JPH1121259A - 含フッ素エーテル化合物の製造方法 - Google Patents
含フッ素エーテル化合物の製造方法Info
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- JPH1121259A JPH1121259A JP9176857A JP17685797A JPH1121259A JP H1121259 A JPH1121259 A JP H1121259A JP 9176857 A JP9176857 A JP 9176857A JP 17685797 A JP17685797 A JP 17685797A JP H1121259 A JPH1121259 A JP H1121259A
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- carbon atoms
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- hydrogen
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 溶剤、化粧料、洗浄剤、潤滑剤、乳化剤、表
面処理剤等へ利用可能な含フッ素エーテル化合物を簡便
かつ安価に供給できる製造法の提供。 【解決手段】 含フッ素ヒドロキシ化合物(Ｉ)の１種又
は２種以上の混合物を水素雰囲気下、触媒を用いて反応
させて含フッ素エーテル化合物(II)を得る。 R-O-(AO)n-H （Ｉ） R-O-(AO)n-(A'O)n'-R' （II） （式中、R 及びR'はC1-40 のアルキル基あるいはアルケ
ニル基、もしくはC3-12のシクロアルキル基の水素原子
の少なくとも１つがフッ素原子で置換されたフッ素置換
基、A及びA'はC2-12のアルキレン基、n及びn'は０〜200
の数を示す。）
面処理剤等へ利用可能な含フッ素エーテル化合物を簡便
かつ安価に供給できる製造法の提供。 【解決手段】 含フッ素ヒドロキシ化合物(Ｉ)の１種又
は２種以上の混合物を水素雰囲気下、触媒を用いて反応
させて含フッ素エーテル化合物(II)を得る。 R-O-(AO)n-H （Ｉ） R-O-(AO)n-(A'O)n'-R' （II） （式中、R 及びR'はC1-40 のアルキル基あるいはアルケ
ニル基、もしくはC3-12のシクロアルキル基の水素原子
の少なくとも１つがフッ素原子で置換されたフッ素置換
基、A及びA'はC2-12のアルキレン基、n及びn'は０〜200
の数を示す。）
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は含フッ素エーテル化
合物の製造方法に関する。さらに詳しくは、溶剤、化粧
料、洗浄剤、潤滑剤、乳化剤、表面処理剤等に広範囲に
使用可能な含フッ素エーテル化合物を簡便かつ安価に供
給できる含フッ素エーテル化合物の製造方法に関する。
合物の製造方法に関する。さらに詳しくは、溶剤、化粧
料、洗浄剤、潤滑剤、乳化剤、表面処理剤等に広範囲に
使用可能な含フッ素エーテル化合物を簡便かつ安価に供
給できる含フッ素エーテル化合物の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、含フッ素エーテル化合物の製造法
として、例えば下記式（III) R"-CH2OH（III) （式中、R"はアルキル基又は含フッ素アルキル基を示
す。)で表される炭化水素系又は含フッ素系アルコール
をNa、K 等のアルコラートとした後、ハロゲン化アルキ
ル又はハロゲン化含フッ素アルキルと反応させ、含フッ
素エーテルを合成する方法が知られている。
として、例えば下記式（III) R"-CH2OH（III) （式中、R"はアルキル基又は含フッ素アルキル基を示
す。)で表される炭化水素系又は含フッ素系アルコール
をNa、K 等のアルコラートとした後、ハロゲン化アルキ
ル又はハロゲン化含フッ素アルキルと反応させ、含フッ
素エーテルを合成する方法が知られている。
【０００３】また、特公平８−30021 号公報にはフルオ
ロオレフィンの利用として、水素原子を有する非プロト
ン性極性溶媒中でAgF の存在下、フルオロオレフィンと
含フッ素カルボニル化合物を反応させて含フッ素エーテ
ル化合物を得る方法が開示されている。
ロオレフィンの利用として、水素原子を有する非プロト
ン性極性溶媒中でAgF の存在下、フルオロオレフィンと
含フッ素カルボニル化合物を反応させて含フッ素エーテ
ル化合物を得る方法が開示されている。
【０００４】しかし、前者の方法は、使用するアルコー
ルと当量のNa、K 等のアルカリが必要であり、また反応
後、アルカリを中和するために当量の酸も必要であり、
かつ多量の塩が副生するため工業的にはあまり好ましく
ない方法である。また後者の方法は、使用する触媒AgF
が含フッ素エーテル化合物を構成するフッ素原子となる
ため、原料である含フッ素カルボニル化合物に対して、
当モル以上が必要であり、さらには、回収して再利用で
きない問題点がある。
ルと当量のNa、K 等のアルカリが必要であり、また反応
後、アルカリを中和するために当量の酸も必要であり、
かつ多量の塩が副生するため工業的にはあまり好ましく
ない方法である。また後者の方法は、使用する触媒AgF
が含フッ素エーテル化合物を構成するフッ素原子となる
ため、原料である含フッ素カルボニル化合物に対して、
当モル以上が必要であり、さらには、回収して再利用で
きない問題点がある。
【０００５】また、含フッ素アルコールとエステル系化
合物からも、含フッ素エーテル化合物が合成できるが、
エステル化合物がジメチル硫酸、ジエチル硫酸等に限定
され、メチルエーテル、エチルエーテルの合成は可能で
あるが、これらの化合物より炭素数の多い含フッ素エー
テル化合物を合成するのは困難である。
合物からも、含フッ素エーテル化合物が合成できるが、
エステル化合物がジメチル硫酸、ジエチル硫酸等に限定
され、メチルエーテル、エチルエーテルの合成は可能で
あるが、これらの化合物より炭素数の多い含フッ素エー
テル化合物を合成するのは困難である。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上で述べたように含フ
ッ素エーテル化合物は、その用途が期待されながら、製
造が困難であるため汎用的に利用できず、精製工程を必
要としない簡便かつ安価に供給できる含フッ素エーテル
化合物の製造法が望まれていた。従って、本発明の目的
は、溶剤、化粧料、洗浄剤、潤滑剤、乳化剤、表面処理
剤等へ利用可能な含フッ素エーテル化合物を簡便かつ安
価に、すなわち、着色や匂いの劣化を伴わないため蒸留
等による精製を行なうことなく供給できる製造法を提供
することにある。
ッ素エーテル化合物は、その用途が期待されながら、製
造が困難であるため汎用的に利用できず、精製工程を必
要としない簡便かつ安価に供給できる含フッ素エーテル
化合物の製造法が望まれていた。従って、本発明の目的
は、溶剤、化粧料、洗浄剤、潤滑剤、乳化剤、表面処理
剤等へ利用可能な含フッ素エーテル化合物を簡便かつ安
価に、すなわち、着色や匂いの劣化を伴わないため蒸留
等による精製を行なうことなく供給できる製造法を提供
することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決すべく、汎用的に使用できる含フッ素エーテル化
合物の簡便かつ安価な製造方法について鋭意検討を行っ
た結果、含フッ素ヒドロキシ化合物を、水素雰囲気下、
触媒を用いて反応させることにより、含フッ素エーテル
化合物が一段階で、高収率でしかも着色や酸化による劣
化も起こさずに得られることを見出し、本発明を完成す
るに到った。
を解決すべく、汎用的に使用できる含フッ素エーテル化
合物の簡便かつ安価な製造方法について鋭意検討を行っ
た結果、含フッ素ヒドロキシ化合物を、水素雰囲気下、
触媒を用いて反応させることにより、含フッ素エーテル
化合物が一段階で、高収率でしかも着色や酸化による劣
化も起こさずに得られることを見出し、本発明を完成す
るに到った。
【０００８】即ち本発明は、一般式（Ｉ） R-O-(AO)n-H （Ｉ） （式中、R は炭素数１〜40の直鎖又は分岐のアルキル基
あるいはアルケニル基、もしくは炭素数３〜12のシクロ
アルキル基の水素原子の少なくとも１つがフッ素原子で
置換されたフッ素置換基を示す。A は炭素数２〜12のア
ルキレン基を示し、n 個のA は同一でも異なっていても
よい。n は０〜200 の数を示す。）で表される含フッ素
ヒドロキシ化合物の１種又は２種以上の混合物を水素雰
囲気下、触媒を用いて反応させることを特徴とする、一
般式（II）で表わされる含フッ素エーテル化合物の製造
方法を提供するものである。
あるいはアルケニル基、もしくは炭素数３〜12のシクロ
アルキル基の水素原子の少なくとも１つがフッ素原子で
置換されたフッ素置換基を示す。A は炭素数２〜12のア
ルキレン基を示し、n 個のA は同一でも異なっていても
よい。n は０〜200 の数を示す。）で表される含フッ素
ヒドロキシ化合物の１種又は２種以上の混合物を水素雰
囲気下、触媒を用いて反応させることを特徴とする、一
般式（II）で表わされる含フッ素エーテル化合物の製造
方法を提供するものである。
【０００９】R-O-(AO)n-(A'O)n'-R' （II） （式中、R 、A 及びn は前記の意味を示す。R'は炭素数
１〜40の直鎖又は分岐のアルキル基あるいはアルケニル
基、もしくは炭素数３〜12のシクロアルキル基の水素原
子の少なくとも１つがフッ素原子で置換されたフッ素置
換基を示す。A'は炭素数２〜12のアルキレン基を示し、
n'個のA'は同一でも異なっていてもよい。n'は０〜200
の数を示す。また、R とR'、A とA'、n とn'は同一でも
異なっていてもよい。）
１〜40の直鎖又は分岐のアルキル基あるいはアルケニル
基、もしくは炭素数３〜12のシクロアルキル基の水素原
子の少なくとも１つがフッ素原子で置換されたフッ素置
換基を示す。A'は炭素数２〜12のアルキレン基を示し、
n'個のA'は同一でも異なっていてもよい。n'は０〜200
の数を示す。また、R とR'、A とA'、n とn'は同一でも
異なっていてもよい。）
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を詳細
に説明する。
に説明する。
【００１１】本発明に用いられる一般式（Ｉ）で表され
る含フッ素ヒドロキシ化合物において、R は炭素数１〜
40の直鎖又は分岐のアルキル基あるいはアルケニル基、
もしくは炭素数３〜12のシクロアルキル基の水素原子の
少なくとも１つがフッ素原子で置換されたフッ素置換基
を示すが、炭素数１〜40の直鎖又は分岐のアルキル基あ
るいはアルケニル基の水素原子の少なくとも１つがフッ
素原子で置換されたフッ素置換基が好ましく、炭素数１
〜22のアルキル基の水素原子の少なくとも１つがフッ素
原子で置換されたフッ素置換基が特に好ましい。
る含フッ素ヒドロキシ化合物において、R は炭素数１〜
40の直鎖又は分岐のアルキル基あるいはアルケニル基、
もしくは炭素数３〜12のシクロアルキル基の水素原子の
少なくとも１つがフッ素原子で置換されたフッ素置換基
を示すが、炭素数１〜40の直鎖又は分岐のアルキル基あ
るいはアルケニル基の水素原子の少なくとも１つがフッ
素原子で置換されたフッ素置換基が好ましく、炭素数１
〜22のアルキル基の水素原子の少なくとも１つがフッ素
原子で置換されたフッ素置換基が特に好ましい。
【００１２】A は炭素数２〜12のアルキレン基を示す
が、エチレン基又はプロピレン基が好ましく、エチレン
基が特に好ましい。n は０〜200 の数を示すが、０〜10
0 の数が好ましく、０〜30の数が特に好ましい。
が、エチレン基又はプロピレン基が好ましく、エチレン
基が特に好ましい。n は０〜200 の数を示すが、０〜10
0 の数が好ましく、０〜30の数が特に好ましい。
【００１３】一般式（１）で表される含フッ素ヒドロキ
シ化合物としては、次に列記するフッ素置換基を有さな
いヒドロキシ化合物、すなわち、メチルアルコール、エ
チルアルコール、プロピルアルコール、ｎ−ブチルアル
コール、ｎ−ペンチルアルコール、ｎ−ヘキシルアルコ
ール、ｎ−ヘプチルアルコール、ｎ−オクチルアルコー
ル、ｎ−ノニルアルコール、ｎ−デシルアルコール、ｎ
−ウンデシルアルコール、ｎ−ドデシルアルコール、ｎ
−トリデシルアルコール、ｎ−テトラデシルアルコー
ル、ｎ−ペンタデシルアルコール、ｎ−ヘキサデシルア
ルコール、ｎ−オクタデシルアルコール、ｎ−エイコシ
ルアルコール等の直鎖飽和アルコール、イソプロピルア
ルコール、イソブチルアルコール、２−エチルヘキシル
アルコール、２−ヘキシルデシルアルコール、２−ヘプ
チルウンデシルアルコール、２−オクチルドデシルアル
コール、２−デシルテトラデシルアルコール、２−
（１，３，３−トリメチルブチル）−５，７，７−トリ
メチルオクチルアルコール、次式
シ化合物としては、次に列記するフッ素置換基を有さな
いヒドロキシ化合物、すなわち、メチルアルコール、エ
チルアルコール、プロピルアルコール、ｎ−ブチルアル
コール、ｎ−ペンチルアルコール、ｎ−ヘキシルアルコ
ール、ｎ−ヘプチルアルコール、ｎ−オクチルアルコー
ル、ｎ−ノニルアルコール、ｎ−デシルアルコール、ｎ
−ウンデシルアルコール、ｎ−ドデシルアルコール、ｎ
−トリデシルアルコール、ｎ−テトラデシルアルコー
ル、ｎ−ペンタデシルアルコール、ｎ−ヘキサデシルア
ルコール、ｎ−オクタデシルアルコール、ｎ−エイコシ
ルアルコール等の直鎖飽和アルコール、イソプロピルア
ルコール、イソブチルアルコール、２−エチルヘキシル
アルコール、２−ヘキシルデシルアルコール、２−ヘプ
チルウンデシルアルコール、２−オクチルドデシルアル
コール、２−デシルテトラデシルアルコール、２−
（１，３，３−トリメチルブチル）−５，７，７−トリ
メチルオクチルアルコール、次式
【００１４】
【化１】
【００１５】（式中、a, bは、 a＋b＝14であり、 a＝b
＝７を頂点とする分布をもつ）で表されるメチル分岐イ
ソステアリルアルコール、２−テトラデシルオクタデシ
ルアルコール等の飽和分岐アルコール、９−オクタデセ
ニルアルコール、ファルネシルアルコール、アビエチル
アルコール、オレイルアルコール等のアルケニルアルコ
ール、エチレングリコールモノメチルエーテル（メチル
セロソルブ）、エチレングリコールモノエチルエーテル
（エチルセロソルブ）、エチレングリコールモノイソプ
ロピルエーテル（イソプロピルセロソルブ）、エチレン
グリコールモノブチルエーテル（ブチルセロソルブ）、
エチレングリコールモノイソアミルエーテル、エチレン
グリコールモノヘキシルエーテル等のエチレングリコー
ルのモノエーテル類、ジエチレングリコールモノメチル
エーテル（メチルカルビトール）、ジエチレングリコー
ルモノエチルエーテル（エチルカルビトール）、ジエチ
レングリコールモノイソプロピルエーテル（イソプロピ
ルカルビトール）、ジエチレングリコールモノブチルエ
ーテル（ブチルカルビトール）等のジエチレングリコー
ルのモノエーテル類、トリエチレングリコールモノメチ
ルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテ
ル、トリエチレングリコールモノヘキシルエーテル、ト
リエチレングリコールモノドデシルエーテル、トリエチ
レングリコールモノテトラデシルエーテル等のトリエチ
レングリコールのモノエーテル類、１，４−ブタンジオ
ールモノヘキシルエーテル、２−メチル−１，３−プロ
パンジオールモノオクチルエーテル、１，６−ペンタン
ジオールモノヘキシルエーテル、２，2'−ジメチルプロ
パンジオールモノオクチルエーテル、３−メチル−１，
５−ペンタンジオールモノヘキシルエーテル等のアルキ
レングリコールのモノエーテル類、上記アルコールのエ
チレンオキサイド、プロピレンオキサイドあるいはブチ
レンオキサイド付加物、シクロペンタノール、シクロヘ
キサノール、シクロヘプタノール等のシクロアルカノー
ルなどのフッ素置換基を有さないヒドロキシ化合物、好
ましくは炭素数１〜40の脂肪族アルコール、メチルセロ
ソルブ、エチルセロソルブ、イソプロピルセロソルブ、
ブチルセロソルブ、メチルカルビトール、エチルカルビ
トール、イソプロピルカルビトール、ブチルカルビトー
ル、炭素数１〜40の脂肪族アルコールのエチレンオキサ
イド付加物（平均付加モル数 0.1〜20）、又は炭素数５
〜８のシクロアルカノールから選ばれた含フッ素置換基
を有さないヒドロキシ化合物中のアルキル基、アルケニ
ル基あるいはシクロアルキル基の水素原子の少なくとも
１つがフッ素原子で置換された含フッ素ヒドロキシ化合
物が挙げられるが、必ずしもこれらに限定されるもので
はない。
＝７を頂点とする分布をもつ）で表されるメチル分岐イ
ソステアリルアルコール、２−テトラデシルオクタデシ
ルアルコール等の飽和分岐アルコール、９−オクタデセ
ニルアルコール、ファルネシルアルコール、アビエチル
アルコール、オレイルアルコール等のアルケニルアルコ
ール、エチレングリコールモノメチルエーテル（メチル
セロソルブ）、エチレングリコールモノエチルエーテル
（エチルセロソルブ）、エチレングリコールモノイソプ
ロピルエーテル（イソプロピルセロソルブ）、エチレン
グリコールモノブチルエーテル（ブチルセロソルブ）、
エチレングリコールモノイソアミルエーテル、エチレン
グリコールモノヘキシルエーテル等のエチレングリコー
ルのモノエーテル類、ジエチレングリコールモノメチル
エーテル（メチルカルビトール）、ジエチレングリコー
ルモノエチルエーテル（エチルカルビトール）、ジエチ
レングリコールモノイソプロピルエーテル（イソプロピ
ルカルビトール）、ジエチレングリコールモノブチルエ
ーテル（ブチルカルビトール）等のジエチレングリコー
ルのモノエーテル類、トリエチレングリコールモノメチ
ルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテ
ル、トリエチレングリコールモノヘキシルエーテル、ト
リエチレングリコールモノドデシルエーテル、トリエチ
レングリコールモノテトラデシルエーテル等のトリエチ
レングリコールのモノエーテル類、１，４−ブタンジオ
ールモノヘキシルエーテル、２−メチル−１，３−プロ
パンジオールモノオクチルエーテル、１，６−ペンタン
ジオールモノヘキシルエーテル、２，2'−ジメチルプロ
パンジオールモノオクチルエーテル、３−メチル−１，
５−ペンタンジオールモノヘキシルエーテル等のアルキ
レングリコールのモノエーテル類、上記アルコールのエ
チレンオキサイド、プロピレンオキサイドあるいはブチ
レンオキサイド付加物、シクロペンタノール、シクロヘ
キサノール、シクロヘプタノール等のシクロアルカノー
ルなどのフッ素置換基を有さないヒドロキシ化合物、好
ましくは炭素数１〜40の脂肪族アルコール、メチルセロ
ソルブ、エチルセロソルブ、イソプロピルセロソルブ、
ブチルセロソルブ、メチルカルビトール、エチルカルビ
トール、イソプロピルカルビトール、ブチルカルビトー
ル、炭素数１〜40の脂肪族アルコールのエチレンオキサ
イド付加物（平均付加モル数 0.1〜20）、又は炭素数５
〜８のシクロアルカノールから選ばれた含フッ素置換基
を有さないヒドロキシ化合物中のアルキル基、アルケニ
ル基あるいはシクロアルキル基の水素原子の少なくとも
１つがフッ素原子で置換された含フッ素ヒドロキシ化合
物が挙げられるが、必ずしもこれらに限定されるもので
はない。
【００１６】これらの含フッ素ヒドロキシ化合物の具体
例としては、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロ
パノール、２−（パーフルオロヘキシル）エタノール、
２−（パーフルオロオクチル）エタノール、２−（パー
フルオロデシル）エタノール、６−（パーフルオロエチ
ル）ヘキサノール、６−（パーフルオロブチル）ヘキサ
ノール、６−（パーフルオロヘキシル）ヘキサノール、
６−（パーフルオロオクチル）ヘキサノール、２，２，
３，４，４，４−ヘキサフルオロブタノール、２，２，
３，３−テトラフルオロプロパノール、１Ｈ，１Ｈ，５
Ｈ−オクタフルオロペンタノール、１Ｈ，１Ｈ，７Ｈ−
ドデカフルオロヘプタノール、１Ｈ，１Ｈ，９Ｈ−ヘキ
サデカフルオロノナノール等の直鎖含フッ素アルコール
類、２−（パーフルオロ−３−メチルブチル）エタノー
ル、２−（パーフルオロ−５−メチルヘキシル）エタノ
ール、２−（パーフルオロ−７−メチルオクチル）エタ
ノール、２−（パーフルオロ−９−メチルドデシル）エ
タノール、６−（パーフルオロ−１−メチルエチル）ヘ
キサノール、２−（パーフルオロ−３−メチルブチル）
ヘキサノール、６−（パーフルオロ−５−メチルヘキシ
ル）ヘキサノール、６−（パーフルオロ−７−メチルオ
クチル）ヘキサノール等の分岐含フッ素アルコール類、
これらの含フッ素アルコールのエチレンオキサイド、プ
ロピレンオキサイドあるいはブチレンオキサイド付加物
が挙げられ、これらの中ではフッ素置換基を有する炭素
数１〜22の脂肪族アルコールが好ましく、特に一般式
(IV) Rf1(CH2)pOH (IV) （式中、Rf1 は炭素数１〜12の直鎖又は分岐鎖の含フッ
素アルキル基を示し、pは１〜10の数を示す。）で表さ
れる含フッ素アルコールが好ましい。これらの含フッ素
ヒドロキシ化合物は１種又は２種以上の混合物として用
いることができるが、好ましくは１種のものを用いるの
が良い。
例としては、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロ
パノール、２−（パーフルオロヘキシル）エタノール、
２−（パーフルオロオクチル）エタノール、２−（パー
フルオロデシル）エタノール、６−（パーフルオロエチ
ル）ヘキサノール、６−（パーフルオロブチル）ヘキサ
ノール、６−（パーフルオロヘキシル）ヘキサノール、
６−（パーフルオロオクチル）ヘキサノール、２，２，
３，４，４，４−ヘキサフルオロブタノール、２，２，
３，３−テトラフルオロプロパノール、１Ｈ，１Ｈ，５
Ｈ−オクタフルオロペンタノール、１Ｈ，１Ｈ，７Ｈ−
ドデカフルオロヘプタノール、１Ｈ，１Ｈ，９Ｈ−ヘキ
サデカフルオロノナノール等の直鎖含フッ素アルコール
類、２−（パーフルオロ−３−メチルブチル）エタノー
ル、２−（パーフルオロ−５−メチルヘキシル）エタノ
ール、２−（パーフルオロ−７−メチルオクチル）エタ
ノール、２−（パーフルオロ−９−メチルドデシル）エ
タノール、６−（パーフルオロ−１−メチルエチル）ヘ
キサノール、２−（パーフルオロ−３−メチルブチル）
ヘキサノール、６−（パーフルオロ−５−メチルヘキシ
ル）ヘキサノール、６−（パーフルオロ−７−メチルオ
クチル）ヘキサノール等の分岐含フッ素アルコール類、
これらの含フッ素アルコールのエチレンオキサイド、プ
ロピレンオキサイドあるいはブチレンオキサイド付加物
が挙げられ、これらの中ではフッ素置換基を有する炭素
数１〜22の脂肪族アルコールが好ましく、特に一般式
(IV) Rf1(CH2)pOH (IV) （式中、Rf1 は炭素数１〜12の直鎖又は分岐鎖の含フッ
素アルキル基を示し、pは１〜10の数を示す。）で表さ
れる含フッ素アルコールが好ましい。これらの含フッ素
ヒドロキシ化合物は１種又は２種以上の混合物として用
いることができるが、好ましくは１種のものを用いるの
が良い。
【００１７】本発明において、上記のような含フッ素ヒ
ドロキシ化合物を反応させる際に用いられる触媒として
は、水素化能を有するものであれば特に限定されない
が、パラジウム触媒；水酸化パラジウム、酸化パラジウ
ム等のパラジウム化合物；ルテニウム、ロジウムあるい
は白金触媒；酸化ルテニウム、酸化ロジウム、酸化白金
等が挙げられる。また、イリジウム、オスミウム、レニ
ウム等の触媒も用いることができる。これらの触媒は、
カーボン、アルミナ、シリカアルミナ、シリカ、ゼオラ
イト等の担体に適度に担持されていてもよい。これらの
触媒の中で、好ましくはパラジウム系触媒、更に好まし
くはカーボン、アルミナ、シリカアルミナもしくはシリ
カに担持されたパラジウム触媒、水酸化パラジウム又は
酸化パラジウムであり、特にカーボンに担持されたパラ
ジウム触媒が好ましい。
ドロキシ化合物を反応させる際に用いられる触媒として
は、水素化能を有するものであれば特に限定されない
が、パラジウム触媒；水酸化パラジウム、酸化パラジウ
ム等のパラジウム化合物；ルテニウム、ロジウムあるい
は白金触媒；酸化ルテニウム、酸化ロジウム、酸化白金
等が挙げられる。また、イリジウム、オスミウム、レニ
ウム等の触媒も用いることができる。これらの触媒は、
カーボン、アルミナ、シリカアルミナ、シリカ、ゼオラ
イト等の担体に適度に担持されていてもよい。これらの
触媒の中で、好ましくはパラジウム系触媒、更に好まし
くはカーボン、アルミナ、シリカアルミナもしくはシリ
カに担持されたパラジウム触媒、水酸化パラジウム又は
酸化パラジウムであり、特にカーボンに担持されたパラ
ジウム触媒が好ましい。
【００１８】本発明において触媒は、通常カーボン、ア
ルミナ等の担体に対して２〜10重量％の割合で担持して
使用するが、担体に担持せずにそのまま使用しても構わ
ない。また、20〜60重量％程度の含水品であっても構わ
ない。触媒は、例えば担体に対して５重量％担持された
ものであれば、使用する含フッ素ヒドロキシ化合物に対
して0.1〜10重量％使用するのが好ましい。0.1重量％よ
り少なくても反応は進行するが、反応は遅く好ましくな
い。また、10重量％より多く用いても反応は速いが、逆
に副反応も進行し好ましくない。さらに好ましくは 0.5
〜５重量％である。触媒はすべてのｐＨ領域で使用でき
るが、好ましくはｐＨ８〜２、更に好ましくはｐＨ 7.5
〜３の触媒がよい。ここでいう触媒のｐＨとは、イオン
交換水30ｇに触媒粉末２ｇを分散させた時の水溶液のｐ
Ｈをいう。
ルミナ等の担体に対して２〜10重量％の割合で担持して
使用するが、担体に担持せずにそのまま使用しても構わ
ない。また、20〜60重量％程度の含水品であっても構わ
ない。触媒は、例えば担体に対して５重量％担持された
ものであれば、使用する含フッ素ヒドロキシ化合物に対
して0.1〜10重量％使用するのが好ましい。0.1重量％よ
り少なくても反応は進行するが、反応は遅く好ましくな
い。また、10重量％より多く用いても反応は速いが、逆
に副反応も進行し好ましくない。さらに好ましくは 0.5
〜５重量％である。触媒はすべてのｐＨ領域で使用でき
るが、好ましくはｐＨ８〜２、更に好ましくはｐＨ 7.5
〜３の触媒がよい。ここでいう触媒のｐＨとは、イオン
交換水30ｇに触媒粉末２ｇを分散させた時の水溶液のｐ
Ｈをいう。
【００１９】本発明においては、反応により副生する水
を除去しながら反応を行うことが好ましい。反応により
副生する水を除去する方法としては、脱水剤の存在下に
反応を行うことにより水を除去する方法、共沸脱水等に
より水を留去する方法、水素等の気体を流通させながら
水を除去する方法等の方法が挙げられる。
を除去しながら反応を行うことが好ましい。反応により
副生する水を除去する方法としては、脱水剤の存在下に
反応を行うことにより水を除去する方法、共沸脱水等に
より水を留去する方法、水素等の気体を流通させながら
水を除去する方法等の方法が挙げられる。
【００２０】脱水剤の存在下に反応を行うことにより水
を除去する方法において、用いられる脱水剤とは、液体
の乾燥等に用いられるいわゆる乾燥剤も含んだ意味のも
のである。一般に脱水剤の脱水能の発現は、水の物理吸
着や化学吸着もしくは化学反応に基づくが、本発明で用
いられる脱水剤はその脱水能の発現機構に特に制限を受
けず、脱水能あるいは吸水能を有し、反応により副生す
る水を実質的に除去し、目的とするエーテル化反応を速
やかに進行させるものであればいずれのものでもよい。
尚、脱水剤の中でも、実質的に脱水能以外の反応、例え
ば触媒を溶解したりする強酸や強アルカリ等をそのまま
用いるのは好ましくないが、強酸や強アルカリについて
も、反応系に直接接触しないように工夫すれば使用でき
ることは言うまでもない。
を除去する方法において、用いられる脱水剤とは、液体
の乾燥等に用いられるいわゆる乾燥剤も含んだ意味のも
のである。一般に脱水剤の脱水能の発現は、水の物理吸
着や化学吸着もしくは化学反応に基づくが、本発明で用
いられる脱水剤はその脱水能の発現機構に特に制限を受
けず、脱水能あるいは吸水能を有し、反応により副生す
る水を実質的に除去し、目的とするエーテル化反応を速
やかに進行させるものであればいずれのものでもよい。
尚、脱水剤の中でも、実質的に脱水能以外の反応、例え
ば触媒を溶解したりする強酸や強アルカリ等をそのまま
用いるのは好ましくないが、強酸や強アルカリについて
も、反応系に直接接触しないように工夫すれば使用でき
ることは言うまでもない。
【００２１】本発明で用いられる好ましい脱水剤として
は、硫酸マグネシウム、硫酸ナトリウム、硫酸カルシウ
ム、硫酸銅、塩化カルシウム等の無機塩類、好ましくは
これらの無水物、水酸化カルシウム等の水酸化物、酸化
マグネシウム等の酸化物、モレキュラーシーブ等の結晶
性ゼオライト、シリカゲル等が挙げられるが、必ずしも
これらに限定されるものではない。これらの脱水剤の中
では、無機塩類の無水物、結晶性ゼオライトが好まし
く、無水硫酸マグネシウム、無水硫酸ナトリウム、無水
硫酸カルシウム、モレキュラーシーブが、更には無水硫
酸マグネシウムが特に好ましい。
は、硫酸マグネシウム、硫酸ナトリウム、硫酸カルシウ
ム、硫酸銅、塩化カルシウム等の無機塩類、好ましくは
これらの無水物、水酸化カルシウム等の水酸化物、酸化
マグネシウム等の酸化物、モレキュラーシーブ等の結晶
性ゼオライト、シリカゲル等が挙げられるが、必ずしも
これらに限定されるものではない。これらの脱水剤の中
では、無機塩類の無水物、結晶性ゼオライトが好まし
く、無水硫酸マグネシウム、無水硫酸ナトリウム、無水
硫酸カルシウム、モレキュラーシーブが、更には無水硫
酸マグネシウムが特に好ましい。
【００２２】本発明において脱水剤の使用量は特に限定
されないが、使用する含フッ素ヒドロキシ化合物に対し
て 0.1〜50モル％が好ましく、１〜30モル％が更に好ま
しい。このような脱水剤の存在下に反応を行うことによ
り水を除去する方法は、特別な反応装置が不要で、脱水
剤の添加だけで簡便に水を除去することができるので非
常に好ましい。
されないが、使用する含フッ素ヒドロキシ化合物に対し
て 0.1〜50モル％が好ましく、１〜30モル％が更に好ま
しい。このような脱水剤の存在下に反応を行うことによ
り水を除去する方法は、特別な反応装置が不要で、脱水
剤の添加だけで簡便に水を除去することができるので非
常に好ましい。
【００２３】また、本発明においては、反応により副生
する水を留去することにより反応系外に除去することも
できる。水を留去する方法としては、特に限定されない
が、例えば、共沸脱水等の方法が挙げられる。また、こ
の際、未反応原料と共に水を留去する方法が好ましい。
尚、留去後、水と未反応原料は分離し、未反応原料は反
応系内に戻すのが好ましい。共沸脱水の方法としては、
例えば、共沸脱水装置を用い、反応と水の留去とを連続
的に行う方法はもちろん、例えば一旦反応を行った後、
共沸脱水を行い、再び反応を行うような、反応と水の留
去を段階的に行う方法でも良い。反応をスムーズに進行
させるためには連続的に行う方が好ましい。また、脱水
を効率良く行うために、水素を流通しながら共沸脱水を
行っても良い。
する水を留去することにより反応系外に除去することも
できる。水を留去する方法としては、特に限定されない
が、例えば、共沸脱水等の方法が挙げられる。また、こ
の際、未反応原料と共に水を留去する方法が好ましい。
尚、留去後、水と未反応原料は分離し、未反応原料は反
応系内に戻すのが好ましい。共沸脱水の方法としては、
例えば、共沸脱水装置を用い、反応と水の留去とを連続
的に行う方法はもちろん、例えば一旦反応を行った後、
共沸脱水を行い、再び反応を行うような、反応と水の留
去を段階的に行う方法でも良い。反応をスムーズに進行
させるためには連続的に行う方が好ましい。また、脱水
を効率良く行うために、水素を流通しながら共沸脱水を
行っても良い。
【００２４】本発明の共沸脱水により水を除去して反応
を行う方法において、用いられる共沸溶媒としては、反
応原料の含フッ素ヒドロキシ化合物はもちろん、反応に
全く悪影響を及ぼさない溶媒を用いてもよい。反応に全
く悪影響を及ぼさない溶媒を用いて共沸脱水を行う場
合、用いられる好ましい溶媒としては、トルエン、キシ
レン、ベンゼン等が挙げられるが、必ずしもこれらに限
定されるものではない。反応に全く悪影響を及ぼさない
溶媒を用いる場合の溶媒の使用量は特に限定されない
が、反応液に対して１〜２倍容量が好ましい。
を行う方法において、用いられる共沸溶媒としては、反
応原料の含フッ素ヒドロキシ化合物はもちろん、反応に
全く悪影響を及ぼさない溶媒を用いてもよい。反応に全
く悪影響を及ぼさない溶媒を用いて共沸脱水を行う場
合、用いられる好ましい溶媒としては、トルエン、キシ
レン、ベンゼン等が挙げられるが、必ずしもこれらに限
定されるものではない。反応に全く悪影響を及ぼさない
溶媒を用いる場合の溶媒の使用量は特に限定されない
が、反応液に対して１〜２倍容量が好ましい。
【００２５】また、本発明においては、水素等の気体を
流通させながら、反応により副生する水を反応系外に除
去することもできる。本発明に用いられる水素の流通量
は、反応のスケールに応じて適宜選べばよいが、例え
ば、70mlのスケールでは 0.7〜2100ml／min が好まし
く、 0.7〜700 ml／min が更に好ましい。水素の流通量
を0.7ml／min 以上にすることで水が系外へ除去されや
すく、反応は速くなる。また水素の流通量が2100ml／mi
n 以下であると水とともに除去される原料の含フッ素ヒ
ドロキシ化合物等も少なくなるので好ましい。但し、こ
の場合でも、水とともに除去される含フッ素ヒドロキシ
化合物等の未反応原料や生成物等の有用成分を、例えば
分留、分液や脱水剤により水を除去後、再び反応系内へ
戻すか、あるいは除去された量にみあった原料を追加す
ることで、反応は滞ることなく行うことができる。ま
た、水素の流通は反応中、連続的に行ってもよいし、断
続的に行っても良いが、反応をスムースに進行させるた
めには、連続的な流通が好ましい。
流通させながら、反応により副生する水を反応系外に除
去することもできる。本発明に用いられる水素の流通量
は、反応のスケールに応じて適宜選べばよいが、例え
ば、70mlのスケールでは 0.7〜2100ml／min が好まし
く、 0.7〜700 ml／min が更に好ましい。水素の流通量
を0.7ml／min 以上にすることで水が系外へ除去されや
すく、反応は速くなる。また水素の流通量が2100ml／mi
n 以下であると水とともに除去される原料の含フッ素ヒ
ドロキシ化合物等も少なくなるので好ましい。但し、こ
の場合でも、水とともに除去される含フッ素ヒドロキシ
化合物等の未反応原料や生成物等の有用成分を、例えば
分留、分液や脱水剤により水を除去後、再び反応系内へ
戻すか、あるいは除去された量にみあった原料を追加す
ることで、反応は滞ることなく行うことができる。ま
た、水素の流通は反応中、連続的に行ってもよいし、断
続的に行っても良いが、反応をスムースに進行させるた
めには、連続的な流通が好ましい。
【００２６】更に、反応系内に流通させた水素はそのま
ま大気中へ放出しても構わないが、水素を有効に使用す
るためには、系外に出た水素を循環ライン等で再度系内
に戻して流通させ、循環させながら反応に利用するのが
効率的で好ましい。このような水素を流通させながら水
を除去する方法は、更に添加される試薬もなく、水素と
水の分離も容易で、後処理も簡便であるという利点があ
り、特に好ましい。
ま大気中へ放出しても構わないが、水素を有効に使用す
るためには、系外に出た水素を循環ライン等で再度系内
に戻して流通させ、循環させながら反応に利用するのが
効率的で好ましい。このような水素を流通させながら水
を除去する方法は、更に添加される試薬もなく、水素と
水の分離も容易で、後処理も簡便であるという利点があ
り、特に好ましい。
【００２７】本発明においては、含フッ素ヒドロキシ化
合物を水素雰囲気中で反応させるが、水素圧は特に限定
されず、加圧下又は大気圧下のいずれでもよく、１(大
気圧)〜300kg/cm2が好ましく、１（大気圧）〜200kg/cm
2 が特に好ましい。また、本発明において、含フッ素ヒ
ドロキシ化合物を反応させる際の反応温度は特に限定さ
れないが、10〜200 ℃が好ましく、50〜180 ℃が特に好
ましい。反応時間は、反応温度、水素圧、触媒量などに
よって適宜選べばよいが、通常１〜24時間、好ましくは
１〜12時間である。
合物を水素雰囲気中で反応させるが、水素圧は特に限定
されず、加圧下又は大気圧下のいずれでもよく、１(大
気圧)〜300kg/cm2が好ましく、１（大気圧）〜200kg/cm
2 が特に好ましい。また、本発明において、含フッ素ヒ
ドロキシ化合物を反応させる際の反応温度は特に限定さ
れないが、10〜200 ℃が好ましく、50〜180 ℃が特に好
ましい。反応時間は、反応温度、水素圧、触媒量などに
よって適宜選べばよいが、通常１〜24時間、好ましくは
１〜12時間である。
【００２８】また、本発明においては、反応を促進させ
る目的で、ルイス酸存在下で反応を行ってもよい。ここ
で用いられるルイス酸としては、電子対受容体ならいず
れでもよいが、 BF3・OEt2（三フッ化ホウ素・ジエチル
エーテル錯体) 、 BF3・2CH3CO2H（三フッ化ホウ素・酢
酸錯体）、 BF3・(CH3)3COCH3 （三フッ化ホウ素・ｔ−
ブチルメチルエーテル錯体）、 BF3・CH3OH （三フッ化
ホウ素・メタノール錯体）、 BF3・CH3(CH2)2OH （三フ
ッ化ホウ素・プロパノール錯体）、TiCl4 （四塩化チタ
ン）、SnCl4 （四塩化スズ）、AlCl3 （三塩化アルミニ
ウム）、TMSOTf（トリフルオロメタンスルホン酸トリメ
チルシリル）、Ti(Oi-Pro)4 （チタン酸テトライソプロ
ピル）、ZnCl2(二塩化亜鉛）、FeCl3(三塩化鉄）等が挙
げられ、特に好ましくは BF3・OEt2である。本発明にお
いてルイス酸を用いる場合、その使用量は特に限定され
ないが、含フッ素ヒドロキシ化合物に対して、好ましく
は0.01〜20倍モル、更に好ましくは0.1〜10倍モル、更
に特に好ましくは 0.5〜５倍モルである。
る目的で、ルイス酸存在下で反応を行ってもよい。ここ
で用いられるルイス酸としては、電子対受容体ならいず
れでもよいが、 BF3・OEt2（三フッ化ホウ素・ジエチル
エーテル錯体) 、 BF3・2CH3CO2H（三フッ化ホウ素・酢
酸錯体）、 BF3・(CH3)3COCH3 （三フッ化ホウ素・ｔ−
ブチルメチルエーテル錯体）、 BF3・CH3OH （三フッ化
ホウ素・メタノール錯体）、 BF3・CH3(CH2)2OH （三フ
ッ化ホウ素・プロパノール錯体）、TiCl4 （四塩化チタ
ン）、SnCl4 （四塩化スズ）、AlCl3 （三塩化アルミニ
ウム）、TMSOTf（トリフルオロメタンスルホン酸トリメ
チルシリル）、Ti(Oi-Pro)4 （チタン酸テトライソプロ
ピル）、ZnCl2(二塩化亜鉛）、FeCl3(三塩化鉄）等が挙
げられ、特に好ましくは BF3・OEt2である。本発明にお
いてルイス酸を用いる場合、その使用量は特に限定され
ないが、含フッ素ヒドロキシ化合物に対して、好ましく
は0.01〜20倍モル、更に好ましくは0.1〜10倍モル、更
に特に好ましくは 0.5〜５倍モルである。
【００２９】また、本発明の反応においては、場合によ
って溶媒を用いることもできる。溶媒は反応に関与しな
いものであればいずれも用いることができるが、ヘキサ
ン、ヘプタン、テトラヒドロフラン等が好ましい。
って溶媒を用いることもできる。溶媒は反応に関与しな
いものであればいずれも用いることができるが、ヘキサ
ン、ヘプタン、テトラヒドロフラン等が好ましい。
【００３０】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明をより詳細に説
明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもので
はない。
明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもので
はない。
【００３１】実施例１ ジ｛２−（パーフルオロヘキシル）エチル｝エーテル CF3(CF2)5CH2CH2OCH2CH2(CF2)5CF3 水素ガス導入管及び攪拌装置を備えた70mlの４つ口フラ
スコに２−（パーフルオロヘキシル）エタノール54.6g
(0.15モル）、触媒として５％Ｐｄ−Ｃ(pH 6.8)2.2ｇを
仕込み、常圧で、水素を18ml／min の速度で吹き込みな
がら、 130℃で10時間攪拌を行った。反応終了後、濾過
により触媒を除去し、さらに減圧にて、窒素を吹き込み
低沸分を留去することにより、目的のジ｛２−（パーフ
ルオロヘキシル）エチル｝エーテル46.9ｇ（0.066 モ
ル）を無色透明な液体として得た。単離収率は88％であ
った。
スコに２−（パーフルオロヘキシル）エタノール54.6g
(0.15モル）、触媒として５％Ｐｄ−Ｃ(pH 6.8)2.2ｇを
仕込み、常圧で、水素を18ml／min の速度で吹き込みな
がら、 130℃で10時間攪拌を行った。反応終了後、濾過
により触媒を除去し、さらに減圧にて、窒素を吹き込み
低沸分を留去することにより、目的のジ｛２−（パーフ
ルオロヘキシル）エチル｝エーテル46.9ｇ（0.066 モ
ル）を無色透明な液体として得た。単離収率は88％であ
った。
【００３２】実施例２ ジ｛２−（パーフルオロデシル）エチル｝エーテル CF3(CF2)9CH2CH2OCH2CH2(CF2)9CF3 水素ガス導入管及び攪拌装置を備えた70mlの４つ口フラ
スコに２−（パーフルオロデシル）エタノール56.4ｇ
（0.1 モル）、触媒として５％Ｐｄ−Ｃ(pH 7.2)2.3ｇ
を仕込み、常圧で水素を20ml／min の速度で吹き込みな
がら、 170℃で10時間攪拌を行った。反応終了後、濾過
により触媒を除去し、さらに減圧にて、スチーミングを
行い低沸分を留去することにより目的のジ｛２−（パー
フルオロデシル）エチル｝エーテル50.0ｇ（0.045 モ
ル）を白色固体として得た。単離収率は90％であった。 実施例３〜12 表１及び表２に示す含フッ素ヒドロキシ化合物及び触媒
を用い、表１及び表２に示す反応条件以外は実施例１と
同様にして反応させた。得られた生成物およびその収率
を表１及び表２に示す。
スコに２−（パーフルオロデシル）エタノール56.4ｇ
（0.1 モル）、触媒として５％Ｐｄ−Ｃ(pH 7.2)2.3ｇ
を仕込み、常圧で水素を20ml／min の速度で吹き込みな
がら、 170℃で10時間攪拌を行った。反応終了後、濾過
により触媒を除去し、さらに減圧にて、スチーミングを
行い低沸分を留去することにより目的のジ｛２−（パー
フルオロデシル）エチル｝エーテル50.0ｇ（0.045 モ
ル）を白色固体として得た。単離収率は90％であった。 実施例３〜12 表１及び表２に示す含フッ素ヒドロキシ化合物及び触媒
を用い、表１及び表２に示す反応条件以外は実施例１と
同様にして反応させた。得られた生成物およびその収率
を表１及び表２に示す。
【００３３】
【表１】
【００３４】
【表２】
Claims (6)
- 【請求項１】 一般式（Ｉ） R-O-(AO)n-H （Ｉ） （式中、R は炭素数１〜40の直鎖又は分岐のアルキル基
あるいはアルケニル基、もしくは炭素数３〜12のシクロ
アルキル基の水素原子の少なくとも１つがフッ素原子で
置換されたフッ素置換基を示す。A は炭素数２〜12のア
ルキレン基を示し、n 個のA は同一でも異なっていても
よい。n は０〜200 の数を示す。）で表される含フッ素
ヒドロキシ化合物の１種又は２種以上の混合物を水素雰
囲気下、触媒を用いて反応させることを特徴とする、一
般式（II）で表わされる含フッ素エーテル化合物の製造
方法。 R-O-(AO)n-(A'O)n'-R' （II） （式中、R 、A 及びn は前記の意味を示す。R'は炭素数
１〜40の直鎖又は分岐のアルキル基あるいはアルケニル
基、もしくは炭素数３〜12のシクロアルキル基の水素原
子の少なくとも１つがフッ素原子で置換されたフッ素置
換基を示す。A'は炭素数２〜12のアルキレン基を示し、
n'個のA'は同一でも異なっていてもよい。n'は０〜200
の数を示す。また、R とR'、A とA'、n とn'は同一でも
異なっていてもよい。） - 【請求項２】 含フッ素ヒドロキシ化合物が、炭素数１
〜40の脂肪族アルコール、メチルセロソルブ、エチルセ
ロソルブ、イソプロピルセロソルブ、ブチルセロソル
ブ、メチルカルビトール、エチルカルビトール、イソプ
ロピルカルビトール、ブチルカルビトール、炭素数１〜
40の脂肪族アルコールのエチレンオキサイド付加物（平
均付加モル数 0.1〜20）、又は炭素数５〜８のシクロア
ルカノールから選ばれたヒドロキシ化合物のアルキル
基、アルケニル基又はシクロアルキル基の水素原子の少
なくとも１つがフッ素原子で置換された化合物である請
求項１記載の製造法。 - 【請求項３】 含フッ素ヒドロキシ化合物が、炭素数１
〜40の脂肪族アルコール中のアルキル基又はアルケニル
基の水素原子の少なくとも１つがフッ素原子で置換され
た化合物である請求項２記載の製造方法。 - 【請求項４】 含フッ素ヒドロキシ化合物が、一般式
(IV) Rf1(CH2)pOH (IV) （式中、Rf1 は炭素数１〜12の直鎖又は分岐鎖の含フッ
素アルキル基を示し、pは１〜10の数を示す。）で表さ
れる化合物である請求項３記載の製造方法。 - 【請求項５】 触媒が、カーボン、アルミナ、シリカア
ルミナもしくはシリカに担持されたパラジウム触媒、水
酸化パラジウム又は酸化パラジウムである請求項１〜４
のいずれか一項に記載の製造方法。 - 【請求項６】 反応により副生する水を除去しながら反
応を行う請求項１〜５のいずれか一項に記載の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9176857A JPH1121259A (ja) | 1997-07-02 | 1997-07-02 | 含フッ素エーテル化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9176857A JPH1121259A (ja) | 1997-07-02 | 1997-07-02 | 含フッ素エーテル化合物の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1121259A true JPH1121259A (ja) | 1999-01-26 |
Family
ID=16021046
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9176857A Pending JPH1121259A (ja) | 1997-07-02 | 1997-07-02 | 含フッ素エーテル化合物の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1121259A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1718586A4 (en) * | 2004-01-30 | 2007-11-28 | Great Lakes Chemical Corp | METHODS AND SYSTEMS FOR PRODUCTION, COMPOSITIONS, SURFACTANTS, MONOMERIC UNITS, METAL COMPLEXES, PHOSPHORIC ESTERS, GLYCOLS, AQUEOUS FILM-FORMING FOAMS (AFFF TYPE) AND FOAM STABILIZERS |
| EP1718721A4 (en) * | 2004-01-30 | 2012-08-08 | Du Pont | PRODUCTION PROCESSES AND SYSTEMS, COMPOSITIONS, TENSIDES, MONOMER UNITS, METAL COMPLEXES, PHOSPHATESTER, GLYCOLS, AQUEOUS FILM-FORMING FOAMS AND FOAM STABILIZERS |
| EP1718723A4 (en) * | 2004-01-30 | 2012-08-08 | Du Pont | METHODS AND SYSTEMS FOR PRODUCTION, COMPOSITIONS, SURFACTANTS, MONOMERIC UNITS, METAL COMPLEXES, PHOSPHORIC ESTERS, GLYCOLS, AQUEOUS FILM-FORMING FOAMS (AFFF TYPE) AND FOAM STABILIZERS |
| EP1718722A4 (en) * | 2004-01-30 | 2012-08-08 | Du Pont | PRODUCTION PROCESSES AND SYSTEMS, COMPOSITIONS, TENSIDES, MONOMER UNITS, METAL COMPLEXES, PHOSPHATESTER, GLYCOLS, AQUEOUS FILM-FORMING FOAMS AND FOAM STABILIZERS |
| CN102675154A (zh) * | 2011-03-11 | 2012-09-19 | 中国科学院过程工程研究所 | 一种氨基甲酸酯热解制备mdi复杂产物的分离精制装置及方法 |
| CN116178117A (zh) * | 2023-03-02 | 2023-05-30 | 宁德时代新能源科技股份有限公司 | 氟代醚及其制备方法、电解液、电池及用电装置 |
-
1997
- 1997-07-02 JP JP9176857A patent/JPH1121259A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| EP1718721A4 (en) * | 2004-01-30 | 2012-08-08 | Du Pont | PRODUCTION PROCESSES AND SYSTEMS, COMPOSITIONS, TENSIDES, MONOMER UNITS, METAL COMPLEXES, PHOSPHATESTER, GLYCOLS, AQUEOUS FILM-FORMING FOAMS AND FOAM STABILIZERS |
| EP1718723A4 (en) * | 2004-01-30 | 2012-08-08 | Du Pont | METHODS AND SYSTEMS FOR PRODUCTION, COMPOSITIONS, SURFACTANTS, MONOMERIC UNITS, METAL COMPLEXES, PHOSPHORIC ESTERS, GLYCOLS, AQUEOUS FILM-FORMING FOAMS (AFFF TYPE) AND FOAM STABILIZERS |
| EP1718722A4 (en) * | 2004-01-30 | 2012-08-08 | Du Pont | PRODUCTION PROCESSES AND SYSTEMS, COMPOSITIONS, TENSIDES, MONOMER UNITS, METAL COMPLEXES, PHOSPHATESTER, GLYCOLS, AQUEOUS FILM-FORMING FOAMS AND FOAM STABILIZERS |
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| CN116178117A (zh) * | 2023-03-02 | 2023-05-30 | 宁德时代新能源科技股份有限公司 | 氟代醚及其制备方法、电解液、电池及用电装置 |
| CN116178117B (zh) * | 2023-03-02 | 2024-09-06 | 宁德时代新能源科技股份有限公司 | 氟代醚及其制备方法、电解液、电池及用电装置 |
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