JPH0943322A - 微弱磁気センサー及びその製造方法 - Google Patents
微弱磁気センサー及びその製造方法Info
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- JPH0943322A JPH0943322A JP22848195A JP22848195A JPH0943322A JP H0943322 A JPH0943322 A JP H0943322A JP 22848195 A JP22848195 A JP 22848195A JP 22848195 A JP22848195 A JP 22848195A JP H0943322 A JPH0943322 A JP H0943322A
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01V—GEOPHYSICS; GRAVITATIONAL MEASUREMENTS; DETECTING MASSES OR OBJECTS; TAGS
- G01V3/00—Electric or magnetic prospecting or detecting; Measuring magnetic field characteristics of the earth, e.g. declination, deviation
- G01V3/08—Electric or magnetic prospecting or detecting; Measuring magnetic field characteristics of the earth, e.g. declination, deviation operating with magnetic or electric fields produced or modified by objects or geological structures or by detecting devices
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 巻線技術を不要として、その精度をミクロン
オーダーで管理できるようにし、検出の誤差や感度にム
ラがなく、構造上薄く小型化ができ、しかも断線等の外
部要因の影響を受け難く、高い量産性を可能とした微弱
磁気センサーを提案する。 【解決手段】 所定のパターンを上下導通可能にエッチ
ングした薄板状のエポキシ基板の両面に表裏面に環状エ
ッチングを施したアモルファス薄板をパターンを合わせ
て積層してなるアモルファスコアの上下面にそれぞれＹ
コイルをエッチングしたエポキシ基板とＸコイルをエッ
チングしたエポキシ基板と環状パターンをエッチングし
たアモルファスエポキシ基板とを相対するようにして積
層してなることを特徴とする微弱磁気センサー。
オーダーで管理できるようにし、検出の誤差や感度にム
ラがなく、構造上薄く小型化ができ、しかも断線等の外
部要因の影響を受け難く、高い量産性を可能とした微弱
磁気センサーを提案する。 【解決手段】 所定のパターンを上下導通可能にエッチ
ングした薄板状のエポキシ基板の両面に表裏面に環状エ
ッチングを施したアモルファス薄板をパターンを合わせ
て積層してなるアモルファスコアの上下面にそれぞれＹ
コイルをエッチングしたエポキシ基板とＸコイルをエッ
チングしたエポキシ基板と環状パターンをエッチングし
たアモルファスエポキシ基板とを相対するようにして積
層してなることを特徴とする微弱磁気センサー。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、地磁気や他の物性
から発生する磁気を検出するための微弱磁気センサーと
その製造方法に関するものである。
から発生する磁気を検出するための微弱磁気センサーと
その製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】一般に、磁気センサーは基本的に励磁コ
イルと検出コイルとから構成され、金属をセンサーに近
付けたときに金属側に発生する渦電流により磁束が変化
するため、検出コイルの出力が変化することを利用する
ものである。磁気センサーはその構造上、熱や光，対象
物表面の影響を受けにくく、小型・軽量化が可能であ
る。
イルと検出コイルとから構成され、金属をセンサーに近
付けたときに金属側に発生する渦電流により磁束が変化
するため、検出コイルの出力が変化することを利用する
ものである。磁気センサーはその構造上、熱や光，対象
物表面の影響を受けにくく、小型・軽量化が可能であ
る。
【０００３】従来の微弱磁気センサーは、高透磁率の磁
性材料をコアにし、磁気を感ずる一次巻線と飽和状態を
検出する二次巻線とにより構成されている。従って、微
弱磁気の磁界方位を二つの方向に磁界軸を持つ二次巻線
により異なる磁界のベクトルを得ることにより測定す
る。
性材料をコアにし、磁気を感ずる一次巻線と飽和状態を
検出する二次巻線とにより構成されている。従って、微
弱磁気の磁界方位を二つの方向に磁界軸を持つ二次巻線
により異なる磁界のベクトルを得ることにより測定す
る。
【０００４】このような従来の方式では、磁性材料を精
密加工した後、絶縁被覆した銅線を精度に応じて巻線技
術により一次と二次の巻線作業を施していた。しかしな
がら、高透磁率の磁性材料によっては特殊な精密加工の
工程が必要であり、また一次と二次の巻線加工が必要な
ため、一定の巻線圧を維持したり、巻線の位置精度を均
一に保持することが難しく、検出の誤差や感度にムラが
生じて、構造的に薄くて小型のものとすることができ
ず、断線等の外部要因の影響も受け易い欠点があった。
密加工した後、絶縁被覆した銅線を精度に応じて巻線技
術により一次と二次の巻線作業を施していた。しかしな
がら、高透磁率の磁性材料によっては特殊な精密加工の
工程が必要であり、また一次と二次の巻線加工が必要な
ため、一定の巻線圧を維持したり、巻線の位置精度を均
一に保持することが難しく、検出の誤差や感度にムラが
生じて、構造的に薄くて小型のものとすることができ
ず、断線等の外部要因の影響も受け易い欠点があった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記のよう
な従来技術の欠点を解消し、巻線技術を不要として、そ
の精度をミクロンオーダーで管理できるようにし、検出
の誤差や感度にムラがなく、構造上薄く小型化ができ、
しかも断線等の外部要因の影響を受け難く、高い量産性
を可能とした微弱磁気センサーを提案するものである。
な従来技術の欠点を解消し、巻線技術を不要として、そ
の精度をミクロンオーダーで管理できるようにし、検出
の誤差や感度にムラがなく、構造上薄く小型化ができ、
しかも断線等の外部要因の影響を受け難く、高い量産性
を可能とした微弱磁気センサーを提案するものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、応力の影響を
受けない磁気特性変化の少ない合金等を使用し、エッチ
ング技術を応用することにより巻線と同じ状態とするも
ので、所定のパターンを上下導通可能にエッチングした
薄板状のエポキシ基板の両面に表裏面に環状エッチング
を施したアモルファス薄板をパターンを合わせて積層し
てなる平板状のアモルファスコアの上下面にそれぞれＹ
コイルをエッチングしたエポキシ基板とＸコイルをエッ
チングしたエポキシ基板と環状パターンをエッチングし
たアモルファスエポキシ基板とを相対するようにして積
層してなる微弱磁気センサーである。
受けない磁気特性変化の少ない合金等を使用し、エッチ
ング技術を応用することにより巻線と同じ状態とするも
ので、所定のパターンを上下導通可能にエッチングした
薄板状のエポキシ基板の両面に表裏面に環状エッチング
を施したアモルファス薄板をパターンを合わせて積層し
てなる平板状のアモルファスコアの上下面にそれぞれＹ
コイルをエッチングしたエポキシ基板とＸコイルをエッ
チングしたエポキシ基板と環状パターンをエッチングし
たアモルファスエポキシ基板とを相対するようにして積
層してなる微弱磁気センサーである。
【０００７】本発明において、エポキシ基板はガラスエ
ポキシ材又はプラスチック材等のエッチング可能な材質
であり、エッチング幅は数ミクロンオーダーであること
が好ましい。また、あらかじめ上記アモルファス薄板を
リング状にカットしてトロイダルコアを巻いたようにエ
ッチングして製作したリング状コアを上記平板状アモル
ファスコアの代りに使用して磁気センサーを作製しても
同等の効果が得られる。以下、本発明の実施形態を図面
により説明する。
ポキシ材又はプラスチック材等のエッチング可能な材質
であり、エッチング幅は数ミクロンオーダーであること
が好ましい。また、あらかじめ上記アモルファス薄板を
リング状にカットしてトロイダルコアを巻いたようにエ
ッチングして製作したリング状コアを上記平板状アモル
ファスコアの代りに使用して磁気センサーを作製しても
同等の効果が得られる。以下、本発明の実施形態を図面
により説明する。
【０００８】
【発明の実施の形態】図１〜５は本発明に係る平板状の
コアを使用したアモルファス磁気センサーの一例を示す
組立製造工程説明図、図６は該平板状コアの代りにリン
グ状コアを使用した実施例を示す分解説明図である。
コアを使用したアモルファス磁気センサーの一例を示す
組立製造工程説明図、図６は該平板状コアの代りにリン
グ状コアを使用した実施例を示す分解説明図である。
【０００９】図中１はアモルファス薄板、２は所定のパ
ターンを上下導通可能にエッチングした薄板状のガラス
エポキシ基板で、該エポキシ基板２の表裏両面にアモル
ファス薄板１を積層して仮固定した後（図１参照）、図
２に示すようにプレスにより積層板を形成する（図
２）。そして、アモルファス薄板１にはあらかじめ所定
の環状パターン３をエッチングしておき、上記エポキシ
基板２のパターンに導通可能に合わせて図３に示すよう
なアモルファス積層板４を得る。なお、必要に応じてア
モルファス積層板４には孔加工１３を施す。
ターンを上下導通可能にエッチングした薄板状のガラス
エポキシ基板で、該エポキシ基板２の表裏両面にアモル
ファス薄板１を積層して仮固定した後（図１参照）、図
２に示すようにプレスにより積層板を形成する（図
２）。そして、アモルファス薄板１にはあらかじめ所定
の環状パターン３をエッチングしておき、上記エポキシ
基板２のパターンに導通可能に合わせて図３に示すよう
なアモルファス積層板４を得る。なお、必要に応じてア
モルファス積層板４には孔加工１３を施す。
【００１０】次に、図４に示すように上記アモルファス
積層板４を核として、その上下面に別に作製しておいた
所定のパターンをエッチングした２枚のガラスエポキシ
基板２ａ，２ｂをそれぞれ上下にエッチング部分を合わ
せて積層した後プレスして、平板状のコア５を作製す
る。
積層板４を核として、その上下面に別に作製しておいた
所定のパターンをエッチングした２枚のガラスエポキシ
基板２ａ，２ｂをそれぞれ上下にエッチング部分を合わ
せて積層した後プレスして、平板状のコア５を作製す
る。
【００１１】次に、上記平板状のアモルファスコア５と
は別に、例えば図６に示すようなＸパターン１０をエッ
チングしたガラスエポキシ基板６（以下、単にＸコイル
という）とＹパターン１１をエッチングしたガラスエポ
キシ基板７（以下、単にＹコイルという）と環状パター
ン１２をエッチングしたアモルファスガラスエポキシ基
板８（以下、単にアモコイルという）を２枚づつ作製
し、平板状のコア５を核として、その上下両面に外側か
らＸコイル６、Ｙコイル７、アモコイル８の順でそれぞ
れ各エッチング部分を合わせて導通可能に積層した後プ
レスして微弱磁気センサーを作製するのである（図５参
照）。
は別に、例えば図６に示すようなＸパターン１０をエッ
チングしたガラスエポキシ基板６（以下、単にＸコイル
という）とＹパターン１１をエッチングしたガラスエポ
キシ基板７（以下、単にＹコイルという）と環状パター
ン１２をエッチングしたアモルファスガラスエポキシ基
板８（以下、単にアモコイルという）を２枚づつ作製
し、平板状のコア５を核として、その上下両面に外側か
らＸコイル６、Ｙコイル７、アモコイル８の順でそれぞ
れ各エッチング部分を合わせて導通可能に積層した後プ
レスして微弱磁気センサーを作製するのである（図５参
照）。
【００１２】なお、各パターンのエッチング幅は数ミク
ロンオーダーであり、極めて小型の磁気センサーを作製
することができる。また、この実施例では各エポキシ基
板２，６，７，８にはガラスエポキシ基板を使用してい
るが、エッチング可能なものであれば、その他のプラス
チック材を使用することもできる。
ロンオーダーであり、極めて小型の磁気センサーを作製
することができる。また、この実施例では各エポキシ基
板２，６，７，８にはガラスエポキシ基板を使用してい
るが、エッチング可能なものであれば、その他のプラス
チック材を使用することもできる。
【００１３】また、図１〜５は平板状のアモルファスコ
ア５を使用した場合について説明したが、図６に示すよ
うにあらかじめ前記アモルファス薄板１をリング状にカ
ットしてトロイダルコアを巻いたようにエッチングして
製作したリング状のアモルファスコア９を核として本発
明に係る磁気センサーを作製してもよい。
ア５を使用した場合について説明したが、図６に示すよ
うにあらかじめ前記アモルファス薄板１をリング状にカ
ットしてトロイダルコアを巻いたようにエッチングして
製作したリング状のアモルファスコア９を核として本発
明に係る磁気センサーを作製してもよい。
【００１４】
【発明の効果】以上説明したように、本発明による磁気
センサーは従来のような巻線技術を必要としないので、
巻線によるムラや巻線圧による感度の変化がなく、その
精度をミクロンオーダーで管理することができ、またエ
ッチングにより薄い材料が使用でき、同一材料に駆動す
るための電子回路を組込むことができるので、非常に薄
く小型化が可能で、断線等の外部要因の影響も受け難
く、安定した量産が可能である等の効果がある。
センサーは従来のような巻線技術を必要としないので、
巻線によるムラや巻線圧による感度の変化がなく、その
精度をミクロンオーダーで管理することができ、またエ
ッチングにより薄い材料が使用でき、同一材料に駆動す
るための電子回路を組込むことができるので、非常に薄
く小型化が可能で、断線等の外部要因の影響も受け難
く、安定した量産が可能である等の効果がある。
【図１】コアを平板状とした本発明に係るアモルファス
磁気センサーの組立製造工程の一過程を示す説明図であ
る。
磁気センサーの組立製造工程の一過程を示す説明図であ
る。
【図２】コアを平板状とした本発明に係るアモルファス
磁気センサーの組立製造工程の一過程を示す説明図であ
る。
磁気センサーの組立製造工程の一過程を示す説明図であ
る。
【図３】コアを平板状とした本発明に係るアモルファス
磁気センサーの組立製造工程の一過程を示す説明図であ
る。
磁気センサーの組立製造工程の一過程を示す説明図であ
る。
【図４】コアを平板状とした本発明に係るアモルファス
磁気センサーの組立製造工程の一過程を示す説明図であ
る。
磁気センサーの組立製造工程の一過程を示す説明図であ
る。
【図５】コアを平板状とした本発明に係るアモルファス
磁気センサーの組立製造工程の最終工程を示す説明図で
ある。
磁気センサーの組立製造工程の最終工程を示す説明図で
ある。
【図６】コアをリング状とした本発明に係るアモルファ
ス磁気センサーの分解説明図である。
ス磁気センサーの分解説明図である。
１−アモルファス薄板 ２−ガラスエポキシ基板 ３−環状エッチング ４−アモルファス積層基板 ５−平板状アモルファスコア ６−Ｘコイルエポキシ基板 ７−Ｙコイルエポキシ基板 ８−アモルファスエポキシ基板 ９−リング状アモルファスコア １０−Ｘ形パターン １１−Ｙ形パターン １２−環状パターン １３−孔加工
Claims (4)
- 【請求項１】 所定のパターンを上下導通可能にエッチ
ングした薄板状のエポキシ基板の両面に表裏面に環状エ
ッチングを施したアモルファス薄板をパターンを合わせ
て積層してなるアモルファスコアの上下面にそれぞれＹ
コイルをエッチングしたエポキシ基板とＸコイルをエッ
チングしたエポキシ基板と環状パターンをエッチングし
たアモルファスエポキシ基板とを相対するようにして積
層してなることを特徴とする微弱磁気センサー。 - 【請求項２】 前記エポキシ基板がガラスエポキシ又は
プラスチック材等のエッチング可能な材質である請求項
１記載の微弱磁気センサー。 - 【請求項３】 所定のパターンを上下導通可能にエッチ
ングした薄板状のエポキシ基板の両面に表裏面に環状エ
ッチングを施したアモルファス薄板を該エポキシ基板の
パターンと合わせて積層プレスして平板状のアモルファ
スコアを作製し、該コアの上下面にそれぞれ外側からＹ
コイルをエッチングしたエポキシ基板とＸコイルをエッ
チングしたエポキシ基板と環状パターンをエッチングし
たアモルファスエポキシ基板の順で積層した後プレスす
ることを特徴とする微弱磁気センサーの製造方法。 - 【請求項４】 請求項３における平板状のアモルファス
コアの代りに前記アモルファス薄板をリング状にカット
してトロイダルコアを巻いたようにエッチングして製作
したリング状のアモルファスコアを使用して、該コアの
上下面にそれぞれ外側からＹコイルをエッチングしたエ
ポキシ基板とＸコイルをエッチングしたエポキシ基板と
環状パターンをエッチングしたアモルファスエポキシ基
板の順で積層した後プレスすることを特徴とする微弱磁
気センサーの製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22848195A JPH0943322A (ja) | 1995-08-02 | 1995-08-02 | 微弱磁気センサー及びその製造方法 |
| US08/580,450 US5936403A (en) | 1995-08-02 | 1995-12-27 | Weak-field magnetic field sensor having etched circuit coils |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22848195A JPH0943322A (ja) | 1995-08-02 | 1995-08-02 | 微弱磁気センサー及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0943322A true JPH0943322A (ja) | 1997-02-14 |
Family
ID=16877152
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22848195A Pending JPH0943322A (ja) | 1995-08-02 | 1995-08-02 | 微弱磁気センサー及びその製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5936403A (ja) |
| JP (1) | JPH0943322A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002043654A (ja) * | 2000-07-26 | 2002-02-08 | Ap One System Co Ltd | 薄膜積層型磁気センサ |
| USRE45023E1 (en) | 2000-10-16 | 2014-07-22 | Naos Innovation, Llc | Three-axis magnetic sensor, an omnidirectional magnetic sensor and an azimuth measuring method using the same |
| JP2022146936A (ja) * | 2021-03-22 | 2022-10-05 | リテルフューズ、インコーポレイテッド | 伝搬速度補償型位置測定用磁気センサ用導波路 |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3559174B2 (ja) * | 1998-05-25 | 2004-08-25 | リョービ株式会社 | インパクト工具の打撃構造 |
| US6528408B2 (en) * | 2001-05-21 | 2003-03-04 | Micron Technology, Inc. | Method for bumped die and wire bonded board-on-chip package |
| KR100432662B1 (ko) * | 2002-03-09 | 2004-05-22 | 삼성전기주식회사 | 인쇄회로기판 기술을 이용한 미약자계 감지용 센서 및 그제조방법 |
| KR100467839B1 (ko) * | 2002-03-09 | 2005-01-24 | 삼성전기주식회사 | 인쇄회로기판을 사용한 미약자계 감지용 센서 및 그 제조방법 |
| KR100432661B1 (ko) * | 2002-03-09 | 2004-05-22 | 삼성전기주식회사 | 인쇄회로기판 기술을 이용한 미약자계 감지용 센서 및 그제조방법 |
| KR100494472B1 (ko) * | 2002-12-31 | 2005-06-10 | 삼성전기주식회사 | 인쇄회로기판 기술을 이용한 미약자계 감지용 센서 및 그제조 방법 |
| KR100619368B1 (ko) * | 2004-07-05 | 2006-09-08 | 삼성전기주식회사 | 미약자계 감지용 센서를 구비한 인쇄회로기판 및 그 제작방법 |
| KR100619369B1 (ko) * | 2004-07-24 | 2006-09-08 | 삼성전기주식회사 | 미약자계 감지용 센서를 구비한 인쇄회로기판 및 그 제작방법 |
| US7271585B2 (en) * | 2004-12-01 | 2007-09-18 | Simmonds Precision Products, Inc. | Method of fabricating a multilayer wiring board proximity sensor |
| KR100787228B1 (ko) | 2006-06-12 | 2007-12-21 | 삼성전자주식회사 | 2축 지자기 센서 및 그 제작방법 |
| ATE552510T1 (de) * | 2008-12-03 | 2012-04-15 | St Microelectronics Srl | Magnetischer sensor mit grossem messbereich und herstellungsprozess für den sensor |
| US8829901B2 (en) * | 2011-11-04 | 2014-09-09 | Honeywell International Inc. | Method of using a magnetoresistive sensor in second harmonic detection mode for sensing weak magnetic fields |
| DE102011088394B4 (de) * | 2011-12-13 | 2024-11-28 | Robert Bosch Gmbh | Metallsensor |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CH651151A5 (de) * | 1979-11-27 | 1985-08-30 | Landis & Gyr Ag | Messwandler zum messen eines insbesondere von einem messstrom erzeugten magnetfeldes. |
| US4613843A (en) * | 1984-10-22 | 1986-09-23 | Ford Motor Company | Planar coil magnetic transducer |
| DE3735668A1 (de) * | 1987-10-22 | 1989-05-03 | Philips Patentverwaltung | Vorrichtung zur mehrkanaligen messung schwacher magnetfelder |
| RU2040788C1 (ru) * | 1993-04-29 | 1995-07-25 | Товарищество с ограниченной ответственностью "Интрон Плюс" | Вихретоковый датчик для неразрушающего контроля металлизации отверстий и трубок и способ его изготовления |
-
1995
- 1995-08-02 JP JP22848195A patent/JPH0943322A/ja active Pending
- 1995-12-27 US US08/580,450 patent/US5936403A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002043654A (ja) * | 2000-07-26 | 2002-02-08 | Ap One System Co Ltd | 薄膜積層型磁気センサ |
| USRE45023E1 (en) | 2000-10-16 | 2014-07-22 | Naos Innovation, Llc | Three-axis magnetic sensor, an omnidirectional magnetic sensor and an azimuth measuring method using the same |
| JP2022146936A (ja) * | 2021-03-22 | 2022-10-05 | リテルフューズ、インコーポレイテッド | 伝搬速度補償型位置測定用磁気センサ用導波路 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5936403A (en) | 1999-08-10 |
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