JPH0943406A - 光反射抑制体および光処理装置 - Google Patents
光反射抑制体および光処理装置Info
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- JPH0943406A JPH0943406A JP19529695A JP19529695A JPH0943406A JP H0943406 A JPH0943406 A JP H0943406A JP 19529695 A JP19529695 A JP 19529695A JP 19529695 A JP19529695 A JP 19529695A JP H0943406 A JPH0943406 A JP H0943406A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 入射した光を効果的に減衰させ、入射光の反
射成分を著しく低減する。 【解決手段】 入射光の光軸に対して所定角度をなす複
数の板部材２が互いに所定間隔ごとに配列されてあると
ともに、上記板部材２が、入射光の光学的反射を抑制す
るものである。
射成分を著しく低減する。 【解決手段】 入射光の光軸に対して所定角度をなす複
数の板部材２が互いに所定間隔ごとに配列されてあると
ともに、上記板部材２が、入射光の光学的反射を抑制す
るものである。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は光反射抑制体およ
び光処理装置に関し、さらに詳細にいえば、光の照射を
受けた場合において、照射された光の反射を大幅に抑制
することができる光反射抑制体、およびこの光反射抑制
体を用いて被処理物の裏面側からの反射を大幅に抑制す
ることができる光処理装置に関する。
び光処理装置に関し、さらに詳細にいえば、光の照射を
受けた場合において、照射された光の反射を大幅に抑制
することができる光反射抑制体、およびこの光反射抑制
体を用いて被処理物の裏面側からの反射を大幅に抑制す
ることができる光処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来から、入射光を十分に減衰させ、反
射を大幅に抑制することができる装置として、実開平６
−６０８０１号公報に記載されたものが提案されてい
る。この装置は、所定長さの筒体の内奥部に円錐体を一
体的に形成し、入射光をこの円錐体と筒体の内面とで多
重反射させることにより、入射光を十分に減衰させ、入
射光がこの装置に導入された後に再び出射する場合に、
この出射光の強度の入射光の強度に対する割合を著しく
小さくすることができる。
射を大幅に抑制することができる装置として、実開平６
−６０８０１号公報に記載されたものが提案されてい
る。この装置は、所定長さの筒体の内奥部に円錐体を一
体的に形成し、入射光をこの円錐体と筒体の内面とで多
重反射させることにより、入射光を十分に減衰させ、入
射光がこの装置に導入された後に再び出射する場合に、
この出射光の強度の入射光の強度に対する割合を著しく
小さくすることができる。
【０００３】ただし、円錐体としては、頂角が鋭角の場
合（実開平６−６０８０１号の従来例）と鈍角の場合と
が示されている。
合（実開平６−６０８０１号の従来例）と鈍角の場合と
が示されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、実開平６−６
０８０１号公報に記載された装置を採用する場合には、
筒体の長さをかなり長く設定しなければならないという
不都合がある。すなわち、筒体の長さを余り長く設定し
ていない場合には、円錐体と筒体の内面とで行われる多
重反射の回数が少なくなってしまい、入射光を十分には
減衰させることができなくなってしまう。
０８０１号公報に記載された装置を採用する場合には、
筒体の長さをかなり長く設定しなければならないという
不都合がある。すなわち、筒体の長さを余り長く設定し
ていない場合には、円錐体と筒体の内面とで行われる多
重反射の回数が少なくなってしまい、入射光を十分には
減衰させることができなくなってしまう。
【０００５】また、筒体の口径を大きくすれば、筒体の
長さを変化させなくても多重反射の回数が少なくなって
しまうので、入射光を十分には減衰させることができな
くなってしまう。したがって、筒体の口径をある程度以
下のサイズに設定しておかなければならなくなり、限ら
れた範囲における入射光にしか対処することができなく
なってしまう。
長さを変化させなくても多重反射の回数が少なくなって
しまうので、入射光を十分には減衰させることができな
くなってしまう。したがって、筒体の口径をある程度以
下のサイズに設定しておかなければならなくなり、限ら
れた範囲における入射光にしか対処することができなく
なってしまう。
【０００６】これらの不都合を考慮すれば、筒体の口径
を十分に小さく設定し、しかも筒体の長さを十分に長く
設定しなければならなくなってしまう。したがって、こ
の筒体の長さを十分に長く設定することに伴なって装置
全体のサイズ（入射光の光軸方向におけるサイズ）が大
きくなってしまい、しかも筒体の口径を十分に小さく設
定することに伴なって十分に減衰させることができる入
射光の範囲（光軸を中心とする広がりの範囲）が小さく
なってしまう。
を十分に小さく設定し、しかも筒体の長さを十分に長く
設定しなければならなくなってしまう。したがって、こ
の筒体の長さを十分に長く設定することに伴なって装置
全体のサイズ（入射光の光軸方向におけるサイズ）が大
きくなってしまい、しかも筒体の口径を十分に小さく設
定することに伴なって十分に減衰させることができる入
射光の範囲（光軸を中心とする広がりの範囲）が小さく
なってしまう。
【０００７】この結果、実開平６−６０８０１号公報に
記載された装置を組み込んだ光処理装置（光学的測定装
置あるいは光加工装置など）が全体として大型化してし
まい、適用可能な光処理装置が大幅に制約を受けてしま
うことになる。
記載された装置を組み込んだ光処理装置（光学的測定装
置あるいは光加工装置など）が全体として大型化してし
まい、適用可能な光処理装置が大幅に制約を受けてしま
うことになる。
【０００８】
【発明の目的】この発明は上記の問題点に鑑みてなされ
たものであり、入射光の光軸方向におけるサイズを小さ
くすることができるとともに、十分に減衰させることが
できる入射光の範囲を簡単に大きくすることができ、し
かも十分に入射光を減衰させることができる光反射抑制
体を提供することを第１の目的とし、このような光反射
抑制体を用いて反射光の影響を大幅に抑制することがで
きる光処理装置を提供することを第２の目的としてい
る。
たものであり、入射光の光軸方向におけるサイズを小さ
くすることができるとともに、十分に減衰させることが
できる入射光の範囲を簡単に大きくすることができ、し
かも十分に入射光を減衰させることができる光反射抑制
体を提供することを第１の目的とし、このような光反射
抑制体を用いて反射光の影響を大幅に抑制することがで
きる光処理装置を提供することを第２の目的としてい
る。
【０００９】
【課題を解決するための手段】請求項１の光反射抑制体
は、入射光の光軸に対して所定角度をなす複数の板部材
が互いに所定間隔ごとに配列されているとともに、上記
板部材が、入射光の光学的反射を抑制するものである。
請求項２の光処理装置は、透光性のある被処理物の表面
に対して入射光を照射し、被処理物からの反射光を受光
部により受光する装置において、被処理物の裏面側に、
光反射抑制体を配置してあり、この光反射抑制体が、入
射光の光軸に対して所定角度をなす複数の板部材が互い
に所定間隔ごとに配列されているとともに、上記板部材
が、入射光の光学的反射を抑制するものである。
は、入射光の光軸に対して所定角度をなす複数の板部材
が互いに所定間隔ごとに配列されているとともに、上記
板部材が、入射光の光学的反射を抑制するものである。
請求項２の光処理装置は、透光性のある被処理物の表面
に対して入射光を照射し、被処理物からの反射光を受光
部により受光する装置において、被処理物の裏面側に、
光反射抑制体を配置してあり、この光反射抑制体が、入
射光の光軸に対して所定角度をなす複数の板部材が互い
に所定間隔ごとに配列されているとともに、上記板部材
が、入射光の光学的反射を抑制するものである。
【００１０】請求項３の光処理装置は、透光性のある被
処理物の表面に対して入射光を照射し、被処理物につい
て光処理を行う装置において、被処理物の裏面側に、光
反射抑制体を配置してあり、この光反射抑制体が、入射
光の光軸に対して所定角度をなす複数の板部材が互いに
所定間隔ごとに配列されているとともに、上記板部材
が、入射光の光学的反射を抑制するものである。
処理物の表面に対して入射光を照射し、被処理物につい
て光処理を行う装置において、被処理物の裏面側に、光
反射抑制体を配置してあり、この光反射抑制体が、入射
光の光軸に対して所定角度をなす複数の板部材が互いに
所定間隔ごとに配列されているとともに、上記板部材
が、入射光の光学的反射を抑制するものである。
【００１１】
【作用】請求項１の光反射抑制体であれば、入射光の光
軸に対して所定角度をなす複数の板部材が互いに所定間
隔ごとに配列されているので、隣合う板部材どうしの間
に侵入した入射光が両板部材による多重反射を行いなが
ら伝播して反射の都度入射光を減衰させる。そして、上
記板部材として、入射光の光学的反射を抑制するものを
採用しているので、反射の都度入射光が減衰させられる
程度を高めることができる。したがって、両者の相乗効
果によって入射光の減衰の程度を著しく高めることがで
き、ひいては光反射抑制体から出射される光の強度を著
しく低減することができる。また、複数の板部材が光軸
に対して所定角度をなし、かつ互いに所定間隔ごとに配
列されているのであるから、光反射抑制体の、入射光の
光軸方向におけるサイズを小さくすることができるとと
もに、板部材の配列可能な範囲に何らの制約がないので
あるから、十分に減衰させることができる入射光の広が
りの範囲を大きくすることができる。
軸に対して所定角度をなす複数の板部材が互いに所定間
隔ごとに配列されているので、隣合う板部材どうしの間
に侵入した入射光が両板部材による多重反射を行いなが
ら伝播して反射の都度入射光を減衰させる。そして、上
記板部材として、入射光の光学的反射を抑制するものを
採用しているので、反射の都度入射光が減衰させられる
程度を高めることができる。したがって、両者の相乗効
果によって入射光の減衰の程度を著しく高めることがで
き、ひいては光反射抑制体から出射される光の強度を著
しく低減することができる。また、複数の板部材が光軸
に対して所定角度をなし、かつ互いに所定間隔ごとに配
列されているのであるから、光反射抑制体の、入射光の
光軸方向におけるサイズを小さくすることができるとと
もに、板部材の配列可能な範囲に何らの制約がないので
あるから、十分に減衰させることができる入射光の広が
りの範囲を大きくすることができる。
【００１２】請求項２の光処理装置であれば、透光性の
ある被処理物の表面に対して入射光を照射し、被処理物
について光処理を行う装置において、被処理物の裏面側
に、光反射抑制体を配置してあり、この光反射抑制体と
して、入射光の光軸に対して所定角度をなす複数の板部
材が互いに所定間隔ごとに配列されているものを採用し
ているので、隣合う板部材どうしの間に侵入した入射光
が両板部材による多重反射を行いながら伝播して反射の
都度入射光を減衰させる。そして、上記板部材として、
入射光の光学的反射を抑制するものを採用しているの
で、反射の都度入射光が減衰させられる程度を高めるこ
とができる。
ある被処理物の表面に対して入射光を照射し、被処理物
について光処理を行う装置において、被処理物の裏面側
に、光反射抑制体を配置してあり、この光反射抑制体と
して、入射光の光軸に対して所定角度をなす複数の板部
材が互いに所定間隔ごとに配列されているものを採用し
ているので、隣合う板部材どうしの間に侵入した入射光
が両板部材による多重反射を行いながら伝播して反射の
都度入射光を減衰させる。そして、上記板部材として、
入射光の光学的反射を抑制するものを採用しているの
で、反射の都度入射光が減衰させられる程度を高めるこ
とができる。
【００１３】したがって、両者の相乗効果によって入射
光の減衰の程度を著しく高めることができ、ひいては光
反射抑制体から出射される光の強度を著しく低減するこ
とができる。また、複数の板部材が光軸に対して所定角
度をなし、かつ互いに所定間隔ごとに配列されているの
であるから、光反射抑制体の、入射光の光軸方向におけ
るサイズを小さくすることができるとともに、板部材の
配列可能な範囲に何らの制約がないのであるから、十分
に減衰させることができる入射光の広がりの範囲を大き
くすることができる。この結果、光加工装置などの光処
理装置全体として小形化を達成することができるととも
に、広範囲にわたって十分な光減衰効果を達成すること
ができる。
光の減衰の程度を著しく高めることができ、ひいては光
反射抑制体から出射される光の強度を著しく低減するこ
とができる。また、複数の板部材が光軸に対して所定角
度をなし、かつ互いに所定間隔ごとに配列されているの
であるから、光反射抑制体の、入射光の光軸方向におけ
るサイズを小さくすることができるとともに、板部材の
配列可能な範囲に何らの制約がないのであるから、十分
に減衰させることができる入射光の広がりの範囲を大き
くすることができる。この結果、光加工装置などの光処
理装置全体として小形化を達成することができるととも
に、広範囲にわたって十分な光減衰効果を達成すること
ができる。
【００１４】請求項３の光処理装置であれば、透光性の
ある被処理物の表面に対して入射光を照射し、被処理物
からの反射光を受光部により受光する装置において、被
処理物の裏面側に、光反射抑制体を配置してあり、この
光反射抑制体として、入射光の光軸に対して所定角度を
なす複数の板部材が互いに所定間隔ごとに配列されてあ
るものを採用しているので、隣合う板部材どうしの間に
侵入した入射光が両板部材による多重反射を行いながら
伝播して反射の都度入射光を減衰させる。そして、上記
板部材として、入射光の光学的反射を抑制するものを採
用しているので、反射の都度入射光が減衰させられる程
度を高めることができる。
ある被処理物の表面に対して入射光を照射し、被処理物
からの反射光を受光部により受光する装置において、被
処理物の裏面側に、光反射抑制体を配置してあり、この
光反射抑制体として、入射光の光軸に対して所定角度を
なす複数の板部材が互いに所定間隔ごとに配列されてあ
るものを採用しているので、隣合う板部材どうしの間に
侵入した入射光が両板部材による多重反射を行いながら
伝播して反射の都度入射光を減衰させる。そして、上記
板部材として、入射光の光学的反射を抑制するものを採
用しているので、反射の都度入射光が減衰させられる程
度を高めることができる。
【００１５】したがって、両者の相乗効果によって入射
光の減衰の程度を著しく高めることができ、ひいては光
反射抑制体から出射される光の強度を著しく低減するこ
とができる。また、複数の板部材が光軸に対して所定角
度をなし、かつ互いに所定間隔ごとに配列されているの
であるから、光反射抑制体の、入射光の光軸方向におけ
るサイズを小さくすることができるとともに、板部材の
配列可能な範囲に何らの制約がないのであるから、十分
に減衰させることができる入射光の広がりの範囲を大き
くすることができる。この結果、光学的測定装置などの
光処理装置全体として小形化を達成することができると
ともに、広範囲にわたって十分な光減衰効果を達成する
ことができる。
光の減衰の程度を著しく高めることができ、ひいては光
反射抑制体から出射される光の強度を著しく低減するこ
とができる。また、複数の板部材が光軸に対して所定角
度をなし、かつ互いに所定間隔ごとに配列されているの
であるから、光反射抑制体の、入射光の光軸方向におけ
るサイズを小さくすることができるとともに、板部材の
配列可能な範囲に何らの制約がないのであるから、十分
に減衰させることができる入射光の広がりの範囲を大き
くすることができる。この結果、光学的測定装置などの
光処理装置全体として小形化を達成することができると
ともに、広範囲にわたって十分な光減衰効果を達成する
ことができる。
【００１６】
【発明の実施の形態】以下、添付図面によってこの発明
の実施の態様を詳細に説明する。図１はこの発明の光反
射抑制体の一実施態様を示す斜視図、図２は図１の要部
拡大縦断面図である。この光反射抑制体は、一面が開放
された直方体状の枠体１の内部に、入射光の光軸に対し
て所定角度をなす複数の板部材２が所定間隔ごとに配列
されたものである。そして、これら板部材２の外周面に
光学的反射を抑制するための塗装が施されているととも
に、枠体１の底板部材１ａにも光学的反射を抑制するた
めの塗装が施されている。これらの塗装としては、例え
ば、黒色アルマイト、アルカリ着色、黒色つや消し塗装
が例示できる。また、板部材２の幅（底板部材１ａに接
する位置から入射光導入側端部までの長さ）は、板部材
２どうしの間隔、光軸に対してなす角度に対応して、少
なくとも所定回数の多重反射が行われるように、経験
的、または理論的に設定される。ただし、幅、間隔に対
応して光軸に対してなす角度を設定してもよく、幅、光
軸に対してなす角度に対応して間隔を設定してもよい。
また、板部材２は、平板に限らず、断面形状がくさび状
のものであってもよい。
の実施の態様を詳細に説明する。図１はこの発明の光反
射抑制体の一実施態様を示す斜視図、図２は図１の要部
拡大縦断面図である。この光反射抑制体は、一面が開放
された直方体状の枠体１の内部に、入射光の光軸に対し
て所定角度をなす複数の板部材２が所定間隔ごとに配列
されたものである。そして、これら板部材２の外周面に
光学的反射を抑制するための塗装が施されているととも
に、枠体１の底板部材１ａにも光学的反射を抑制するた
めの塗装が施されている。これらの塗装としては、例え
ば、黒色アルマイト、アルカリ着色、黒色つや消し塗装
が例示できる。また、板部材２の幅（底板部材１ａに接
する位置から入射光導入側端部までの長さ）は、板部材
２どうしの間隔、光軸に対してなす角度に対応して、少
なくとも所定回数の多重反射が行われるように、経験
的、または理論的に設定される。ただし、幅、間隔に対
応して光軸に対してなす角度を設定してもよく、幅、光
軸に対してなす角度に対応して間隔を設定してもよい。
また、板部材２は、平板に限らず、断面形状がくさび状
のものであってもよい。
【００１７】さらに詳細に説明する。一般的に光反射抑
制体に対して図３に示すように入射光が導入される場合
には、入射光が板部材２に当った時の正反射光の方向が
水平より下方となることが望ましい。具体的には、θＲ
＞０ θＲ＝θＰ−｛（９０°−θＰ）＋θＩ｝ ＝２θＰ−９０°−θＩ＞０ であるから、θＰ＞（９０°＋θＩ）／２に設定すれば
よい。なお、θＩは入射角、θＰは底板部材１ａに対し
て板部材２表面のなす角、θＲは正反射光の水平から下
方への角度をそれぞれ示している。また、光学処理が熱
加工などの場合にこの条件が必要な場合が多い。
制体に対して図３に示すように入射光が導入される場合
には、入射光が板部材２に当った時の正反射光の方向が
水平より下方となることが望ましい。具体的には、θＲ
＞０ θＲ＝θＰ−｛（９０°−θＰ）＋θＩ｝ ＝２θＰ−９０°−θＩ＞０ であるから、θＰ＞（９０°＋θＩ）／２に設定すれば
よい。なお、θＩは入射角、θＰは底板部材１ａに対し
て板部材２表面のなす角、θＲは正反射光の水平から下
方への角度をそれぞれ示している。また、光学処理が熱
加工などの場合にこの条件が必要な場合が多い。
【００１８】光処理装置が受光部を有するものであり、
この受光部が受光限界を有するものである場合であっ
て、光反射抑制体に対して図４に示すように入射光が導
入される場合には、入射光が板部材２に当った時の正反
射光の方向が、光学処理装置の受光限界の下方となるこ
とが望ましい。具体的には、 θＲ＜９０°−θＬ θＲ＝｛（９０°−θＰ）＋θＩ｝−θＰ ＝９０°＋θＩ−２θＰ＜９０°−θＬ であるから、θＰ＞（θＩ＋θＬ）／２に設定すればよ
い。なお、θＩは入射角、θＰは底板部材１ａに対して
板部材２表面のなす角、θＲは正反射光の水平から上方
への角度、θＬは光学処理装置の受光限界をそれぞれ示
している。光学処理装置の受光限界は、ノイズ光として
光学処理装置に害を与える光の限界角度であり、光学処
理装置は、θＬ以上の角度でノイズ光が入射しても、内
部の絞りなどでシャットアウトできるような構造を有し
ている場合がある。また、光学処理が測定の場合には、
このような条件が成り立つことが多い。
この受光部が受光限界を有するものである場合であっ
て、光反射抑制体に対して図４に示すように入射光が導
入される場合には、入射光が板部材２に当った時の正反
射光の方向が、光学処理装置の受光限界の下方となるこ
とが望ましい。具体的には、 θＲ＜９０°−θＬ θＲ＝｛（９０°−θＰ）＋θＩ｝−θＰ ＝９０°＋θＩ−２θＰ＜９０°−θＬ であるから、θＰ＞（θＩ＋θＬ）／２に設定すればよ
い。なお、θＩは入射角、θＰは底板部材１ａに対して
板部材２表面のなす角、θＲは正反射光の水平から上方
への角度、θＬは光学処理装置の受光限界をそれぞれ示
している。光学処理装置の受光限界は、ノイズ光として
光学処理装置に害を与える光の限界角度であり、光学処
理装置は、θＬ以上の角度でノイズ光が入射しても、内
部の絞りなどでシャットアウトできるような構造を有し
ている場合がある。また、光学処理が測定の場合には、
このような条件が成り立つことが多い。
【００１９】板部材２どうしの間隔ｄについては、全て
の入射光が少なくとも１回は板部材２で反射されること
が望ましい。具体的には、図５に示すように入射光が照
射された場合に、 Ｌ＞ｄ Ｌ＝ｌｃｏｓθＰ＋ｌｓｉｎθＰｔａｎθＩ であるから、ｄ＜ｌ（ｃｏｓθＰ＋ｓｉｎθＰｔａｎθ
Ｉ）に設定すればよい。なお、θＩは入射角、θＰは底
板部材１ａに対して板部材２のなす角、ｌは板部材２の
幅、ｄは板部材２どうしの間隔、Ｌは入射光による板部
材２の影の落射位置をそれぞれ示している。
の入射光が少なくとも１回は板部材２で反射されること
が望ましい。具体的には、図５に示すように入射光が照
射された場合に、 Ｌ＞ｄ Ｌ＝ｌｃｏｓθＰ＋ｌｓｉｎθＰｔａｎθＩ であるから、ｄ＜ｌ（ｃｏｓθＰ＋ｓｉｎθＰｔａｎθ
Ｉ）に設定すればよい。なお、θＩは入射角、θＰは底
板部材１ａに対して板部材２のなす角、ｌは板部材２の
幅、ｄは板部材２どうしの間隔、Ｌは入射光による板部
材２の影の落射位置をそれぞれ示している。
【００２０】また、板部材２の光入射側の先端の厚み
は、板部材２どうしの間隔の１／１０以下に設定するこ
とが好ましい。上記の構成の光反射抑制体に対して入射
光を照射した場合には、図２中に実線で示すように、入
射光が板部材２どうしの間に導入され、両板部材２によ
り順次反射されながら内奥部に向かって伝播する。そし
て、反射が行われるごとに光強度が低下する。また、内
奥部に向かって伝播した光は、最終的に底板部材１ａに
よって反射され、逆向きの経路を通って両板部材２どう
しの間から出射する。この場合にも、反射が行われるご
とに光強度が低下する。
は、板部材２どうしの間隔の１／１０以下に設定するこ
とが好ましい。上記の構成の光反射抑制体に対して入射
光を照射した場合には、図２中に実線で示すように、入
射光が板部材２どうしの間に導入され、両板部材２によ
り順次反射されながら内奥部に向かって伝播する。そし
て、反射が行われるごとに光強度が低下する。また、内
奥部に向かって伝播した光は、最終的に底板部材１ａに
よって反射され、逆向きの経路を通って両板部材２どう
しの間から出射する。この場合にも、反射が行われるご
とに光強度が低下する。
【００２１】したがって、最終的に両板部材２どうしの
間から出射される光の強度は著しく低下しており、入射
光の反射を著しく抑制することができる。なお、光処理
が光加工の場合など、入射光のパワーが大きいときは適
宜の冷却手段を備えてもよい。図６はこの光反射抑制体
を用いた光処理装置（光学的測定装置）の構成を概略的
に示す図である。
間から出射される光の強度は著しく低下しており、入射
光の反射を著しく抑制することができる。なお、光処理
が光加工の場合など、入射光のパワーが大きいときは適
宜の冷却手段を備えてもよい。図６はこの光反射抑制体
を用いた光処理装置（光学的測定装置）の構成を概略的
に示す図である。
【００２２】この光処理装置は、測定対象物１１とし
て、例えば、所定のパターンが形成されたガラス基板の
ような透光性のある基板を採用し、この測定対象物１１
に対して斜め上方から、レーザ光源などの光源１２から
出射される光を照射し、測定対象物１１からの反射光
（直接反射光であってもよいが、散乱反射光であっても
よい）を図示しない光学系（レンズ系、フィルタなどを
含む光学系であり、光学的測定の種類などに応じて適宜
選択される）を通してＣＣＤカメラなどからなる受光部
１３により受光するようにしている。そして、測定対象
物１１の下方に近接させて図１、図２に示す構成の光反
射抑制体１４を設けている。ただし、光源１２から出射
される光を測定対象物１１に対して直角に照射するよう
にしてもよいことはもちろんである。
て、例えば、所定のパターンが形成されたガラス基板の
ような透光性のある基板を採用し、この測定対象物１１
に対して斜め上方から、レーザ光源などの光源１２から
出射される光を照射し、測定対象物１１からの反射光
（直接反射光であってもよいが、散乱反射光であっても
よい）を図示しない光学系（レンズ系、フィルタなどを
含む光学系であり、光学的測定の種類などに応じて適宜
選択される）を通してＣＣＤカメラなどからなる受光部
１３により受光するようにしている。そして、測定対象
物１１の下方に近接させて図１、図２に示す構成の光反
射抑制体１４を設けている。ただし、光源１２から出射
される光を測定対象物１１に対して直角に照射するよう
にしてもよいことはもちろんである。
【００２３】上記の構成の光処理装置の作用は次のとお
りである。光源１２からの光を測定対象物１１に斜め上
方から照射すれば、照射された光の大部分は測定対象物
１１により直接反射されるとともに、散乱反射される。
そして、直接反射光または散乱反射光が図示しない光学
系を通して受光部１３に導かれ、測定対象物１１の状態
を示す信号が受光部１３から出力される。
りである。光源１２からの光を測定対象物１１に斜め上
方から照射すれば、照射された光の大部分は測定対象物
１１により直接反射されるとともに、散乱反射される。
そして、直接反射光または散乱反射光が図示しない光学
系を通して受光部１３に導かれ、測定対象物１１の状態
を示す信号が受光部１３から出力される。
【００２４】また、照射された光の一部は測定対象物１
１を透過して光反射抑制体１４に導かれるが、この光反
射抑制体１４は上述のように光の反射を効果的に抑制す
るのであるから、測定対象物１１を透過した光が受光部
１３に及ぼす影響を殆ど皆無にすることができ、受光部
１３は殆どノイズがない信号を出力することができる。
１を透過して光反射抑制体１４に導かれるが、この光反
射抑制体１４は上述のように光の反射を効果的に抑制す
るのであるから、測定対象物１１を透過した光が受光部
１３に及ぼす影響を殆ど皆無にすることができ、受光部
１３は殆どノイズがない信号を出力することができる。
【００２５】表１は、底板部材１ａに対する板部材２の
なす角度をそれぞれ３０°、４５°に設定した光反射抑
制体１４を採用した場合、光反射抑制体１４に代えて黒
色アルマイト処理面、黒色画用紙を採用した場合のそれ
ぞれについて、入射光を照射した状態における反射光強
度を測定したデータを示している。なお、反射光強度
は、ＣＣＤカメラで反射光を撮影し、画像処理を行った
時の濃度値で評価した。また、（）内の値は、黒色アル
マイト処理面の反射光強度に対する比を示している。
なす角度をそれぞれ３０°、４５°に設定した光反射抑
制体１４を採用した場合、光反射抑制体１４に代えて黒
色アルマイト処理面、黒色画用紙を採用した場合のそれ
ぞれについて、入射光を照射した状態における反射光強
度を測定したデータを示している。なお、反射光強度
は、ＣＣＤカメラで反射光を撮影し、画像処理を行った
時の濃度値で評価した。また、（）内の値は、黒色アル
マイト処理面の反射光強度に対する比を示している。
【００２６】
【表１】
【００２７】表１から明らかなように、この発明の光反
射抑制体１４を採用し、しかも板部材２の底板部材１ａ
に対してなす角度を適切に設定することにより、反射光
強度を大幅に低減できることが分かる。したがって、図
６の光処理装置に適用することにより、背景光（ノイズ
光）を効果的に除去することができる。
射抑制体１４を採用し、しかも板部材２の底板部材１ａ
に対してなす角度を適切に設定することにより、反射光
強度を大幅に低減できることが分かる。したがって、図
６の光処理装置に適用することにより、背景光（ノイズ
光）を効果的に除去することができる。
【００２８】
【発明の効果】請求項１の発明は、入射光の減衰の程度
を著しく高めて、光反射抑制体から出射される光の強度
を著しく低減することができ、また、光反射抑制体の、
入射光の光軸方向におけるサイズを小さくすることがで
きるとともに、板部材の配列可能な範囲に何らの制約が
ないのであるから、十分に減衰させることができる入射
光の広がりの範囲を大きくすることができるという特有
の効果を奏する。
を著しく高めて、光反射抑制体から出射される光の強度
を著しく低減することができ、また、光反射抑制体の、
入射光の光軸方向におけるサイズを小さくすることがで
きるとともに、板部材の配列可能な範囲に何らの制約が
ないのであるから、十分に減衰させることができる入射
光の広がりの範囲を大きくすることができるという特有
の効果を奏する。
【００２９】請求項２の発明は、入射光の減衰の程度を
著しく高めて、光反射抑制体から出射される光の強度を
著しく低減することができ、また、光反射抑制体の、入
射光の光軸方向におけるサイズを小さくすることができ
るとともに、板部材の配列可能な範囲に何らの制約がな
いのであるから、十分に減衰させることができる入射光
の広がりの範囲を大きくすることができ、ひいては、光
処理装置全体として小形化を達成することができるとと
もに、広範囲にわたって十分な光減衰効果を達成するこ
とができるという特有の効果を奏する。
著しく高めて、光反射抑制体から出射される光の強度を
著しく低減することができ、また、光反射抑制体の、入
射光の光軸方向におけるサイズを小さくすることができ
るとともに、板部材の配列可能な範囲に何らの制約がな
いのであるから、十分に減衰させることができる入射光
の広がりの範囲を大きくすることができ、ひいては、光
処理装置全体として小形化を達成することができるとと
もに、広範囲にわたって十分な光減衰効果を達成するこ
とができるという特有の効果を奏する。
【００３０】請求項２の発明は、入射光の減衰の程度を
著しく高めて、光反射抑制体から出射される光の強度を
著しく低減することができ、また、光反射抑制体の、入
射光の光軸方向におけるサイズを小さくすることができ
るとともに、板部材の配列可能な範囲に何らの制約がな
いのであるから、十分に減衰させることができる入射光
の広がりの範囲を大きくすることができ、ひいては、光
処理装置全体として小形化を達成することができるとと
もに、広範囲にわたって十分な光減衰効果を達成するこ
とができるという特有の効果を奏する。
著しく高めて、光反射抑制体から出射される光の強度を
著しく低減することができ、また、光反射抑制体の、入
射光の光軸方向におけるサイズを小さくすることができ
るとともに、板部材の配列可能な範囲に何らの制約がな
いのであるから、十分に減衰させることができる入射光
の広がりの範囲を大きくすることができ、ひいては、光
処理装置全体として小形化を達成することができるとと
もに、広範囲にわたって十分な光減衰効果を達成するこ
とができるという特有の効果を奏する。
【図１】この発明の光反射抑制体の一実施態様を示す斜
視図である。
視図である。
【図２】図１の要部拡大縦断面図である。
【図３】光反射抑制体と入射光との関係の一例を示す概
略図である。
略図である。
【図４】光反射抑制体と入射光との関係の他の例を示す
概略図である。
概略図である。
【図５】光反射抑制体と入射光との関係のさらに他の例
を示す概略図である。
を示す概略図である。
【図６】この光反射抑制体を用いた光処理装置（光学的
測定装置）の構成を概略的に示す図である。
測定装置）の構成を概略的に示す図である。
２ 板部材 １１ 測定対象物 １３ 受光部 １４ 光反射抑制体
Claims (3)
- 【請求項１】 入射光の光軸に対して所定角度をなす複
数の板部材（２）が互いに所定間隔ごとに配列されてい
るとともに、上記板部材（２）が、入射光の光学的反射
を抑制するものであることを特徴とする光反射抑制体。 - 【請求項２】 透光性のある被処理物（１１）の表面に
対して入射光を照射し、被処理物（１１）について光処
理を行う装置において、被処理物（１１）の裏面側に、
光反射抑制体（１４）を配置してあり、この光反射抑制
体（１４）が、入射光の光軸に対して所定角度をなす複
数の板部材（２）が互いに所定間隔ごとに配列されてい
るとともに、上記板部材（２）が、入射光の光学的反射
を抑制するものであることを特徴とする光処理装置。 - 【請求項３】 透光性のある被処理物（１１）の表面に
対して入射光を照射し、被処理物（１１）からの反射光
を受光部（１３）により受光する装置において、被処理
物（１１）の裏面側に、光反射抑制体（１４）を配置し
てあり、この光反射抑制体（１４）が、入射光の光軸に
対して所定角度をなす複数の板部材（２）が互いに所定
間隔ごとに配列されているとともに、上記板部材（２）
が、入射光の光学的反射を抑制するものであることを特
徴とする光処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19529695A JPH0943406A (ja) | 1995-07-31 | 1995-07-31 | 光反射抑制体および光処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19529695A JPH0943406A (ja) | 1995-07-31 | 1995-07-31 | 光反射抑制体および光処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0943406A true JPH0943406A (ja) | 1997-02-14 |
Family
ID=16338804
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19529695A Pending JPH0943406A (ja) | 1995-07-31 | 1995-07-31 | 光反射抑制体および光処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0943406A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN117015123A (zh) * | 2022-04-28 | 2023-11-07 | 新奥科技发展有限公司 | 光阱装置及光阱系统 |
-
1995
- 1995-07-31 JP JP19529695A patent/JPH0943406A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN117015123A (zh) * | 2022-04-28 | 2023-11-07 | 新奥科技发展有限公司 | 光阱装置及光阱系统 |
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