JPH0950037A - 液晶素子およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】特定波長光、あるいは必要に応じて該波長光を
含む所望の波長域の光を高コントラストで光変調できる
液晶素子、およびこのような液晶素子を再現性よく製造
する液晶素子の製造方法を提供する。 【解決手段】セルギャップに、径分布が複数のピークを
有する球状および／または繊維状スペーサが介設されて
いると同時に液晶材料が充填された液晶セルを備え、該
液晶セルから出射される所定偏光方向の光量を電気的に
変化させる液晶素子、および平均径が液晶セルのセルギ
ャップと略同一であり、かつ、互いに径分布が異なる複
数の球状粒子および／または繊維を混合して径分布が複
数のピークを有する混合物を調整する工程、次いで該混
合物を、前記液晶セルを構成する一対の電極付基板のう
ちの一方の電極側表面に散布する工程を有する液晶素子
の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、液晶素子およびその製
造方法に関し、さらに詳しくはセルギャップにスペーサ
が介設されていると同時に液晶材料が充填された液晶セ
ルを備え、液晶セルから出射される所定偏光方向の光量
を電気光学的に変化させる液晶素子およびその製造方法
に関する。

【０００２】

【発明の技術的背景】現在、各種光変調装置および表示
装置の軽量化、低消費電力化の点から、これらの装置に
液晶素子が用いられている。また、この液晶素子として
は、現在、ツイストネマチック（ＴＮ）相の電気光学的
性質を利用した液晶素子（以下、ＴＮ液晶素子という）
が主流であるが、ＴＮ液晶素子に比較してスメクチック
相の電気光学的性質を利用した液晶素子（以下、スメク
チック液晶素子）の方が視野角が広く、しかも電気光学
的応答速度が高いことからスメクチック液晶素子が注目
されている。このスメクチック液晶素子のなかでも、耐
衝撃性に優れ、焼き付きなどの問題が生じ難い点から反
強誘電性液晶素子が注目されている。

【０００３】上述した液晶素子は、いずれもセルギャッ
プに液晶材料が充填された液晶セルを備え、液晶セルか
ら出射される所定偏光方向の光量を電気的に変化させる
液晶素子であって、必要に応じて偏光板、ニコルプリズ
ムなどのような偏光制御手段を備えている。

【０００４】本発明者らの検討によれば、このような液
晶素子が正常に機能する液晶セルの最小セルギャップｄ
_a は、下記式： ｄ_a ＝λ_a ／（２×Δｎ_a ） （ただし、Δｎ_a は、波長λ_a の光に対する複屈折（常
光に対する屈折率と異常光に対する屈折率との差）を表
す。）で表され、液晶セルの最小セルギャップｄ_a が上
記式を満足する場合には、液晶セルを透過する波長λ_a
の光の偏光方向が電気的に略９０°回転し、これにより
液晶セルは１／２波長板として機能し、液晶素子により
充分なコントラストで光変調できるようになるが、液晶
セルの最小セルギャップｄ_a が上記式から外れる場合に
は、例えば液晶セルの電極間に電圧を印加した場合に液
晶セルを透過する波長λ_a の光が楕円偏光となり、液晶
素子が所期の機能を果たさない。なお、液晶セルのセル
ギャップが小さければ小さい程、該セルギャップ内部の
液晶材料を所期の状態に配向させ易く、このような点か
ら液晶素子が正常に機能する範囲内で液晶セルのセルギ
ャップを最小にすることが求められている。

【０００５】しかしながら、従来、この技術分野におい
て、液晶セルのセルギャップを上記式で表される大きさ
に再現性よく調整することは容易な技術とは言えなかっ
た。

【０００６】

【発明の目的】本発明は、上記従来技術の問題点を解決
するためになされたものであって、セルギャップにスペ
ーサスペーサが介設されていると同時に液晶材料が充填
された液晶セルを備え、液晶セルから出射される所定偏
光方向の光量を電気的に変化させ、特定波長光、あるい
は必要に応じて該波長光を含む所望の波長域の光を高コ
ントラストで光変調できる液晶素子、およびこのような
液晶素子を再現性よく製造する液晶素子の製造方法を提
供することを目的としている。

【０００７】

【発明の概要】本発明に係る液晶素子は、セルギャップ
にスペーサが介設されていると同時に液晶材料が充填さ
れた液晶セルを備え、該液晶セルから出射される所定偏
光方向の光量を電気的に変化させる液晶素子であって、
前記スペーサが球状スペーサおよび／または繊維状スペ
ーサであり、該スペーサの径分布が複数のピークを有す
ることを特徴としている。

【０００８】本発明に係る液晶素子の製造方法は、平均
径が液晶セルのセルギャップと略同一であり、かつ、互
いに径分布が異なる複数の球状粒子および／または繊維
を混合して径分布が複数のピークを有する混合物を調整
する工程、次いで、該混合物を、前記液晶セルを構成す
る一対の電極付基板のうちの一方の電極側表面に散布す
る工程を有することを特徴としている。

【０００９】

【発明の具体的な説明】以下、本発明に係る液晶素子お
よびその製造方法についてさらに具体的に説明する。

【００１０】液晶素子 まず、本発明に係る液晶素子について具体的に説明す
る。本発明に係る液晶素子は、液晶セルを備えている。

【００１１】本発明で用いられる液晶セルでは、セルギ
ャップにスペーサが介設されていると同時に液晶材料が
充填され、このスペーサによってセルギャップが、略所
定間隔、たとえば、ほぼλ_a ／（２×Δｎ_a ）μｍ（以
下、ｄ_a μｍという。また、式中のΔｎ_a は波長λ_a μ
ｍの光に対する複屈折である。）に調整されている。

【００１２】本発明に係る液晶素子では、このスペーサ
として球状スペーサおよび／または繊維状スペーサが用
いられる。球状スペーサとしては、シリカ、アルミナな
どの電気絶縁性無機真球状粒子、電気絶縁性の有機樹脂
からなる真球状粒子などが挙げられる。

【００１３】また、繊維状スペーサとしては円柱状ガラ
ス繊維などが挙げられる。これらスペーサの径はいずれ
も液晶セルのセルギャップとほぼ等しいが、本発明では
これらスペーサの径は、一様ではなく、複数のピーク値
を示すように分布している。

【００１４】たとえば、液晶セルを１／２波長板として
機能させることができるような液晶セルギャップと設計
値、たとえばｄ_a μｍとのずれ間隔Δｄ_a μｍは、液晶
素子の用途、液晶セルギャップ内に充填された液晶材料
の種類などに応じて異なり、特に制限されるものではな
いが、０．５μｍ以内、好ましくは０．１μｍ以内、よ
り好ましくは０．０５μｍ以内であることが望ましい。

【００１５】また、ｄ_a ±Δｄ_a μｍ、たとえばｄ_a ±
０．５μｍ以内の範囲内に液晶セルギャップを調整する
場合、上述したスペーサの径分布はｄ_a ±２Δｄ_a μ
ｍ、たとえばｄ_a ±１．０μｍの範囲内で複数のピーク
値を示すことが好ましい。

【００１６】本発明で用いられる液晶セルには、通常、
一対の透明電極付透明基板がそれぞれの透明電極面を対
向させて配置され、かつ、これら透明電極間に形成され
たセルギャップに上述したようなスペーサが液晶材料と
ともに充填されている。

【００１７】透明基板としては、電気絶縁性の透明基板
が用いられ、具体的にはソーダガラス、ホウケイ酸ガラ
ス、無アルカリガラス、石英などのガラス基板、ポリオ
レフィン、ポリエステル、ポリスチレンなどの透明樹脂
基板が挙げられる。

【００１８】透明基板として透明樹脂基板を用いる場
合、この透明樹脂基板は、板状であっても、フィルム状
であってもよい。また、透明基板として石英以外のガラ
ス基板または透明樹脂基板を用いた液晶セルでは、これ
らの基板中に含まれる金属イオン、安定剤などの不純物
が液晶セル内部に充填されている液晶材料中に溶出する
のを防止するため、好ましくは透明基板と透明電極との
間にＳｉＯ₂ などの下地膜が形成されている。

【００１９】これらの下地膜は、通常、デイップ法、蒸
着法、スパッタ法などの薄膜形成法で透明基板上に形成
される。さらに、これらの下地膜上に透明電極を形成す
ることにより、透明基板と透明電極との間にＳｉＯ₂ な
どの下地膜が形成された透明電極付透明基板が得られ
る。

【００２０】また、透明電極としては、導電性であっ
て、しかも液晶セルに入射する波長または波長域の光を
透過する性質、理想的には該光を１００％透過する性質
を有する（以下、透明であるという）透明導電膜、たと
えば、ＩＴＯとして知られる酸化インジウム−酸化スズ
系透明導電膜、酸化亜鉛系透明導電膜などで形成されて
いる。

【００２１】これらの透明導電膜は、透明基板上、ある
いは透明基板上に下地膜が形成されている場合には下地
膜上に、ディッピング法、ＣＶＤ法、スパッタリング
法、イオンプレーティング法、真空蒸着法などの薄膜形
成法で形成される。

【００２２】さらに、透明電極上には、液晶セルの電極
間で生じる短絡を防止するために、ＳｉＯ₂ などの絶縁
膜が１００〜１０００オングストロームの膜厚で形成さ
れていてもよい。

【００２３】なお、本発明で用いられる液晶セルでは、
通常、一対の透明電極付透明基板が用いられるが、本発
明に係る液晶素子を液晶表示素子などのような反射型液
晶素子として用いる場合、一対の電極付基板のうち、一
方は透明であるが、他方は透明でなくてもよい。

【００２４】本発明で用いられる液晶材料としては、液
晶セルから出射される所定偏光方向の光量を電気的に変
化させることが可能な液晶材料が用いられる。このよう
な液晶材料としては、ネマチック相を示す液晶材料（以
下、ネマチック液晶材料という）、スメクチック相を示
す液晶材料（以下、スメクチック液晶材料という）など
が挙げられる。

【００２５】セルギャップにネマチック液晶材料が充填
された液晶セルから出射される所定偏光方向の光量を電
気的に変化させることが可能な例としては、発明の技術
的背景で取り上げたＴＮ液晶素子が挙げられる。

【００２６】しかしながら、スメクチック液晶素子は、
ＴＮ液晶素子に比較して視野角が広く、しかも電気光学
的応答速度が高く、スメクチック液晶素子のなかでも、
反強誘電性液晶素子は耐衝撃性に優れ、焼き付きなどの
問題が生じ難いという特長がある。

【００２７】以上の点から本発明で用いられる液晶材料
としては、スメクチック液晶材料、特に反強誘電性液晶
相を示す液晶材料（以下、反強誘電性液晶材料という）
が好ましい。

【００２８】さらに、常温または常温付近でスメクチッ
ク相を示し、しかもスメクチック相を示す温度範囲が広
い液晶材料が得られるという点から、本発明で用いられ
る液晶材料として、次式（１）： Ｒ’−（Ａ₁ −Ｘ₁ ）_p −（Ａ₂ −Ｘ₂ ）_q −（Ａ₃ −Ｘ₃ ）_r −Ｒ^* …（１） で表される化合物または該化合物を含む組成物を用いる
ことが好ましい。

【００２９】上記式（１）中の符号の意味は、下記の通
りである。Ｒ’は、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲ
ン化アルキル基およびハロゲン化アルコキシ基から選ば
れる炭素原子数３〜２０の基を表す。

【００３０】Ａ₁ 、Ａ₂ およびＡ₃ は、それぞれ独立し
て

【００３１】

【化３】

【００３２】およびこれらの基の水素原子の一部または
全部がハロゲン原子、メチル基、エチル基、メトキシ
基、エトキシ基、水酸基、トリフルオロメチル基、ジフ
ルオロメチル基、モノフルオロメチル基で置換された基
から選ばれ、かつ、Ａ₁ 、Ａ₂ 、Ａ₃ のうちの少なくと
も１種は、

【００３３】

【化４】

【００３４】およびこれらの基の水素原子の一部または
全部がハロゲン原子、メチル基、エチル基、メトキシ
基、エトキシ基、水酸基、トリフルオロメチル基、ジフ
ルオロメチル基、モノフルオロメチル基で置換された基
から選ばれる。

【００３５】Ｘ₁ 、Ｘ₂ およびＸ₃ は、それぞれ独立し
て−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ₂ ＣＨ₂ −、−ＣＨ
₂ Ｏ−、−ＯＣＨ₂ −、−Ｓ−Ｓ−、−ＣＯＣＨ₂ −お
よび −ＣＨ₂ ＣＯ−から選ばれる。

【００３６】Ｒ^* は、不斉炭素原子を少なくとも１個有
する炭素原子数４〜２０の光学活性基を表す。ｐ、ｑお
よびｒは、それぞれ独立して０または１を表し、ｐ＋ｑ
＋ｒは，１以上の整数である。

【００３７】本発明に係る液晶素子では、液晶セルのセ
ルギャップに上述したようなスメクチック液晶材料また
はネマチック液晶材料が充填されているが、いずれの場
合にも、液晶材料と接する電極付基板面に配向膜が形成
されていることが好ましい。ちなみに、配向膜には、液
晶分子（液晶材料中に含まれ、スメクチック相またはネ
マチック相を形成している分子）と接して、該液晶分子
を所定方向に配向させる性質がある。

【００３８】配向膜としては、表面にラビング処理を施
した有機高分子膜、電極付基板に対して斜め方向から蒸
着したＳｉＯ₂ などの無機材料膜などが挙げられるが、
表面にラビング処理を施した有機高分子膜が好ましい。
また、配向膜形成用有機高分子材料としては、ポリイミ
ド、ポリアミド、ポリビニルアルコールなどが挙げられ
るが、液晶セルの耐久性の点からポリイミドが好まし
い。このような有機高分子材料からなる配向膜は、前記
高分子材料あるいはこれらの原料である重合性化合物
（この化合物は、モノマー、オリゴマーなどの低分子重
合体、あるいはこれらの混合物であってもよい）を用い
て、印刷法、スピンコート法、蒸着重合法、ディッピン
グ法などで電極付基板の電極など（たとえば、電極上に
絶縁膜が形成されている場合は絶縁膜）の上に有機高分
子膜を形成し、得られた有機高分子膜の表面を、起毛処
理を施したナイロン、綿、レーヨンなどの布で所定方向
にラビングすることによって得られる。

【００３９】配向膜の厚さは、５０〜３０００オングス
トロームが好ましい。液晶セルのセルギャップとは、液
晶セル中で液晶材料と接する両電極付基板間の間隔、た
とえば、液晶材料と接する両方の電極付基板面にそれぞ
れ配向膜が形成されている場合、両配向膜間の間隔のこ
とである。

【００４０】本発明に係る液晶素子は、このセルギャッ
プに上述したような液晶材料とスペーサとが充填された
液晶セルを備えている。また、このセルギャップの周縁
部は、通常、接着剤硬化層によって密閉されている。

【００４１】本発明に係る液晶素子では、上記液晶セル
から出射される所定偏光方向の光量が電気的に変化す
る。このため、本発明に係る液晶素子は、通常、上記液
晶セルに加え、偏光フィルム、ニコルプリズムなどの偏
光制御手段を備えいる。

【００４２】たとえば、本発明に係る液晶素子が透過型
液晶素子である場合、一対の偏光制御手段が、一方の偏
光制御手段、液晶セルおよび他方の偏光制御手段に順次
光が入射するように、通常、パラニコル位またはクロス
ニコル位に配置されている。一対の偏光制御手段がパラ
ニコル位に配置されている場合、両偏光制御手段から出
射される光の偏光方向は等しく、例えば一方の偏光制御
手段から水平偏光成分が出射される場合、他方の偏光制
御手段からも水平偏光成分が出射される。これに対し、
一対の偏光制御手段がクロスニコル位に配置されている
場合、両偏光制御手段から出射される光の偏光方向は互
いに直交し、例えば一方の偏光制御手段から水平偏光成
分が出射される場合、他方の偏光制御手段からは垂直偏
光成分が出射される。

【００４３】また、本発明に係る液晶素子が反射型液晶
素子である場合、液晶セルの透明電極付透明基板の前面
に、偏光制御手段を通して液晶セルに特定偏光成分が入
射するように単一の偏光制御手段が配置されている。

【００４４】ただし、入射光が特定偏光成分、たとえば
垂直偏光成分または水平偏光成分のみを有する場合、光
入射側の偏光制御手段を省略することができ、観察者が
偏光眼鏡をかけて液晶素子の出力光を観察する場合、光
出射側の偏光制御手段を省略することができる。

【００４５】以上のように、本発明に係る液晶素子は、
上述したような液晶セルを備え、液晶セルから出射され
る所定偏光方向の光量を電気的に変化させることができ
れば特に制限はなく、液晶素子の用途などに応じて様々
な変形が可能である。

【００４６】液晶素子の製造方法 次いで、本発明に係る液晶素子の製造方法について具体
的に説明する。上述した本発明に係る液晶素子は、平均
径が液晶セルのセルギャップと略同一であり、かつ、互
いに径分布が異なる複数の球状粒子および／または繊維
を混合して径分布が複数のピークを有する混合物を調整
し、次いで該混合物を、一方の電極付基板の電極側表面
に散布する工程を経て製造される。

【００４７】たとえば、液晶セルのセルギャップの設計
値がｄ_a μｍであり、このセルギャップの許容ずれ間
隔、たとえば液晶セルが１／２波長板として機能し得る
範囲に対応するセルギャップのずれ間隔がΔｄ_a μｍで
ある場合、一方の電極付基板の電極側表面に散布された
混合物は、その径がｄ_a ±２Δｄ_a μｍの範囲内に複数
のピークを有するように分布していればよい。

【００４８】また、この混合物は、液晶セルのセルギャ
ップが上述したような許容範囲内で一定に調整されれば
よく、たとえば分散液の形態で一方の電極付基板の電極
側表面全面に塗布・乾燥するなどの方法で散布されてて
もよく、また、たとえば接着剤中に分散するなどして該
電極側表面の周縁部にのみ散布されていてもよい。

【００４９】前記混合物を分散液の形態で一方の電極付
基板の電極側表面全面に塗布・乾燥して散布する場合、
散布後の混合物に他方の電極付基板の電極側表面を接触
させながら両電極付基板を重ね合わせて両電極付基板間
に該混合物を介設させ、該混合物によって形成された両
電極付基板間の隙間、すなわち、セルギャップに液晶材
料を充填し、次いでこのセルギャップの周縁部を、接着
剤で接着し、接着後の接着剤を硬化させて密閉すること
により、本発明に係る液晶素子で用いられる液晶セルが
得られる。

【００５０】これに対し、接着剤中に分散して前記混合
物を一方の電極付基板の電極側表面周縁部にのみ散布す
る場合、通常、液晶材料の注入口を除く該周縁部に前記
混合物を分散して含む接着剤を塗布した後、この周縁部
に接着剤が塗布された電極付基板に他方の電極付基板
を、両電極付基板の電極側表面が対向するようにして重
ね合わせ、両電極付基板間に均等に圧力を加えながら両
電極付基板間に挟持された前記接着剤を硬化させ、次い
で液晶材料の注入口から液晶材料を注入した後、該注入
口を接着剤で封止し、封止後の接着剤を硬化させること
により、本発明に係る液晶素子で用いられる液晶セルが
得られる。

【００５１】

【発明の効果】本発明によれば、特定波長光、あるいは
必要に応じて該波長光を含む所望の波長域の光を高コン
トラストで光変調できる液晶素子、およびこのような液
晶素子を再現性よく製造する液晶素子の製造方法が提供
される。

【００５２】

【実施例】以下に実施例を示し、本発明をさらに具体的
に説明するが、本発明はこれら実施例により限定される
ものではない。

【００５３】

【実施例１】片面に厚さ１０００オングストロームのＩ
ＴＯ透明電極が形成されたガラス基板（以下、透明電極
付ガラス基板という）２枚を用い、それぞれの透明電極
面上に厚さ６００オングストロームのポリイミド膜をス
ピンコート法で形成し、それぞれのポリイミド膜面に起
毛処理されたナイロン布でラビング処理を施した。この
ポリイミド膜面の一方に真球状シリカ粒子Ｄ₁ （平均粒
径＝２．０μｍ、粒径標準偏差＝０．０１μｍ）と真球
状シリカ粒子Ｄ₂ （平均粒径＝２．１μｍ、粒径標準偏
差＝０．０１μｍ）との混合粒子〔Ｄ₁ ：Ｄ₂ ＝４：１
（重量比）、粒径分布：図１に示す。〕のエタノール分
散液をスピンコートした後、エタノールを揮発させて一
方のポリイミド膜面に１ｍｍ² 当り１５０個以上の粒子
密度で上記混合粒子を均一に散布した。この混合粒子上
に他方のポリイミド膜面を接触させながら、これらポリ
イミド膜が透明電極面上に形成された２枚の透明電極付
ガラス基板を重ね合わせ、液晶材料注入口を除く両透明
電極付ガラス基板の周縁部をエポキシ系接着剤で貼り合
わせることによりセルを作製した。

【００５４】このようにして作製されたセルの液晶材料
注入口からセルギャップに液晶材料として次式：

【００５５】

【化５】

【００５６】で表される液晶化合物（１）と液晶化合物
（２）との混合物〔液晶化合物（１）：液晶化合物
（２）＝８：２（重量比）〕を注入した後、液晶セルの
液晶材料注入口をエポキシ系接着剤で封止して液晶セル
を作製した。

【００５７】以上のようにして作製された液晶セルを、
互いにクロスニコル位に配置されている２枚の偏光板の
間に挿入し、液晶セルの透明電極間に＋１５Ｖの電圧を
印加した際に偏光板、液晶セルおよび偏光板をこの順序
で透過する波長５５０ｎｍの光量が最小となるように液
晶セルを配置して液晶素子を製造した。

【００５８】次いで、上記液晶素子の光出射側偏光板を
回転させて２枚の偏光板をパラニコル位に配置した後、
液晶セルの透明電極間に−１５Ｖの電圧を印加したとこ
ろ、偏光板、液晶セルおよび偏光板をこの順序で透過す
る波長５５０ｎｍの光量が最小となった。

【００５９】上記結果から、上記液晶素子中の液晶セル
が波長５５０ｎｍの光に対して１／２波長板として作用
し、かつ、上記混合粒子により液晶セルのセルギャップ
が良好に調節されていることが確認された。

【００６０】

【比較例１】液晶セルのセルギャップを調整するスペー
サとして真球状シリカ粒子Ｄ₂ （平均粒径＝２．１μ
ｍ、粒径標準偏差＝０．０１μｍ）を用いた以外は実施
例１と同様にして液晶素子を製造した。

【００６１】この液晶素子の透過率は、２枚の偏光板を
パラニコル位に配置し、液晶セルの透明電極間に−１５
Ｖの電圧を印加した場合の方が２枚の偏光板をクロスニ
コル位に配置し、液晶セルの透明電極間に＋１５Ｖの電
圧を印加した場合よりも３０％程度大きかった。

【００６２】上記結果から、上記液晶素子中の液晶セル
が波長５５０ｎｍの光に対して１／２波長板として作用
しておらず、上記液晶素子から出力された透過光が楕円
偏光であることが確認された。

【図面の簡単な説明】

【図１】 図１は、本発明で用いられるスペーサの径分
布の一例を模式的に示すグラフである。

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 セルギャップにスペーサが介設されてい
   ると同時に液晶材料が充填された液晶セルを備え、該液
   晶セルから出射される所定偏光方向の光量を電気的に変
   化させる液晶素子において、前記スペーサが球状スペー
   サおよび／または繊維状スペーサであり、該スペーサの
   径分布が複数のピークを有することを特徴とする液晶素
   子。
2. 【請求項２】 前記セルギャップの設計値がｄ_a μｍで
   あり、該セルギャップの許容ずれ間隔がΔｄ_a μｍであ
   る場合、前記スペーサの径分布がｄ_a ±２Δｄ_a μｍの
   範囲内に複数のピークを有することを特徴とする請求項
   １に記載の液晶素子。
3. 【請求項３】 前記液晶材料がスメクチック相を示すこ
   とを特徴とする請求項１または２に記載の液晶素子。
4. 【請求項４】 前記液晶材料が、次式（１）： Ｒ’−（Ａ₁ −Ｘ₁ ）_p −（Ａ₂ −Ｘ₂ ）_q −（Ａ₃ −Ｘ₃ ）_r −Ｒ^* …（１） （式中、 Ｒ’は、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキ
   ル基およびハロゲン化アルコキシ基から選ばれる炭素原
   子数３〜２０の基を表し、 Ａ₁ 、Ａ₂ およびＡ₃ は、それぞれ独立して 【化１】 およびこれらの基の水素原子の一部または全部がハロゲ
   ン原子、メチル基、エチル基、メトキシ基、エトキシ
   基、水酸基、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル
   基、モノフルオロメチル基で置換された基から選ばれ、
   かつ、 Ａ₁ 、Ａ₂ 、Ａ₃ のうちの少なくとも１種は、 【化２】 およびこれらの基の水素原子の一部または全部がハロゲ
   ン原子、メチル基、エチル基、メトキシ基、エトキシ
   基、水酸基、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル
   基、モノフルオロメチル基で置換された基から選ばれ、 Ｘ₁ 、Ｘ₂ およびＸ₃ は、それぞれ独立して−ＣＯＯ
   −、−ＯＣＯ−、−ＣＨ₂ ＣＨ₂ −、−ＣＨ₂ Ｏ−、−
   ＯＣＨ₂ −、 −Ｓ−Ｓ−、−ＣＯＣＨ₂ −および −ＣＨ₂ ＣＯ−か
   ら選ばれ、 Ｒ^* は、不斉炭素原子を少なくとも１個有する炭素原子
   数４〜２０の光学活性基を表し、 ｐ、ｑおよびｒは、それぞれ独立して０または１を表
   し、ｐ＋ｑ＋ｒは，１以上の整数である。）で表される
   化合物または該化合物を含む組成物であることを特徴と
   する請求項３に記載の液晶素子。
5. 【請求項５】 平均径が液晶セルのセルギャップと略同
   一であり、かつ、互いに径分布が異なる複数の球状粒子
   および／または繊維を混合して径分布が複数のピークを
   有する混合物を調整する工程、次いで該混合物を、前記
   液晶セルを構成する一対の電極付基板のうちの一方の電
   極側表面に散布する工程を有することを特徴とする液晶
   素子の製造方法。
6. 【請求項６】 前記セルギャップの設計値がｄ_a μｍで
   あり、該セルギャップの許容ずれ間隔がΔｄ_a μｍであ
   る場合、前記混合物の径分布がｄ_a ±２Δｄ _a μｍの範
   囲内に複数のピークを有することを特徴とする請求項５
   に記載の液晶素子の製造方法。