JPH09503597A

JPH09503597A - 再帰反射性シート材、その製法及び使用

Info

Publication number: JPH09503597A
Application number: JP7511194A
Authority: JP
Inventors: ラスムッセン，ミカエル; エルドイブセン，ペル; ステンスボルク，ヤン
Original assignee: フランケ，ケルエリク
Priority date: 1993-10-04
Filing date: 1994-10-04
Publication date: 1997-04-08
Also published as: WO1995010827A3; CA2173497A1; EP0724740A1; DE69417432D1; DE69417432T2; WO1995010827A2; AU7807194A; US5822119A; EP0724740B1; DK111293D0

Abstract

(57)【要約】放射源から入射する電磁放射線を受光し、焦点合わせする入射透過光学要素（201，301）と、入射した電磁放射線を放射源にむかって反射させる反射光学要素（205，405）を含み；上記反射光学要素を上記透過光学要素の有効焦点またはその近傍に配置し、両光学要素間のスペースを必要に応じてスペーサ材(202)によって構成した少なくとも１つの再帰反射光学系(200，300，400)を含む再帰反射性シート材において、上記光学要素(205，301，405)の少なくとも１つが回折光学要素であり、実質的にあらゆる入射角に対して反射光学要素（205，405）が入射電磁放射線の少なくとも一部を入射主光源(204)の方向に沿って反射させ、反射光学要素（205，405）が専ら正反射タイプの反射光学要素からできている訳ではない再帰反射性シート材；このような再帰反射性シート材の製法；及び照明すると再帰反射現象を呈する看板、標識、または装飾物の製造を目的とするこのような再帰反射性シート材の使用。

Description

【発明の詳細な説明】再帰反射性シート材、その製法及び使用説明１．発明の背景本発明は請求の範囲第１項に前提として定義されている再帰反射性シート材；この再帰反射性シート材の製法；及び看板、標識及び装飾物の製造を目的とするその使用に係わる。技術分野電磁スペクトルの可視光域を対象として、再帰反射性シート材は反射式の看板や標識など広い用途に利用されているが、これらに限られない。これらの反射式装置では再帰反射光が自動的に光源にむかって反射し、視野内に集束した、通常の反射光よりも細い錐状を呈するから夜間においてミラー式や拡散式レフレクタよりもすぐれた視度を可能にする。再帰反射性シート材の用途は電磁スペクトルの可視域に限られるものではない。即ち、例えば航空機誘導光を再帰反射させるためスペクトルの赤外域にも利用できる。従って、再帰反射性シート材は光を再帰反射的に反射させる再帰反射光学系を構成するだけでなくもっと一般的に電磁放射線を再帰反射的に反射させる再帰反射性電磁系をも構成することができる。 “微小ガラス球タイプの再帰反射性シート材” 公知の“開放面”タイプ再帰反射性シート材は透明な露出面が保護層で被覆されていない微小ガラス球を基本としている。この材料は屈折率が高く、直径が70〜 100μの透明な微小ガラス球を、低密度ポリエチレンの熱軟化層で被覆された支持層上へカスケード散布し；支持層をトンネルオーブンに送入して微小ガラス球のその直径の約50％だけ熱沈下させ；微小ガラス球の露出面を蒸着アルミ層で被覆することによって得られる。次いで、微小ガラス球の露出部分を例えば布や接着紙のようなシート材上の高分子ビーズボンド中に接合し、支持裏張りを剥離する。機能的に、これらの再帰反射光学系は放射源から入射する電磁放射線を受光し、合焦させる入射光透過光学要素、具体的には入射光を屈折させる透明球と組合わせた適当に透明な固形カバーで構成される光学要素からなり、さらに、入射電磁放射線を再び放射源にむかって反射させる反射光学要素、具体的にはバックリフレクタと組合わせた透明スペーサフィルムからなり；前記反射光学要素を入射光透過光学要素の焦点またはその近傍に配置する。即ち、球とスペーサフィルムの組合わせによって画定される焦点を反射性バインダに埋没させた球の背面またはその近傍に、またはバックレフレクタまたはその近傍に位置させる。一般に球タイプ再帰反射性シート材は入射角の大小にかかわらずすぐれた再帰反射性を有する。ただし、最大再帰反射度はゼロに近い入射角に対して、即ち、光線がシート材の平面に垂直に入射する場合に得られる。入射角が大きくなるに従って再帰反射度は徐々に低下する。球タイプ再帰反射光学系の欠点は球面収差のため反射光線の角度が著しく散乱することにある。即ち、屈折率が 1.9の球タイプ再帰リフレクタの光線追跡によって得られるスポットダイヤグラムでは入射角ゼロに対して反射光線の角度が± 10°散乱するという結果が得られた。理想的には、屈折率が２の透明な球体に入射する近軸光線でのみ球面収差のない完全な再帰反射が得られる。しかし、屈折率が 2.0の例えばガラスやプラスチックから成る透明材料は容易に入手できない。球タイプ再帰反射光学系に基づく再帰反射性シート材の他の欠点は色収差があるだけで再帰反射性は波長に関係なくほとんど同じであり、所与の波長の再帰反射を白色光や拡散昼光で直接得ることが出来ない点にある。所与の波長の再帰反射を得るには球体の透明なカバーの表面または扁平前面に透明なカラーフィルムかコーティングを施すか、または個々の球体に透明なカラーフィルムまたはコーティングを施さねばならない。また、異なる波長を対象として設計された複数の再帰反射光学系から成る再帰反射性シート材を容易に製造できないことも欠点である。球タイプ再帰反射光学系に基づく再帰反射性シート材のさらに他の欠点は球体を高密度でパックすることができないため、シート材の再帰反射効率が球体のパック密度によって制限されることにある。さらなる欠点は球体の材料として透明材料、例えばガラスやプラスチックに高い純度が要求されると共に球体の球形及び被覆用材中への固定についても精度が要求され、いずれの条件も最終製品のコスト増につながる点にある。また、最終製品としての再帰反射性シート材の製法は複雑であり、工程ごとに手間のかかるノーハウと特殊な設備が必要であり、このことが最終製品のコストをさらに増大させる。 “マイクロプリズムエンボス式再帰反射性シート材” タイプの異なる再帰反射性シート材として、密な間隔でかつ例えばポリエステルやポリ塩化ビニルのようなプラスチックホイルの前面に平行な微小プリズムをエンボスしたものがある。この材料は60°３面ピラミッドから成る再帰反射光学系であり、入射角が小さければ完全な反射を可能にするが入射角が大きくなるに従って反射効率が急激に低下する。また、反射に回転対称性がないから、この材料から再帰反射されるエネルギーパターンは不均一である。さらに他の欠点として、高い反射効率を得るためにはエンボスされたプリズムの形状角度が完全でなければならず、プラスチックホイルをエンボス加工開始時の約 200℃の温度からエンボスを損傷することなく型を取除くことができるまで段階的に冷却させるようにエンボス加工を行わない限り達成は困難である。 “正反射性裏面を有するフレネルゾーンプレートをエンボス加工した再帰反射性シート材” さらに別のタイプとして、透明媒体の表面にフレネルゾーンプレートをエンボスし、裏面に正反射コーティングを施した再帰反射性シート材がある。この再帰反射性シート材は回折性の入射側光学要素としてのフレネルゾーンプレートと、透明媒体の裏面に形成した正反射ミラーとから成る。その欠点は正反射によって反射電磁放射線の大きい部分が再帰反射の方向とは異なる方向へ向けられるため、正反射ミラーが電磁放射線を著しく損失させることにある。入射光はフレネルゾーンプレートによって正反射裏面に集束されるが、この正反射裏面の反射法則に従って、この集束された入射光は入射したフレネルゾーンプレートを再び通過せずおそらくは隣接のフレネルゾーンプレートにむかって反射するであろう。原則的には入射したのと同じフレネルゾーンプレートから射出される電磁放射線だけがこのフレネルゾーンプレートによって放射源にむかって、即ち、再帰反射の方向に回折される。従って、この再帰反射性シート材は光軸に極めて近い入射角でない限り効率が極めて低い。公知技術の説明米国特許第 2,354,018号及び第 2,354,049号は透明な球体と扁平なバックレフレクタに基づく基本的な公知レフレクタを開示している。米国特許第 2,407,680号は光線が後方へ通過できるように後端を光学的に露出させた多数の近接した微小透明球体と、前記球体の前端と一体化するように前記球体を被覆し、扁平な表面を有する連続的な透明ソリッドカバーとで形成された光反射層を含み、前記球体の屈折率が前記透明カバーの屈折率の少なくとも1.15 倍である反射面と協働して該反射面から反射光反射(reflex light reflection) を発生させる光学的シートを開示している。米国特許第 3,758,192号は最も外側の層が好ましくは25ないし 250μの直径と少なくとも 1.8の屈折率を有するガラスビーズの単層膜である複数の層から成る反射−反射構造(reflex-reflecting structure)を開示している。なお、ビーズは実質的に無色透明な樹脂などから成るバインダ材中にほぼ半球状を呈するまで埋没させてある。反射材としてアルミニウムを使用した場合に得られる効率に近づけ、同時に“色の悪さ”という欠点を回避するため、バインダは最大寸法が８ないし30μ、ただしガラスビーズの直径よりは小さく、厚さが25ないし 200nmの正反射真珠光沢ピグメントを含有し、好ましくは基剤固形物総量の少なくとも約15重量％のピグメントを含有する。米国特許第 4,244,683号；第 4,332,847号；第 5,171,624号；及び英国特許出願第 2 245 194Ａ号は再帰反射性マイクロプリズム材、及び例えば圧縮成形によるその製法と製造装置を開示している。ただし、回折光学要素を基本とする再帰反射光学要素に関しては全く示唆していない。米国特許第 3,993,401号は所与の焦点距離を有する位相変調フレネルゾーンプレート群をエンボス形成するためのスタンパを用意し；厚さが前記焦点距離に等しい透明なコピー媒体の片面に位相変調フレネルゾーンプレートをエンボス形成し；前記コピー媒体の反射面を正反射面で被覆するステップから成る再帰反射材の製法を開示している。２．発明の開示発明の目的本発明の目的は入射する放射線を選択的にほぼ入射角に等しい角度で反射させる一方、反射する放射線を反対方向に伝播させる再帰反射性電磁系；特に所与の波長に対しては球面収差が小さい再帰反射光学系を含む再帰反射性シート材を提供することにある。本発明の他の目的は所要の入射面については反射率が最適化され、シート材に垂直な角度については従来の再帰反射性シート材のように最適化を必要としない再帰反射性シート材を提供することにある。本発明のさらに他の目的は異なる波長を対象に設計された複数の再帰反射光学系から成る再帰反射性シート材を提供することにある。本発明のさらに他の目的は再帰反射光学系を位置制御することができ、従来の球タイプ再帰反射性シート材よりも高いパック密度を達成できる再帰反射性シート材を提供することにある。本発明のさらに他の目的は従来の再帰反射性シート材よりも低いコストで、しかも容易に製造できる再帰反射性シート材を提供することにある。本発明のさらに他の目的は上記のような再帰反射性シート材の製法及び利用を提供することにある。その他の目的は以下の説明から明らかになるであろう。Ａ．再帰反射性シート材目的の解決及び発明の有益な効果本発明では請求の範囲第１項の前提部分に定義され、請求の範囲第１項の特徴づけ部分に記載の構成要件を特徴とする再帰反射性シート材を提供することによって上記目的を達成する。なお、“再帰反射光学系”という用語は、電磁スペクトルの可視域だけでなく遠紫外及び遠赤外域における再帰反射電磁系を包含する広い意味で用いる。驚ろくべきことに、球タイプ再帰反射性シート材の再帰反射光学系の球面収差は屈折光学系の全部または一部を回折光学系で置換えることによって改善することができることがわかった。本発明では、もし光学要素の少なくとも１つ、即ち、入射側透過光学要素、反射光学要素、または双方が回折光学要素なら、再帰反射光学系の球面収差を入射角が小さけれは完全に、入射角が大きくても著しく軽減することができる。回折光学系の回折効率は所与の入射角に関して最適化できるから、少なくとも１つの回折焦点合わせ光学要素を含む再帰反射光学系を所与の入射角に対して最適化することができる。反射光学要素は入射する電磁放射線の少なくとも一部を入射する主光線と同じ方向に反射させるから、実質的に全ての入射角について再帰反射が得られる。異なる波長に合わせて設計された複数の再帰反射光学系を同一のシート材に組込むことによって同一の再帰反射シート材で多色の反射看板を提供することができる；前記反射看板は所与の入射角において異なる色で反射させるか、または異なる入射角において異なる色で反射させる。これは公知の再帰反射光学系によっては達成できない。また、再帰反射光学系を六角形、正方形または三角形にすることでパック密度を高めることができる。特に純回折式再帰反射光学系の場合、屈折光学要素の使用を避けることにより、例えば、高屈折率及び高精度形状を有する微小ビーズという条件を回避できるから、本発明のこの実施態様による再帰反射性シート材は従来の再帰反射性シート材よりも低コストとなる。好ましい実施例本発明の好ましい実施例を従属請求の範囲第２−11項に定義する。 “入射側透過光学要素” 本発明では入射側透過光学系として、入射電磁放射線を受光し、これを反射光学要素上に焦点合わせできるなら適当ないかなる透過光学要素でも利用することができる。本発明の特定の実施例では、入射側透過光学要素として屈折性球面または非球面光学要素、または回折性焦点合わせ光学要素、例えば、フレネルゾーンプレート、フレネル位相プレート、回折格子溝のある（blazed）フレネル位相プレートのようなフレネル回折構造体を使用することができる。本発明の好ましい実施例では、入射側透過光学要素は焦点合わせ透過回折光学要素である。 “反射光学要素” 本発明では、反射光学要素としてほとんどあらゆる入射角に対して入射電磁放射線の少なくとも一部が主光線の方向に沿って反射するように入射電磁放射線を放射源にむかって反射させることができるなら適当ないかなる反射光学要素でも利用できる。このような反射光学要素は基板に回折パターンを埋込むかまたは配置した回折光学要素と、これに直接またはスペーサ材を介在させて取付けた反射層または反射コーティングとから成る。回折光学要素と反射層の間にスペーサ材を介在させる場合、回折光学要素から反射層までの距離＋反射層から入射側透過光学要素までの距離が回折光学要素の有効焦点距離に等しくなるようにスペーサ材の厚さを選択することが好ましい。本発明の好ましい実施例では、反射光学要素は裏面に反射光学コーティングを施した回折光学要素から成る。本発明の他の好ましい実施例では、反射光学要素はその裏面に反射光学コーティングを施した透過回折光学要素である。本発明の他の実施例では、反射光学要素はすぐれた反射特性を有する透過回折要素から成る回折光学要素であり；前記要素はその前面及び後面の屈折率とは異なる屈折率を有する材料から成る。本発明のさらに他の実施例では、反射光学要素は屈折性球面または非球面ミラー、またはフレネルゾーンプレート、フレネル位相プレート、または回折格子溝のあるフレネル位相プレートのような回折ミラーである。好ましい実施例では、反射光学要素は拡散反射光学要素である。均質な拡散反射光学要素には入射側透過光学要素を拡散反射光学要素と整列させる必要がないという製造上の利点がある。スペーサ材の厚さが焦点合わせ入射側透過光学要素の有効焦点距離に近似でさえあれば再帰反射が確実に得られる。 “回折光学要素” 本発明では、回折光学要素として例えば振幅もしくは位相ホログラム、または表面レリーフホログラムのような公知の適当な回折光学要素を使用することができるが、これらに限られない。回折光学要素はまた、例えば下記のような公知の方法で形成された適当な回折パターンを有することができるがこれらに限られない：ｉ）ハロゲン化銀フィルムのような写真フィルムに干渉を応用して漂白せずに振幅ホログラムを形成する方法； ii）ハロゲン化銀フィルムのような写真フィルムに漂白を伴なって、またはフォトポリマーに、干渉を応用して位相ホログラムを形成する方法；または iii）ポジ型またはネガ型のレジスト、例えば電子レジストまたはフォトレジストのような適当な記録媒体にリソグラフで、または干渉計を利用して表面レリーフ（位相）ホログラムを形成する方法。最後に挙げた表面レリーフホログラム形成方法が概して好ましい。なぜなら、表面レリーフホログラムは例えば電鋳（ニッケル）原板（ホログラム）から熱可塑フィルムを熱機械的にエンボス加工するか、流動熱可塑またはUV−または熱硬化プラスチック、またはその適当な前駆物質を鋳造することによって機械的に複製できるからである。また前記原板は成形型の一部を形成する。R.A.Bartolini等の“Replication of Relief-Phase Hol ograms for Prerecorded Video”，J.Electrochem．Soc．：Solid-State Scienc e and Technology，Vol.120，No.10，October 1973，1408-1413 を参照されたい。この記事の内容をここに引用して記載に含める。マスターホログラムを支持するプレートには円筒形状を与え、例えばビニル、ポリカーボネート、マイラーまたはセルロースエステルのような軟化した適当なプラスチックへの連続エンボス加工を可能にするエンボスロールに装着すればよい。例えば、J.J.Cowan及びW.D.Slaferの“Holographic Embossing at Polaroid ：The Polaform Process”，SPIE Vol.100，Progress in Holographic Applicat ion，1985，49-56を参照されたい。マスターホログラムに円筒形状ではなく扁平形状を与え、半連続エンボス加工を可能にするプレートプレスに装着してもよい。例えばマイクロプリズムタイプの再帰反射光学系を有する再帰反射性シートの圧縮成形装置を開示している米国特許第 4,244,683号を参照されたい。本発明の好ましい実施例では、回折光学要素が表面レリーフ回折パターンを含む。 “反射光学要素に対する入射側透過光学要素の位置ぎめ” 本発明では、反射光学要素を透過光学要素の有効焦点またはその近傍に位置させる。従って、１対の光学要素、即ち、入射側透過光学要素と反射光学要素はシート材の所要の厚さに応じた相互間隔を保つように設計される。両光学要素はどんな適当な方向に配向されていてもよい。即ち、両光学要素の中心軸の配向をどんな適当な方向を持つように設定してもよい。本発明の好ましい実施例では焦点合わせ反射光学要素の中心軸の配向に対する入射側透過光学要素の中心軸の配向を両中心軸が互いに非平行か、ほぼ平行か、またはほぼ一致するかのいずれかの関係から選択する。両中心軸はほぼ平行でしかも間隔が狭いこと、特にほぼ一致することが好ましい。 “スペーサ材” スペーサ材としては公知の適当なスペーサ材を使用できる。本発明の好ましい実施例では光学要素間のスペース、または透過回折光学要素と反射光学要素の反射コーティングとの間のスペース、またはこの双方を例えばガラス、硬質プラスチック、軟質プラスチック、空気、またはこれらの組合わせのような絶縁性またはほぼ絶縁性の材料から選択したスペーサ材で構成する。 “色素添加物” 再帰反射性シート材に適当な公知の色素を添加して着色することができる。本発明の好ましい実施例では、入射側透過光学要素、反射光学要素、反射光学コーティングを含む回折要素、反射光学コーティング、拡散反射光学要素、スペーサ材の少なくとも１つが１種類または２種類以上の色素を含有する。光学要素支持材及び／またはスペーサ材は透明色または蛍光透明色にあらかじめ着色することができる。多重カラーまたはイメージを形成したければ、シート材の表面をスクリーンプリントまたはフレクソプリントによってイメージ通りにプリントすればよい。保護層を施す場合、この材料にあらかじめ所要のパターンをプリントすることができる。夜間に色が鮮かに反射するためにはインクが透明でなければならない。昼間だけ目につく色でよいのなら、普通の非透明インクを使用すれはよい。セリグラフ工業の分野で使用され、透明なものも非透明なものも市販されている好ましいインクはシクロヘキサノン、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、３−メトキシ−ｎ−ブチルアセテート、エチル−３−エトキシプロピオネート、及びＣ₉−Ｃ₁₀アロメートから成り、Bargoscreen^TM２Ｋ−6500の商標で市販されている。 “保護層” 再帰反射性シート材はどんな適当な透明材料から成る保護層でカバーしてもよい。本発明の好ましい実施例では入射側透過光学要素の前面または反射光学要素の背面、または双方を保護材でコーティングする。表面レリーフ回折光学要素に保護層を施す場合、回折パターンを保護層を施さない場合よりも深くすることが好ましい。回折パターンの深さは当業者なら経験で、またはM.G.Moharam 及びT.K.Gaylord の“Diffraction Analysis of Dielec tric Surface Relief Gratings”，Journal of the American Optical Society ，Vol.72，No.1，Nov．1982，1385-92（これをここに引用してその内容を記載に含める）に記載されている回折効率計算によって最適化することができる。 “支持材” 再帰反射光学系は布地や接着剤、場合によっては自己粘着性接着剤のような適当な公知の支持材に支持すればよい。多くの用途において、支持材はシート材自体である。Ｂ．再帰反射性シート材の製法他の態様において、本発明は再帰反射性シート材の製法にも係わる。 “２枚のシート基板の接合” 本発明の再帰反射性シート材の好ましい製法は請求の範囲第12−14項に記載した通りである。光学要素は上述した公知の方法によって第１及び第２のシート基板にそれぞれ設ければよい。次いで第１及び第２基板を当技術分野で適当とされる接合技術によって接合する。反射光学要素は回折光学要素または拡散反射光学要素であることが好ましい。 “１枚のシート基板の加工” 本発明の他の再帰反射性シート材製法は請求の範囲第15−19項に記載した通りである。この方法では、１枚のシート基板の第１面及びこれとは反対側の面に光学要素を設ける。反射光学要素は回折光学要素または拡散反射光学要素であることが好ましい。 “１枚のシート基板の両面への表面レリーフパターンのエンボス形成” 本発明のさらに他の好ましい再帰反射性シート材製法は請求の範囲第20−27項に記載した通りである。第２エンボスマトリックスの表面レリーフパターンは回折パターンまたは拡散反射パターンであることが好ましい。この方法では、公知のいずれかの適当な方法によって所要の光学要素に表面レリーフ回折パターンを設ける。詳しくは上記“回折光学要素”及び後述する“シート基板材料”の説明を参照されたい。表面レリーフ回折パターンのマスターホログラムのエンボスマトリックスは公知の適当な方法、例えばニッケルのような適当な金属で電気メッキすることによってエンボスマトリックス、例えば円筒状エンボスロールまたは扁平なエンボスプレートプレスとして使用できる硬質の材料を得る。シート材に入射側透過光学要素及び反射光学要素のレリーフ回折パターンをエンボス形成する作業は同時に行うことも相前後して行うこともできる。本発明の好ましい実施例ではエンボス加工工程はシート材の両面に１対ずつ表面レリーフ回折パターンを同時に熱機械的にエンボスするというものである。本発明の好ましい実施例では、エンボス工程は連続的なロール間プロセスから成る。シート材へのエンボス加工はシート材に応じた適当な温度において行えばよい。 “位置ぎめ制御” シート材の両面に２つの表面レリーフ回折光学要素を形成する際には表面レリーフ回折パターンを相互に正確に位置ぎめすることが重要である。直径が 340μｍ、エンボスのプロフィル深さが１μｍ、再帰反射性シートポリマーホイルの厚さが 100μｍの１対の表面レリーフ回折光学要素の場合、精度は 10μｍよりも高くなければならず、約５μｍであることが好ましい。この位置ぎめ精度を得るためには、公知のどんな位置制御方法を応用してもよい。本発明の好ましい実施例では、位置ぎめ制御は下記ステップから成る：ａ）シート基板に位置マーカーをエンボスし；ｂ）位置マーカーの所定の方向に沿った相対ずれを測定し；ｃ）測定された位置マーカーの相対ずれが所定の限界値を超える場合にはエンボスマトリックスまたはシート基板、または双方の位置を調整する。本発明の好ましい実施例では、位置マーカーが三角形である。本発明の他の好ましい実施例では前記エンボス加工用マトリックスが型の一部を形成し、流動熱可塑材またはUV−または熱硬化プラスチック、またはこれらの適当な前駆物質から成るシート基材が成形される。 “シート基材材料” 本発明ではシート基材材料として例えばUV−硬化ポリマーのような公知の適当なシート材を使用することができる。このような物質としては、ポリエチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネートのほか、アクリレーテッドエポキシオリゴマー、ポリウレタン及びアクリレーテッドウレタンなどのようなポリエステルなどが挙げられるが、これらに限られない。適当なシート基板材料は例えば英国特許出願第 2,245,194Ａ号及び米国特許第 4,576,850号に開示されている。これらをここに引用してこれらの内容を記載に含める。Ｃ．再帰反射性シート材の利用本発明の更に他の態様は再帰反射、特に所与の波長については球面収差が軽減され、所要の入射角については再帰反射が最適化される再帰反射を伴なう適当な用途における本発明の再帰反射性シート材の使用である。本発明の好ましい実施例においては、再帰反射シート材を道路標識のような標識、ステッカーのような標識、または装飾物の製造に利用され、前記標識または装飾物は照明されると再帰反射を発生させる。その他の標識としてハイウエイ標識、交通標識、滑走路標識、ポスト及びタルの標識；及び警告標識も含まれる。表現の定義この明細書において、“電磁放射線”という表現は適当な回折要素によって回折させることができる電磁放射線、特に10nmないし 100μｍ、好ましくは 100ないし1000nm、さらに好ましくは約 400ないし約 700nmの電磁スペクトル可視域の波長を有し、所要の波長で機能するように設計された適当な回折光学要素によって回折させることのできる電磁放射線を意味する。従って、“回折光学要素”という概念は“光学的”範囲内と考えられる波長とは異なる波長の電磁放射線に好適な回折要素をも含むものと広義に解釈すべきである。この明細書において、“再帰反射”という表現は、入射電磁放射線とはほぼ反対の方向に入射電磁放射線が反射する現象を意味する；前記方向は入射方向と一致するかまたはこれと平行である。従って、再帰反射は入射放射線を選択的にほぼ入射角に等しい角度で反射させるか、反射する放射線は反対方向に伝播する。電磁放射線が選択的に入射角で反射するこの現象は入射光を正反射させる、即ち、入射角が反射角に等しいミラータイプのレフレクタの反射とは異なる。また、この選択的な反射は入射放射線を全方向に反射させる拡散タイプのレフレクタの反射とも異なる。この明細書において、「球面収差」とは、全ての平行光が１つの特異点に集まらない、焦点合わせ上の欠陥を意味する。この明細書において、入射角という表現は入射電磁放射線がシート基板表面に対して垂直に伝播する場合は０°の角度を意味する。この明細書において、“シート材”という表現は本発明の再帰反射光学系の光学要素を支持するのに適した連続的な薄いシートまたはフィルム材を意味する。この明細書において、“主放射線(chief ray)”という表現は照明源から放射され、好ましい実施例では例外なく入射側透過光学要素の開口に相当する制限開口の中心を通過する電磁放射線の幾何学的光線を意味する。３．図面の簡単な説明図１Ａは公知の球タイプ再帰反射性シート材の断面簡略図であり；図１Ｂは正反射ミラーを有する公知のフレネルゾーンプレートタイプの断面簡略図であり；図２は本発明の反射回折光学要素を有する球タイプ再帰反射シート材の好ましい実施例の断面簡略図であり；図３は本発明の純回折タイプの再帰反射シート材の他の好ましい実施例の断面簡略図であり；図４Ａ−４Ｄは拡散反射光学要素を有する回折タイプ再帰反射シート材のさらに他の好ましい実施例の断面簡略図であり；図５はリソグラフ製法によって得られた入射側透過焦点合わせ回折光学要素断面の走査電子顕微鏡画像であり；図６は本発明のシート材の再帰反射光学系に組込まれる回折光学要素を干渉を応用して記録する構成の簡略図であり；図７は本発明のシート材の再帰反射光学系に組込まれる拡散回折光学要素を干渉を応用して記録する構成の簡略図であり；図８は連続的に移動するシート基板材のロール間エンボス加工の簡略図であり；そして図９は三角形の位置マーカーをエンボスされたシート基板材の断面を示す簡略図である。４．詳細な説明Ａ．再帰反射性シート材 “公知の再帰反射性シート材” 図１Ａに、従来技術の球タイプ再帰反射性シート材 100の断面概略図を示す。ガラス／プラスチック球 101は一部が反射層で被覆され、一部はシート材 103 に埋没されている。反射層 102で被覆されていない球の部分は任意に保護層 104 で被覆される。保護層 104に入射する入射光 105は球 101を透過し、反射層 102で反射する。反射光 106は（理想的には）入射光 105とは反対の方向に反射する。明確さを期して球間に存在する不透明なまたは吸収性のバリヤコーティングの図示を省いた。図１Ｂには正反射コーティングを有するフレネルゾーンプレートタイプ再帰反射性シート材 100ｂの断面概略図を示す。入射光113，113ｂと対向する透明シート基板 112の前面にフレネルゾーンプレート110，111をエンボス成形し、基板の裏面を正反射ミラー 114で被覆する；前記基板はフレネルゾーンプレート110,111 の焦点距離に相当する厚さを有する。図示の入射角では、入射光113，113ｂのうち、正反射ミラー 114によって入射主光線 113ｂに沿ってそのまま再帰反射させられる光は皆無である。入射光 113 の一部は光線 115の形で反射する。図から明らかなように、反射光 115ｂは入射した特定のフレネルゾーンプレート 110から逸れるから再帰反射の方向とは異なる方向に反射する。 “本発明の再帰反射性シート材の好ましい実施例” 図２は本発明の再帰反射性シート材 200の好ましい実施例の断面の概略図を示しており、これはシート基板 202に半球形レンズ 201を埋込んで入射側透過光学要素とし、シート基板 202の裏側、即ち、入射光203，204の側とは反対の側にあって半球形レンズ 201と向き合う側に回折表面レリーフパターン 206及び反射性コーティング 207を含む反射回折光学要素（または反射ホログラフ光学要素）から成る反射光学要素を設け；前記反射コーティング 207がシート基板の裏面の全部または一部を被覆するように構成されている。反射光208，209は反射回折光学要素 205が入射電磁放射線の少なくとも一部 208を入射主放射線 204の方向に沿って反射させることで放射源にむかって反射する。半球体間または反射回折光学要素間のスペース 210には必要に応じて（図示しないが）適当なバリヤまたは拡散反射コーティングを設けることができる。図３は本発明の再帰反射シート材 300の好ましい実施例の断面概略図を示したもので、シート基板 202の前面に設けた表面レリーフ回折パターン 302を含む透過回折光学要素から成る入射側透過光学要素 301と、入射側透過光学要素 301とは反対側のシート基板 202の裏面に設けた回折表面レリーフパターン 206及び反射コーティング 207を含む反射回折光学要素 205から成る反射光学要素とで構成されている。図２から明らかなように、入射電磁放射線の一部 208は入射主放射線 204の方向に沿って反射する。図４Ａ−４Ｄは本発明の再帰反射性シート材 400の好ましい実施例の断面の概略図を示したもので、シート基板 202の前面に設けた表面レリーフ回折パターンから成る入射側透過光学要素 301と、この入射側透過光学要素 301とは反対のシート基板 202の裏側に設けた拡散反射光学要素 405とで構成されている。再帰反射シート材の原理を２通りの入射角との関連で図示した。即ち、図４Ａ及び４Ｂではこの原理を比較的小さい入射角との関連で、図４Ｃ及び４Ｄではこの原理を比較的大きい入射角との関連で示した。入射側回折光学要素 301の焦点合わせ効果を図４Ａ及び４Ｃに図示し、拡散反射光学要素 405からの拡散反射を図４Ｂ及び４Ｄに図示した。図４Ｂ及び４Ｃ中の楕円は近ランバーティアン放射線分布を示す。この拡散非正反射により、入射電磁放射線の少なくとも一部 208は入射主放射線 204の方向に沿って反射する。Ｂ．再帰反射性シート材の製法本発明の純回折タイプ全再帰反射光学系の好ましい実施例は焦点合わせ透過回折光学要素、スペーサ材／シート基板及び反射回折光学要素から成る。１つの実施例では、第１シート基板上の焦点合わせ透過回折光学要素と第２シート基板上の反射回折光学要素を別々に製造したのち、この２つのシート基板を、場合によってはスペーサ材を介在させて、接合することにより全再帰反射光学系を製造することができる。本発明のシート材に組込まれる回折光学要素はどんな望みの波長をも対象とする再帰反射光学系の製造に有用なリソグラフ製法で製造できる。 400-500nmの波長を対象とする再帰反射光学系の最も簡単な製法である干渉応用の製法で製造することも可能である。垂直入射に対して最適の再帰反射を達成したい場合、２つの回折要素を（後述するリソグラフ法の場合なら）同じ計算によって、（後述する干渉応用の方法なら）同じ幾何的構成によって製造できるから製法は極めて簡単である。２つの回折要素における回折構造は表面プロフィルの深さまたは回折材料が異なる点を除けば全く同じである。回折構造の最適深さは当業者なら経験的に、または M.G.M oharam及び T.K.GaylordがJournal of Optical Society of America，Vol.72，N o.10，November 1982，p.1385-1392に発表した“Diffraction Analysis of Diel ectric Surface-Relief Gratings”に記述されている回折効率計算を利用することによって達成することができる。従って、シート基板に組込まれる焦点合わせ透過回折光学要素及び反射回折光学要素の双方を製造するのに、回折材料の最適深さが双方の要素で異なることを除いて、後述する回折光学要素の製法を利用することができる。更に、反射回折光学要素には反射層を重ねることによって反射に伴なう回折次数（reflection orders of diffraction）の回折効率を最大限に高めることが好ましい。この反射層は例えばBio Rad Micro-Science Divisionの製品であるDiod e Sputter Coater SC510のような装置を利用して金属層にスパッタリングすることによって塗布することができる。フォトレジスト面からシート基板への回折パターン転写方法は“回折光学要素の複写”の項において後述する。 “試作要素” 純回折タイプ再帰反射性シート材の製造を説明するため、550nmの波長を用いたときに最適の試作要素を設計した。屈折率1.46、厚さ 200μｍの石英ガラス基板を使用した。それぞれが約 300μｍ²の14×14回折フレネルゾーンパターン配列を表裏両側の光学要素とし使用した。リソグラフ手段によって製造された回折光学要素を走査電子顕微鏡で観察して得た入射側焦点合わせ透過回折光学要素の画像を図５に示した。なお、回折光学要素の中心付近の部分だけを示してある。１μｍに相当する目盛単位 501は表面レリーフ構造のサイズを示す。表面レリーフ構造 502も基板材料 503も石英ガラスである。試作要素は複製を目的とするものではない。従って、試作の回折光学要素を双方共に石英ガラス基板の両面にそれぞれ組込んだ。 “基板の加工” 次に行われる電子ビーム記録において必要な位置ぎめ精度を達成するためには石英ガラス基板の前面と後面とを整列させる整列マークが必要であった。前面の回折光学要素配列を５μｍの精度で後面の回折光学要素配列と整列させることが好ましい。先ず、ヒューレットパッカード社のLaser Jet IIIＰでプリントした所要の整列マークを有する簡易オーバーヘッドフィルムの１／10縮小コピーを作成することによって所要の整列マークのある標準フォトマスクを作成した。この縮小は標準的な縮小レンズを利用する縮小カメラで実施した。露光はコダック社製の HDP プレート上で実施し、コダックからの指示に従って現像し、定着した。フォトマスクは約27mm間隔で配置された２つの十字を有する。十字を形成する線は十字の中心付近で約５μｍ、中心から最も遠い端部では約１mmの太さに設定した。これによって整列マークの検出が容易になったが、良い結果を得るための必須条件ではない。マークは可視及びUV波長を透過したがマーク以外のフォトマスク部分は吸収した。基板の前面をヘキスト社製のフォトレジスト5206で被覆した。この作業はフォトレジストのメーカーからの指示に従って洗浄、スピンコーティング及びベーキング処理を行うことで実施した。このフォトレジストはポジ型及びネガ型のいずれのレジストとしても使用できる。だだし、ここではポジ型レジストとして使用する場合の指示に従った。製のマスク整合装置 AL ６−２において２つの整列マークを有するフォトマスクをマスクプレートとして、フォトレジストで被覆した基板をウェハーとしてそれぞれ使用した。露光はメーカーからの指示に従って行った。厚さ 0.5μｍのレジストでは15秒の露光時間で最善の結果が得られることが判明した。露光後、Ship ley社製の現像装置Microposit 351を使用し、同社からの指示書に従って現像した。その結果、整列マークのパターンが転写され、現像装置がレジスト材を取除くから、十字はレジストの孔となる。この段階で前面が露出した状態にある基板を、先ず薄い50ÅのCr層、次いで 2 00ÅのAu層を蒸着するためAVAC社製の蒸着装置内に配置した。Auを石英ガラスと結合させるためにCrが必要であり、Auを使用することによって電子ビームライター（writer）の走査電子顕微鏡モードにおいて見ることのできる整列マークが得られた。蒸着後、基板をアセトン中で超音波浴処理することによってフォトレジストを溶解させ、露光された整列マークの十字だけをCr／Au被覆するリフトオフプロセスを得た。残りのCr及びAuは溶解したレジストと一緒にリフトオフした。以上で前面の加工が完了した。後面にも同様の加工を施した。即ち、後面をマスク及び光源に向けてマスク整合装置において露光した。ただし、この場合にはマスクをこの段階では見ることのできる前面のCr／Auマークに整列させた。この作業は前後方向整合システムを備えているマスク整合装置 AL ６−２で達成することができた。AL ６−２はこの試作品の製造に不可欠であり、従来の整合装置の多くはこの機能を具えていない。基板の前後両面の整列マークを正しく整合させたら、次に電子ビーム及びエッチング処理への準備ができた。この処理では先ず基板前面を Novolak系のフォトレジスト、例えばシップレイ社製の Microposit 1400シリーズでスピンコートしたのち、45分間に亘って 225℃で基板をベーキングし、極めて硬く焼かれたフォトレジストを得た。この層は石英ガラスに回折構造をエッチングする際のエッチングマスクとして機能することになる。硬く焼かれたフォトレジストの頂面に例えばAVAC蒸着装置のような真空蒸着装置で 500ÅのGe 層を蒸着した。この層はあとで電子ビーム記録工程において導電層として機能し、フォトレジストに回折構造をエッチングするためのエッチングマスクとしても機能する。これの頂面に例えば SAL 601のような電子ビームレジストの 150nm層をスピンコートした。この３層レジスト／Ge／レジストは石英ガラスへの深く小さいサイズのエッチングを施す上で最良の結果をもたらしたが、他の材料も使用できよう。後述のように、前面の露光及びエッチングが終了したら、今度は後面に３層レジスト／Ge／レジストをコーティングし、蒸着した。次いで前面の露光と同様に後面の露光及びエッチングを実施した。 “データの作成” JEOL言語を使用して電子ビーム記録のためのフレネルゾーンパターンを作成した。指令でパターンを作成し、同心円状リングが得られた。フレネルゾーンパターンは石英ガラス−使用されるシート材−において石英ガラス基板の厚さに等しい有効焦点距離を有するフレネルゾーン回析レンズが得られるように選択した。この選択はEugene Hecht（Adelphi University）の“OPTICS”、第２版、ISBN 0 -201-11611-1，p.445＋に記述されている標準フレネルゾーンプレート方程式に従った計算によって行われた。このフレネルゾーンパターンは実質的にあらゆる入射角に対して入射光の少なくとも一部を入射主放射線(chief ray)の方向に沿って逆戻りさせる回析パターンである。 “電子ビーム加工” 電子ビーム装置に取付けたファイルサーバへ読込んだのち、メーカーからの指示書に従って電子ビーム装置を校正した。データを露光コンピュータシステムにロードし、次いで電子ビーム装置の走査電子顕微鏡モードを利用して基板の前面（第１面）上に整列マークを検出した。電子装置のレーザーステージコントロール上での整列マークの絶対位置を読取り、コンピュータシステムのメーカーのマニュアルに従ってこれをコンピュータに入力することにより、露光コンピュータシステムが前面におけるパターンの正確な位置ぎめを自動的に行うことができるようにした。露光を開始したが、５×５mm配列の回析レンズの場合、約 5.5時間の露光時間が必要であった。露光後、110℃で20分間に亘って基板をベーキングし、Novolak系電子ビームレジスト用のシップレイ社製標準現像装置（商品名“ Developer”）で２分間現像処理した。その結果、非露光レジストが除去され、露光された回析構造が石英ガラス上のフォトレジスト／Ge／層の頂面に電子ビームレジストのリングとして残った。後述するようにエッチングすることによってこれらの構造を石英ガラスに転写したのち、基板の第２（後）面を３層（レジスト／Ge／レジスト）系でコーティングし、上述したのと同じ方法でこの第２面で電子ビーム記録、ベーキング及び現像を実施した。次いで第２面の回析構造を第１面の場合と同様、後述のように下方の石英ガラスに転写した。 “パターンの転写” 露光された電子ビームレジストの回析構造を、反応イオンエッチングによって下方のGe、フォトレジストそして最後に石英ガラス基板に転写した。反応イオンエッチングはすべてCHF₃，SF₆及びＯ₂ガスの供給されたVacu Tec Plasma System において行われた。このシステムの圧力及び効果パラメータはすぐれた異方性エッチを得るためには重要であり、最適パラメータは個々の装置に応じて全く異なることがあり得ることにも留意しなければならない。個々の装置の最適パラメータを得るため当業者は一連の試験を実施しなければならない。なお、エッチングされる構造の側壁が垂直なら、低い圧力と高い効果は極めて異方性の高いエッチングを可能にし、高い圧力と低い効果は極めて選択的なエッチングを可能にする。先ず、６ｍ Torr，20cm³／min の SF₆及び効果87Wで20秒の反応イオンエッチングにより電子ビームレジストから 500ÅのGe層へ回析構造を転写した。次いで６ｍ Torr，30cm³／min のＯ₂及び効果 240Ｗで 250秒の反応イオンエッチングにより、Ge層と石英ガラスの間の硬く焼かれたフォトレジストをエッチングした。最後に、30ｍ Torr，30cm³／min のCHF₃で反応イオンエッチングによって前記構造を石英ガラスに転写した。構造の必要な深さが約１μｍである前面では石英ガラスに対するエッチング時間が39分間であったが、必要な深さが約 0.5μｍである後面ではエッチング時間を19.5分間とした。この石英ガラスのエッチングにおいては残留Geもすべて除去された。特別な工程として、前記要素から残留レジストを除去し、真空チェンバを洗浄するため上記フォトレジストのエッチングに使用したのと同様の酸素エッチングを３分間実施した。これは再帰レフレクタの使用に不可欠な工程ではないが、高純度の硬質石英ガラス面を得るために採用した。 “後面反射” 製造の最終工程として後面を 500nmのアルミニウムでコーティングすることによって高い反射率を得た。この工程はAu及びCr蒸着に使用したのと同様の蒸着装置を使用した。 “干渉応用による回析光学要素の記録” 本発明のもう１つの回析光学要素の製法は例えば P.Hariharanの“Optical Ho lography”，Cambridge University Press，Cambridge 1984 ISBN 0 521 24348 3 のような一般的なホログラムに関する文献に概説されているような干渉応用の記録システムを使用する製法である。明確な理解を期してこの方法をさらに詳細に後述する。焦点合わせ回析光学要素を記録するためのホログラフシステムを図６に示す。光源として記録材に好適な波長を有するコヒーレントレーザー 601を使用する。このシステムはほかに標準的な光学ミラー 602，603，604、ビームスプリッタ60 5，606、及び空間フィルタ607，608を含む。ホログラフ記録材 609としてはシップレイ社製の Microposit 1400のようなフォトレジストが好ましい。このフォトレジストに適したレーザーとしては Spect ra Physics社製の波長 488または 457.8nmのArgon Ion Laser Model 2030がある。このフォトレジストをメーカーの指示書に従ってスピンコーティングすることによって扁平ガラス基板にコーティングすればよい。図６に示すように、レーザー光はビームスプリッタ 605によって２本の別々のビーム601，611に分割される。ミラー603，604がビーム 611を誘導して空間フィルタ 608を通過させ、ビームスプリッタ 605がビーム 610を誘導して空間フィルタ 607を通過させる。いずれの空間フィルタ607，608も顕微鏡対物レンズと、レーザー光をフィルタして２本のガウスビーム612，613を形成するピンホールを含み、ピンホールからのガウスビーム612，613が点光源として作用する。これら２本のガウスビーム612，613はいずれも記録材 609に入射し、レーザー光のコヒーレント性により記録材の平面内に干渉パターンが発生する。この干渉パターンは前記記録材中に潜像として記録される。次いで記録材メーカーの指示書に従って記録材を現像することにより回析微小構造が記録される。こうして得られる回析微小構造は記録スキーム（scheme）の幾何的構成(setup )に応じて異なる形態を呈する。もし空間フィルタ 607から記録材 609までの距離“ａ”＋“ｂ”が空間フィルタ 608から記録材 609までの距離“ｃ”よりも大きければ、空間フィルタ 607からの光は平面波と考えることができ、得られる焦点合わせ回析光学要素の焦点距離は距離“ｃ”に等しくなる。従って、こうして得られた回析光学要素は平面波照度、屈折率及び波長に関して記録システムと同様のシステムに使用した場合、焦点距離が“ｃ”の球面レンズとして作用する。従って、反射回析光学要素の回析パターンは実質的にあらゆる入射角に対して入射光の少なくとも一部を入射主放射線の方向に沿って逆戻りさせることを確実にする。これらの特性を有する回析要素は入射透過回析光学要素としても反射回析光学要素としても使用される。フォトレジスト表面からシート基板への回析パターン転写方法を“回析光学要素の複写”の項で後述する。 “干渉応用による拡散反射回析光学要素の記録” 拡散反射回析光学要素を記録するためのホログラフシステムを図７に示す。記録材に適した波長のコヒーレントレーザーを光源として使用する。このシステムはほかに標準的な光学ミラー、ビームスプリッタ、空間フィルタ、及び1770 Ket tering Str，Irvine，California 92714に所在するMelles Griot社製の“13FSD0 03”のようなガラスディフューサ（diffuser）を含む。ホログラフ記録材としてはシップレイ社製の Microposit 1400のようなフォトレジストが好ましい。この記録材に好適なレーザーは波長が 488または 457.8nmの Spectra Physics社製Model 2030 Argon Ion Laser であろう。レジストのメーカーからの指示書に従ってスピンコーティングすることによってこの記録材を扁平ガラス基板にコーティングすればよい。図７は干渉応用による拡散回析光学要素の記録を行う幾何的構成を示す。図中、701はレーザー、702はミラー、703はビームスプリッタ、704は空間フィルタ、 705は透明ディフューザ、706はコリメータレンズ、707は基板上にコーティングされたホログラフ記録材、708はレーザービームである。図７に示すように、レーザー光 708はビームスプリッタ 703によって２本の別々のビームに分割される。ミラー 702がこれら２本のビームを誘導して空間フィルタ 704を通過させ、空間フィルタ 704は顕微鏡対物レンズとピンホールを含み、レーザー光をフィルタし、点光源として作用するピンホールから射出されて２本のガウスビームを形成する。一方のガウスビームは記録材に直接入射して参照波として作用する。他方のガウスビームはガラスディフューザ 705に入射して所与の方向φから立体角Δφで記録材を拡散照射して物体波として作用する。レーザー光のコヒーレント性により記録材 707の平面内に複合干渉パターンが形成される。記録材メーカーからの指示書に従って露光ずみ記録材を現像することによって所要の複合拡散微小構造が得られる。記録された微小構造パターンはディフューザガラス板の像ホログラムそのものである。従って、共役参照ビームを再生用照射光として利用することによって得られたホログラムを再構成することができる。こうして得られる回折ディフューザの特徴は特定の立体角Δφで特定方向にのみ拡散光を誘導することにある。即ち、不要な方向に回折拡散光が分散することは全くないから、ディフューザのエネルギー利用効率が高められる。ただし、ある程度のスペクトル収差が認められる。この製造に使用される幾何学的構成は再帰反射性シート材の所要の構造（geometry）において使用する最良のディフューザが得られるように設計しなければならない。このような設計ホログラフ技術に通じている当業者、又は P.Hariharanの“Optical Ho lography”，Cambridge University Press，1984，ISBN 0 521 31163 2の指示及び式に従って達成できる。前記幾何学的構成は記録された回折ディフューザが入射光の一部を入射主光線の方向に沿って送り返すように選択しなければならない。そのためには光学要素の使用に際して記録システムからの異なった屈折率及び波長を補償するように幾何的構成におけるφ及びΔφを制御すればよい。好ましい実施例では“回折要素の複写”の項で述べるようにポリマーまたはプラスチックのシート基板にエンボスすることによって回折ディフューザを複写することができる。 “再帰反射性シート材の製造” 好ましい実施例では、入射透過回折要素の有効焦点距離に等しい間隔を保つ２つの回折光学要素によって再帰反射特性を得る。従って、回折光学要素記録システムの幾何的構造を、完成シート材における２つの回折光学要素の所要間隔に等しい正確な焦点距離を有する回折光学要素が得られるように選択した。図６に関連して述べたように、一方の空間フィルタから記録材までの距離が大きく、他方の空間フィルタと記録材との間の距離に相当する所要の焦点距離を有する幾何的構成によって上記条件を達成した。不要の収差を避けるため、空間フィルタとホログラフ記録材との間に介在する材料が完成シート材におけるスペーサ材と同じ屈折率を持つようにした。これに代えて、記録システムにおけるそれぞれの距離を調整することによって収差を最小限に抑制することもした。記録システムに採用される波長は完成した再帰反射性シート材の用途に最適の波長でもある。この波長に関してだけ収差が最小限に抑えられ、記録波長とは著しく異なる波長で再帰反射性シート材を使用すれば著しい色収差が現われると考えられる。可視域で使用するには可視スペクトルの中央に近い波長が好ましいが、利用できる記録材の感度が選択の自由度を制約する。公知のフォトレジストでは波長が 500nm以上になると感度が急激に低下するから、フォトレジストを使用するとすれば 500nm以下の領域から最適波長を選択するしかない。２クロム酸ゼラチンのような記録材またはAGFA8E75のようなホログラフ用ハロゲン化銀プレートを利用すれば波長の選択範囲は広がるがこれらの記録材を機械的に複写する適当な方法は未だ知られていない。個々の回折光学要素のアパーチュア（aperture）はアパーチュアからの有害な回折効果を回避するのに充分な大きさでなければならない。２つの回折要素間の距離が 100μｍ、スペーサ材の屈折率が 1.5ならば、個々の回折要素のアパーチュアを約 150μｍの大きさに設定することですぐれた成果が得られる。 “回折光学要素の複写” 個々の要素をホログラフまたはリソグラフ記録することが量産に向かないことは明らかである。上述した干渉応用法などでマスターを記録し、このマスターを複写に使用する必要がある。好ましい実施例では反射回折光学要素も入射透過回折要素も同種であってほとんど同じであるから、複写に関する配慮も同じである。記録材としてフォトレジストを使用したから、レジスト表面の微小構造によって回折パターンを得た。次いで電鋳処理によってこれらの微小構造の硬質金属コピーを作成し、これをエンボス加工におけるマスターとして使用することで複写を達成した。前後両面の回折要素の間隔を正しく確保するため、正確な厚さのシート材の両面を同時にエンボス加工した。他の複写技術として、２枚の別々のシート材をエンボス加工したのち、この２枚のシート材を接合することによって両回折要素の正しい位置及び間隔を確保することも可能である。これに似たエンボス複写技術に関しては、James J.Cowanの“Aztec Surface-R elief Volume Diffractive Structure”，Polaroid Corporation，Journal of t he Optical Society of America，Vol.7，No.8，Aug.，1990，p.1529に記載されているが、エンボス加工における圧力及び温度に関する最適パラメータを見出すため、当業者は注意深い経験を要求される。 “シート基板両面への表面レリーフパターンのロール間エンボス加工” 図８には連続移動するシート基板 800のロール間エンボス加工を図解した。透明プラスチックホイルの形態を呈するシート基板を、それぞれの表面レリーフパターンの硬質マスターホログラムを有する１対のエンボスロール801，802間に導入し、このホイル両面に同時に１対の回折パターンをエンボスする。好ましい実施例ではエンボスロール801，802を半回転させることによって総エンボスの50％だけを達成してロールを上昇させてシート基板から離脱させ、ラインのずっと下流でエンボスロール803，804により、同様にして残り50％のエンボスを行う。表面レリーフパターンが互いに整合するようにロール805，806を介してエンボスマトリックスを調整することができる。 “位置ぎめ制御” 図９には透明ポリマーホイル 900に２列にエンボスした三角形 901−906 の形態を呈する多数の位置マーカーを示してあり、三角形の垂直辺がポリマーホイルのＸ−軸及びＹ−軸とそれぞれ一致するように三角形が配向されており；前記ホイルはＸ−軸の方向に移動する。図にはポリマーホイルの一部分だけを示した。これを挟む表面レリーフ回折光学要素は省略した。各列（Ａ）及び（Ｂ）にレーザーダイオート／検出器コンビネーション907，9 08を設けた。レーザーダイオード／検出器コンビネーション 907からの光が例えば三角形 9 02の斜辺ABに入射するとＹ−タイマーが停止し、光が底辺ACに入射すると始動する。ポリマーホイル 900の移動に伴なって次の位置マーカーの三角形 904の斜辺がＹ−タイマーを停止させる。もし測定された時間差が正しくホイルを移動させるための所定時間差よりも長ければ、ホイルは正Ｙ−方向に移動したことになり、短かければホイルが負Ｙ−方向に移動したことになる。時間差はエンボスマトリックスまたはポリマーホイルまたは双方の位置を、以後の時間差が許容範囲内に収まるまでＹ−方向調整するための信号を出力するプロセスコンピュータに入力される。Ｘ−方向の調整に関しては、レーザーダイオード／検出器コンビネーション 907からの光が三角形 902の底辺ACに入射するとＸ−タイマーが始動し、レーザーダイオード／検出器コンビネーション 908からの光が三角形 903の底辺ACに入射すると停止する。もし測定された時間差が正しくホイルを移動させるための所定時間差よりも長ければホイルウェブを構成する一方のホイルがＸ− 方向に遅すぎる速度で移動したことになり、もし時間差が短かければＸ−方向に速過ぎる速度で移動したことになる。時間差はＹ−方向調整の場合と同様にＸ− 方向調整のための信号を出力するプロセスコンピュータに入力される。

【手続補正書】特許法第１８４条の８【提出日】１９９５年７月２８日【補正内容】明細書入射光はフレネルゾーンプレートによって正反射裏面に集束されるが、この正反射裏面の反射法則に従って、たとえ入射角が小さくてもこの集束された入射光は入射したフレネルゾーンプレートを再び通過せずおそらくは隣接のフレネルゾーンプレートにむかって反射するであろう。原則的には入射したのと同じフレネルゾーンプレートから射出される電磁放射線だけがこのフレネルゾーンプレートによって放射源にむかって、即ち、再帰反射の方向に回折される。従って、この再帰反射性シート材は光軸に極めて近い入射角でない限り効率が極めて低い。公知技術の説明米国特許第 2,354,018号及び第 2,354,049号は透明な球体と扁平なバックレフレクタに基づく基本的な公知レフレクタを開示している。米国特許第 2,407,680号は光線が後方へ通過できるように後端を光学的に露出させた多数の近接した微小透明球体と、前記球体の前端と一体化するように前記球体を被覆し、扁平な表面を有する連続的な透明ソリッドカバーとで形成された再帰反射層を含み、前記球体の屈折率が前記透明カバーの屈折率の少なくとも1. 15倍である反射面と協働して該反射面から再帰反射を発生させる光学的シートを開示している。米国特許第 3,758,192号は最も外側の層が好ましくは25ないし 250μの直径と少なくとも 1.8の屈折率を有するガラスビーズの単層膜である複数の層から成る再帰反射構造を開示している。なお、ビーズは実質的に無色透明な樹脂などから成るバインダ材中にほぼ半球状を呈するまで埋没させてある。反射材としてアルミニウムを使用した場合に得られる効率に近づけ、同時に“色の悪さ”という欠点を回避するため、バインダは最大寸法が８ないし30μ、ただしガラスビーズの直径よりは小さく、厚さが25ないし 200nmの正反射真珠光沢ピグメントを含有し、好ましくは基剤固形物総量の少なくとも約15重量％のピグメントを含有する。米国特許第 4,244,683号；第 4,332,847号；第 5,171,624号；及び英国特許出願第 2 245 194Ａ号は再帰反射性マイクロプリズム材、及び例えば圧縮成形によるその製法と製造装置を開示している。ただし、回折光学要素を基本とする再帰反射光学要素に関しては全く示唆していない。米国特許第 3,993,401号及び 4,036,552号は、光干渉縞パターンを有する複数の回析要素を含む透明媒体を含む再帰反射性材料、及び所与の焦点距離を有する位相変調フレネルゾーンプレート群をエンボス形成するためのスタンパを用意し；厚さが前記焦点距離に等しい透明なコピー媒体の片面に位相変調フレネルゾーンプレートをエンボス形成し；前記コピー媒体の反対面を正反射面で被覆するステップから成る再帰反射材の製法を開示している。２．発明の開示発明の目的本発明の目的は入射する放射線を選択的にほぼ入射角に等しい角度で反射させる一方、反射する放射線を反対方向に伝播させる再帰反射性電磁系；特に微小ガラス球タイプ再帰反射性シート材に関しては所与の波長に対しては球面収差が小さく、正反射性裏面を有するフレネルゾーンプレートをエンボス成形した再帰性反射シート材に関しては光軸から遠く離れた角度での再帰反射性が改善された再帰反射光学系を含む再帰反射性シート材を提供することにある。本発明の他の目的は所要の入射面については反射率が最適化され、シート材に垂直な角度については従来の再帰反射性シート材のように最適化を必要としない再帰反射性シート材を提供することにある。本発明のさらに他の目的は異なる波長を対象に設計された複数の再帰反射光学系から成る再帰反射性シート材を提供することにある。本発明のさらに他の目的は再帰反射光学系を位置制御することができ、従来の球タイプ再帰反射性シート材よりも高いパック密度を達成できる再帰反射性シート材を提供することにある。本発明のさらに他の目的は従来の再帰反射性シート材よりも低いコストで、しかも容易に製造できる再帰反射性シート材を提供することにある。本発明のさらに他の目的は上記のような再帰反射性シート材の製法及び利用を提供することにある。その他の目的は以下の説明から明らかになるであろう。反射光学要素は、入射電磁放射線を非正反射により、入射側透過光学要素を通って送り返すから、実質的に全ての入射角について再帰反射が得られる。異なる波長に合わせて設計された複数の再帰反射光学系を同一のシート材に組込むことによって同一の再帰反射シート材で多色の反射看板を提供することができる；前記反射看板は所与の入射角において異なる色で反射させるか、または異なる入射角において異なる色で反射させる。これは公知の再帰反射光学系によっては達成できない。また、再帰反射光学系を六角形、正方形または三角形にすることでパック密度を高めることができる。特に純回折式再帰反射光学系の場合、屈折光学要素の使用を避けることにより、例えば、高屈折率及び高精度形状を有する微小ビーズという条件を回避できるから、本発明のこの実施態様による再帰反射性シート材は従来の再帰反射性シート材よりも低コストとなる。好ましい実施例本発明の好ましい実施例を従属請求の範囲第２−11項に定義する。 “入射側透過光学要素” 本発明では入射側透過光学系として、入射電磁放射線を受光し、これを反射光学要素上に焦点合わせできるなら適当ないかなる透過光学要素でも利用することができる。本発明の特定の実施例では、入射側透過光学要素として屈折性球面または非球面光学要素、または回折性焦点合わせ光学要素、例えば、フレネルゾーンプレート、フレネル位相プレート、回折格子溝のある（blaz ed）フレネル位相プレートのようなフレネル回折構造体を使用することができる。本発明の好ましい実施例では、入射側透過光学要素が焦点合わせ透過回折光学要素である。 “反射光学要素” 本発明では、反射光学要素としてほとんどあらゆる入射角に対して前記反射側光学要素が、入射電磁放射線を非正反射により、入射側透過光学要素を通って送り返すように入射電磁放射線を放射源にむかって反射させることができるなら適当ないかなる反射光学要素でも利用できる。このような反射光学要素は基板に回折パターンを埋込むかまたは配置した回折光学要素と、これに直接またはスペーサ材を介在させて取付けた反射層または反射コーティングとから成る。図４Ｂ及び４Ｃ中の楕円は近ランバーティアン放射線分布を示す。この拡散非正反射により、入射電磁放射線の少なくとも一部 208は入射主放射線 204の方向に沿って入射側光学要素 301を通って送り返される。Ｂ．再帰反射性シート材の製法本発明の純回折タイプ全再帰反射光学系の好ましい実施例は焦点合わせ透過回折光学要素、スペーサ材／シート基板及び反射回折光学要素から成る。１つの実施例では、第１シート基板上の焦点合わせ透過回折光学要素と第２シート基板上の反射回折光学要素を別々に製造したのち、この２つのシート基板を、場合によってはスペーサ材を介在させて、接合することにより全再帰反射光学系を製造することができる。本発明のシート材に組込まれる回折光学要素はどんな望みの波長をも対象とする再帰反射光学系の製造に有用なリソグラフ製法で製造できる。 “シート基板両面への表面レリーフパターンのロール間エンボス加工” 図８には連続移動するシート基板 800のロール間エンボス加工を図解した。透明プラスチックホイルの形態を呈するシート基板を、それぞれの表面レリーフパターンの硬質マスターホログラムを有する１対のエンボスロール801，802間に導入し、このホイル両面に同時に１対の表面レリーフパターンをエンボスする。好ましい実施例ではエンボスロール801，802を半回転させることによって総エンボスの50％だけを達成してロールを上昇させてシート基板から離脱させ、ラインのずっと下流でエンボスロール803，804により、同様にして残り50％のエンボスを行う。表面レリーフパターンが互いに整合するようにロール805，806を介してエンボスマトリックスを調整することができる。 “位置ぎめ制御” 図９には透明ポリマーホイル 900に２列にエンボスした三角形 901−906 の形態を呈する多数の位置マーカーを示してあり、三角形の垂直辺がポリマーホイルのＸ−軸及びＹ−軸とそれぞれ一致するように三角形が配向されており；前記ホイルはＸ−軸の方向に移動する。請求の範囲１．ａ）放射源から入射する電磁放射線を受光し、焦点合わせする入射側透過光学要素（201 ,301）と、ｂ）入射した電磁放射線を放射源にむかって反射させる反射光学要素（205 ,4 05）を含み；前記反射光学要素を透過光学要素の有効焦点またはその近傍に配置し；両光学要素間のスペースを必要に応じてスペーサ材(202)によって構成し；そして前記光学要素(205，301，405)の少なくとも１つが回析光学要素である少なくとも１つの再帰反射光学系(200，300，400)を含む再帰反射性シート材において、入射側透過光学要素（201，301）への小さな及び大きな入射角の両方について、前記反射光学要素（205，405）が前記入射電磁放射線を非正反射によって前記入射側透過光学要素（201，301）を通して送り出す、ことを特徴とする再帰反射性シート材。９．入射側透過光学要素、反射光学要素、反射光学コーティングを有する回折光学要素、反射光学コーティング、拡散反射光学要素及びスペーサ材の少なくとも１つが単一または複数の色素を含有することを特徴とする請求の範囲第１項から第８項までのいずれか１項に記載のシート材。 10．入射側透過光学要素の前面または反射光学要素の後面、またはこの双方を保護材でコーティングしたことを特徴とする請求の範囲第１項に記載のシート材。 11．少なくとも１つの再帰反射光学系を支持材に固定したことを特徴とする請求の範囲第１項に記載のシート材。 12．入射側透過光学要素が１つの回折光学要素から成る請求の範囲第１−11項に記載の少なくとも１つの再帰反射光学系を含む、再帰反射性シート材の製法において、ａ）第１シート基板に入射側焦点合わせ透過回折光学要素を設けｂ）第２シート基板に反射光学要素を設け；ｃ）前記反射光学要素が前記入射側焦点合わせ透過光学要素の有効焦点またはその近傍に位置するように第１シート基板を第２シート基板と接合し；そしてｄ）必要に応じて、入射側透過光学要素の前面、または反射光学要素の後面、またはこの双方を保護材でコーティングする、ステップから成る前記製法。 13．前記反射光学要素が反射回折光学要素であることを特徴とする請求の範囲第12項に記載の方法。 14．前記反射光学要素が拡散反射光学要素であることを特徴とする請求の範囲第12項に記載の方法。 15．入射側透過光学要素が１つの回折光学要素から成る請求の範囲第１〜11項に記載の少なくとも１つの再帰反射光学系を含む再帰反射性シート材の製法において、ａ）シート基板の第１面に入射側焦点合わせ透過回折光学要素を設け；ｂ）シート基板の反対面に反射光学要素を設け；前記反射光学要素が入射側焦点合わせ透過回折光学要素の有効焦点またはその近傍に位置するようにし；ｃ）必要に応じて、入射側透過光学要素の前面、または反射光学要素の後面、またはこの双方を保護材でコーティングする、ステップから成る前記製法。 16．前記反射光学要素が回折光学要素であることを特徴とする請求の範囲第15 項に記載の方法。 17．前記反射光学要素が拡散反射光学要素であることを特徴とする請求の範囲第15項に記載の方法。 18．前記シート材の第１面及び反対面に入射側焦点合わせ透過回折光学要素及び反射光学要素をそれぞれ同時に設けることを特徴とする請求の範囲第15−17項のいずれか１項に記載の方法。 19．前記シート材の厚さが入射側焦点合わせ透過回折光学要素の有効焦点距離にほぼ等しいことを特徴とする請求の範囲第15−18項のいずれか１項に記載の方法。 20．入射側透過光学要素及び反射光学要素がシート材の両面に設けた複数の表面レリーフ光学要素から成る請求の範囲第１−11項に記載の少なくとも１つの再帰反射光学系を含むシート材の製法において、ａ）入射側透過光学要素の表面レリーフ回折パターンを含む第１エンボスマトリックス（801，803）を作成し；ｂ）反射光学要素の表面レリーフパターンを含む第２エンボスマトリックス（ 802，804）を作成し；ｃ）これら１対の表面レリーフパターンを同時にまたは順次シート材の両面にエンボスする、ステップを含むことを特徴とする前記製法。 21．前記第２エンボスマトリックスの表面レリーフパターンが回折パターンであることを特徴とする請求の範囲第20項に記載の方法。 22．前記第２エンボスマトリックスの表面レリーフパターンが拡散反射パターンであることを特徴とする請求の範囲第20項に記載の方法。 23．前記エンボスステップが１対の表面レリーフパターンをシート基板の両面に同時に熱加工エンボスするステップであることを特徴とする請求の範囲第20〜 22項のいずれか１項に記載の方法。 24．前記エンボスステップが連続的なロール間エンボス工程であることを特徴とする請求の範囲第20〜23項のいずれか１項に記載の製法。 25．入射側透過光学要素も反射光学要素も表面レリーフ回折光学要素である請求の範囲第24項に記載の方法において、エンボスステップがエンボスマトリックスまたはシート基板、またはこの双方の位置を制御するステップを更に含むことを特徴とする前記方法。 26．前記位置制御が、ａ）シート基板に位置マーカ(901−906)をエンボスし；ｂ）位置マーカの所定方向相対すれを測定し；ｃ）測定された位置マーカ相対ずれが所定限界を超えるときはエンボスマトリックス(801〜804)またはシート基板(800)、またこの双方の位置を調整する、ことを含む請求の範囲第25項に記載の方法。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＫＥ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＺ)，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＥ，ＨＵ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＮ，ＭＷ，ＮＬ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＩ，ＳＫ，ＴＪ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ (72)発明者ステンスボルク，ヤンデンマーク国，デーコー―1620 コペンハーゲンベー，エステー．，ベステルブロガゼ 112

Claims

【特許請求の範囲】１．ａ）放射源から入射する電磁放射線を受光し、焦点合わせする入射側透過光学要素（201，301）と、ｂ）入射した電磁放射線を放射源にむかって反射させる反射光学要素（205，4 05）を含み；前記反射光学要素を透過光学要素の有効焦点またはその近傍に配置し、両光学要素間のスペースを必要に応じてスペーサ材(202)によって構成した少なくとも１つの再帰反射光学系(200，300，400)を含む再帰反射性シート材において、ｃ）光学要素(205，301，405)の少なくとも１つが回折光学要素であり、ｄ）実質的にあらゆる入射角に対して反射光学要素（205，405）が入射電磁放射線の少なくとも一部を入射する主放射線(chief ray)（204）の方向に沿って反射させ、ｅ）反射光学要素（205，405）が専ら正反射鏡タイプの反射光学要素からできている訳ではないことを特徴とする再帰反射性シート材。２．前記反射光学要素(205)がその後面に反射光学コーティング(207)を施された回折光学要素(206)からなることを特徴とする請求の範囲第１項に記載のシート材。３．前記回折光学要素(206)が透過回折光学要素であることを特徴とする請求の範囲第２項に記載のシート材。４．前記反射光学要素(405)が拡散反射光学要素であることを特徴とする請求の範囲第１項に記載のシート材。５．反射光学要素の中心軸の配向に対する入射側透過光学要素の中心軸の配向を、互いに非平行か、ほぼ平行か、またはほぼ一致するように選択したことを特徴とする請求の範囲第１項に記載のシート材。６．前記入射側透過光学要素が焦点合わせ透過回折光学要素であることを特徴とする請求の範囲第１項に記載のシート材。７．前記回折光学要素が表面レリーフ回折パターンを含むことを特徴とする請求の範囲第１項から第６項までのいずれか１項に記載のシート材。８．複数の光学要素間のスペース、または反射光学要素の回折光学要素と反射コーティングとの間のスペース、またはこの双方のスペースを絶縁性または実質的に絶縁性の材料、例えばガラス、硬質プラスチック、軟質プラスチック、空気、またはこれらの組合わせから成るスペーサ材(202)で構成したことを特徴とする請求の範囲第１項から第７項までのいずれか１項に記載のシート材。９．入射側透過光学要素、反射光学要素、反射光学コーティングを有する回折光学要素、反射光学コーティング、拡散反射光学要素及びスペーサ材の少なくとも１つが単一または複数の色素を含有することを特徴とする請求の範囲第１項から第８項までのいずれか１項に記載のシート材。 10．入射側透過光学要素の前面または反射光学要素の後面、またはこの双方を保護材でコーティングしたことを特徴とする請求の範囲第１項に記載のシート材。 11．少なくとも１つの再帰反射光学系を支持材に固定したことを特徴とする請求の範囲第１項に記載のシート材。 12．２つの回折光学要素から成る請求の範囲第１−11項に記載の少なくとも１つの光学系を含む、再帰反射性シート材の製法において、ａ）第１シート基板に入射側焦点合わせ透過回折光学要素を設け；ｂ）第２シート基板に反射光学要素を設け；ｃ）前記反射回折光学要素が前記入射側焦点合わせ透過光学要素の有効焦点またはその近傍に位置するように第１シート基板を第２シート基板と接合し；そしてｄ）必要に応じて、入射側透過光学要素の前面、または反射光学要素の後面、またはこの双方を保護材でコーティングする、ステップから成る前記製法。 13．前記反射光学要素が反射回折光学要素であることを特徴とする請求の範囲第12項に記載の方法。 14．前記反射光学要素が拡散反射光学要素であることを特徴とする請求の範囲第12項に記載の方法。 15．２つの回折光学要素から成る請求の範囲第１〜11項に記載の少なくとも１つの再帰反射光学系を含む再帰反射性シート材の製法において、ａ）シート基板の第１面に入射側焦点合わせ透過回折光学要素を設け；ｂ）シート基板の反対面に反射光学要素を設け；前記反射回折光学要素が入射焦点合わせ透過回折光学要素の有効焦点またはその近傍に位置するようにし；ｃ）必要に応じて、入射側透過光学要素の前面、または反射光学要素の後面、またはこの双方を保護材でコーティングする、ステップから成る前記製法。 16．前記反射光学要素が回折光学要素であることを特徴とする請求の範囲第15 項に記載の方法。 17．前記反射光学要素が拡散反射光学要素であることを特徴とする請求の範囲第15項に記載の方法。 18．前記シート材の第１面及び反対面に入射側焦点合わせ透過回折光学要素及び反射回折光学要素をそれぞれ同時に設けることを特徴とする請求の範囲第15− 17項のいずれか１項に記載の方法。 19．前記シート材の厚さが入射側焦点合わせ透過回折光学要素の有効焦点距離にほぼ等しいことを特徴とする請求の範囲第15−18項のいずれか１項に記載の方法。 20．入射側透過光学要素及び反射光学要素がシート材の両面に設けた２つの表面レリーフ光学要素から成る請求の範囲第１−11項に記載の少なくとも１つの再帰反射光学系を含むシート材の製法において、ａ）入射側透過光学要素の表面レリーフ回折パターンのマスターホログラムを含む第１エンボスマトリックス（801，803）を作成し；ｂ）反射光学要素の表面レリーフパターンのマスターホログラムを含む第２エンボスマトリックス（802，804）を作成し；ｃ）これら１対の表面レリーフ回折パターンを同時にまたは順次シート材の両面にエンボスする、ステップを含むことを特徴とする前記製法。 21．前記第２エンボスマトリックスの表面レリーフパターンが回折パターンであることを特徴とする請求の範囲第20項に記載の方法。 22．前記第２エンボスマトリックスの表面レリーフパターンが拡散反射パターンであることを特徴とする請求の範囲第20項に記載の方法。 23．前記エンボスステップが１対の表面レリーフパターンをシート基板の両面に同時に熱加工エンボスするステップであることを特徴とする請求の範囲第20〜22項のいずれか１項に記載の方法。 24．前記エンボスステップが連続的なロール間エンボス工程であることを特徴とする請求の範囲第20〜23項のいずれか１項に記載の製法。 25．入射側透過光学要素も反射光学要素も表面レリーフ回折光学要素である請求の範囲第24項に記載の方法において、エンボスステップがエンボスマトリックスまたはシート基板、またはこの双方の位置を制御するステップを更に含むことを特徴とする前記方法。 26．前記位置制御が、ａ）シート基板に位置マーカ(901−906)をエンボスし；ｂ）位置マーカの所定方向相対ずれを測定し；ｃ）測定された位置マーカ相対ずれが所定限界を超えるときはエンボスマトリックス(801〜804)またはシート基板(800)、またこの双方の位置を調整する、ことを含む請求の範囲第25項に記載の方法。 27．前記位置マーカが三角形を呈することを特徴とする請求の範囲第26項に記載の方法。 28．エンボスマトリックスが成形型の一部を形成し、流動熱可塑性プラスチックもしくはUV−もしくは熱硬化プラスチック、またはこれらの適当な前駆物質から成るシート基板を成形することを特徴とする請求の範囲第20〜22項のいずれか１項に記載の製法。 29．照明されると再帰反射現象を呈する例えば道路標識のような標識、ステッカーのような標識、装飾物などの製造を目的とする、請求の範囲第１−11項のいずれか１項に記載の再帰反射性シート材、または請求の範囲第12−14項、15−19 項、20−27項及び第28項のいずれか１項に記載の製法によって製造される反射シート材の使用。