JPH09502571A - 垂直キャビティを有する表面発光レーザー素子 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 本発明は１個かつ同一の光学垂直キャビティに少なくとも２個の能動域（３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄ）を有する表面発光レーザー・ダイオードに関係し、その能動域（３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄ）は電気的に直列に接続されている。

Description

【発明の詳細な説明】 垂直キャビティを有する表面発光レーザー素子 技術分野 本発明は、１個かつ同一の光学キャビティに少なくとも２個の能動域を有する 表面発光レーザー素子に関係し、そのキャビティは垂直で、誘電性反射素子によ り実質的に垂直方向に囲まれている。このような素子は多数の異なる分野、たと えば光学通信装置等に応用例が見出される。いわゆる表面発光垂直キャビティ・ レーザーには、実際にこのような素子を製造しようとする時、光学反射器の抵抗 による電力損失が困難を生じることが一般的である。 ダイオード・レーザーの多くの応用例では、閾値電流、すなわち出来る限り低 いことが望ましいレーザー発振を起こす最低の供給電流を得ようとしている。こ れは非常に達成が困難である。通常ダイオード・レーザーは又非常に低い電気入 力インピーダンスを有しており、従って高効率を保持しつつ広帯域供給回路を構 成することは非常に困難である。 技術の現状 ２個以上の能動域を有する多数の異なるレーザー素子、例えばいわゆるストリ ップ・レーザーが知られている。さらに、これらの素子はより高いパワーを与え るためにいくつかの能動域を有し、さらにこれらのレーザーは表面発光ではない 。いわゆる大光学キャビティ・レーザーは、例えばUS-A-4602370で公知である。 この素子は光学キャビティに多数の能動層を有する。しかしながら、これらの能 動層は電気的に直列に接続されておらず、光学損失は高い。これは、接触層が能 動層と同じ位の強さの電界強度を有している領域に配置されているからである。 1982年９月15日の応用物理レター41(6)のジェー・ピー・ファンデルチールと ダブリュー・ティー・ツァンの「トンネル接合により分離された集積多重層GaAs レーザー」では、３個のいわゆる２重ヘテロ構造GaAsレーザー・ダイオードが逆 トンネル接合を介して電気的に直列に接続されている。この素子は、しかしなが ら、表面発光レーザー・ダイオードを説明しておらず、また誘電性反射装置を含 まないため垂直光学キャビティを形成しない。このような素子の能動層は、この 場合に必要なように、互いに比較的大きな距離に配置されており、レーザーが互 いに接続されていないため異なるレーザーからの光学出力信号はコヒーレントで はない。 全ての垂直表面発光レーザー、すなわち垂直キャビティを有するレーザーに一 般的なことは、電気反射器の損失、すなわち反射器の抵抗による損失が非常に重 要であり、また能動域を通して十分高いインピーダンスを得ることは非常に困難 なことである。能動域上の高インピーダンスは多数の応用例で非常な利点を得る ことが出来るため、これは非常に問題となる。 このような素子の反射器は基本的には２つの異なる機能を有し、すなわち一方 では、２つが実際に、中でも低い光学損失等の中で良好な光学特性を有するよう に材料に必要条件を課す反射器または鏡として動作し、他方ではこれが次の能動 域へ電流を導通させる点である。最後の機能は素子の良好な電導特性を必要とし 、高ドープで低抵抗を有していることが望ましい。異なる機能から来る必要条件 は、反射器で大きな電圧降下を生じる妥協の形式の解決案を導く相反し互いに適 合しないものである。 同一出願人により同時に出願された共願のスウェーデン国特願「光学キャビテ ィで直列に接続されたレーザー構造を有するレーザー素子」では、電気的に直列 接続された少なくとも２個が一体となって同一の光学キャビティが配置されたレ ーザー構造を含むレーザー素子が記載されている。この場合レーザー構造は実質 的に互いに対して平行に配置されている。 さらに、同時に同一出願人の分野のスウェーデン国特願があり、これは「光学 増幅素子」で、例えば垂直キャビティで電気的に直列に接続されているレーザー 構造又は能動域を使用する増幅素子が記載されている。 通常いわゆるダイオード・レーザーは１個または時にはそれ以上の電気的に並 列に接続された能動域を含む。次いで、能動域に注入された各電子は１個のフォ トンを発生する。供給電流４１の通常の従来のレーザーを図示する第１図を参照 されたい。 発明の概要 本発明の目的は、最初に参照した表面発光レーザー・ダイオードを提供するこ とで、これにより誘電性反射素子を通して導入される抵抗性の電気損失、すなわ ち反射器の電圧降下が減少する。本発明は中でも電気反射器損失の相対的重要性 を減少させることを目的とする。本発明の他の目的は、与えられた電力に対する 閾値電流を減少させることである。電気的供給インピーダンスを増大させ、同時 に閾値電流を低下させるようにすることも本発明の目的である。さらに、本発明 の一般的目的はインピーダンスを上方に適合できるようにすることである。本発 明の他の目的は、増加する反射器上の電圧降下なしで良好なかつさらに良い増幅 ができる素子を提供することである。本発明のさらに別の目的は、全く簡単で製 造が容易であり、かつ使用が容易で多くの分野で応用可能性、すなわち多くの異 なる分野、例えば光学伝送技術内、例えば２個の半導体チップ間の光学相互接続 技術（「光学相互接続」）等、で適用可能な素子を提供することである。 これらの他の目的は、能動域が電気的に直列接続されている最初に参照した素 子により達成される。 有効な実施例によると、能動域と共にこれらの間に配置した接触域又は層は、 光学界により発生される定在波面または波面に平行に、すなわち波の伝搬方向と 垂直である。特に、能動域は最大電気光学界に対応する水平面に配置され、電気 接触面または接触層は光学電気界の最小に対応する水平面に配置されている。電 気反射素子は特に第１及び第２誘電ブラーグ（Ｂｒａｇｇ）素子である。これら の誘電ブラーグ素子の中で、第１のものは上部に配置されて垂直キャビティを実 質的に限定し、また幾分透明である。他のブラーグ素子は底部に配置され有効な 実施例によると最大に反射する。第１及び第２のブラーグ素子は各々上部及び下 部接触層により取り囲まれ、ここで上部接触層は実質的に透明である。特定の実 施例によると、レーザー素子は４個の能動域又は層を含む。さらに、特定の実施 例によると、能動域又は層はいわゆる量子井戸構造を有する。さらに、電気接触 層又は複数の接触層は特に薄い高ドープ層のトンネル・ダイオード型でよい。特 にこの素子はレーザー素子を形成し、レーザー光を発光する。別の実施例による と、この素子は、すなわち電流が閾値電流より低い時にLED 文字の光を発光する 。 図面の簡単な説明 以下の本発明は添付の図面を参照して以下に非限定的に記述されている。 第２図は表面発光型の垂直キャビティ・レーザーを概略的に図示する。 第２ａ図は第２図による能動域を図示する。 第２ｂ図は第２図による接触域又は接触層を図示する。 第３図は光学強度を図示する曲線とともに本発明による素子を図示する。 第４図は本発明による素子の例を概略的に図示する。 発明の詳細な説明 第２図には、素子１０が図示され、光学垂直キャビティが第１及び第２誘電性 ブラーグ反射素子１ａ、１ｂにより形成される。第１ブラーグ反射素子１ａは垂 直素子の上部に配置され、有利なことにこれは幾分透明である。この第１反射素 子の上面には、上部接触層２ａが配置される。図示の実施例では、これは半透明 又は透明である。さらに、図示の実施例では、下部ブラーグ反射素子１ｂ可能な 限り反射性で、この下に下部接触層２ｂが配置されている。２個のブラーグ反射 素子１ａ、１ｂ間に４個の能動域又は層３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄが配置され、そ の間に接触域又は接触層４ａ、４ｂ、４ｃが配置されている。能動域又は層３ａ 、３ｂ、３ｃ、３ｄは第２ａ図に明瞭に図示されている。この場合、能動域はわ ずかにｎ型ドープ（ｎ^-）されている。他の別案ももちろん可能であり、例えば わずかにｐ型ドープ（ｐ^-）されてもよいが、これはそれ自体既知であるような 技術を構成する。能動域又は層３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄは特定の実施例によると 量子井戸構造を形成する。接触域又は接触層４ａ、４ｂ、４ｃは第１ｂ図により 明瞭に図示されている。接触層４ａ、４ｂ、４ｃは特定の実施例によると、図面 から理解できる薄い高ドープ層のトンネル・ダイオード型のものである。図示の 実施例では、いかに発光されるかが図示されている。これは、レーザー光又はLE D 文字の形式であり、すなわち閾値電流レベルの上又は下の場合に対応している 。図３では、光学強度を図示する曲線と共に第２図による装置が図示されていて 、 各接触層又は接触領域４ａ、４ｂ、４ｃは光学強度Ｉopt の最小に対応する面に 配置され、各能動域３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄは光学強度Ｉopt の最大に対応する 領域に配置されている。光学定在波パターンは例えば電気供給信号Ｉinを介して 導入され、すなわちＩが閾値電流を越えた時に４個の強度ピーク（実施例による と４個の能動域があるため４個）の光学定在波パターンが形成される。定在波パ ターンはブラーグ反射素子１ａ、１ｂで減衰している。最大値は能動域でのみ正 確に発生するため光学損失は減少する。４個の能動域３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄで ４回の例えば各１Ｖの電圧降下が得られる。（１Ｖはもちろん単に例示用に例を 与えるだけである）。これは全体で４Ｖの電圧降下を生じる。４個の能動域３ａ 、３ｂ、３ｃ、３ｄで、さらに大きくなる反射器上の電圧降下なしで増幅率はさ らに高くなり、この電圧降下は実際には寄生電圧降下（第１図参照）である。図 示の実施例では光は上方に発光される（第２図）。別の実施例によると、これは もちろん上方でも、また下方でも、又は両方向（第３図）でもよく、この場合素 子はそれに従って適合される。本発明により、反射損失の相対的重要性が減少し 、同時に一定の電力に対する電流を減少させる、すなわちインピーダンスを増大 させることも可能である。次いで例えば通常５０オームのインピーダンスを有す るケーブルへの適合も簡単化され、さらに可能となる。今までは、５０オームの 例えば同軸ケーブル又はマイクロストリップ・ケーブルの各々から相当離れてい る伝送ケーブルを製造することは非常に困難であった。本発明により、能動域上 のインピーダンスを、例えば閾値電流が一定の電力に対して大体４の係数で低下 するのと同時に１６の係数で変化させる（増大させる）ことが可能である。（も ちろん、これらの係数は単に４個の能動域に対応して図示用に与えたものである 。） 本発明によると、有用な電圧降下、すなわち能動域上の電圧降下（光学電力に 変換される電力に対応する）は、素子が４個の能動域を含むときには４倍大きく 、一般に素子がｎ個の能動域を有している場合には、第１図に図示するような場 合と比べてｎ倍大きい。さらに、ｎ（図示実施例ではｎ＝４）は高増幅率を生じ るために、反射器のより小さな反射率を受け入れ可能である理由は、これに対す る必要性が減少し、より薄くできるから等である。 第４図では、円筒断面を有する本発明による素子の例が図示されている。１つ の実施例によると、第１のブラーグ反射素子は約２−１０μｍの厚さを有し、第 ２のブラーグ反射素子は約３−１０μｍの厚さを有する。電気的に直列に接続さ れた４個の区域は完全な能動域３Ａを形成し、これは図示の実施例では例えば０ ．７５μｍの厚さを有する。円筒素子の直径Ｄは例えば約４μｍである。もちろ んこれは単なる例で、もちろん他の多数の可能性がある。 材料の例はＧａＡｌＡｓ（特にλ＝０．８μのような短波長）や、長波長用の （例えばλ＝１．３−１．６μ）ＩｎＧａＡｓＰである。もちろん多数の他の材 料も使用可能である。 本発明はもちろん図示の実施例には限定されず、請求の範囲内で多数の方法で 変更可能である。４個の能動層又は区域の１実施例を図示してきたが、もちろん これより少ない又多い能動域も可能である。さらに、能動層と電気的接触域は従 来の特性のものでよく、反射素子は多くの異なる形式を取りうる、等である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．１個かつ同一の光学キャビティに少なくとも２個の能動域（３ａ、３ｂ、 ３ｃ、３ｄ、．．．）を有する表面発光レーザー素子（１０；２０）であって、 光学キャビティは垂直であって２個の誘電性反射素子（１ａ、１ｂ；１ａ’、１ ｂ’）により実質的に垂直に取り囲まれて又は制限されていて、能動域（３ａ、 ３ｂ、３ｃ、３ｄ）は電気的に直列に接続されている表面発光レーザー素子。 ２．請求項１記載の素子において、 垂直光学定在波パターンが光学キャビティ中に作成されるように形成されてい る素子。 ３．請求項２記載の素子において、 上部及び下部接点を介してレーザー素子中を垂直に流れる電流（Ｉ）により、 レーザー素子が電気的にポンプされる素子。 ４．請求項３記載の素子において、 電気接触域（４ａ、４ｂ、４ｃ）が能動域（３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄ）の間に 配置されている素子。 ５．請求項４記載の素子において、 能動域（３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄ）と接触域（４ａ、４ｂ、４ｃ）が定在波の 伝搬方向に垂直である素子。 ６．請求項２記載の素子において、 能動域（３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄ）が最大電気光学界強度に対応する水平面に 配置されている素子。 ７．請求項６記載の素子において、 前記電気接触域（４ａ、４ｂ、４ｃ）が光学電界の最小に対応する水平面に配 置されている素子。 ８．前記請求項のどれかに記載の素子において、 誘電性反射素子（１ａ、１ｂ；１ａ’、１ｂ’）が第１及び第２の誘電性ブラ ーグ素子を含む素子。 ９．請求項８記載の素子（１０；２０）において、 第１のブラーグ素子（１ａ：１ａ’）が上部に配置され、幾分透明である素子 。 １０．請求項９記載の素子（２０）において、 第１と共に第２ブラーグ素子（１ａ’、１ｂ’）が幾分透明である素子。 １１．請求項８又は９記載の素子（１０）において、 第２のブラーグ素子（１ｂ）が下部に配置され、最大に反射する素子。 １２．請求項８記載の素子において、 第１及び第２のブラーグ素子（１ａ、１ｂ；１ａ’、１ｂ’）の各々は上部及 び下部接触層の各々により取り囲まれ、一方少なくとも上部接触層（２ａ；２ａ ’）は実質的に透明である素子。 １３．請求項１−７のいずれかに記載の素子において、 ４個の能動層（３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄ）を含む素子。 １４．請求項１−７のいずれかに記載の素子において、 能動域又は層（３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄ）は量子井戸の構造を有する素子。 １５．請求項１−７のいずれかに記載の素子において、 電気接触層（４ａ、４ｂ、４ｃ）は薄い高ドープ層のトンネル・ダイオードの 形式である素子。 １６．上記請求項のいずれかに記載の素子において、 ダイオード・レーザー素子を形成する素子。 １７．上記請求項のいずれかに記載の素子（１０；２０）において、 レーザー光を発する素子。 １８．請求項１−１５のいずれかに記載の素子（１０；２０）において、 LED 種の光を発光する素子。