JPH09508984A - オフセット印刷版等の版面を写真製版によって形成するための方法および装置 - Google Patents
オフセット印刷版等の版面を写真製版によって形成するための方法および装置Info
- Publication number
- JPH09508984A JPH09508984A JP7521609A JP52160995A JPH09508984A JP H09508984 A JPH09508984 A JP H09508984A JP 7521609 A JP7521609 A JP 7521609A JP 52160995 A JP52160995 A JP 52160995A JP H09508984 A JPH09508984 A JP H09508984A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plate
- plate making
- making method
- partial image
- image
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 78
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 title claims abstract description 23
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 title claims abstract description 5
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims abstract description 39
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 claims abstract description 27
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 63
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 47
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 16
- 238000013500 data storage Methods 0.000 claims description 8
- 238000012937 correction Methods 0.000 claims description 7
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 6
- 230000006870 function Effects 0.000 claims description 5
- 230000005611 electricity Effects 0.000 claims description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 7
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 230000033458 reproduction Effects 0.000 description 2
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 239000005018 casein Substances 0.000 description 1
- BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N casein, tech. Chemical compound NCCCCC(C(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CC(C)C)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(C(C)O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(COP(O)(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(N)CC1=CC=CC=C1 BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021240 caseins Nutrition 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 229910052573 porcelain Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000001502 supplementing effect Effects 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 238000002211 ultraviolet spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2051—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source
- G03F7/2057—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source using an addressed light valve, e.g. a liquid crystal device
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
Description
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1.特にオフセット印刷版を露光して、該印刷版上に、電子的に記憶された画像 パターンの複製として、写真製版により版面を形成する際に、画像パターンが電 子的な方法で部分画像部に分割され、そして、これら部分画像部の複製が版面上 で再び統合されて画像パターン全体の複製が形成されるように前記部分画像部が 液晶画面上に逐次的に表示されて版面上に複写される製版方法において、 前記部分画像部の情報内容が検索され、この検索結果に基づいて前記部分画像 部が版面上に複写されることを特徴とする製版方法。 2. 請求項1記載の製版方法において、 個々の部分画像部に対して、その画像情報を記憶するための第一のデータ記憶 部とその位置を記憶するための第二のデータ記憶部が割り当てられ、個々の部分 画像部の画像情報に対してその中に画像パターンが含まれているかに関して検索 がなされ、一連の制御データを生成するために、画像パターンを有する画像情報 の記憶されたデータ記憶部のみが、数値制御部にデータを引き渡すために使用さ れることを特徴とする製版方法。 3. 請求項1または請求項2記載の製版方法において、 前記第二のデータ記憶部に記憶された位置情報を検索および分類して、複写さ れる個々の部分画像部間の距離ができるだけ小さくなるような順序で前記データ 記憶部から数値制御部へデータが引き渡されることを特徴とする製版方法。 4. 請求項1から請求項3のいずれかに記載された製版方法において、 版面と液晶画面とを相対的に移動させるために、駆動装置として少なくとも一 つのリニアモータが用いられていることを特徴とする製版方法。 5. 請求項1から請求項4のいずれかに記載された製版方法において、 個々の部分画像部を複写する前に、版面への距離が計測され、設定された値と の誤差が自動的に修正されることを特徴とする製版方法。 6. 請求項1から請求項5のいずれかに記載された製版方法において、 複写を行なうために光源が用いられ、該光源の光量が計測されるとともに、設 定された光量との誤差が自動的に修正されることを特徴とする製版方法。 7. 請求項1から請求項6の少なくとも一つの請求項に記載された製版方法に おいて、 光量に関する修正が、露光時間を変化させることで実施されることを特徴とす る製版方法。 8. 請求項1から請求項7の少なくとも一つの請求項に記載された製版方法に おいて、 光量に関する修正が、光源への電気の供給量を変化させることで実施されるこ とを特徴とする製版方法。 9. 請求項1から請求項8の少なくとも一つの請求項に記載された製版方法に おいて、 液晶画面に対して縮尺を変更して、好ましくは縮小して複写を実施することを 特徴とする製版方法。 10. 請求項1から請求項9の少なくとも一つの請求項に記載された製版方法 において、 部分画像部の位置決めが5ミクロン以下、好ましくは2ミクロン以下の精度で 実施されることを特徴とする製版方法。 11. 請求項1から請求項10の少なくとも一つの請求項に記載された製版方 法において、 複数の部分画像部が同時に複写されることを特徴とする製版方法。 12. 請求項1から請求項11の少なくとも一つの請求項に記載された製版方 法において、 複数の部分画像部の版面に対する相対移動が同期して実施されることを特徴と する製版方法。 13. 請求項1から請求項12の少なくとも一つの請求項に記載された製版方 法において、 同時に露光される二つの部分画像部間の距離が変更可能であることを特徴とす る製版方法。 14. 請求項1から請求項13の一つあるいは複数の請求項に記載された製版 方法において、 光路に対して垂直方向を向く回転軸まわりに回転するシャッターにより、光量 が調節されることを特徴とする製版方法。 15. 請求項1から請求項14の一つあるいは複数の請求項に記載された製版 方法において、 前記部分画像部が、ラスター画像プロセッサを用いて、ラスター走査法により 生成されることを特徴とする製版方法。 16. 請求項1から請求項15の一つあるいは複数の請求項に記載された製版 方法において、 前記部分画像部が互いに重なり合って複写されることを特徴とする製版方法。 17. 光源と、デジタル的に記憶された画像パターンと、特にオフセット印刷 版が好適である版面とを有して構成され、 特にオフセット印刷版を露光して、該印刷版上に、写真製版により版面を形成 する際に、画像パターンが液晶画面(2)上に表示され、光路上に配置された光 学機構(8)により画像パターンが版面(1)上に複写され、画像パターンの露 光構造と前記版面とが少なくとも1つの軸方向において相対移動可能となるよう に形成されている製版装置において、 版面(1)までの距離を計測するとともにこの距離を調節するための計測およ び調節装置(28)が設けられていることを特徴とする製版装置。 18. 請求項17に記載された製版装置において、 光量(17,24)を計測するためのセンサと、光量(30,33)の設定値 との誤差を修正するための制御機構とが設けられていることを特徴とする製版装 置。 19. 請求項17または請求項18記載の製版装置において、 前記制御機構には、露光時間を変化させるための調整装置(30)が設けられ ていることを特徴とする製版装置。 20. 請求項17から請求項19のいずれかに記載された製版装置において、 前記制御機構には、光量を変化させるための調整装置(33)が設けられてい ることを特徴とする製版装置。 21. 請求項17から請求項20のいずれかに記載された製版装置において、 光量を調節するためのシャッター(18)が設けられていることを特徴とする 製版装置。 22. 請求項17から請求項21のいずれかに記載された製版装置において、 前記シャッター(18)が、光路に対してほぼ垂直方向を向く回転軸を有する 回転体(54)として形成されていることを特徴とする製版装置。 23. 請求項17から請求項22のいずれかに記載された製版装置において、 前記回転体(54)が、部分的に、切断部を有する円筒として形成されている ことを特徴とする製版装置。 24. 請求項17から請求項23のいずれかに記載された製版装置において、 前記シャッターの駆動装置(53)として、ブラシ無しの直流モータが用いら れていることを特徴とする製版装置。 25. 請求項17から請求項24のいずれかに記載された製版装置において、 露光ヘッド(9)が、石英ガラスからなる光学部材(6,7,8,44)を有 して構成されていることを特徴とする製版装置。 26. 請求項17から請求項25のいずれかに記載された製版装置において、 光源(4)、画面(2)、および光学機構(8)が露光ヘッド(9)に統合さ れ、移動可能に形成されていることを特徴とする製版装置。 27. 請求項17から請求項26のいずれかに記載された製版装置において、 前記露光ヘッドと前記版面とを相対移動させるために、少なくとも1つの駆動 装置がリニアモータ(34,35,39,40)として形成されていることを特 徴とする製版装置。 28. 請求項17から請求項27のいずれかに記載された製版装置において、 画面(2)に、該画面とは個別に形成された偏光フィルター(16)が付属さ れていることを特徴とする製版装置。 29. 請求項17から請求項28のいずれかに記載された製版装置において、 一つの軸方向上に複数の露光ヘッド(9)が設けられていることを特徴とする 製版装置。 30. 請求項17から請求項29の一つあるいは複数の請求項に記載された製 版装置において、 個々の露光ヘッド(9)には個別のリニアモータ(39,40)が付属し、別 の軸方向に対しては、全ての露光ヘッド(9)のための共通のリニアモータ(3 4,35)が設けられていることを特徴とする製版装置。 31. 請求項17から請求項30の一つあるいは複数の請求項に記載された製 版装置において、 光学機構(8)が、鏡を有する機構として形成されていることを特徴とする製 版装置。 32. 請求項17から請求項31の一つあるいは複数の請求項に記載された製 版装置において、 液晶画面(2)がアクティブ液晶両面として形成されていることを特徴とする 製版装置。 33. 請求項17から請求項32の一つあるいは複数の請求項に記載された製 版装置において、 光路の形成が、鏡により制御可能であることを特徴とする製版装置。 34. 請求項17から請求項33の一つあるいは複数の請求項に記載された製 版装置において、 版面(11)が湾曲して形成されていることを特徴とする製版装置。 35. 請求項17から請求項34の一つあるいは複数の請求項に記載された製 版装置において、 液晶画面(2)が露光シャッターとして機能するように形成されていることを 特徴とする製版装置。 36. 請求項17から請求項35の一つあるいは複数の請求項に記載された製 版装置において、 吸引台として形成された、版面のための保持プレート(13)が設けられてい ることを特徴とする製版装置。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE4405888.8 | 1994-02-21 | ||
| DE4405888 | 1994-02-21 | ||
| PCT/EP1995/000632 WO1995022787A1 (de) | 1994-02-21 | 1995-02-21 | Verfahren und vorrichtung zur photomechanischen herstellung strukturierter oberflächen, insbesondere zum belichten von offsetdruckplatten |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002105748A Division JP3739719B2 (ja) | 1994-02-21 | 2002-04-08 | オフセット印刷版等の版面を写真製版によって形成するための装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09508984A true JPH09508984A (ja) | 1997-09-09 |
| JP3344423B2 JP3344423B2 (ja) | 2002-11-11 |
Family
ID=6511037
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP52160995A Expired - Fee Related JP3344423B2 (ja) | 1994-02-21 | 1995-02-21 | オフセット印刷版等の版面を写真製版によって形成するための方法および装置 |
| JP2002105748A Expired - Lifetime JP3739719B2 (ja) | 1994-02-21 | 2002-04-08 | オフセット印刷版等の版面を写真製版によって形成するための装置 |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002105748A Expired - Lifetime JP3739719B2 (ja) | 1994-02-21 | 2002-04-08 | オフセット印刷版等の版面を写真製版によって形成するための装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6211948B1 (ja) |
| EP (1) | EP0746800B1 (ja) |
| JP (2) | JP3344423B2 (ja) |
| DE (1) | DE59509689D1 (ja) |
| WO (1) | WO1995022787A1 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001179928A (ja) * | 1999-12-28 | 2001-07-03 | Asahi Kasei Corp | シームレスシリンダー印刷版の製造方法、及び製造装置 |
| JP2001188354A (ja) * | 1999-12-28 | 2001-07-10 | Asahi Kasei Corp | 感光性樹脂凸版の製造方法、及びその製造装置 |
| JP2002268230A (ja) * | 2001-03-09 | 2002-09-18 | Asahi Kasei Corp | 感光性樹脂凸版の製造方法、装置 |
| JP2007108559A (ja) * | 2005-10-17 | 2007-04-26 | Nikon Corp | 走査型露光装置及びデバイスの製造方法 |
| US7517211B2 (en) | 2005-12-21 | 2009-04-14 | Asml Netherlands B.V. | Imprint lithography |
| JP2009147380A (ja) * | 2004-12-23 | 2009-07-02 | Asml Netherlands Bv | インプリント・リソグラフィ |
Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19545821A1 (de) * | 1995-12-08 | 1997-06-12 | Friedrich Dipl Ing Luellau | Vorrichtung zum Belichten von Druckplatten |
| EP0914626A4 (en) * | 1996-07-25 | 2002-02-20 | Anvik Corp | EDGE AND MASK LASER LITHOGRAPHY SYSTEM WITH SPATIAL LIGHT MODULATOR |
| EP0845710A1 (de) * | 1996-11-29 | 1998-06-03 | Schablonentechnik Kufstein Aktiengesellschaft | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung einer Druckschablone |
| JP2001507475A (ja) * | 1996-12-31 | 2001-06-05 | リュラオ、フリートリヒ | 露光装置の制御方法 |
| DE19944759A1 (de) * | 1999-09-17 | 2001-03-22 | Basys Print Gmbh Systeme Fuer | Verfahren zur Synchronisation von Positionier- und Belichtungsvorgängen |
| GB0030444D0 (en) * | 2000-12-14 | 2001-01-24 | Secr Defence | Printing by active tiling |
| USRE43841E1 (en) | 2000-12-14 | 2012-12-04 | F. Poszat Hu, Llc | Printing by active tiling |
| GB0114862D0 (en) | 2001-06-19 | 2001-08-08 | Secr Defence | Image replication system |
| US6766740B1 (en) * | 2002-02-21 | 2004-07-27 | Precision Rubber Plate Co., Inc. | Apparatus and method using a UV light collimator to expose a photopolymer plate |
| TW200428158A (en) * | 2003-01-28 | 2004-12-16 | Tadahiro Ohmi | Mask producing method, mask producing apparatus, and mask drawing apparatus |
| WO2006000217A2 (en) * | 2004-06-25 | 2006-01-05 | Esko-Graphics A/S | Method and system for exposing an area according to digital image data |
| DE102006008080A1 (de) * | 2006-02-22 | 2007-08-30 | Kleo Maschinenbau Ag | Belichtungsanlage |
| US20190391495A1 (en) | 2016-12-01 | 2019-12-26 | Agfa Nv | Method of making a lithographic printing plate precursor containing a diazonium compound |
| CN110824860A (zh) * | 2019-11-14 | 2020-02-21 | 南京特斯富电子有限公司 | 一种液晶成像光刻装置 |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS631318Y2 (ja) * | 1979-03-05 | 1988-01-13 | ||
| DE3620017A1 (de) * | 1986-06-13 | 1987-12-17 | Mivatec Gmbh | Fotoplotverfahren und fotoplotter zum belichten eines films |
| DE3817138A1 (de) * | 1987-05-20 | 1988-12-01 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photobildwiedergabeeinheit, einrichtung und verfahren zur herstellung von bildteilabzuegen |
| JPS645017A (en) * | 1987-06-29 | 1989-01-10 | Shimadzu Corp | Projection aligner |
| US4769680A (en) * | 1987-10-22 | 1988-09-06 | Mrs Technology, Inc. | Apparatus and method for making large area electronic devices, such as flat panel displays and the like, using correlated, aligned dual optical systems |
| DE3813398A1 (de) * | 1988-04-21 | 1989-11-02 | Heidelberger Druckmasch Ag | Verfahren und einrichtung zur erzeugung eines latenten bildes auf einer lichtempfindlichen beschichtung einer offset-druckplatte |
| JP2571824B2 (ja) * | 1988-06-20 | 1997-01-16 | 富士写真フイルム株式会社 | 焼込合成の位置合わせ方法 |
| JPH02237011A (ja) * | 1989-03-09 | 1990-09-19 | Mitsubishi Electric Corp | 縮小投影型露光装置用レチクル,縮小投影型露光装置,大規模集積回路製造法及び大規模集積回路 |
| AU7166291A (en) * | 1989-12-22 | 1991-07-24 | Manufacturing Sciences, Inc. | Programmable masking apparatus |
| JP2701183B2 (ja) * | 1991-08-09 | 1998-01-21 | 株式会社小松製作所 | 液晶マスク式レーザマーカ |
| JPH0619106A (ja) * | 1992-07-01 | 1994-01-28 | Toppan Printing Co Ltd | 画像露光方法及び画像露光装置 |
-
1995
- 1995-02-21 DE DE59509689T patent/DE59509689D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1995-02-21 US US08/700,505 patent/US6211948B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-02-21 JP JP52160995A patent/JP3344423B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1995-02-21 EP EP95909763A patent/EP0746800B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1995-02-21 WO PCT/EP1995/000632 patent/WO1995022787A1/de not_active Ceased
-
2002
- 2002-04-08 JP JP2002105748A patent/JP3739719B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001188354A (ja) * | 1999-12-28 | 2001-07-10 | Asahi Kasei Corp | 感光性樹脂凸版の製造方法、及びその製造装置 |
| JP2001179928A (ja) * | 1999-12-28 | 2001-07-03 | Asahi Kasei Corp | シームレスシリンダー印刷版の製造方法、及び製造装置 |
| JP2002268230A (ja) * | 2001-03-09 | 2002-09-18 | Asahi Kasei Corp | 感光性樹脂凸版の製造方法、装置 |
| US8131078B2 (en) | 2004-12-23 | 2012-03-06 | Asml Netherlands B.V. | Imprint lithography |
| JP2012227555A (ja) * | 2004-12-23 | 2012-11-15 | Asml Netherlands Bv | インプリント・リソグラフィ |
| JP2009147380A (ja) * | 2004-12-23 | 2009-07-02 | Asml Netherlands Bv | インプリント・リソグラフィ |
| US7636475B2 (en) | 2004-12-23 | 2009-12-22 | Asml Netherlands B.V. | Imprint lithography |
| JP2010010708A (ja) * | 2004-12-23 | 2010-01-14 | Asml Netherlands Bv | インプリント・リソグラフィ |
| US7676088B2 (en) | 2004-12-23 | 2010-03-09 | Asml Netherlands B.V. | Imprint lithography |
| JP2012049569A (ja) * | 2004-12-23 | 2012-03-08 | Asml Netherlands Bv | インプリント・リソグラフィ |
| JP2007108559A (ja) * | 2005-10-17 | 2007-04-26 | Nikon Corp | 走査型露光装置及びデバイスの製造方法 |
| US8100684B2 (en) | 2005-12-21 | 2012-01-24 | Asml Netherlands B.V. | Imprint lithography |
| US7517211B2 (en) | 2005-12-21 | 2009-04-14 | Asml Netherlands B.V. | Imprint lithography |
| US8753557B2 (en) | 2005-12-21 | 2014-06-17 | Asml Netherlands B.V. | Imprint lithography |
| US9610727B2 (en) | 2005-12-21 | 2017-04-04 | Asml Netherlands B.V. | Imprint lithography |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO1995022787A1 (de) | 1995-08-24 |
| JP2002372791A (ja) | 2002-12-26 |
| JP3739719B2 (ja) | 2006-01-25 |
| DE59509689D1 (de) | 2001-11-15 |
| EP0746800A1 (de) | 1996-12-11 |
| EP0746800B1 (de) | 2001-10-10 |
| US6211948B1 (en) | 2001-04-03 |
| JP3344423B2 (ja) | 2002-11-11 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3344423B2 (ja) | オフセット印刷版等の版面を写真製版によって形成するための方法および装置 | |
| CA1087427A (en) | Continuously variable reduction copier optics systems | |
| CA1082015A (en) | Continuously variable reduction scanning optics drive | |
| US4582768A (en) | Method for forming register marks | |
| US4551005A (en) | Method of forming images of sensor patterns in effecting image density control of electrophotographic copying apparatus | |
| CA2275625C (en) | Method and apparatus for controlling a photomechanical exposure device | |
| US3640615A (en) | Xerographic reproducing apparatus | |
| US4435076A (en) | Projected image positioning method and apparatus for photographic enlarger | |
| JPH045987B2 (ja) | ||
| US4908664A (en) | Image forming apparatus | |
| RU2178907C2 (ru) | Система для переноса преобразованных в цифровую форму изображений на чувствительную основу | |
| US4860060A (en) | Microfiche printing system and method | |
| US4897688A (en) | Document imaging system with bi-directional anamorphic magnification capability | |
| JP2509688B2 (ja) | レイアウトプリンタ | |
| JPH01502806A (ja) | 光学プリントヘッドの焦点合わせ | |
| GB2159300A (en) | A method of and apparatus for producing reduced and/or enlarged reproduction images | |
| JP4506257B2 (ja) | 電子製版機 | |
| JPH0617133Y2 (ja) | 複写機の情報付加装置 | |
| JPH06214311A (ja) | 画像露光装置 | |
| JP3280443B2 (ja) | 画像露光装置 | |
| JPH01135262A (ja) | フィルム画像の読取り装置 | |
| JPS613130A (ja) | 複写機原稿台の複写可能範囲表示装置 | |
| JP2001047660A (ja) | 画像記録装置 | |
| JPS6122332A (ja) | 画像記録装置 | |
| JPS62220944A (ja) | 複写機の自動焦点調節装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080830 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090830 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100830 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100830 Year of fee payment: 8 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100830 Year of fee payment: 8 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100830 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110830 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110830 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120830 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120830 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120830 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130830 Year of fee payment: 11 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |