺動耐久性が悪化する。同様に、突起
部高さを一定以上の高さとした場合、磁気ヘッドとＨＤ
との衝突が生じ易くなり、摺動耐久性が悪化する。磁気
記録媒体としての基板表面に形成される突起部の大きさ
は、外半径１〜５０μｍ、高さ１〜１００ｎｍが好まし
く、この突起部の基板表面に対する占有面積の割合が
０．１〜９９．９％であることが望ましい。尚、本発明
は本来レーザテクスチャリングを施し難いガラス基板を
対象とするものであるが、このようなテクスチャ処理は
磁性層或いは炭素保護膜に対する粗面化に応用すること
も可能である。また、従来のＮｉ−Ｐ被覆Ａｌ基板、珪
素基板等にも適用することができる。
よる紫外線レーザを０．０１Ｊ／ｃｍ2 以上加工閾値以
下のエネルギー密度で２回以上１０００回以下パルス状
に基板に連続照射することにより、図２（Ａ）に示すよ
うな所期の形状を有する突起部を形成でき、磁気ヘッド
／ＨＤ間の起動−摺動−浮上−摺動−停止を繰り返す所
謂ＣＳＳ特性に優れたテクスチャ処理を基板に施すもの
である。尚、レーザパルスビームを１０００回以上連続
照射することはスループットの関係上、好ましくない。
図３には、本発明で用いられるレーザパルスビームとレ
ーザシングルビームで加工されたガラス表面の、図２
（Ａ），（Ｂ）で示される凹凸形状の出現頻度を示す。
レーザビームのエネルギー密度が一定の値を越えると、
突起部〔図２（Ａ）〕の出現頻度が急減する。レーザシ
ングルビームを照射して基板に加工を施す場合、加工閾
値を越える過度のエネルギーの集中が必要で、本発明で
求める所期の突起部を選択的に形成することが困難であ
る。一方、本発明では、レーザパルスビームを連続的に
基板に照射するため、０．０１Ｊ／ｃｍ2 以上加工閾値
以下のエネルギー密度のレーザ照射でも十分凹凸形状が
形成されるばかりか、突起部の大きさや出現頻度を選択
的に設定できる利点がある。０．０１Ｊ／ｃｍ2 より小
さいエネルギー密度でも加工自体は可能であるが、十分
に大きい突起部が得られないため、実用上（磁気記録媒
体の基板表面のテクスチャとして）適していない。突起
部の加工は、レーザビームの照射間隔が重ならない範囲
で行うことが望ましい。ビームが重なりあうと不定形の
凹凸が形成され易くＨＤの摺動耐久性が低下する。逆
に、ビームの照射間隔を一定以上に広げた場合、凹凸の
形成されない領域が拡大し磁気ヘッドとＨＤとの接触面
積増加をもたらし摺動耐久性が悪化する。同様に、突起
部高さを一定以上の高さとした場合、磁気ヘッドとＨＤ
との衝突が生じ易くなり、摺動耐久性が悪化する。磁気
記録媒体としての基板表面に形成される突起部の大きさ
は、外半径１〜５０μｍ、高さ１〜１００ｎｍが好まし
く、この突起部の基板表面に対する占有面積の割合が
０．１〜９９．９％であることが望ましい。尚、本発明
は本来レーザテクスチャリングを施し難いガラス基板を
対象とするものであるが、このようなテクスチャ処理は
磁性層或いは炭素保護膜に対する粗面化に応用すること
も可能である。また、従来のＮｉ−Ｐ被覆Ａｌ基板、珪
素基板等にも適用することができる。
【０００８】上記のようにガラス基板に紫外線レーザを
用いて０．０１Ｊ／ｃｍ2 以上加工閾値以下のエネルギ
ー密度で照射してテクスチャを施した後、下地層、磁性
層等を順次成膜して形成した磁気記録媒体は、優れた摺
動耐久性を有し、高い耐久性を求められるその使用に際
してもクラック等を生ずることがないので、高い信頼性
を有する磁気ディスク装置等の磁気記録装置の作製に貢
献することができる。尚、ガラス基板上に成膜する各
層、下地膜、磁性膜、保護膜、潤滑膜などは、特にその
材質や組成、成膜方法等を限定するものではなく、公知
の材料、公知の方法を適宜に選定、組み合わせて使用す
ることができる。
用いて０．０１Ｊ／ｃｍ2 以上加工閾値以下のエネルギ
ー密度で照射してテクスチャを施した後、下地層、磁性
層等を順次成膜して形成した磁気記録媒体は、優れた摺
動耐久性を有し、高い耐久性を求められるその使用に際
してもクラック等を生ずることがないので、高い信頼性
を有する磁気ディスク装置等の磁気記録装置の作製に貢
献することができる。尚、ガラス基板上に成膜する各
層、下地膜、磁性膜、保護膜、潤滑膜などは、特にその
材質や組成、成膜方法等を限定するものではなく、公知
の材料、公知の方法を適宜に選定、組み合わせて使用す
ることができる。
【０００９】
【実施例】以下、本発明の実施例を示す。尚、粗さの測
定は触針式の粗さ計を用い、スタイラス０．５μｍ、カ
ットオフ０．２５ｍｍにて行なった。
定は触針式の粗さ計を用い、スタイラス０．５μｍ、カ
ットオフ０．２５ｍｍにて行なった。
【００１０】〈実施例１〉ソーダライムガラス基板表面
に、ＹＡＧレーザの第四高調波（２６６ｎｍ）の直径１
０μｍのビームをエネルギー密度０．０５Ｊ／ｃｍ2 、
パルス幅２０ｎｓして１００パルス照射した。その結
果、Ｒｐ（突起部高さ）２５ｎｍ、Ｒｖ（凹部深さ）≧
−１ｎｍ、外半径７μｍ、Ｓｍ（突起部平均間隔）〜２
５μｍの表面突起が６０％の割合で得られた。引き続
き、基板温度２００℃にて下地層としてＣｒ１００ｎ
ｍ、磁性層としてＣｏ17Ｃｒ4 Ｔａ合金２０ｎｍ、保護
層としてカーボン２０ｎｍを逐次スパッタ成膜し、さら
にＰＦＰＥ（パーフルオロポリエーテル）系潤滑剤を塗
布成膜して実施例１の磁気記録媒体を作製した。
に、ＹＡＧレーザの第四高調波（２６６ｎｍ）の直径１
０μｍのビームをエネルギー密度０．０５Ｊ／ｃｍ2 、
パルス幅２０ｎｓして１００パルス照射した。その結
果、Ｒｐ（突起部高さ）２５ｎｍ、Ｒｖ（凹部深さ）≧
−１ｎｍ、外半径７μｍ、Ｓｍ（突起部平均間隔）〜２
５μｍの表面突起が６０％の割合で得られた。引き続
き、基板温度２００℃にて下地層としてＣｒ１００ｎ
ｍ、磁性層としてＣｏ17Ｃｒ4 Ｔａ合金２０ｎｍ、保護
層としてカーボン２０ｎｍを逐次スパッタ成膜し、さら
にＰＦＰＥ（パーフルオロポリエーテル）系潤滑剤を塗
布成膜して実施例１の磁気記録媒体を作製した。
【００１１】〈実施例２〉ＫｒＦ（２４８ｎｍ）エキシ
マレーザとマスクとを用い、ソーダライムガラス表面に
エネルギー密度０．０２Ｊ／ｃｍ2 、パルス幅１５ｎｓ
のパルスビームを８０回連続的に照射した。その結果、
Ｒｐ２０ｎｍ、Ｒｖ≧−１ｎｍ、外半径６μｍ、Ｓｍ〜
３５μｍの表面突起が７０％の割合で得られた。引き続
き、前記実施例１と同様にして実施例２の磁気記録媒体
を作製した。
マレーザとマスクとを用い、ソーダライムガラス表面に
エネルギー密度０．０２Ｊ／ｃｍ2 、パルス幅１５ｎｓ
のパルスビームを８０回連続的に照射した。その結果、
Ｒｐ２０ｎｍ、Ｒｖ≧−１ｎｍ、外半径６μｍ、Ｓｍ〜
３５μｍの表面突起が７０％の割合で得られた。引き続
き、前記実施例１と同様にして実施例２の磁気記録媒体
を作製した。
【００１２】〈比較例１〉ＹＡＧレーザの第四高調波
（２６６ｎｍ）の直径１０μｍのビームをソーダライム
ガラス基板表面にエネルギー密度５Ｊ／ｃｍ2 にて１パ
ルス照射した結果、外半径８μｍ、Ｒｖ−１００ｎｍの
凹形〔図２（Ｂ）〕が形成された。引き続き、前記実施
例１と同様にして比較例１の磁気記録媒体を作製した。
（２６６ｎｍ）の直径１０μｍのビームをソーダライム
ガラス基板表面にエネルギー密度５Ｊ／ｃｍ2 にて１パ
ルス照射した結果、外半径８μｍ、Ｒｖ−１００ｎｍの
凹形〔図２（Ｂ）〕が形成された。引き続き、前記実施
例１と同様にして比較例１の磁気記録媒体を作製した。
【００１３】〈比較例２〉アルミ基板に従来の機械的テ
クスチャ法を施し、Ｒｐ２６ｎｍ、Ｒｖ−３０ｎｍ以
上、Ｓｍ２．２μｍとなるようにし、引き続き、前記実
施例１と同様にして比較例２の磁気記録媒体を作製し
た。
クスチャ法を施し、Ｒｐ２６ｎｍ、Ｒｖ−３０ｎｍ以
上、Ｓｍ２．２μｍとなるようにし、引き続き、前記実
施例１と同様にして比較例２の磁気記録媒体を作製し
た。
【００１４】表１に前記実施例１，２及び比較例１，２
の各磁気ディスクのＣＳＳ特性としてのＣＳＳ１０００
０回後のスティクション値を示す。尚、ＣＳＳ測定機は
市販のＣＳＳテスターを用い、磁気ヘッドにはＡｌ2 Ｏ
3−ＴｉＣスライダーヘッドを用いた。
の各磁気ディスクのＣＳＳ特性としてのＣＳＳ１０００
０回後のスティクション値を示す。尚、ＣＳＳ測定機は
市販のＣＳＳテスターを用い、磁気ヘッドにはＡｌ2 Ｏ
3−ＴｉＣスライダーヘッドを用いた。
【００１５】
【表１】
【００１６】表１より明らかなように本発明の実施例
１，２の磁気記録媒体は比較例１，２の磁気記録媒体と
比較してスティクション値が格段に低下し、従来技術に
より作製されたディスクより優れたＣＳＳ特性を有して
いた。
１，２の磁気記録媒体は比較例１，２の磁気記録媒体と
比較してスティクション値が格段に低下し、従来技術に
より作製されたディスクより優れたＣＳＳ特性を有して
いた。
【００１７】以上本発明を実施例に基づいて説明した
が、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、特
許請求の範囲に記載の構成を変更しない限りどのように
でも実施することができる。
が、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、特
許請求の範囲に記載の構成を変更しない限りどのように
でも実施することができる。
【００１８】
【発明の効果】以上説明したように、本発明は、ガラス
基板の上に下地層、磁性層、保護層、潤滑層等を逐次成
膜してなる磁気記録媒体（ＨＤ）の製造方法に関し、レ
ーザ光を用いて基板に所要の突起形状粗面を形成するレ
ーザテクスチャ技術を提供するものである。レーザアブ
レージョンを用いるテクスチャリング加工法では従来の
機械テクスチャで問題となっていた凹凸形状や深さの非
制御性、バリの発生を完全に防止できる。また、リソグ
ラフィ技術のような多数の工程とレジスト、洗浄液とい
った廃棄物の発生を伴わないため、設備コストの低減に
つながる。しかし、レーザシングルビームを照射して基
板に加工を施す場合、加工閾値を越える過度のエネルギ
ーの集中が必要で、本発明で求める所期の突起部を選択
的に形成することが困難である。また、しばしば過大な
アブレーションによる窪みが発生して薄肉で高い耐久性
が求められる基板にクラックを生じさせ、本発明ではレ
ーザパルスビームを連続的に基板に照射するため、０．
０１Ｊ／ｃｍ2 以上加工閾値以下のエネルギー密度のレ
ーザ照射でも十分凹凸形状が形成されるばかりか、ＣＳ
Ｓ特性に優れた突起部の大きさや出現頻度を選択的に設
定できる利点がある。本発明により、高記録密度／高耐
久性を要求される次世代ＨＤにおける、高効率で制御性
に優れたテクスチャ処理技術が得られる。
基板の上に下地層、磁性層、保護層、潤滑層等を逐次成
膜してなる磁気記録媒体（ＨＤ）の製造方法に関し、レ
ーザ光を用いて基板に所要の突起形状粗面を形成するレ
ーザテクスチャ技術を提供するものである。レーザアブ
レージョンを用いるテクスチャリング加工法では従来の
機械テクスチャで問題となっていた凹凸形状や深さの非
制御性、バリの発生を完全に防止できる。また、リソグ
ラフィ技術のような多数の工程とレジスト、洗浄液とい
った廃棄物の発生を伴わないため、設備コストの低減に
つながる。しかし、レーザシングルビームを照射して基
板に加工を施す場合、加工閾値を越える過度のエネルギ
ーの集中が必要で、本発明で求める所期の突起部を選択
的に形成することが困難である。また、しばしば過大な
アブレーションによる窪みが発生して薄肉で高い耐久性
が求められる基板にクラックを生じさせ、本発明ではレ
ーザパルスビームを連続的に基板に照射するため、０．
０１Ｊ／ｃｍ2 以上加工閾値以下のエネルギー密度のレ
ーザ照射でも十分凹凸形状が形成されるばかりか、ＣＳ
Ｓ特性に優れた突起部の大きさや出現頻度を選択的に設
定できる利点がある。本発明により、高記録密度／高耐
久性を要求される次世代ＨＤにおける、高効率で制御性
に優れたテクスチャ処理技術が得られる。
【図１】基板加工におけるレーザエネルギ密度と加工深
さとの関係を示す相関図である。
さとの関係を示す相関図である。
【図２】本発明においてガラス基板に形成されるテクス
チャの拡大側面図であり、（Ａ）本発明において形成さ
れる突起部の形状、（Ｂ）加工閾値以上のエネルギー密
度で形成される凹部の形状である。
チャの拡大側面図であり、（Ａ）本発明において形成さ
れる突起部の形状、（Ｂ）加工閾値以上のエネルギー密
度で形成される凹部の形状である。
【図３】レーザパルスビームとレーザシングルビームと
でソーダライムガラス表面に形成されるテクスチャの相
違を示すもので、図２で示す凹凸形状の割合と基板に照
射されるレーザエネルギー密度との関係を示す相関図で
ある。
でソーダライムガラス表面に形成されるテクスチャの相
違を示すもので、図２で示す凹凸形状の割合と基板に照
射されるレーザエネルギー密度との関係を示す相関図で
ある。
Claims (1)
- 【請求項１】 ガラス基板を用いた磁気記録媒体の製造
方法において、磁性層等の成膜に先だって、紫外線レー
ザを用い、基板に対して０．０１Ｊ／ｃｍ2 以上加工閾
値以下のエネルギー密度の当該レーザパルスビームを２
回以上１０００回以下連続照射することにより、テクス
チャ加工を施すことを特徴とする磁気記録媒体の製造方
法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15672295A JPH0935257A (ja) | 1995-03-24 | 1995-06-01 | 磁気記録媒体の製造方法 |
| US08/621,450 US5582878A (en) | 1995-03-24 | 1996-03-25 | Process for producing magnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8999195 | 1995-03-24 | ||
| JP7-142410 | 1995-05-18 | ||
| JP7-89991 | 1995-05-18 | ||
| JP14241095 | 1995-05-18 | ||
| JP15672295A JPH0935257A (ja) | 1995-03-24 | 1995-06-01 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0935257A true JPH0935257A (ja) | 1997-02-07 |
Family
ID=27306288
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15672295A Pending JPH0935257A (ja) | 1995-03-24 | 1995-06-01 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0935257A (ja) |
-
1995
- 1995-06-01 JP JP15672295A patent/JPH0935257A/ja active Pending
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