JPH093687A - Pretreatment method for plating and the same equipment - Google Patents

Pretreatment method for plating and the same equipment

Info

Publication number
JPH093687A
JPH093687A JP15807595A JP15807595A JPH093687A JP H093687 A JPH093687 A JP H093687A JP 15807595 A JP15807595 A JP 15807595A JP 15807595 A JP15807595 A JP 15807595A JP H093687 A JPH093687 A JP H093687A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
work
treatment liquid
liquid
processing
processing liquid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP15807595A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masaaki Isobe
正章 磯部
Masayuki Watanabe
誠之 渡辺
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Yamaha Motor Co Ltd
Original Assignee
Yamaha Motor Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Yamaha Motor Co Ltd filed Critical Yamaha Motor Co Ltd
Priority to JP15807595A priority Critical patent/JPH093687A/en
Publication of JPH093687A publication Critical patent/JPH093687A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • ing And Chemical Polishing (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 中空状のワークの内面にめっき前処理を施し
てそれ以外の部分に処理液が付着することを避けるた
め、中空状のワーク内に処理液を供給して所定時間滞留
させるようにし、この場合にワーク内の処理液の温度を
適温に保ち、前処理を良好に行うことができるようにす
る。 【構成】 ワーク1であるシリンダブロックを処理装置
本体10のワーク支持部11上に設置するとともに、こ
のワーク1のシリンダボア1a内にヒーター12を配置
した後、処理液を上記ワーク1内に供給して上記シリン
ダボア1aに満たす。そして、この処理液を上記ヒータ
ー12で加熱して所定温度に保ちつつワーク1内に所定
時間滞留させることでシリンダボア周面に前処理を施
し、所定時間後にワーク1内から処理液を排出する。
(57) [Summary] [Purpose] In order to prevent pretreatment of plating on the inner surface of a hollow work and to prevent the treatment liquid from adhering to the other parts, supply the treatment liquid into the hollow work to determine In this case, the temperature of the treatment liquid in the work is kept at an appropriate temperature so that the pretreatment can be favorably performed. [Structure] A cylinder block which is a work 1 is installed on a work supporting portion 11 of a processing apparatus main body 10, a heater 12 is arranged in a cylinder bore 1a of the work 1, and a treatment liquid is supplied into the work 1. To fill the cylinder bore 1a. Then, the treatment liquid is heated by the heater 12 and kept at a predetermined temperature and retained in the work 1 for a predetermined time to pretreat the cylinder bore peripheral surface, and after a predetermined time, the treatment liquid is discharged from the work 1.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、エンジンのシリンダブ
ロック等の中空状のワークの内面にめっきのための前処
理を施すめっき前処理方法及び同装置に関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plating pretreatment method and apparatus for pretreating the inner surface of a hollow work such as an engine cylinder block for plating.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に金属表面に電気めっきを施すめっ
きシステムにおいては、めっき処理に先立って、脱脂、
アルカリエッチング、混酸エッチング等の各種前処理
が、それぞれに応じた処理液を用いて行われる。
2. Description of the Related Art Generally, in a plating system for electroplating a metal surface, degreasing and
Various pretreatments such as alkali etching and mixed acid etching are performed by using treatment liquids corresponding to the respective pretreatments.

【0003】従来、このようなめっき前処理の方法とし
ては、比較的大型の処理層内に処理液を貯留させ、この
処理槽内にワークを搬入して処理液にワークを漬浸させ
るようにしたものが、一般に知られている。
Conventionally, as a method of such a pretreatment for plating, the treatment liquid is stored in a relatively large treatment layer, and the work is carried into the treatment tank to immerse the work in the treatment liquid. What is done is generally known.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところで、中空状のワ
ークの内面にめっきを施す場合、上記前処理を施す必要
があるのはワークの内面だけであるが、このような場合
の前処理においても、従来では、処理を簡易に行うため
ワーク全体を処理液に漬浸させるようにしているのが一
般的である。
By the way, when plating the inner surface of a hollow work, it is only the inner surface of the work that needs to be subjected to the above-mentioned pretreatment. Conventionally, in general, the whole work is immersed in the processing liquid in order to perform the processing easily.

【0005】しかし、このようにすると、処理後に処理
槽から取り出されるワークに付着して持ち出される処理
液の量が多くなるため、経済性が悪く、かつ、処理後の
ワーク洗浄作業が面倒なものとなり、しかも、ワークを
漬浸されるための大容量の処理槽が必要となって、シス
テムが大型化する等の問題がある。
However, in such a case, the amount of the processing liquid adhering to the work taken out from the processing tank after the processing and taken out becomes large, so that the economical efficiency is poor and the work cleaning work after the processing is troublesome. In addition, a large-capacity processing tank for immersing the work is required, and there is a problem that the system becomes large.

【0006】このような問題の対策として、ワーク(例
えばシリンダブロック)をワーク支持部に支持させて、
ワークの中空部(例えばシリンダボア)の下端開口部を
閉鎖した状態で、処理液貯留部からワーク内に処理液を
供給し、上記中空部に処理液を満たしてこの状態を一定
時間保持することでワーク内面(シリンダボア周面)に
前処理を施した後、ワーク内から処理液を排出するよう
な方法が考えられる。このようにすると、前処理を施す
べきワーク内面にのみ処理液が接するため、処理後にワ
ークに付着して持ち出される処理液の量が少なくなり、
また、ワークを漬浸させる処理槽が不要となる。
As a measure against such a problem, a work (for example, a cylinder block) is supported by a work supporting portion,
With the lower end opening of the hollow part (for example, cylinder bore) of the work closed, the process liquid is supplied from the process liquid storage part into the work, and the hollow part is filled with the process liquid and kept in this state for a certain period of time. A method is conceivable in which the inner surface of the work (peripheral surface of the cylinder bore) is pretreated and then the processing liquid is discharged from the inner surface of the work. In this way, since the treatment liquid contacts only the inner surface of the work to be pretreated, the amount of treatment liquid adhering to the work and taken out after the treatment is reduced,
Further, a treatment tank for immersing the work is unnecessary.

【0007】ただし、処理液を所定温度に加熱した状態
で用いることが要求されるアルカリエッチング処理等に
このような方法を適用する場合、処理液を貯留部等にお
いて予め所定温度に加熱した状態で上記ワーク内に供給
しても、ワークの中空部に処理液が滞留している間にワ
ーク等に熱を奪われて処理液の温度が低下し、これによ
って前処理の性能が低下するおそれがあるという問題が
生じる。
However, when such a method is applied to an alkali etching process or the like which requires the treatment liquid to be heated to a predetermined temperature, the treatment liquid should be preheated to a predetermined temperature in a reservoir or the like. Even when supplied to the work, heat may be taken by the work or the like while the treatment liquid is retained in the hollow portion of the work to lower the temperature of the treatment liquid, which may reduce the pretreatment performance. The problem arises that there is.

【0008】本発明は、上記の事情に鑑み、中空状のワ
ーク内に処理液を供給して所定時間滞留させるようにす
ることにより、ワークの内面以外の部分に処理液が付着
することを避けつつワーク内面にめっき前処理を施すこ
とができ、しかも、ワーク内での処理液の温度を適温に
保って、前処理を良好に行うことができるめっき前処理
方法及び同装置を提供することを目的とする。
In view of the above situation, the present invention avoids the treatment liquid from adhering to a portion other than the inner surface of the work by supplying the treatment liquid into the hollow work and allowing it to stay for a predetermined time. At the same time, it is possible to provide a pretreatment for plating and an apparatus for the same, which can pretreat the inner surface of the workpiece and can maintain the temperature of the treatment liquid in the workpiece at an appropriate temperature to perform favorable pretreatment. To aim.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】請求項1に係る発明は、
中空状のワークの内面にめっきのための前処理を施す方
法であって、上記ワークを処理装置本体のワーク支持面
上に設置するとともに、このワークの中空部内にヒータ
ーを配置した後、処理液を上記ワーク内に供給して上記
中空部に満たし、この処理液を上記ヒーターで加熱して
所定温度に保ちつつワーク内に所定時間滞留させた後
に、ワーク内から処理液を排出するようにしたものであ
る。
The invention according to claim 1 is
A method of performing pretreatment for plating on the inner surface of a hollow work, wherein the work is set on the work supporting surface of the processing apparatus main body, and a heater is placed in the hollow portion of this work solution, Was supplied into the work to fill the hollow portion, and the treatment liquid was discharged from the work after the treatment liquid was heated by the heater and kept at the predetermined temperature for a predetermined time in the work. It is a thing.

【0010】また、請求項2に係る発明は、中空状のワ
ークの内面にめっきのための前処理を施す装置であっ
て、処理装置本体に、ワークの中空部の下端側開口部を
閉塞する状態にワークを支持するワーク支持部と、上記
ワーク支持部上にワークが支持されたときにその中空部
内に突入するヒーターとを設けるとともに、処理液貯留
部から処理液をポンプを介して上記ワーク支持部上のワ
ーク内に供給する処理液供給通路と、このワーク内から
処理液を排出する処理液排出通路と、上記処理液供給通
路及び処理液排出通路をそれぞれ開閉するバルブとを備
えたものである。
The invention according to claim 2 is an apparatus for performing a pretreatment for plating on an inner surface of a hollow work, wherein the processing apparatus main body closes a lower end side opening of the hollow portion of the work. A work supporting part that supports the work in a state, and a heater that protrudes into the hollow part when the work is supported on the work supporting part, and the work solution is pumped from the processing solution storage part through the pump. A processing liquid supply passage for supplying the processing liquid on the support portion into the work, a processing liquid discharge passage for discharging the processing liquid from the work, and valves for opening and closing the processing liquid supply passage and the processing liquid discharge passage, respectively. Is.

【0011】この装置において、上記処理液供給通路を
開くとともに上記ポンプを作動させることによるワーク
内への処理液の供給と、処理液供給量が所定量に達した
ときに処理液の供給を停止するとともに上記処理液供給
通路及び処理液排出通路を閉じることによるワーク内の
処理液滞留状態の保持と、処理液排出通路を開くことに
よる処理液の排出とを順次行わせるように上記バルブ及
びポンプを制御し、かつ、少なくとも上記ワーク内に処
理液が滞留しているときに上記ヒーターへの通電を行う
制御手段を備えていること(請求項3)が好ましい。
In this apparatus, the supply of the processing liquid into the work by opening the processing liquid supply passage and operating the pump and stopping the supply of the processing liquid when the supply amount of the processing liquid reaches a predetermined amount. In addition, the valve and the pump are arranged so that the processing liquid retention state in the work is maintained by closing the processing liquid supply passage and the processing liquid discharge passage, and the processing liquid is discharged by opening the processing liquid discharge passage. It is preferable to include a control means for controlling the above, and for energizing the heater at least when the treatment liquid remains in the work (claim 3).

【0012】[0012]

【作用】上記請求項1の方法によると、処理液の貯留部
から中空状のワーク内に処理液が供給されて上記中空部
に処理液が満たされ、この状態で所定時間だけワーク内
に処理液が滞留されることによりワーク内面に前処理が
施される。そして、ワークの他の部分に処理液が付着す
ることが避けられ、ワークに付着して持ち出される処理
液の量が少なくなる。また、上記のようにワーク内に処
理液が滞留されているときに、その処理液が上記ヒータ
ーによって加熱されることにより、滞留時間中の処理液
の温度低下が防止され、処理液が適温に保たれる。
According to the method of claim 1, the treatment liquid is supplied from the treatment liquid storage portion into the hollow work to fill the hollow portion with the treatment liquid, and in this state, the treatment is performed in the work for a predetermined time. By preserving the liquid, the inner surface of the work is pretreated. Then, the treatment liquid is prevented from adhering to other parts of the work, and the amount of the treatment liquid adhering to and carried out from the work is reduced. Further, when the treatment liquid is retained in the work as described above, the treatment liquid is heated by the heater, so that the temperature drop of the treatment liquid during the retention time is prevented and the treatment liquid is kept at an appropriate temperature. To be kept.

【0013】上記請求項2の装置によると、ワーク支持
部上にワークが支持されたときにその中空部内に上記ヒ
ーターが突入し、この状態で上記処理液供給通路のバル
ブが開かれるとともに上記ポンプが駆動されることによ
り上記貯留部からワーク内に処理液が供給され、所定量
の処理液が供給されると上記処理液供給通路が閉じられ
てワーク内に処理液が滞留し、かつ、ヒーターに通電さ
れることにより処理液が所定温度に保たれ、その後に処
理液排出通路のバルブが開かれることによりワーク内か
ら処理液が排出される。
According to the apparatus of the second aspect, when the work is supported on the work supporting portion, the heater projects into the hollow portion, and in this state, the valve of the treatment liquid supply passage is opened and the pump is provided. Is driven to supply the processing liquid into the work from the reservoir, and when a predetermined amount of the processing liquid is supplied, the processing liquid supply passage is closed to retain the processing liquid in the work, and the heater The treatment liquid is kept at a predetermined temperature by being energized, and then the treatment liquid is discharged from the inside of the work by opening the valve of the treatment liquid discharge passage.

【0014】とくに、上記ポンプ及びバルブの作動並び
にヒーターへの通電を制御する制御手段を設けると、上
記のような方法が自動的に行われる。
Particularly, when the control means for controlling the operation of the pump and the valve and the energization of the heater are provided, the above method is automatically performed.

【0015】[0015]

【実施例】本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
図1は、本発明が適用される前処理部を含むめっき処理
システム全体の概略を示している。このめっき処理シス
テムにおいては、各種前処理部A〜Dと、めっき処理部
Eと、乾燥部Fとが作業順序に対応する配列でめっき処
理ラインに沿って配列されている。具体的には、脱脂処
理部A、アルカリエッチング処理部B、混酸エッチング
処理部C、アルマイト処理部D、めっき処理部E及び乾
燥部Fがこの順序に配列されている。
An embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 shows an outline of an entire plating processing system including a pretreatment section to which the present invention is applied. In this plating processing system, various pretreatment units A to D, a plating processing unit E, and a drying unit F are arranged along the plating processing line in an arrangement corresponding to the work order. Specifically, the degreasing processing section A, the alkali etching processing section B, the mixed acid etching processing section C, the alumite processing section D, the plating processing section E, and the drying section F are arranged in this order.

【0016】上記各処理部A〜Eにはそれぞれ処理液回
収槽及び水洗槽等からなる水洗部Ga,Gb,Gc,G
d,Geが付属している。また、めっき処理ラインの始
端側にはワーク投入部2が設けられ、めっき処理ライン
の終端側にはワーク搬出部3が設けられている。さら
に、搬送ラインの上方には、ワーク1を搬送ラインに沿
って搬送する搬送手段4が装備されている。
Each of the processing sections A to E has a washing section Ga, Gb, Gc, G including a treating solution recovery tank and a washing tank.
d and Ge are attached. Further, the work input part 2 is provided on the starting end side of the plating processing line, and the work unloading part 3 is provided on the end side of the plating processing line. Further, above the carrying line, a carrying means 4 for carrying the work 1 along the carrying line is provided.

【0017】さらに、上記各前処理部A〜Dに対し、そ
れぞれに応じた処理液の貯留部や処理液供給用のポン
プ、処理液給排用の配管などからなる処理液給排設備5
A,5B,5C,5Dが配設され、また、めっき処理部
Eに対してもめっき液の貯留部やポンプ、配管等からな
るめっき液給排設備5Eが設けられている。
Further, for each of the pretreatment units A to D, a treatment liquid supply / discharge facility 5 including a treatment liquid storage portion, a treatment liquid supply pump, a treatment liquid supply / discharge pipe, and the like is provided.
A, 5B, 5C, 5D are arranged, and a plating solution supply / discharge facility 5E including a plating solution storage section, a pump, a pipe and the like is provided for the plating processing section E as well.

【0018】図2は本発明の装置の一実施例を示してお
り、この装置は、上記めっきシステムにおける脱脂処理
部A、アルカリエッチング処理部B、混酸エッチング処
理部C等の前処理部に適用される。また、この図では、
ワーク1として自動車用等の直列4気筒エンジンわ示し
ており、このワーク1は、直列配置の4つのシリンダボ
ア(中空部)1aが形成された部分とクランクケース1
bとを一体に備え、上記各シリンダボア1aは両端がヘ
ッド側及びクランクケース1b側に開口している。
FIG. 2 shows an embodiment of the apparatus of the present invention. This apparatus is applied to a pretreatment section such as a degreasing treatment section A, an alkali etching treatment section B and a mixed acid etching treatment section C in the plating system. To be done. Also in this figure,
As the work 1, an in-line four-cylinder engine for an automobile or the like is shown. The work 1 includes a crankcase 1 and a portion in which four cylinder bores (hollow portions) 1a arranged in series are formed.
b is integrally provided, and both ends of each of the cylinder bores 1a are open to the head side and the crankcase 1b side.

【0019】この図において、処理装置本体10は、上
記ワーク1を支持するワーク支持部11と、上記ワーク
1の各シリンダボア1aに対応するように所定間隔おき
に配置された4個のヒーター12とを備え、この各ヒー
ター12がワーク支持部11から上方に突出している。
そして、上記シリンダブロックからなるワーク1が、車
両への搭載時とは上下逆の状態、つまりクランクケース
1bを上に向けた状態で上記ワーク支持部11に載置さ
れ、この状態で上記各シリンダボア1aの下端側(ヘッ
ド側)の開口部がワーク支持部11の上面によって閉塞
されるとともに、各シリンダボア1a内に上記ヒーター
12が突入するようになっている。また、上記各ヒータ
ー12は温度調節器19に電気的に接続され、制御手段
(ECU)20により温度調節器19を介してヒーター
12への通電が制御されるようになっている。
In the figure, the processing apparatus main body 10 includes a work supporting portion 11 for supporting the work 1 and four heaters 12 arranged at predetermined intervals so as to correspond to the cylinder bores 1a of the work 1. And each heater 12 projects upward from the work support 11.
Then, the work 1 composed of the cylinder block is placed on the work support portion 11 in an upside down state when mounted on a vehicle, that is, with the crankcase 1b facing upward, and in this state, the respective cylinder bores are placed. The opening on the lower end side (head side) of 1a is closed by the upper surface of the work support portion 11, and the heater 12 is projected into each cylinder bore 1a. Further, each of the heaters 12 is electrically connected to a temperature controller 19, and the control means (ECU) 20 controls energization of the heater 12 via the temperature controller 19.

【0020】上記処理装置本体10の構造を図3によっ
て具体的に説明すると、処理装置本体10におけるワー
ク支持部11の上面には、ワーク1が上記状態に載置さ
れたときにそのシリンダボア1aのヘッド側開口部周辺
に当接する環状のシールリング13が設けられるととも
に、その内方に、ねじ穴等からなるヒーター取付部14
が設けられ、このヒーター取付部14に、上記ヒーター
12の下端部が螺着等によって固定されている。
The structure of the processing apparatus main body 10 will be described in detail with reference to FIG. An annular seal ring 13 that abuts around the head-side opening is provided, and a heater mounting portion 14 including a screw hole or the like is provided inside thereof.
Is provided, and the lower end of the heater 12 is fixed to the heater mounting portion 14 by screwing or the like.

【0021】上記ヒーター12は、当実施例では後述の
ように処理液の消費量を節減するためのスペーサを兼ね
るようになっており、円柱状に形成され、ワーク支持部
11上にワーク1が載置されてそのシリンダボア1a内
にヒーター12が突入した状態で、シリンダボア1a内
の空間の大部分をヒーター12が占有して、ヒーター1
2の外周面とシリンダボア1aの周面との間に一定(例
えば3mm程度)の空隙15が形成されるように、ヒータ
ー12の高さ及び径が設定されている。
In the present embodiment, the heater 12 also serves as a spacer for reducing the consumption of the processing liquid, as will be described later, and is formed in a cylindrical shape so that the work 1 is placed on the work supporting portion 11. The heater 12 occupies most of the space in the cylinder bore 1a in a state where the heater 12 is mounted and the heater 12 projects into the cylinder bore 1a.
The height and diameter of the heater 12 are set so that a constant (for example, about 3 mm) space 15 is formed between the outer peripheral surface of the cylinder 2 and the peripheral surface of the cylinder bore 1a.

【0022】さらに上記ワーク支持部11には、図2中
に示す処理液供給管(処理液供給通路)21及び処理液
排出管(処理液排出通路)22に接続される液流通孔1
6が形成され、この液流通孔16が上記空隙15に通じ
るようにスペーサ12とシールリング14との間の部分
に開口している。
Further, in the work support portion 11, a liquid flow hole 1 connected to a processing liquid supply pipe (processing liquid supply passage) 21 and a processing liquid discharge pipe (processing liquid discharge passage) 22 shown in FIG.
6 is formed, and the liquid circulation hole 16 is opened at a portion between the spacer 12 and the seal ring 14 so as to communicate with the gap 15.

【0023】なお、例えば自動二輪車用の単気筒エンジ
ンのシリンダブロックをワーク1とする場合には、それ
に対応させて1個のヒーター12とシールリング13、
液流通孔16等を処理装置本体10に配設し、あるい
は、このようなワーク1をワーク支持部11上に複数個
並べて同時に処理すべく、各ワーク1に対応する複数箇
所に上記ヒーター12、シールリング13、液流通孔1
6の開口部等を配設しておけばよく、また、4気筒エン
ジン等の多気筒エンジンのシリンダブロックをワーク1
とする場合は、その各気筒に対応する複数箇所に上記ヒ
ーター12、シールリング13、液流通孔16の開口部
等を配設しておけばよい。また。図3に示す例では、ス
ペーサ12とシールリング14との間の部分の1箇所に
液流通孔16が開口し、この液流通孔16が三方電磁弁
17を介して処理液供給管21及び処理液排出管22に
接続されているが、図2中に示すように処理液供給管2
1に接続される液流通孔16aと処理液排出管22に接
続される液流通孔16bとを個別に形成してもよい。
For example, when the work 1 is a cylinder block of a single-cylinder engine for a motorcycle, one heater 12 and a seal ring 13 are correspondingly provided.
In order to dispose the liquid flow holes 16 and the like in the processing apparatus main body 10 or to arrange a plurality of such works 1 on the work supporting portion 11 and process them simultaneously, the heaters 12 are provided at a plurality of locations corresponding to the respective works 1. Seal ring 13, liquid circulation hole 1
6 openings may be provided, and a cylinder block of a multi-cylinder engine such as a 4-cylinder engine may be used as the work 1
In such a case, the heater 12, the seal ring 13, the openings of the liquid circulation holes 16 and the like may be arranged at a plurality of locations corresponding to the respective cylinders. Also. In the example shown in FIG. 3, the liquid flow hole 16 is opened at one position between the spacer 12 and the seal ring 14, and the liquid flow hole 16 is connected via the three-way solenoid valve 17 to the processing liquid supply pipe 21 and the processing liquid. Although connected to the liquid discharge pipe 22, as shown in FIG.
The liquid circulation hole 16a connected to 1 and the liquid circulation hole 16b connected to the processing liquid discharge pipe 22 may be formed separately.

【0024】また、上記処理装置本体10に対し、図2
中に示すように、処理液貯留部としての処理液タンク3
1,32を備えた処理液供給部30が設けられ、この処
理液供給部30と上記処理装置本体10との間に上記処
理液供給管21が配設されている。さらに当実施例で
は、使用済の処理液(廃液)を回収するための廃液タン
ク41,42を備えた処理液回収部40が設けられ、こ
の処理液回収部40と処理装置本体10との間に上記処
理液排出管22が配設されている。
In addition, with respect to the processing apparatus body 10 shown in FIG.
As shown in the inside, the processing liquid tank 3 as a processing liquid storage unit
A processing liquid supply unit 30 including the processing liquid supply units 1 and 32 is provided, and the processing liquid supply pipe 21 is disposed between the processing liquid supply unit 30 and the processing apparatus main body 10. Further, in the present embodiment, a processing liquid recovery unit 40 including waste liquid tanks 41 and 42 for recovering the used processing liquid (waste liquid) is provided, and a space between the processing liquid recovery unit 40 and the processing apparatus main body 10 is provided. The processing liquid discharge pipe 22 is provided in the.

【0025】上記処理液供給管21には、エアー式定量
ポンプ等からなる処理液供給ポンプ23と、この管21
を流れる処理液の流量を積算して計測する積算流量計2
4と、この管21を開閉する電磁式のバルブ25とが介
設されている。一方、上記処理液排出管22には、この
管22を開閉する電磁式のバルブ26が介設されてい
る。そして、上記処理液供給ポンプ23、積算流量計2
4及び各バルブ25,26は上記制御手段20に電気的
に接続され、この制御手段20によって処理液供給ポン
プ23の作動及び各バルブ25,26の開閉作動が制御
されることにより、処理装置本体10に対する処理液の
給排が制御されるとともに、処理液供給時に積算流量計
24の出力に応じて処理液供給量が制御されるようにな
っている。
The processing liquid supply pipe 21 is provided with a processing liquid supply pump 23 such as an air type quantitative pump and the like.
Flow meter 2 that integrates and measures the flow rate of processing liquid flowing through
4 and an electromagnetic valve 25 that opens and closes the pipe 21 are interposed. On the other hand, the treatment liquid discharge pipe 22 is provided with an electromagnetic valve 26 for opening and closing the pipe 22. Then, the processing liquid supply pump 23 and the integrated flow meter 2
4 and the valves 25 and 26 are electrically connected to the control means 20, and the control means 20 controls the operation of the processing liquid supply pump 23 and the opening and closing operations of the valves 25 and 26, thereby the processing apparatus main body. The supply and discharge of the processing liquid to and from 10 are controlled, and the processing liquid supply amount is controlled according to the output of the integrated flow meter 24 when the processing liquid is supplied.

【0026】上記処理液供給部30は、2個の処理液タ
ンク31,32を自動交換可能に装備している。すなわ
ち、図4にも示すように、処理液供給部30には、一定
方向に移動可能とされて可動台駆動手段34に連結され
た可動台33が設けられ、この可動台33上に2個の処
理液タンク31,32が設置されている。図示の例で
は、各処理液タンク31,32がそれぞれ、可動台33
上に傾動可能に設けられた支持枠35に支持されてお
り、この支持枠35は傾動用駆動手段36に連結されて
いる。上記両処理液タンク31,32のうちの一方に
は、処理液供給管21の端部が差し込まれ、その先端の
吸込み口が処理液タンク31内の底部付近に達してお
り、タンク交換時には処理液供給管21の端部が脱着用
駆動手段37により引き上げられることで処理液タンク
31から離脱し得るようになっている。また、上記各処
理液タンク31,32に対し、タンク内の処理液の残量
を検出する液量検出手段38が設けられている。この液
量検出手段38は、例えばタンクの荷重を検出するロー
ドセルからなっている。
The processing liquid supply unit 30 is equipped with two processing liquid tanks 31 and 32 that can be automatically exchanged. That is, as shown in FIG. 4, the treatment liquid supply unit 30 is provided with a movable base 33 that is movable in a fixed direction and is connected to the movable base drive means 34. Two movable bases 33 are provided on the movable base 33. The processing liquid tanks 31 and 32 are installed. In the illustrated example, the processing liquid tanks 31 and 32 are respectively movable tables 33.
It is supported by a support frame 35 that is tiltable upward, and this support frame 35 is connected to a tilting drive means 36. The end of the treatment liquid supply pipe 21 is inserted into one of the two treatment liquid tanks 31 and 32, and the suction port at the tip of the treatment liquid supply pipe 21 reaches near the bottom of the treatment liquid tank 31. The end of the liquid supply pipe 21 is pulled up by the attachment / detachment drive means 37 so that it can be detached from the treatment liquid tank 31. A liquid amount detecting means 38 for detecting the remaining amount of the processing liquid in the tank is provided for each of the processing liquid tanks 31 and 32. The liquid amount detecting means 38 is composed of, for example, a load cell that detects the load of the tank.

【0027】一方、上記処理液回収部40も、2個の廃
液タンク41,42を自動交換可能に装備している。す
なわち、図2中に示すように、一定方向に移動可能とさ
れて可動台駆動手段44に連結された可動台43が設け
られ、この可動台43上に2個の廃液タンク41,42
が設置されている。両廃液タンク41,42のうちの一
方には、処理液回収管22の端部が差し込まれており、
タンク交換時にはこの処理液回収管22の端部が脱着用
駆動手段45により引き上げられることで廃液タンク4
1から離脱し得るようになっている。また、上記各廃液
タンク41,42に対し、ロードセルからなる液量検出
手段46が設けられている。
On the other hand, the processing liquid recovery section 40 is also equipped with two waste liquid tanks 41 and 42 so that they can be automatically replaced. That is, as shown in FIG. 2, a movable table 43 is provided which is movable in a fixed direction and is connected to a movable table driving means 44. On the movable table 43, two waste liquid tanks 41, 42 are provided.
Is installed. The end of the processing liquid recovery pipe 22 is inserted into one of the two waste liquid tanks 41 and 42.
At the time of tank replacement, the end portion of the processing liquid recovery pipe 22 is pulled up by the attachment / detachment drive means 45, so that the waste liquid tank 4
It is possible to leave from 1. A liquid amount detecting means 46 including a load cell is provided for each of the waste liquid tanks 41 and 42.

【0028】そして、上記処理液供給部30における各
駆動手段34,36,37及び液量検出手段38と上記
処理液回収部40における各駆動手段44,45及び液
量検出手段46は、制御手段20に電気的に接続され、
この制御手段20により、後に詳述するような液量検出
手段38の出力に応じた駆動手段34,36,37の制
御及び液量検出手段46の出力に応じた駆動手段44,
45の制御が行われるようになっている。
The driving means 34, 36, 37 and the liquid amount detecting means 38 in the processing liquid supply section 30 and the driving means 44, 45 and the liquid amount detecting means 46 in the processing liquid collecting section 40 are control means. Electrically connected to 20,
The control means 20 controls the driving means 34, 36, 37 according to the output of the liquid amount detecting means 38 and the driving means 44, according to the output of the liquid amount detecting means 46, which will be described in detail later.
The control of 45 is performed.

【0029】なお、上記処理液供給部30の処理液タン
ク31,32の容量は1日分の処理液消費量に見合う程
度とされ、例えばタンク1個の容量が20リットル程度
とされている。一方、上記処理液回収部40の廃液タン
ク41,42は、使用済の処理液と後述の回収処理に供
せられた洗浄水とを貯留すべく、容量が処理液タンク3
1,32の2倍の40リットル程度とされている。
The capacities of the processing liquid tanks 31 and 32 of the processing liquid supply unit 30 are set to be commensurate with the consumption amount of the processing liquid for one day. For example, the capacity of one tank is set to about 20 liters. On the other hand, the waste liquid tanks 41 and 42 of the treatment liquid recovery unit 40 have a capacity of the treatment liquid tank 3 so as to store the used treatment liquid and the cleaning water used for the recovery treatment described later.
It is about 40 liters, which is twice as large as 1,32.

【0030】また、上記処理液供給部30には、必要に
応じ、処理液タンクから供給される処理液を所定温度に
加熱する加熱手段が設けられる。
Further, the treatment liquid supply section 30 is provided with a heating means for heating the treatment liquid supplied from the treatment liquid tank to a predetermined temperature, if necessary.

【0031】さらに図2に示す装置には、上記処理装置
本体10に対し、処理液回収のための洗浄水供給手段が
設けられている。この洗浄水供給手段は、処理装置本体
10にワーク1が載置されたときにワーク1の各シリン
ダボア1aの上方に配置される洗浄水噴射用のノズル4
8と、イオン交換装置49から送られる洗浄水を上記各
ノズル48に導く洗浄水供給管50とを備え、この洗浄
水供給管50には、積算流量計51と、電磁式のバルブ
52とが介設されている。上記積算流量計51及びバル
ブ52は制御手段20に電気的に接続されている。
Further, the apparatus shown in FIG. 2 is provided with cleaning water supply means for recovering the processing liquid with respect to the processing apparatus main body 10. This cleaning water supply means is a nozzle 4 for injecting cleaning water, which is arranged above each cylinder bore 1a of the work 1 when the work 1 is placed on the processing apparatus body 10.
8 and a wash water supply pipe 50 that guides the wash water sent from the ion exchange device 49 to each of the nozzles 48. The wash water supply pipe 50 has an integrated flow meter 51 and an electromagnetic valve 52. It is installed. The integrating flowmeter 51 and the valve 52 are electrically connected to the control means 20.

【0032】上記イオン交換装置49からの洗浄水は水
洗部に設けられた水洗槽53にも送られ、水洗槽53か
らの排水はイオン交換原水槽54に送られるようになっ
ている。なお、上記ノズル48や水洗槽53に供給され
る洗浄水は、必ずしもイオン交換装置49によってイオ
ン交換したものである必要はなく、水道水等であっても
よい。
The washing water from the ion exchange device 49 is also sent to the washing tank 53 provided in the washing section, and the drainage water from the washing tank 53 is sent to the ion exchange raw water tank 54. The washing water supplied to the nozzle 48 or the washing tank 53 does not necessarily have to be ion-exchanged by the ion exchange device 49, and may be tap water or the like.

【0033】また、図2において、55は処理装置本体
10に対して設けられた局所排気ダクト、56は処理液
供給部30及び処理液回収部40に対して設けられた局
所排気ダクト、57は処理液の蒸発物を検出するセン
サ、58は上記センサ57による検出値が所定値以上の
ときに作動する非常用排風機である。
In FIG. 2, 55 is a local exhaust duct provided for the processing apparatus main body 10, 56 is a local exhaust duct provided for the processing liquid supply unit 30 and the processing liquid recovery unit 40, and 57 is a local exhaust duct. A sensor for detecting an evaporate of the treatment liquid, and 58 is an emergency exhaust fan that operates when the value detected by the sensor 57 is a predetermined value or more.

【0034】このような当実施例の装置を用いためっき
前処理の方法を、次に説明する。
A method of pretreatment for plating using the apparatus of this embodiment will be described below.

【0035】めっき前処理に際しては、搬送手段4によ
って搬送されたワーク1が上記処理装置本体10のワー
ク支持部11上に載置され、図外の固定手段によって固
定される。次いで、上記処理液排出管22のバルブ26
は閉じられた状態で、上記処理液供給管21のバルブ2
5が開かれるとともに処理液供給ポンプ23が駆動され
ることにより、上記処理液タンク31内の処理液が処理
液供給管21を通ってワーク1の各シリンダボア1a内
に供給される。
In the pretreatment for plating, the work 1 conveyed by the conveying means 4 is placed on the work supporting portion 11 of the processing apparatus main body 10 and fixed by a fixing means (not shown). Next, the valve 26 of the processing liquid discharge pipe 22
Valve 2 of the processing liquid supply pipe 21 in a closed state.
When 5 is opened and the processing liquid supply pump 23 is driven, the processing liquid in the processing liquid tank 31 is supplied into each cylinder bore 1a of the work 1 through the processing liquid supply pipe 21.

【0036】そして、図5に示すように上記各シリンダ
ボア1aの上端まで処理液が満たされる状態に至ったと
き、処理液の供給が停止される。つまり、シリンダボア
1aの容積及び上記ヒーター12の体積等に基づいて、
各シリンダボア1a内に処理液を満たすための必要供給
量が予め調べられ、積算流量計24によって計測される
処理液供給量が上記必要供給量に達したときに、上記バ
ルブ25が閉じられるとともに処理液供給ポンプ23の
駆動が停止される。それから所定時間だけ、処理液供給
管21のバルブ25と処理液排出管22のバルブ26と
がともに閉じられて、シリンダボア1a内に処理液が滞
留される。
Then, as shown in FIG. 5, when the processing liquid reaches the upper end of each cylinder bore 1a, the supply of the processing liquid is stopped. That is, based on the volume of the cylinder bore 1a, the volume of the heater 12, and the like,
The required supply amount for filling the processing liquid in each cylinder bore 1a is checked in advance, and when the processing liquid supply amount measured by the integrated flow meter 24 reaches the required supply amount, the valve 25 is closed and the processing is performed. The drive of the liquid supply pump 23 is stopped. Then, the valve 25 of the processing liquid supply pipe 21 and the valve 26 of the processing liquid discharge pipe 22 are closed for a predetermined time, and the processing liquid is retained in the cylinder bore 1a.

【0037】また、少なくともシリンダボア1a内に処
理液が滞留されている間は、温度調節器19を介して上
記ヒーター12に通電されることにより、シリンダボア
1a内の処理液が加熱されて、所定温度に保たれる。例
えば、めっき前処理が脱脂処理であれば50〜60°
C、アルカリエッチング処理であれば70°C程度、ア
ルマイト処理であれば55°C程度とされる。なお、上
記ヒーター12への通電12は、処理液の供給が行われ
ている期間などにも行うようにしてもよい。
Further, at least while the treatment liquid is retained in the cylinder bore 1a, the heater 12 is energized through the temperature controller 19 to heat the treatment liquid in the cylinder bore 1a to a predetermined temperature. Kept in. For example, if the plating pretreatment is a degreasing treatment, it is 50 to 60 °.
C, about 70 ° C. for alkali etching treatment, and about 55 ° C. for alumite treatment. It should be noted that the energization 12 to the heater 12 may be performed during the period when the treatment liquid is being supplied.

【0038】上記所定時間の経過後は、処理液排出管2
2のバルブ26が開かれることにより、上記ワーク1の
各シリンダボア1aから廃液が処理液排出管22を通っ
て廃液タンク41に回収される。
After the elapse of the predetermined time, the processing liquid discharge pipe 2
By opening the valve 26 of No. 2, the waste liquid is collected from each cylinder bore 1a of the work 1 into the waste liquid tank 41 through the processing liquid discharge pipe 22.

【0039】引き続いて、上記洗浄水供給管50のバル
ブ51が開かれることにより、イオン交換装置49ある
いは水道等から送られる洗浄水が上記ノズル48からワ
ーク1の各シリンダボア1a内に噴射され、この洗浄水
によってシリンダボア1aの周面やスペーサ12に付着
している残留廃液が洗い落される。そして、積算流量計
51で計測される洗浄水供給量が所定量に達すると上記
バルブ52が閉じられて洗浄水の供給が停止される。上
記シリンダボア1a内に噴射された洗浄水と残留廃液の
混合液は処理液排出管22を通って廃液タンク41に回
収される。
Subsequently, by opening the valve 51 of the cleaning water supply pipe 50, the cleaning water sent from the ion exchange device 49 or water supply is sprayed from the nozzle 48 into each cylinder bore 1a of the work 1, The residual waste liquid adhering to the peripheral surface of the cylinder bore 1a and the spacer 12 is washed off by the cleaning water. When the supply amount of cleaning water measured by the integrated flow meter 51 reaches a predetermined amount, the valve 52 is closed and the supply of cleaning water is stopped. The mixed liquid of the cleaning water and the residual waste liquid sprayed into the cylinder bore 1a is collected in the waste liquid tank 41 through the treatment liquid discharge pipe 22.

【0040】上記のような処理液供給ポンプ23及び各
バルブ25,26,52の作動並びにヒーター12への
通電は、上記制御手段20による制御で自動的に行われ
る。
The operation of the processing liquid supply pump 23 and the valves 25, 26, 52 and the energization of the heater 12 as described above are automatically performed under the control of the control means 20.

【0041】この方法によると、上記ワーク支持部11
上のワーク1のシリンダボア1aに処理液が供給される
ことにより、上記ワーク1の中で前処理を施すべきシリ
ンダボア周面にのみ処理液が接し、それ以外の部分に処
理液が付着することがないので、従来のように処理槽内
の処理液中にワークが漬浸される場合と比べ、ワーク1
に付着して持ち出される処理液の量が大幅に減少する。
従って、前処理後にワーク1に付着した処理液の回収、
洗浄等の作業が簡単になるとともに、ワーク1に付着し
て持ち出された処理液が蒸発して工場内に放出されるこ
とが抑制される。とくに、上記のように処理液排出後に
洗浄水をノズル46からシリンダボア1a内に供給する
ことで残留廃液を回収するようにすれば、処理液である
混酸の持出しが十分に抑制される。
According to this method, the work supporting portion 11 is
By supplying the treatment liquid to the cylinder bore 1a of the upper work 1, the treatment liquid may contact only the peripheral surface of the cylinder bore of the work 1 to be pretreated, and the treatment liquid may adhere to other portions. Since there is no work, compared to the case where the work is immersed in the processing liquid in the processing tank as in the conventional case, the work 1
The amount of processing liquid that adheres to and is carried out is greatly reduced.
Therefore, the recovery of the processing liquid adhering to the work 1 after the pretreatment,
Work such as cleaning is simplified, and the processing liquid attached to the work 1 and carried out is prevented from being evaporated and released into the factory. In particular, if the residual waste liquid is recovered by supplying the cleaning water from the nozzle 46 into the cylinder bore 1a after discharging the processing liquid as described above, the carry-out of mixed acid as the processing liquid is sufficiently suppressed.

【0042】また、上記ワーク支持部11上のワーク1
のシリンダボア1aに供給された処理液は所定時間だけ
シリンダボア1aに滞留され、その間にシリンダボア1
aの周面に前処理が施されるが、このときに、処理液本
体10に設けられたヒーター12がシリンダボア1a内
に位置し、このヒーター12に通電されることにより、
処理液滞留時間中にシリンダボア1a内の処理液が適温
に保たれる。つまり、処理液を所定温度に加熱した状態
で使用することが要求されるアルカリエッチング等の前
処理においては、処理液供給側に設けた加熱手段により
予め所定温度に加熱した処理液をワーク内に供給したと
しても、処理液滞留時間中に放熱によって処理液の温度
が低下するおそれがあるが、本発明ではワーク1内に位
置するヒーター12によって処理液が加熱されることに
より、処理液滞留時間中の処理液の温度低下が防止され
る。そしてこのように処理液が適温に保たれることによ
り、前処理が良好に行われる。
Further, the work 1 on the work supporting portion 11
The processing liquid supplied to the cylinder bore 1a is retained in the cylinder bore 1a for a predetermined time, and the cylinder bore 1a
The peripheral surface of a is pretreated, but at this time, the heater 12 provided in the treatment liquid body 10 is located in the cylinder bore 1a, and the heater 12 is energized,
The treatment liquid in the cylinder bore 1a is maintained at an appropriate temperature during the treatment liquid retention time. That is, in the pretreatment such as alkali etching which requires that the treatment liquid is heated to a predetermined temperature, the treatment liquid preheated to the predetermined temperature by the heating means provided on the treatment liquid supply side is placed in the work. Even if supplied, the temperature of the treatment liquid may decrease due to heat radiation during the treatment liquid retention time. However, in the present invention, the treatment liquid is heated by the heater 12 located in the work 1, so that the treatment liquid retention time is increased. The temperature drop of the processing liquid inside is prevented. The pretreatment is favorably performed by keeping the treatment liquid at an appropriate temperature in this way.

【0043】この場合、処理液供給側に加熱手段を設け
ずに上記ヒーター12によりワーク1内で処理液の温度
を所定温度まで上昇させるようにしてもよいが、処理液
供給側に加熱手段を設けることにより予め所定温度に加
熱した処理液をワーク1内に供給するようにした上で、
上記ヒーター12により処理液を所定温度に保つ程度に
加熱する方が、前処理の効率や精度等の面で好ましい。
In this case, the heater 12 may be used to raise the temperature of the treatment liquid to a predetermined temperature in the work 1 without providing a heating means on the treatment liquid supply side. By providing the treatment liquid which has been heated to a predetermined temperature in advance by providing the workpiece 1,
It is preferable to heat the treatment liquid to a predetermined temperature with the heater 12 in terms of efficiency and accuracy of pretreatment.

【0044】また、当実施例では、上記所定時間経過後
にワーク1から排出される処理液が処理液回収部40の
廃液タンク41に回収されるようにするとともに、上記
ヒーター12がスペーサを兼ねるようにしているため、
処理液を貯留するタンクの小型化等に有利となる。
Further, in the present embodiment, the treatment liquid discharged from the work 1 after the predetermined time has passed is collected in the waste liquid tank 41 of the treatment liquid collecting section 40, and the heater 12 also serves as a spacer. Because
This is advantageous for downsizing of the tank that stores the processing liquid.

【0045】すなわち、後記の図6に示す実施例のよう
に処理液貯留槽70からワーク1内に処理液を供給する
とともに処理後にワーク1内から排出される処理液を貯
留槽70に戻すようにした場合は、液質安定化のために
貯留槽70の処理液貯留量をある程度多くしておく必要
があるが、当実施例のようにワーク1から排出される処
理液を処理液回収部40に回収するようにしておくと、
処理液供給部30における処理液貯留量を液質安定化の
ために多くする必要はなく、1日分等の一定作業期間の
ワーク処理量に応じた消費量に見合う程度の処理液を貯
留させておけばよい。しかも、上記ヒーター12がスペ
ーサを兼ね、シリンダボア1a内において処理液を満た
すべき空間を減少させているため、混酸の消費量が節減
され、これに伴い、処理液供給部30における処理液タ
ンク31,32の容量及び処理液回収部40における廃
液タンク41,42の容量を小さくことができる。これ
に伴い、処理液の管理や取り扱いが容易になる。
That is, as in the embodiment shown in FIG. 6 described later, the processing liquid is supplied from the processing liquid storage tank 70 into the work 1 and the processing liquid discharged from the inside of the work 1 after the processing is returned to the storage tank 70. In such a case, it is necessary to increase the storage amount of the processing liquid in the storage tank 70 to some extent in order to stabilize the liquid quality, but the processing liquid discharged from the work 1 is treated by the processing liquid recovery unit as in the present embodiment. If you try to collect it in 40,
It is not necessary to increase the amount of the processing liquid stored in the processing liquid supply unit 30 in order to stabilize the liquid quality. You can leave it. Moreover, since the heater 12 also serves as a spacer and reduces the space to be filled with the treatment liquid in the cylinder bore 1a, the consumption amount of mixed acid is reduced, and accordingly, the treatment liquid tank 31, 31 The capacity of 32 and the capacity of the waste liquid tanks 41 and 42 in the processing liquid recovery unit 40 can be reduced. Along with this, the management and handling of the processing liquid becomes easy.

【0046】さらに当実施例では、処理液の消費に応じ
た処理液タンク31,32の交換等の作業及び廃液タン
ク41,42の交換作業が自動的に行われる。
Further, in this embodiment, the work such as the replacement of the processing liquid tanks 31 and 32 and the replacement of the waste liquid tanks 41 and 42 according to the consumption of the processing liquid are automatically performed.

【0047】すなわち、搬送手段4により次々に送られ
てくるワーク1に対してめっき前処理が繰り返されるこ
とにより、処理液供給部30では、処理液供給管21が
接続されている一方の処理液タンク31内の処理液が次
第に減少するが、先ずタンク31内の処理液の残量が所
定値以下になったことが液量検出手段38によって検出
されると、タンク31に対する傾動用駆動手段36が駆
動されることにより、図2及び図4に示すようにタンク
31が傾けられ、処理液供給管21の吸込み口側に処理
液が集められる。さらに、タンク31内の処理液が殆ど
なくなったことが検出されると、タンク31が通常姿勢
に戻されるとともに、脱着用駆動手段37が駆動される
ことにより処理液供給管21の端部がタンク31から離
脱された後、交換用駆動手段34が駆動されることによ
り、図4中に二点鎖線で示すように他方の処理液タンク
32が処理液供給管21に対応する位置まで可動台33
が移動し、このタンク32に処理液供給管21が接続さ
れる。
That is, the pretreatment for plating is repeated for the works 1 sent one after another by the carrying means 4, so that in the treatment liquid supply section 30, one treatment liquid to which the treatment liquid supply pipe 21 is connected. Although the processing liquid in the tank 31 gradually decreases, first, when the liquid amount detecting means 38 detects that the remaining amount of the processing liquid in the tank 31 is below a predetermined value, the tilting driving means 36 with respect to the tank 31. 2 is driven, the tank 31 is tilted, and the processing liquid is collected at the suction port side of the processing liquid supply pipe 21. Further, when it is detected that the processing liquid in the tank 31 is almost exhausted, the tank 31 is returned to the normal posture, and the attachment / detachment driving means 37 is driven, so that the end portion of the processing liquid supply pipe 21 is moved to the tank. After being separated from 31, the replacement drive means 34 is driven to move the other processing liquid tank 32 to the position corresponding to the processing liquid supply pipe 21 as shown by the two-dot chain line in FIG.
Moves, and the processing liquid supply pipe 21 is connected to the tank 32.

【0048】また、上記前処理が繰り返されることによ
り、処理液回収部40では、処理液排出管22が接続さ
れている一方の廃液タンク41内の廃液が次第に増加す
るが、このタンク41が満タン状態になったことが液量
検出手段46によって検出されると、脱着用駆動手段4
5が駆動されることにより処理液排出管22の端部がタ
ンク41から離脱された後、交換用駆動手段44が駆動
されることにより、他方の廃液タンク42が処理液排出
管22に対応する位置まで可動台43が移動し、このタ
ンク42に処理液排出管22が接続される。
Further, by repeating the above-described pretreatment, the waste liquid in the waste liquid tank 41 to which the treatment liquid discharge pipe 22 is connected is gradually increased in the treatment liquid recovery section 40, but the tank 41 is full. When the liquid amount detecting means 46 detects that the tongue state has been reached, the detachment driving means 4
After the end portion of the processing liquid discharge pipe 22 is separated from the tank 41 by driving 5, the replacement driving means 44 is driven and the other waste liquid tank 42 corresponds to the processing liquid discharge pipe 22. The movable table 43 moves to the position, and the processing liquid discharge pipe 22 is connected to the tank 42.

【0049】上記ような処理液供給部30における各駆
動手段34,36,37の駆動及び処理液回収部40に
おける各駆動手段44,45の駆動も、制御手段20に
よる制御で自動的に行われる。
The drive of the drive means 34, 36, 37 in the treatment liquid supply section 30 and the drive means 44, 45 in the treatment liquid recovery section 40 are automatically performed by the control of the control means 20. .

【0050】図6は、本発明のめっき前処理装置の別の
実施例を示している。この実施例でも、処理装置本体6
0は、ワーク支持部61と、上記ワーク1の各シリンダ
ボア1aに対応するように所定間隔おきに配置されて、
ワーク支持部61から上方に突出しているヒーター62
とを備え、ワーク支持部61にはワーク1の各シリンダ
ボア1aに通じる液流通孔64a,65aが形成されて
おり、処理液供給管64及び処理液排出管65に上記液
流通孔64a,65aが接続されている。上記ヒーター
62は温度調節器63に電気的に接続され、また、上記
処理液供給管64には処理液供給用ポンプ66、積算流
量計67及びバルブ68が介設され、上記処理液排出管
65にはバルブ69が介設されており、これらは図外の
制御手段によって制御されるようになっている。
FIG. 6 shows another embodiment of the plating pretreatment apparatus of the present invention. Also in this embodiment, the processing apparatus main body 6
0 is arranged at a predetermined interval so as to correspond to the work supporting portion 61 and each cylinder bore 1a of the work 1,
Heater 62 protruding upward from the work support portion 61
And the liquid flow holes 64a and 65a communicating with the respective cylinder bores 1a of the work 1 are formed in the work support portion 61, and the liquid flow holes 64a and 65a are formed in the processing liquid supply pipe 64 and the processing liquid discharge pipe 65, respectively. It is connected. The heater 62 is electrically connected to the temperature controller 63, and the treatment liquid supply pipe 64 is provided with a treatment liquid supply pump 66, an integrating flowmeter 67 and a valve 68, and the treatment liquid discharge pipe 65. A valve 69 is installed in the valve, and these are controlled by a control means (not shown).

【0051】このような構成は先の実施例と略同様であ
るが、当実施例では、処理液の供給用と回収用とを兼ね
る処理液貯留層70が設けられ、この処理液貯留層70
と処理装置本体60との間に上記処理液供給管64及び
処理液排出管65が配設されている。なお、必要に応
じ、上記処理槽70から供給される処理液を加熱する加
熱手段(図示せず)が処理槽70に付設される。
Although such a structure is substantially the same as that of the previous embodiment, in the present embodiment, a treatment liquid storage layer 70 for both supplying and recovering the treatment liquid is provided, and the treatment liquid storage layer 70 is provided.
The processing liquid supply pipe 64 and the processing liquid discharge pipe 65 are disposed between the processing device main body 60 and the processing device main body 60. If necessary, a heating means (not shown) for heating the processing liquid supplied from the processing tank 70 is attached to the processing tank 70.

【0052】この実施例の装置による場合も、上記ワー
ク支持部61上にワーク1が支持されてその各シリンダ
ボア1a内に上記ヒーター62が位置する状態で、処理
液が処理液貯留層70から上記各シリンダボア1aに供
給され、次いで、処理液が上記ヒーター62で加熱され
て所定温度に保たれつつ所定時間だけシリンダボア1a
内に滞留されることにより、シリンダボア周面に前処理
が施される。そして、上記所定時間の経過後にワーク1
のシリンダボアから処理液が排出されるが、この処理液
は処理液排出管65を通って上記処理液貯留層70に戻
され、処理液貯留層70内の処理液と混合されて、次の
ワーク1に対する前処理に供せられる。
Also in the case of the apparatus of this embodiment, the treatment liquid is transferred from the treatment liquid storage layer 70 to the above-mentioned state in a state where the work 1 is supported on the work supporting portion 61 and the heater 62 is positioned in each cylinder bore 1a. The treatment liquid is supplied to each cylinder bore 1a, and then the treatment liquid is heated by the heater 62 and kept at a predetermined temperature for a predetermined time.
By being retained inside, the cylinder bore peripheral surface is pretreated. Then, after the elapse of the predetermined time, the work 1
The processing liquid is discharged from the cylinder bore of the processing liquid. The processing liquid is returned to the processing liquid storage layer 70 through the processing liquid discharge pipe 65, mixed with the processing liquid in the processing liquid storage layer 70, and then the next work. 1 is subjected to pretreatment.

【0053】なお、本発明の装置における各部の具体的
構造は上記各実施例に示すものに限定されず、種々変更
可能である。例えば、処理装置本体に設けるヒーター
は、円柱状に限らず板状、パイプ状等であってもよく、
ワーク1の中空部(シリンダボア)に突入し得る大き
さ、形状であればよい。
The specific structure of each part in the device of the present invention is not limited to that shown in each of the above-mentioned embodiments, and various modifications can be made. For example, the heater provided in the main body of the processing device is not limited to a cylindrical shape, and may be a plate shape, a pipe shape, or the like.
The size and shape may be such that they can penetrate into the hollow portion (cylinder bore) of the work 1.

【0054】また、上記実施例では自動二輪車用あるい
は自動車用等のエンジンのシリンダブロックをワークと
しているが、これ以外でもワークが円筒状等の中空状の
もので、その内面にめっきを施す場合の前処理に本発明
を適用することができる。
In the above embodiment, the cylinder block of the engine for motorcycles or automobiles is used as the work, but other than this, the work is a hollow body such as a cylinder and the inner surface of which is plated. The present invention can be applied to pretreatment.

【0055】[0055]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によると、
中空状のワークを処理装置本体のワーク支持部上に設置
した状態で、このワーク内に処理液を供給し、所定時間
だけワーク内に処理液を滞留させた後に処理液を排出す
るようにしているため、効果的にワーク内面に前処理を
施しながら、ワークの他の部分に処理液が付着すること
を防止して処理液の持出し量を少なくすることができ
る。その上とくに、上記ワーク内にヒーターを位置さ
せ、ワーク内に供給された処理液をこのヒーターで加熱
して所定温度に保つようにしているため、処理液滞留時
間中に処理液の温度が低下することを防止することがで
きる。そしてこのように処理液を適温に保つことによ
り、めっき前処理を良好に行うことができる。
As described above, according to the present invention,
With the hollow work placed on the work support part of the processing apparatus main body, the treatment liquid is supplied into the work, and the treatment liquid is allowed to stay in the work for a predetermined time and then the treatment liquid is discharged. Therefore, it is possible to effectively perform the pretreatment on the inner surface of the work and prevent the treatment liquid from adhering to other parts of the work, thereby reducing the carry-out amount of the treatment liquid. In addition, in particular, the heater is located in the work and the treatment liquid supplied into the work is heated by this heater to maintain a predetermined temperature, so the temperature of the treatment liquid decreases during the treatment liquid retention time. Can be prevented. By preserving the treatment liquid at an appropriate temperature in this way, pretreatment for plating can be favorably performed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明が適用されるめっき処理システム全体の
概略図である。
FIG. 1 is a schematic diagram of an entire plating system to which the present invention is applied.

【図2】本発明の一実施例によるめっき前処理装置の構
造説明図である。
FIG. 2 is a structural explanatory view of a plating pretreatment apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図3】処理装置本体の断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view of a processing apparatus main body.

【図4】処理液供給部の拡大図である。FIG. 4 is an enlarged view of a processing liquid supply unit.

【図5】前処理が行われている状態を示す説明図であ
る。
FIG. 5 is an explanatory diagram showing a state in which preprocessing is being performed.

【図6】めっき前処理装置の別の実施例を示す構造説明
図である。
FIG. 6 is a structural explanatory view showing another embodiment of the plating pretreatment apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ワーク 10,60 処理装置本体 11,61 ワーク支持部 12,62 ヒーター 21,64 処理液供給管 22,65 処理液排出管 23,66 処理液供給ポンプ 25,26,68,69 バルブ 18 制御手段 1 Work 10,60 Processing device main body 11,61 Work support 12,62 Heater 21,64 Processing liquid supply pipe 22,65 Processing liquid discharge pipe 23,66 Processing liquid supply pump 25,26,68,69 Valve 18 Control means

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 中空状のワークの内面にめっきのための
前処理を施す方法であって、上記ワークを処理装置本体
のワーク支持部上に設置するとともに、このワークの中
空部内にヒーターを配置した後、処理液を上記ワーク内
に供給して上記中空部に満たし、この処理液を上記ヒー
ターで加熱して所定温度に保ちつつワーク内に所定時間
滞留させた後に、ワーク内から処理液を排出することを
特徴とするめっき前処理方法。
1. A method for pre-treating an inner surface of a hollow work for plating, wherein the work is set on a work supporting part of a processing apparatus main body, and a heater is arranged in the hollow part of the work. After that, the treatment liquid is supplied into the work to fill the hollow portion, and the treatment liquid is heated by the heater and kept at the predetermined temperature for a predetermined time in the work, and then the treatment liquid is discharged from the work. A pretreatment method for plating, which comprises discharging.
【請求項2】 中空状のワークの内面にめっきのための
前処理を施す装置であって、処理装置本体に、ワークの
中空部の下端側開口部を閉塞する状態にワークを支持す
るワーク支持部と、上記ワーク支持部上にワークが支持
されたときにその中空部内に突入するヒーターとを設け
るとともに、処理液貯留部から処理液をポンプを介して
上記ワーク支持部上のワーク内に供給する処理液供給通
路と、このワーク内から処理液を排出する処理液排出通
路と、上記処理液供給通路及び処理液排出通路をそれぞ
れ開閉するバルブとを備えたことを特徴とするめっき前
処理装置。
2. An apparatus for pre-treating an inner surface of a hollow work for plating, wherein the processing apparatus main body supports the work in a state of closing a lower end side opening of a hollow portion of the work. And a heater protruding into the hollow part when the work is supported on the work support part, and the process liquid is supplied from the process liquid storage part into the work on the work support part via a pump. Pretreatment apparatus for plating, comprising: a treatment liquid supply passage for controlling the treatment liquid; a treatment liquid discharge passage for discharging the treatment liquid from the workpiece; and valves for opening and closing the treatment liquid supply passage and the treatment liquid discharge passage, respectively. .
【請求項3】 上記処理液供給通路を開くとともに上記
ポンプを作動させることによるワーク内への処理液の供
給と、処理液供給量が所定量に達したときに処理液の供
給を停止するとともに上記処理液供給通路及び処理液排
出通路を閉じることによるワーク内の処理液滞留状態の
保持と、処理液排出通路を開くことによる処理液の排出
とを順次行わせるように上記バルブ及びポンプを制御
し、かつ、少なくとも上記ワーク内に処理液が滞留して
いるときに上記ヒーターへの通電を行う制御手段を備え
たことを特徴とする請求項2記載のめっき前処理装置。
3. The supply of the processing liquid into the work by opening the processing liquid supply passage and operating the pump, and stopping the supply of the processing liquid when the supply amount of the processing liquid reaches a predetermined amount. The valves and pumps are controlled so that the retention state of the treatment liquid in the work by closing the treatment liquid supply passage and the treatment liquid discharge passage and the discharge of the treatment liquid by opening the treatment liquid discharge passage are sequentially performed. The plating pretreatment apparatus according to claim 2, further comprising: a control unit that energizes the heater when at least the treatment liquid remains in the work.
JP15807595A 1995-06-23 1995-06-23 Pretreatment method for plating and the same equipment Pending JPH093687A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP15807595A JPH093687A (en) 1995-06-23 1995-06-23 Pretreatment method for plating and the same equipment

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP15807595A JPH093687A (en) 1995-06-23 1995-06-23 Pretreatment method for plating and the same equipment

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH093687A true JPH093687A (en) 1997-01-07

Family

ID=15663756

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP15807595A Pending JPH093687A (en) 1995-06-23 1995-06-23 Pretreatment method for plating and the same equipment

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH093687A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010007116A (en) * 2008-06-25 2010-01-14 Suzuki Motor Corp Pretreatment method for plating and surface treatment apparatus
DE102009050311A1 (en) 2008-10-24 2010-05-12 Suzuki Motor Corp., Hamamatsu-Shi Method and apparatus for electroplating pretreatment of a multi-cylinder engine block

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010007116A (en) * 2008-06-25 2010-01-14 Suzuki Motor Corp Pretreatment method for plating and surface treatment apparatus
DE102009050311A1 (en) 2008-10-24 2010-05-12 Suzuki Motor Corp., Hamamatsu-Shi Method and apparatus for electroplating pretreatment of a multi-cylinder engine block
US8815062B2 (en) 2008-10-24 2014-08-26 Suzuki Motor Corporation Plating pretreatment apparatus and method for multi-cylinder block

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR970052714A (en) Substrate Cleaning Method, Substrate Cleaning / Drying Method, Substrate Cleaning Device and Substrate Cleaning / Drying Device
AU736068B2 (en) A method and a pumping unit for supplying printing ink and cleaning liquid to a printing unit
US20090311431A1 (en) Apparatus and method for smoothly coating substrates
JPH093687A (en) Pretreatment method for plating and the same equipment
US3945388A (en) Apparatus for counterflow rinsing of workpieces
JPH06204201A (en) Substrate processor
JP3253236B2 (en) Plating pretreatment method and apparatus
JP2627865B2 (en) Ink supply and cleaning device for rotary printing press
EP0725167A1 (en) Surface treatment device
JPH07328454A (en) Method and apparatus for applying slurry to tubular honeycomb body
JPH07118892A (en) Surface treatment equipment
JPH02310393A (en) Device for plating semiconductor substrate
JP3294703B2 (en) Surface treatment equipment
GB2407585A (en) Method and apparatus for treating the internal surface of a hollow vessel
JP3267835B2 (en) Surface treatment method and apparatus
JPH0714886Y2 (en) Ultrasonic inspection device
US5241997A (en) Apparatus and method for filling and impregnating capacitors with a capacitor oil
US5411652A (en) Optimum conversion chamber
JPS6362600B2 (en)
US5810990A (en) Method for plating and finishing a cylinder bore
KR20200092704A (en) Apparatus and method for plating inner surface of pipe
JP5167983B2 (en) Plating pretreatment method and surface treatment apparatus
JPS64607Y2 (en)
JP2005105320A (en) Plating apparatus and plating method
JP3985863B2 (en) Surface treatment method