JPH0940593A - エーテル化合物の製造法 - Google Patents
エーテル化合物の製造法Info
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- JPH0940593A JPH0940593A JP7191581A JP19158195A JPH0940593A JP H0940593 A JPH0940593 A JP H0940593A JP 7191581 A JP7191581 A JP 7191581A JP 19158195 A JP19158195 A JP 19158195A JP H0940593 A JPH0940593 A JP H0940593A
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- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 溶剤、化粧料、洗浄剤組成物、潤滑剤、乳化
剤等に広範囲に使用可能なエーテル化合物を簡便かつ高
収率で供給できる製造法の提供。 【解決手段】 ヒドロキシ化合物とカルボニル化合物
を、BF3 錯体等のルイス酸存在下、触媒を用いて水素雰
囲気中で反応させてエーテル化合物を得る。
剤等に広範囲に使用可能なエーテル化合物を簡便かつ高
収率で供給できる製造法の提供。 【解決手段】 ヒドロキシ化合物とカルボニル化合物
を、BF3 錯体等のルイス酸存在下、触媒を用いて水素雰
囲気中で反応させてエーテル化合物を得る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はエーテル化合物の製
造法に関する。さらに詳しくは、溶剤、化粧料、洗浄剤
組成物、潤滑剤、乳化剤等に広範囲に使用可能なエーテ
ル化合物を簡便かつ高収率で供給できるエーテル化合物
の製造法に関する。
造法に関する。さらに詳しくは、溶剤、化粧料、洗浄剤
組成物、潤滑剤、乳化剤等に広範囲に使用可能なエーテ
ル化合物を簡便かつ高収率で供給できるエーテル化合物
の製造法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、エーテル化合物はジエチルエーテ
ル、ジブチルエーテル、ジエチレングリコールジエチル
エーテル等が溶剤として利用されている。しかし、これ
らより分子量の大きいもの、あるいは非対称型のものは
合成が困難なため、ほとんど利用されていないのが現状
である。特に化粧料等に配合できる油剤として、エーテ
ル化合物は、現在汎用されているエステル系の油剤に比
べ、べとつかず、しかも加水分解もしないので、その有
用性が高くなってきている。また、エーテル化合物は、
洗浄剤組成物としての油剤あるいは新しい非イオン活性
剤としての利用も考えられる。さらには、潤滑剤、乳化
剤等への利用も可能である。上記のような理由からもエ
ーテル化合物の利用に対する期待は高まっているが、本
当に有用なエーテル化合物を工業的レベルで、簡便かつ
安価に製造できないのが現状である。
ル、ジブチルエーテル、ジエチレングリコールジエチル
エーテル等が溶剤として利用されている。しかし、これ
らより分子量の大きいもの、あるいは非対称型のものは
合成が困難なため、ほとんど利用されていないのが現状
である。特に化粧料等に配合できる油剤として、エーテ
ル化合物は、現在汎用されているエステル系の油剤に比
べ、べとつかず、しかも加水分解もしないので、その有
用性が高くなってきている。また、エーテル化合物は、
洗浄剤組成物としての油剤あるいは新しい非イオン活性
剤としての利用も考えられる。さらには、潤滑剤、乳化
剤等への利用も可能である。上記のような理由からもエ
ーテル化合物の利用に対する期待は高まっているが、本
当に有用なエーテル化合物を工業的レベルで、簡便かつ
安価に製造できないのが現状である。
【０００３】従来から知られているエーテル化合物の合
成に用いられる方法としては、例えば、アルコラートと
ハロゲン化アルキルからの合成（ウィリアムソン合成
法）、アルコールとエステル系化合物からの合成、アル
コール間の酸による脱水反応からの合成、アルコールの
オレフィンへの付加による合成等が一般的である。しか
し、アルコラートとハロゲン化アルキルからの合成で
は、アルコラートを生じさせるためのアルコールと当量
の金属（Ｎａ、Ｋ等）、あるいはアルカリが必要であ
り、さらには反応後、それに伴う多量の塩が生成し、工
業的には好ましくない。また、アルコールとエステル系
化合物からの合成については、エステル化合物がジメチ
ル硫酸、ジエチル硫酸等に限定され、メチルエーテル、
エチルエーテルの合成には好ましいが、これらの化合物
より炭素数が多いエーテル化合物を合成するのは困難で
ある。アルコール間の酸による脱水反応では対称型エー
テル化合物の合成には適するが、非対称型エーテル化合
物の合成は困難である。さらにはオレフィンの副生も生
じる。また、アルコールのオレフィンへの付加による合
成では、オレフィン化合物が限定されたり、また、使用
する触媒とともにかなり高価なものが多く、さらには、
オレフィン、触媒ともに回収再利用も困難なものが多
く、工業的には適さない。
成に用いられる方法としては、例えば、アルコラートと
ハロゲン化アルキルからの合成（ウィリアムソン合成
法）、アルコールとエステル系化合物からの合成、アル
コール間の酸による脱水反応からの合成、アルコールの
オレフィンへの付加による合成等が一般的である。しか
し、アルコラートとハロゲン化アルキルからの合成で
は、アルコラートを生じさせるためのアルコールと当量
の金属（Ｎａ、Ｋ等）、あるいはアルカリが必要であ
り、さらには反応後、それに伴う多量の塩が生成し、工
業的には好ましくない。また、アルコールとエステル系
化合物からの合成については、エステル化合物がジメチ
ル硫酸、ジエチル硫酸等に限定され、メチルエーテル、
エチルエーテルの合成には好ましいが、これらの化合物
より炭素数が多いエーテル化合物を合成するのは困難で
ある。アルコール間の酸による脱水反応では対称型エー
テル化合物の合成には適するが、非対称型エーテル化合
物の合成は困難である。さらにはオレフィンの副生も生
じる。また、アルコールのオレフィンへの付加による合
成では、オレフィン化合物が限定されたり、また、使用
する触媒とともにかなり高価なものが多く、さらには、
オレフィン、触媒ともに回収再利用も困難なものが多
く、工業的には適さない。
【０００４】また、例えば、特開昭４８−３３０３７号
公報には各種モノエーテル類の利用が開示されている
が、その合成法としてウィリアムソン法が有利と明記し
てある。しかし、先にも述べたように、ウィリアムソン
法は工業的レベルでは好ましくない。更に、エーテル化
合物の利用法が、特開昭４８−５９４１号公報、米国特
許第４００９２５４号明細書に開示されているが、これ
らもウィリアムソン法がほとんどである。
公報には各種モノエーテル類の利用が開示されている
が、その合成法としてウィリアムソン法が有利と明記し
てある。しかし、先にも述べたように、ウィリアムソン
法は工業的レベルでは好ましくない。更に、エーテル化
合物の利用法が、特開昭４８−５９４１号公報、米国特
許第４００９２５４号明細書に開示されているが、これ
らもウィリアムソン法がほとんどである。
【０００５】その他、エーテルの合成法として、アルコ
ールとカルボニル化合物から製造する方法がある。例え
ば、J. Chem. Soc., 5598(1963)、Chem. Commun., 422
(1967) にアルコール過剰系において、常圧水素雰囲気
下、酸性触媒を用いた条件下エーテル化合物を合成する
方法が記載されている。しかし、それらはすべてアルコ
ールが大過剰系であり、しかもメタノール、エタノー
ル、プロピルアルコールといった低級アルコールの使用
のみであり、炭素数が６を超える高級アルコールについ
ては記載されていない。また、J. Org. Chem., 26, 102
6(1961) には、各種ケタールの水素化分解反応によるエ
ーテルの合成法が開示されているが、これについても炭
素数が６以下の低級アルコールが中心であり、高級アル
コールのエーテル化の記載はなく、一般的でない。ま
た、この反応においては、一旦、ケタールを合成しなけ
ればならないという欠点もある。
ールとカルボニル化合物から製造する方法がある。例え
ば、J. Chem. Soc., 5598(1963)、Chem. Commun., 422
(1967) にアルコール過剰系において、常圧水素雰囲気
下、酸性触媒を用いた条件下エーテル化合物を合成する
方法が記載されている。しかし、それらはすべてアルコ
ールが大過剰系であり、しかもメタノール、エタノー
ル、プロピルアルコールといった低級アルコールの使用
のみであり、炭素数が６を超える高級アルコールについ
ては記載されていない。また、J. Org. Chem., 26, 102
6(1961) には、各種ケタールの水素化分解反応によるエ
ーテルの合成法が開示されているが、これについても炭
素数が６以下の低級アルコールが中心であり、高級アル
コールのエーテル化の記載はなく、一般的でない。ま
た、この反応においては、一旦、ケタールを合成しなけ
ればならないという欠点もある。
【０００６】また、近年、高級アルコールを用いたエー
テル化合物の合成例として、強酸を触媒としたトリエチ
ルシランによる還元法が開発され、高級アルコールと各
種カルボニル化合物から各種エーテル化合物が合成され
ているが（Chemistry letters, P.743-746, 1985) 、強
酸、トリエチルシラン等が高価なこともあり、工業的に
は好ましい方法とはいえない。
テル化合物の合成例として、強酸を触媒としたトリエチ
ルシランによる還元法が開発され、高級アルコールと各
種カルボニル化合物から各種エーテル化合物が合成され
ているが（Chemistry letters, P.743-746, 1985) 、強
酸、トリエチルシラン等が高価なこともあり、工業的に
は好ましい方法とはいえない。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】上記で述べたように、
エーテル化合物は、その用途が期待されながら、製造が
困難であるため汎用的に利用できず、簡便にかつ高収率
で供給できるエーテル化合物の製造法が望まれていた。
従って、本発明の目的は、溶剤、化粧料、洗浄剤組成
物、潤滑剤、乳化剤等への利用として有用なエーテル化
合物を簡便に高収率で供給できる製造法を提供すること
にある。
エーテル化合物は、その用途が期待されながら、製造が
困難であるため汎用的に利用できず、簡便にかつ高収率
で供給できるエーテル化合物の製造法が望まれていた。
従って、本発明の目的は、溶剤、化粧料、洗浄剤組成
物、潤滑剤、乳化剤等への利用として有用なエーテル化
合物を簡便に高収率で供給できる製造法を提供すること
にある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決すべく、汎用的に使用できるエーテル化合物の簡
便かつ高収率の製造方法について鋭意検討を行った結
果、ヒドロキシ化合物とカルボニル化合物を水素雰囲気
下、触媒を用いて反応させるに際し、反応系内にルイス
酸を存在させることで、一段階で、しかも高収率でエー
テル化合物が得られることを見出し、本発明を完成する
に到った。すなわち本発明は、ヒドロキシ化合物とカル
ボニル化合物を、ルイス(Lewis)酸存在下、触媒を用い
て水素雰囲気中で反応させることを特徴とするエーテル
化合物の製造法を提供するものである。
を解決すべく、汎用的に使用できるエーテル化合物の簡
便かつ高収率の製造方法について鋭意検討を行った結
果、ヒドロキシ化合物とカルボニル化合物を水素雰囲気
下、触媒を用いて反応させるに際し、反応系内にルイス
酸を存在させることで、一段階で、しかも高収率でエー
テル化合物が得られることを見出し、本発明を完成する
に到った。すなわち本発明は、ヒドロキシ化合物とカル
ボニル化合物を、ルイス(Lewis)酸存在下、触媒を用い
て水素雰囲気中で反応させることを特徴とするエーテル
化合物の製造法を提供するものである。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を詳細
に説明する。本発明で用いられるルイス酸としては、電
子対受容体ならいずれでもよいが、例えば、BF3・OEt2
（三フッ化ホウ素・ジエチルエーテル錯体）、BF3・2CH
3CO2H（三フッ化ホウ素・酢酸錯体）、 BF3・(CH3)3COC
H3(三フッ化ホウ素・ｔ−ブチルメチルエーテル錯
体）、BF3・CH3OH(三フッ化ホウ素・メタノール錯
体）、BF3・CH3(CH2)2OH( 三フッ化ホウ素・プロパノー
ル錯体）等のBF3 錯体、TiCl4(四塩化チタン) 、SnCl
4(四塩化スズ）、AlCl3(三塩化アルミニウム）、TMSOTf
（トリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル）、
Ti(Oi-Pro)4 （チタン酸テトライソプロピル）、ZnCl
2(二塩化亜鉛）、FeCl3(三塩化鉄）等が挙げられ、特に
好ましくは BF3・OEt2（三フッ化ホウ素・ジエチルエー
テル錯体）である。これらのルイス酸の使用量は特に限
定されないが、使用するヒドロキシ化合物に対して、好
ましくは0.01〜20倍モル、更に好ましくは 0.1〜10倍モ
ル、更に特に好ましくは 0.5〜５倍モルである。
に説明する。本発明で用いられるルイス酸としては、電
子対受容体ならいずれでもよいが、例えば、BF3・OEt2
（三フッ化ホウ素・ジエチルエーテル錯体）、BF3・2CH
3CO2H（三フッ化ホウ素・酢酸錯体）、 BF3・(CH3)3COC
H3(三フッ化ホウ素・ｔ−ブチルメチルエーテル錯
体）、BF3・CH3OH(三フッ化ホウ素・メタノール錯
体）、BF3・CH3(CH2)2OH( 三フッ化ホウ素・プロパノー
ル錯体）等のBF3 錯体、TiCl4(四塩化チタン) 、SnCl
4(四塩化スズ）、AlCl3(三塩化アルミニウム）、TMSOTf
（トリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル）、
Ti(Oi-Pro)4 （チタン酸テトライソプロピル）、ZnCl
2(二塩化亜鉛）、FeCl3(三塩化鉄）等が挙げられ、特に
好ましくは BF3・OEt2（三フッ化ホウ素・ジエチルエー
テル錯体）である。これらのルイス酸の使用量は特に限
定されないが、使用するヒドロキシ化合物に対して、好
ましくは0.01〜20倍モル、更に好ましくは 0.1〜10倍モ
ル、更に特に好ましくは 0.5〜５倍モルである。
【００１０】本発明において用いられる触媒としては、
水素化能を有するものであれば特に限定されないが、カ
ーボン、シリカアルミナ、アルミナ、シリカ、ゼオライ
ト等の担体に適度に担持されたパラジウム触媒、あるい
は水酸化パラジウム、酸化パラジウム等のパラジウム化
合物、カーボン、アルミナ等の担体に適度に担持された
ルテニウム、ロジウムあるいは白金触媒、酸化ルテニウ
ム、酸化ロジウム、酸化白金等が挙げられる。また、イ
リジウム、オスミウム、レニウム等の触媒も用いること
ができる。これらの触媒の中で、好ましくはパラジウム
系触媒、更に好ましくはカーボン、アルミナシリカ、ア
ルミナもしくはシリカに担持されたパラジウム触媒、水
酸化パラジウム又は酸化パラジウムであり、特にカーボ
ンに担持されたパラジウム触媒が好ましい。また、これ
らの触媒は、１種又は２種以上の混合物として用いるこ
とができる。
水素化能を有するものであれば特に限定されないが、カ
ーボン、シリカアルミナ、アルミナ、シリカ、ゼオライ
ト等の担体に適度に担持されたパラジウム触媒、あるい
は水酸化パラジウム、酸化パラジウム等のパラジウム化
合物、カーボン、アルミナ等の担体に適度に担持された
ルテニウム、ロジウムあるいは白金触媒、酸化ルテニウ
ム、酸化ロジウム、酸化白金等が挙げられる。また、イ
リジウム、オスミウム、レニウム等の触媒も用いること
ができる。これらの触媒の中で、好ましくはパラジウム
系触媒、更に好ましくはカーボン、アルミナシリカ、ア
ルミナもしくはシリカに担持されたパラジウム触媒、水
酸化パラジウム又は酸化パラジウムであり、特にカーボ
ンに担持されたパラジウム触媒が好ましい。また、これ
らの触媒は、１種又は２種以上の混合物として用いるこ
とができる。
【００１１】本発明において触媒は、通常カーボン、ア
ルミナ等の担体に対して１〜10重量％の割合で担持して
使用するが、担体に担持せずにそのまま使用しても構わ
ない。また、20〜60重量％程度の含水品であっても構わ
ない。触媒は、例えば担体に対して５重量％担持された
ものであれば、使用するヒドロキシ化合物に対して0.1
〜10重量％使用するのが好ましい。0.1重量％より少な
くても反応は進行するが、反応は遅く好ましくない。ま
た、10重量％より多く用いても反応は速いが、逆に副反
応も進行し好ましくない。さらに好ましくは0.5〜５重
量％である。触媒はすべてのｐＨ領域で使用できるが、
好ましくはｐＨ８〜２の触媒がよい。ここでいう触媒の
ｐＨとは、イオン交換水30ｇに触媒粉末２ｇを分散させ
た時の水溶液のｐＨをいう。
ルミナ等の担体に対して１〜10重量％の割合で担持して
使用するが、担体に担持せずにそのまま使用しても構わ
ない。また、20〜60重量％程度の含水品であっても構わ
ない。触媒は、例えば担体に対して５重量％担持された
ものであれば、使用するヒドロキシ化合物に対して0.1
〜10重量％使用するのが好ましい。0.1重量％より少な
くても反応は進行するが、反応は遅く好ましくない。ま
た、10重量％より多く用いても反応は速いが、逆に副反
応も進行し好ましくない。さらに好ましくは0.5〜５重
量％である。触媒はすべてのｐＨ領域で使用できるが、
好ましくはｐＨ８〜２の触媒がよい。ここでいう触媒の
ｐＨとは、イオン交換水30ｇに触媒粉末２ｇを分散させ
た時の水溶液のｐＨをいう。
【００１２】本発明に用いられるヒドロキシ化合物とし
ては、例えば、一般式（１） R1−(OA)n-OH （１） 〔式中、R1は炭素数１〜40の直鎖又は分岐のアルキル基
あるいはアルケニル基を示す。 Aは炭素数２〜12のアル
キレン基を示し、ｎ個のA は同一でも異なっていてもよ
い。ｎは０〜30の数を示す。〕で表される化合物が挙げ
られる。
ては、例えば、一般式（１） R1−(OA)n-OH （１） 〔式中、R1は炭素数１〜40の直鎖又は分岐のアルキル基
あるいはアルケニル基を示す。 Aは炭素数２〜12のアル
キレン基を示し、ｎ個のA は同一でも異なっていてもよ
い。ｎは０〜30の数を示す。〕で表される化合物が挙げ
られる。
【００１３】一般式（Ｉ）で表される化合物の具体例と
しては、メチルアルコール、エチルアルコール、プロピ
ルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、ｎ−ペンチルア
ルコール、ｎ−ヘキシルアルコール、ｎ−ヘプチルアル
コール、ｎ−オクチルアルコール、ｎ−ノニルアルコー
ル、ｎ−デシルアルコール、ｎ−ウンデシルアルコー
ル、ｎ−ドデシルアルコール、ｎ−トリデシルアルコー
ル、ｎ−テトラデシルアルコール、ｎ−ペンタデシルア
ルコール、ｎ−ヘキサデシルアルコール、ｎ−オクタデ
シルアルコール、ｎ−エイコシルアルコール等の直鎖飽
和アルコール、イソプロピルアルコール、イソブチルア
ルコール、２−エチルヘキシルアルコール、２−ヘキシ
ルデシルアルコール、２−ヘプチルウンデシルアルコー
ル、２−オクチルドデシルアルコール、２−デシルテト
ラデシルアルコール、２−（１，３，３−トリメチルブ
チル）−５，７，７−トリメチルオクチルアルコール、
次式
しては、メチルアルコール、エチルアルコール、プロピ
ルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、ｎ−ペンチルア
ルコール、ｎ−ヘキシルアルコール、ｎ−ヘプチルアル
コール、ｎ−オクチルアルコール、ｎ−ノニルアルコー
ル、ｎ−デシルアルコール、ｎ−ウンデシルアルコー
ル、ｎ−ドデシルアルコール、ｎ−トリデシルアルコー
ル、ｎ−テトラデシルアルコール、ｎ−ペンタデシルア
ルコール、ｎ−ヘキサデシルアルコール、ｎ−オクタデ
シルアルコール、ｎ−エイコシルアルコール等の直鎖飽
和アルコール、イソプロピルアルコール、イソブチルア
ルコール、２−エチルヘキシルアルコール、２−ヘキシ
ルデシルアルコール、２−ヘプチルウンデシルアルコー
ル、２−オクチルドデシルアルコール、２−デシルテト
ラデシルアルコール、２−（１，３，３−トリメチルブ
チル）−５，７，７−トリメチルオクチルアルコール、
次式
【００１４】
【化２】
【００１５】（式中、a, bは、 a＋b＝14であり、 a＝b
＝７を頂点とする分布をもつ）で表されるメチル分岐イ
ソステアリルアルコール、２−テトラデシルオクタデシ
ルアルコール等の飽和分岐アルコール、９−オクタデセ
ニルアルコール、ファルネシルアルコール、アビエチル
アルコール、オレイルアルコール等のアルケニルアルコ
ール、エチレングリコールモノメチルエーテル（メチル
セロソルブ）、エチレングリコールモノエチルエーテル
（エチルセロソルブ）、エチレングリコールモノイソプ
ロピルエーテル（イソプロピルセロソルブ）、エチレン
グリコールモノブチルエーテル（ブチルセロソルブ）、
エチレングリコールモノイソアミルエーテル、エチレン
グリコールモノヘキシルエーテル等のエチレングリコー
ルのモノエーテル類、ジエチレングリコールモノメチル
エーテル（メチルカルビトール）、ジエチレングリコー
ルモノエチルエーテル（エチルカルビトール）、ジエチ
レングリコールモノイソプロピルエーテル（イソプロピ
ルカルビトール）、ジエチレングリコールモノブチルエ
ーテル（ブチルカルビトール）等のジエチレングリコー
ルのモノエーテル類、トリエチレングリコールモノメチ
ルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテ
ル、トリエチレングリコールモノヘキシルエーテル、ト
リエチレングリコールモノドデシルエーテル、トリエチ
レングリコールモノテトラデシルエーテル等のトリエチ
レングリコールのモノエーテル類、１，４−ブタンジオ
ールモノヘキシルエーテル、２−メチル−１，３−プロ
パンジオールモノオクチルエーテル、１，６−ペンタン
ジオールモノヘキシルエーテル、２，2'−ジメチルプロ
パンジオールモノオクチルエーテル、３−メチル−１，
５−ペンタンジオールモノヘキシルエーテル等のアルキ
レングリコールのモノエーテル類、上記アルコールのエ
チレンオキサイド、プロピレンオキサイドあるいはブチ
レンオキサイド付加物などが挙げられるが、必ずしもこ
れらに限定されるものではない。
＝７を頂点とする分布をもつ）で表されるメチル分岐イ
ソステアリルアルコール、２−テトラデシルオクタデシ
ルアルコール等の飽和分岐アルコール、９−オクタデセ
ニルアルコール、ファルネシルアルコール、アビエチル
アルコール、オレイルアルコール等のアルケニルアルコ
ール、エチレングリコールモノメチルエーテル（メチル
セロソルブ）、エチレングリコールモノエチルエーテル
（エチルセロソルブ）、エチレングリコールモノイソプ
ロピルエーテル（イソプロピルセロソルブ）、エチレン
グリコールモノブチルエーテル（ブチルセロソルブ）、
エチレングリコールモノイソアミルエーテル、エチレン
グリコールモノヘキシルエーテル等のエチレングリコー
ルのモノエーテル類、ジエチレングリコールモノメチル
エーテル（メチルカルビトール）、ジエチレングリコー
ルモノエチルエーテル（エチルカルビトール）、ジエチ
レングリコールモノイソプロピルエーテル（イソプロピ
ルカルビトール）、ジエチレングリコールモノブチルエ
ーテル（ブチルカルビトール）等のジエチレングリコー
ルのモノエーテル類、トリエチレングリコールモノメチ
ルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテ
ル、トリエチレングリコールモノヘキシルエーテル、ト
リエチレングリコールモノドデシルエーテル、トリエチ
レングリコールモノテトラデシルエーテル等のトリエチ
レングリコールのモノエーテル類、１，４−ブタンジオ
ールモノヘキシルエーテル、２−メチル−１，３−プロ
パンジオールモノオクチルエーテル、１，６−ペンタン
ジオールモノヘキシルエーテル、２，2'−ジメチルプロ
パンジオールモノオクチルエーテル、３−メチル−１，
５−ペンタンジオールモノヘキシルエーテル等のアルキ
レングリコールのモノエーテル類、上記アルコールのエ
チレンオキサイド、プロピレンオキサイドあるいはブチ
レンオキサイド付加物などが挙げられるが、必ずしもこ
れらに限定されるものではない。
【００１６】これらのヒドロキシ化合物の中では、炭素
数１〜22、特に６〜22の脂肪族アルコール、メチルセロ
ソルブ、エチルセロソルブ、イソプロピルセロソルブ、
ブチルセロソルブ、メチルカルビトール、エチルカルビ
トール、イソプロピルカルビトール、ブチルカルビトー
ル、又は炭素数１〜22、特に６〜22の脂肪族アルコール
のエチレンオキサイド付加物（平均付加モル数 0.1〜2
0）が好ましく、更には炭素数６〜22の脂肪族アルコー
ルが好ましい。これらのヒドロキシ化合物は１種又は２
種以上の混合物として用いることができる。本発明に用
いられるカルボニル化合物としては、例えば、一般式
（２）
数１〜22、特に６〜22の脂肪族アルコール、メチルセロ
ソルブ、エチルセロソルブ、イソプロピルセロソルブ、
ブチルセロソルブ、メチルカルビトール、エチルカルビ
トール、イソプロピルカルビトール、ブチルカルビトー
ル、又は炭素数１〜22、特に６〜22の脂肪族アルコール
のエチレンオキサイド付加物（平均付加モル数 0.1〜2
0）が好ましく、更には炭素数６〜22の脂肪族アルコー
ルが好ましい。これらのヒドロキシ化合物は１種又は２
種以上の混合物として用いることができる。本発明に用
いられるカルボニル化合物としては、例えば、一般式
（２）
【００１７】
【化３】
【００１８】〔式中、R2, R3は水素原子、炭素数１〜20
の直鎖又は分岐のアルキル基あるいはアルケニル基を示
し、R2, R3は同一であっても異なっていてもよい。ま
た、R2,R3が結合した環状構造であってもよい。〕で表
される化合物が挙げられる。
の直鎖又は分岐のアルキル基あるいはアルケニル基を示
し、R2, R3は同一であっても異なっていてもよい。ま
た、R2,R3が結合した環状構造であってもよい。〕で表
される化合物が挙げられる。
【００１９】一般式（２）で表される化合物の具体例と
しては、アセトン、メチルエチルケトン、メチル−ｎ−
プロピルケトン、メチルイソプロピルケトン、メチル−
ｎ−ブチルケトン、メチルイソブチルケトン（４−メチ
ル−２−ペンタノン）、ピナコロン、メチル−ｎ−アミ
ルケトン、メチル−ｎ−ヘキシルケトン、メチルｎ−ヘ
プチルケトン、メチルｎ−オクチルケトン、メチルｎ−
ノニルケトン、メチルｎ−デシルケトン、メチルｎ−ウ
ンデシルケトン、メチルｎ−ドデシルケトン、メチルｎ
−テトラデシルケトン、メチルｎ−ヘキサデシルケト
ン、メチルｎ−オクタデシルケトン、ジエチルケトン、
エチル−ｎ−ブチルケトン、ジ−ｎ−プロピルケトン、
ジイソプロピルケトン、ジイソブチルケトン、２，６，
６−トリメチルノナノン−４、６−メチル−５−ヘプテ
ノン−２等の鎖状ケトン、シクロヘキサノン、２−メチ
ルシクロヘキサノン、イソホロン、シクロペンタノン、
メチルシクロペンタノン、ヘキシルシクロペンタノン、
シクロヘプタノン等の環状ケトン、ホルムアルデヒド、
パラホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピルア
ルデヒド、ブチルアルデヒド、ペンチルアルデヒド、ヘ
キシルアルデヒド、ヘプチルアルデヒド、オクチルアル
デヒド、ノニルアルデヒド、デシルアルデヒド、ウンデ
シルアルデヒド、ドデシルアルデヒド、ヘキサデシルア
ルデヒド、オクタデシルアルデヒド、エイコシルアルデ
ヒド等の直鎖アルデヒド、２−エチルヘキシルアルデヒ
ド、２−エチルブチルアルデヒド、メチルヘプタデシル
アルデヒド等の分岐アルデヒドなどが挙げられるが、必
ずしもこれらに限定されるものではない。
しては、アセトン、メチルエチルケトン、メチル−ｎ−
プロピルケトン、メチルイソプロピルケトン、メチル−
ｎ−ブチルケトン、メチルイソブチルケトン（４−メチ
ル−２−ペンタノン）、ピナコロン、メチル−ｎ−アミ
ルケトン、メチル−ｎ−ヘキシルケトン、メチルｎ−ヘ
プチルケトン、メチルｎ−オクチルケトン、メチルｎ−
ノニルケトン、メチルｎ−デシルケトン、メチルｎ−ウ
ンデシルケトン、メチルｎ−ドデシルケトン、メチルｎ
−テトラデシルケトン、メチルｎ−ヘキサデシルケト
ン、メチルｎ−オクタデシルケトン、ジエチルケトン、
エチル−ｎ−ブチルケトン、ジ−ｎ−プロピルケトン、
ジイソプロピルケトン、ジイソブチルケトン、２，６，
６−トリメチルノナノン−４、６−メチル−５−ヘプテ
ノン−２等の鎖状ケトン、シクロヘキサノン、２−メチ
ルシクロヘキサノン、イソホロン、シクロペンタノン、
メチルシクロペンタノン、ヘキシルシクロペンタノン、
シクロヘプタノン等の環状ケトン、ホルムアルデヒド、
パラホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピルア
ルデヒド、ブチルアルデヒド、ペンチルアルデヒド、ヘ
キシルアルデヒド、ヘプチルアルデヒド、オクチルアル
デヒド、ノニルアルデヒド、デシルアルデヒド、ウンデ
シルアルデヒド、ドデシルアルデヒド、ヘキサデシルア
ルデヒド、オクタデシルアルデヒド、エイコシルアルデ
ヒド等の直鎖アルデヒド、２−エチルヘキシルアルデヒ
ド、２−エチルブチルアルデヒド、メチルヘプタデシル
アルデヒド等の分岐アルデヒドなどが挙げられるが、必
ずしもこれらに限定されるものではない。
【００２０】これらのカルボニル化合物の中では、炭素
数１〜12の鎖状ケトン、環状ケトンあるいはアルデヒド
が好ましく、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトン（４−メチル−２−ペンタノン）等の炭
素数３〜６の鎖状ケトンや、ホルムアルデヒド、パラホ
ルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ブチルアルデヒ
ド、オクチルアルデヒド、デシルアルデヒド、ウンデシ
ルアルデヒド、ドデシルアルデヒド等の炭素数１〜12、
更には３〜８の脂肪族アルデヒドが特に好ましく、更に
はアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン（４−メチル−２−ペンタノン）が特に好ましい。
これらのカルボニル化合物は、１種又は２種以上の混合
物として用いることができる。
数１〜12の鎖状ケトン、環状ケトンあるいはアルデヒド
が好ましく、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトン（４−メチル−２−ペンタノン）等の炭
素数３〜６の鎖状ケトンや、ホルムアルデヒド、パラホ
ルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ブチルアルデヒ
ド、オクチルアルデヒド、デシルアルデヒド、ウンデシ
ルアルデヒド、ドデシルアルデヒド等の炭素数１〜12、
更には３〜８の脂肪族アルデヒドが特に好ましく、更に
はアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン（４−メチル−２−ペンタノン）が特に好ましい。
これらのカルボニル化合物は、１種又は２種以上の混合
物として用いることができる。
【００２１】本発明の製造法において、ヒドロキシ化合
物とカルボニル化合物の仕込み比は、特に限定されない
が、通常、ヒドロキシ化合物／カルボニル化合物（モル
比）＝50／１〜１／50が好ましく、特に10／１〜１／1
0、更に特に５／１〜１／５が好ましい。ヒドロキシ化
合物が低分子量で、蒸留等で容易に除去できるものであ
れば、ヒドロキシ化合物を過剰に用いて反応させるのが
好ましい。また、カルボニル化合物が低分子量で、蒸留
等で容易に除去できるものであれば、カルボニル化合物
を過剰に用いて反応させるのが好ましい。ヒドロキシ化
合物／カルボニル化合物のモル比が上記範囲以外でも収
率にはそれほど影響を与えないが、経済的ではない。
物とカルボニル化合物の仕込み比は、特に限定されない
が、通常、ヒドロキシ化合物／カルボニル化合物（モル
比）＝50／１〜１／50が好ましく、特に10／１〜１／1
0、更に特に５／１〜１／５が好ましい。ヒドロキシ化
合物が低分子量で、蒸留等で容易に除去できるものであ
れば、ヒドロキシ化合物を過剰に用いて反応させるのが
好ましい。また、カルボニル化合物が低分子量で、蒸留
等で容易に除去できるものであれば、カルボニル化合物
を過剰に用いて反応させるのが好ましい。ヒドロキシ化
合物／カルボニル化合物のモル比が上記範囲以外でも収
率にはそれほど影響を与えないが、経済的ではない。
【００２２】本発明においては、ヒドロキシ化合物とカ
ルボニル化合物を水素雰囲気中で反応させるが、その際
の水素圧は特に限定されず、通常１〜250kg/cm2 、好ま
しくは１〜100 kg/cm2であり、特に本発明の効果は１〜
30kg/cm2の低圧反応時に顕著である。また、本発明にお
いて、ヒドロキシ化合物とカルボニル化合物を反応させ
る際の反応温度は特に限定されないが、10〜 200℃、好
ましくは15〜 100℃、特には本反応の活性が高いため15
〜50℃の低温においても有効に反応させることができ
る。反応時間は、反応温度、水素圧、ルイス酸の添加
量、触媒量などによって適宜選べばよいが、通常１〜48
時間、好ましくは１〜18時間である。
ルボニル化合物を水素雰囲気中で反応させるが、その際
の水素圧は特に限定されず、通常１〜250kg/cm2 、好ま
しくは１〜100 kg/cm2であり、特に本発明の効果は１〜
30kg/cm2の低圧反応時に顕著である。また、本発明にお
いて、ヒドロキシ化合物とカルボニル化合物を反応させ
る際の反応温度は特に限定されないが、10〜 200℃、好
ましくは15〜 100℃、特には本反応の活性が高いため15
〜50℃の低温においても有効に反応させることができ
る。反応時間は、反応温度、水素圧、ルイス酸の添加
量、触媒量などによって適宜選べばよいが、通常１〜48
時間、好ましくは１〜18時間である。
【００２３】本発明においては、一般に反応で使用しう
る溶媒を用いて反応を行ってもよい。溶媒としては、反
応に特に悪影響を及ぼさないものであればいずれも使用
することができるが、具体的にはジエチルエーテル、テ
トラヒドロフラン、ヘキサン等が挙げられる。また、本
発明においては、反応系中に副生する水を除去する目的
で、無水硫酸マグネシウム、無水硫酸ナトリウム等の脱
水剤を添加して反応を行っても良い。
る溶媒を用いて反応を行ってもよい。溶媒としては、反
応に特に悪影響を及ぼさないものであればいずれも使用
することができるが、具体的にはジエチルエーテル、テ
トラヒドロフラン、ヘキサン等が挙げられる。また、本
発明においては、反応系中に副生する水を除去する目的
で、無水硫酸マグネシウム、無水硫酸ナトリウム等の脱
水剤を添加して反応を行っても良い。
【００２４】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明をより詳細に説
明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもので
はない。尚、例中の％は特記しない限り重量基準であ
る。
明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもので
はない。尚、例中の％は特記しない限り重量基準であ
る。
【００２５】実施例１ 攪拌子を備えた 100mlのフラスコにテトラデシルアルコ
ール10.7ｇ（0.05モル）、４−メチル−２−ペンタノン
10ｇ(0.1モル）、触媒として５％Ｐｄ−Ｃ（pH3.8) 0.2
ｇ、ルイス酸として三フッ化ホウ素・ジエチルエーテル
錯体12ml(0.1モル）を仕込み、水素雰囲気下（常圧）、
室温で18時間攪拌を行った。反応終了後、濾過により触
媒を除去し、飽和重炭酸ナトリウム水溶液で中和後、シ
リカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、１，
３−ジメチルブチルテトラデシルエーテル14.6ｇ(0.049
モル）を無色透明な液体として得た。単離収率は98％で
あった。
ール10.7ｇ（0.05モル）、４−メチル−２−ペンタノン
10ｇ(0.1モル）、触媒として５％Ｐｄ−Ｃ（pH3.8) 0.2
ｇ、ルイス酸として三フッ化ホウ素・ジエチルエーテル
錯体12ml(0.1モル）を仕込み、水素雰囲気下（常圧）、
室温で18時間攪拌を行った。反応終了後、濾過により触
媒を除去し、飽和重炭酸ナトリウム水溶液で中和後、シ
リカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、１，
３−ジメチルブチルテトラデシルエーテル14.6ｇ(0.049
モル）を無色透明な液体として得た。単離収率は98％で
あった。
【００２６】比較例１ 攪拌子を備えた 100mlのフラスコにテトラデシルアルコ
ール10.7ｇ（0.05モル）、４−メチル−２−ペンタノン
10ｇ(0.1モル）、触媒として５％Ｐｄ−Ｃ（pH3.8) 0.2
ｇを仕込み、水素雰囲気下（常圧）、室温で20時間攪拌
を行った。反応終了後、濾過により触媒を除去し、シリ
カゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、１，３
−ジメチルブチルテトラデシルエーテル0.15ｇ(0.5ミリ
モル）を無色透明な液体として得た。単離収率は１％で
あった。
ール10.7ｇ（0.05モル）、４−メチル−２−ペンタノン
10ｇ(0.1モル）、触媒として５％Ｐｄ−Ｃ（pH3.8) 0.2
ｇを仕込み、水素雰囲気下（常圧）、室温で20時間攪拌
を行った。反応終了後、濾過により触媒を除去し、シリ
カゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、１，３
−ジメチルブチルテトラデシルエーテル0.15ｇ(0.5ミリ
モル）を無色透明な液体として得た。単離収率は１％で
あった。
【００２７】実施例２〜８ 表１に示すヒドロキシ化合物とカルボニル化合物とを、
表１に示す触媒およびルイス酸の存在下、表１に示す反
応条件以外は実施例１と同様にして反応させた。得られ
た生成物およびその単離収率を表１に示す。
表１に示す触媒およびルイス酸の存在下、表１に示す反
応条件以外は実施例１と同様にして反応させた。得られ
た生成物およびその単離収率を表１に示す。
【００２８】比較例２〜８ 表２に示すヒドロキシ化合物とカルボニル化合物とを、
表２に示す触媒の存在下、表２に示す反応条件以外は比
較例１と同様にして反応させた。得られた生成物および
その単離収率を表２に示す。
表２に示す触媒の存在下、表２に示す反応条件以外は比
較例１と同様にして反応させた。得られた生成物および
その単離収率を表２に示す。
【００２９】
【表１】
【００３０】
【表２】
Claims (7)
- 【請求項１】 ヒドロキシ化合物とカルボニル化合物
を、ルイス(Lewis) 酸存在下、触媒を用いて水素雰囲気
中で反応させることを特徴とするエーテル化合物の製造
法。 - 【請求項２】 ヒドロキシ化合物が、一般式（１） R1−(OA)n-OH （１） 〔式中、R1は炭素数１〜40の直鎖又は分岐のアルキル基
あるいはアルケニル基を示す。 Aは炭素数２〜12のアル
キレン基を示し、ｎ個のA は同一でも異なっていてもよ
い。ｎは０〜30の数を示す。〕で表される化合物である
請求項１記載のエーテル化合物の製造法。 - 【請求項３】 カルボニル化合物が、一般式（２） 【化１】 〔式中、R2, R3は水素原子、炭素数１〜20の直鎖又は分
岐のアルキル基あるいはアルケニル基を示し、R2, R3は
同一であっても異なっていてもよい。また、R2,R3が結
合した環状構造であってもよい。〕で表される化合物で
ある請求項１又は２記載の製造法。 - 【請求項４】 ルイス酸が、BF3 錯体、四塩化チタン、
四塩化スズ、三塩化アルミニウム、トリフルオロメタン
スルホン酸トリメチルシリル、チタン酸テトライソプロ
ピル、二塩化亜鉛又は三塩化鉄である請求項１〜３のい
ずれか一項に記載の製造法。 - 【請求項５】 ルイス酸が、BF3 ・OEt2（三フッ化ホウ
素・ジエチルエーテル錯体）である請求項４記載の製造
法。 - 【請求項６】 ルイス酸の添加量が、ヒドロキシ化合物
に対して0.01〜20倍モルである請求項１〜５のいずれか
一項に記載の製造法。 - 【請求項７】 触媒が、カーボン、アルミナシリカ、ア
ルミナもしくはシリカに担持されたパラジウム触媒、水
酸化パラジウム又は酸化パラジウムである請求項１〜６
のいずれか一項に記載の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7191581A JPH0940593A (ja) | 1995-07-27 | 1995-07-27 | エーテル化合物の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7191581A JPH0940593A (ja) | 1995-07-27 | 1995-07-27 | エーテル化合物の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0940593A true JPH0940593A (ja) | 1997-02-10 |
Family
ID=16277039
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7191581A Pending JPH0940593A (ja) | 1995-07-27 | 1995-07-27 | エーテル化合物の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0940593A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013118717A1 (ja) * | 2012-02-09 | 2013-08-15 | 高砂香料工業株式会社 | エーテル化合物の製造方法 |
-
1995
- 1995-07-27 JP JP7191581A patent/JPH0940593A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013118717A1 (ja) * | 2012-02-09 | 2013-08-15 | 高砂香料工業株式会社 | エーテル化合物の製造方法 |
| JP2013163650A (ja) * | 2012-02-09 | 2013-08-22 | Takasago Internatl Corp | エーテル化合物の製造方法 |
| US9975831B2 (en) | 2012-02-09 | 2018-05-22 | Takasago International Corporation | Method for producing ether compound |
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