JPH09511193A - 炭素−被覆された高エネルギー表面を有する遮断フィルム - Google Patents

炭素−被覆された高エネルギー表面を有する遮断フィルム

Info

Publication number
JPH09511193A
JPH09511193A JP7525696A JP52569695A JPH09511193A JP H09511193 A JPH09511193 A JP H09511193A JP 7525696 A JP7525696 A JP 7525696A JP 52569695 A JP52569695 A JP 52569695A JP H09511193 A JPH09511193 A JP H09511193A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
high energy
energy surface
carbon
plasma
nylon layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
JP7525696A
Other languages
English (en)
Inventor
ワグナー,ジョン・ラルフ,ジュニアー
マウント,エルドリッジ・ミルフォード,ザ・サード
Original Assignee
モービル・オイル・コーポレーション
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by モービル・オイル・コーポレーション filed Critical モービル・オイル・コーポレーション
Publication of JPH09511193A publication Critical patent/JPH09511193A/ja
Ceased legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/12Chemical modification
    • C08J7/123Treatment by wave energy or particle radiation
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B9/00Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05DPROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D3/00Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
    • B05D3/06Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to radiation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04Coating
    • C08J7/043Improving the adhesiveness of the coatings per se, e.g. forming primers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04Coating
    • C08J7/048Forming gas barrier coatings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04Coating
    • C08J7/06Coating with compositions not containing macromolecular substances
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/02Pretreatment of the material to be coated
    • C23C16/0272Deposition of sub-layers, e.g. to promote the adhesion of the main coating
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/22Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
    • C23C16/26Deposition of carbon only
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31725Of polyamide
    • Y10T428/31728Next to second layer of polyamide
    • Y10T428/31732At least one layer is nylon type
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31725Of polyamide
    • Y10T428/31736Next to polyester
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31725Of polyamide
    • Y10T428/31739Nylon type
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31725Of polyamide
    • Y10T428/31739Nylon type
    • Y10T428/31743Next to addition polymer from unsaturated monomer[s]
    • Y10T428/31746Polymer of monoethylenically unsaturated hydrocarbon

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)

Abstract

(57)【要約】 炭素被覆重合体フィルムは、プラズマ強化化学蒸着によって製造される。少なくとも1つの露出高エネルギー表面を有する非晶質ナイロン層を重合体基体へ接着する。その後、プラズマの存在下で分解性先駆体を蒸着することによって炭素を露出高エネルギー表面上に付着させる。

Description

【発明の詳細な説明】 炭素−被覆された高エネルギー表面を有する遮断フィルム 本発明は、遮断フィルム、特に炭素被覆を施すための少なくとも1つの露出高 エネルギー表面を有する遮断フィルムに関する。 炭素被覆は特定の遮断特性をもたらすことが知られている。例えば、炭素被覆 は水および酸素のような成分の透過を妨げることができる。従って、炭素被覆は 、これらの遮断特性を持たない基体(例えば、重合体フィルム)に一般に施され る。そのような炭素被覆を有するフィルムはしばしば遮断フィルムと呼ばれる。 炭素被覆は様々な技術によって基体へ付着させることができる。1つの好まし い技術はプラズマ強化化学蒸着(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition :PECVD)であり、これは炭素を重合体フィルムのような温度の低い基体上 へ付着させるものである。特に、この技術は、他の付着法で必要とされる反応室 温度と較べて、より低い反応室温度で炭素を付着させることができる。その結果 、より低い反応室温度で炭素を低温の基体へ付着させることができる。 しかしながら、PECVD法は進行が比較的遅く、時間がかかり、多くの場合 そのような技術は商業的に実施不可能となる。従って、PECVD遮断フィルム の製造速度を上げ、同時に、炭素被覆基体の望ましい遮断性を維持する方法が、 当業界では望まれている。 本技術分野の需要に取り組む本発明は、遮断性を有する重合体フィルムの製造 方法を提供するものである。この方法は、プラズマの存在下で分解性先駆体を蒸 着することによって、炭素被覆を非晶質ナイロン層の露出高エネルギー表面上に 付着させる工程を含む。 好ましくは、非晶質ナイロン層を重合体基体へ接着させる。その後、炭素を、 好ましくは2つの周波数条件下で、PECVDによって露出高エネルギー表面上 に付着させる。 本方法は好ましくは、約13.5MHzの第1の周波数を反応室内に配置され た第1の電極に加えてプラズマを発生させ、そして90〜450KHzの第2の 周波数を反応室内に配置された第2の電極に加えて炭素被覆の露出高エネルギー 表面上への付着を容易にする工程を含む。 本発明はまた、遮断フィルムの製造速度を上げる方法を提供する。本方法は、 少なくとも1つの露出高エネルギー表面を有する非晶質ナイロン層を重合体基体 へ接着する工程を含む。本方法は、プラズマの存在下で分解性先駆体を蒸着する ことによって、炭素被覆を露出高エネルギー表面上に付着させる追加工程を含む 。 本発明はまた、遮断特性を有する重合体フィルムを提供するものである。フィ ルムは、プラズマの存在下で分解性先駆体を蒸着することによって、炭素被覆を 非晶質ナイロン層の露出高エネルギー表面上に付着させる方法により製造される 。非晶質ナイロン層は重合体基体へ接着させるのが好ましい。 本発明によると、炭素被覆重合体フィルムの製造に必要な時間が大幅に短縮さ れ、これによって、PECVD技術の商業的な実用性が高まる。さらに、得られ たフィルムは酸素および水の透過に対して改善された遮断層となる。 本発明の方法により、遮断特性を有する重合体フィルムの製造方法が提供され る。本方法は、プラズマの存在下で分解性先駆体を蒸着することによって、炭素 被覆を重合体層の露出高エネルギー表面上に付着させる工程を含む。 好ましい態様の1つでは、非晶質ナイロン層を重合体基体へ接着させる。ナイ ロン層の露出面は、上記高エネルギー表面を提供する。付着炭素を受け入れるの がこの高エネルギー表面である。 非晶質ナイロン層は当業界で公知の様々な技術によって、基体へ接着させうる 。例えば、ナイロン層は接着剤を使用することによって重合体基体へ積層させう る。ナイロン層を重合体基体へ固定する特に好ましい方法の1つは、重合体材料 を非晶質ナイロンと共に同時押し出しし、これによって少なくとも一方の面に非 晶質ナイロン層を有する重合体基体を得るものである。一般に、結束層を用いて 、非晶質ナイロンを重合体基体へ接着させる。例えば、無水リンゴ酸で変性した ポリプロピレンのような材料を結束層として用いることができる。そのような市 販製品の1つはAtmer QF−500Aである。 本発明で用いられる非晶質ナイロンは、好ましくはヘキサメチレンジアミンお よびイソフタル酸とテレフタル酸との混合物に基づく非晶質コポリアミドである 。 そのような市販製品はデュポン社のPA−3426である。 非晶質ナイロン層は、これに付着させる炭素の接着を容易にすると考えられる 高エネルギー表面を提供する。特に、非晶質ナイロンの露出面は、他の重合体と 較べて、高い”湿潤性”を示す。湿潤性は、材料が別の材料へ緊密に接触する力 に影響を及ぼすと考えられる。この点においては、高エネルギー表面を有する重 合体層(例えば、非晶質ナイロン)の重合体基体への適用は、PECVDによる 炭素被覆の付着に要する時間を大幅に短縮することが、ここで証明された。従っ て、同様な湿潤性を示す他の重合体も、炭素被覆を受け入れるための高エネルギ ー表面を提供するのに有効であると考えられる。 本発明において考えられる重合体基体の例は、ポリプロピレン、ポリエチレン 、2軸延伸ナイロンおよびポリエステルである。しかしながら、基体が高エネル ギー表面を有する材料と適合性である限り、そのような他の基体を本発明におい て用いることができると考えられる。 本発明はまた、遮断フィルムの製造速度を上げる方法を提供するものである。 本方法は、少なくとも1つの露出高エネルギー表面を有する重合体層を重合体基 体へ接着する工程、そして、その後、プラズマの存在下で分解性先駆体を蒸着す ることによって、炭素被覆を露出高エネルギー表面上に付着させる工程を含む。 また、この重合体層は非晶質ナイロンであるのが好ましい。 前に記載したように、炭素被覆は分解性先駆体の付着によって形成される。1 〜20個の炭素を有する炭化水素ガスを分解性先駆体として用いる。アセチレン はそのような好ましい先駆体ガスの1つである。 分解性先駆体をプラズマに導入すると、先駆体ガスは分解し、その後、露出高 エネルギー表面上に非晶質炭素層として付着する。この炭素被覆の厚さは10〜 5000オングストロームである。非晶質炭素被覆の厚さは、主に付着を行う時 間によって変わる。 本発明におけるプラズマは、第1無線周波数を第1電極へ加えることによって 発生する。この無線周波数は室を通過するガス混合物を励起し、これによってプ ラズマが形成される。このガス混合物は好ましくは、アセチレンのような上記先 駆体ガスとアルゴンのような不活性ガスとの混合物である。 PECVDに適した装置は市販されている。そのような装置には、基体を収容 する大きさの室が一般に含まれる。装置にはさらに、室の排気を行うための真空 ポンプ、制御条件下でガス混合物を室へ導入するための手段、および室内でプラ ズマを発生させるための手段が含まれる。 特に好ましい態様の1つでは、プラズマ発生手段は間隔をあけて配置された( distally spaced)第1および第2電極を含み、これらを用いて反応室へ独立し た2つのエネルギー源を導入することができる。約13.56MHzの第1無線 周波数を第1電極へ、約90〜450KHzの第2無線周波数を第2電極へ加え る。室は両方の無線周波数に対する接地用導体(アース)として働くのが好まし い。 第1周波数は(ガス混合物の励起によって)プラズマを発生し、一方、第2周 波数は、付着させる炭素分子を励起することによって炭素の高エネルギー表面上 への付着を容易にすると考えられる。この理論的解釈は、この第2無線周波数を 加えた時に目に見えるプラズマ変化が観察される事実によって支持される。 他のプラズマ発生手段も考えられる。例えば、約2.45GHzの第1無線周 波数を電極に加えることができる。さらに、レーザーまたは磁界を用いてガス混 合物を励起することもできる。 室はまた、被覆される重合体基体を支持するための基体ホルダープレートを含 む。この基体ホルダープレートは第2電極と一体になっているのが好ましい。さ らに、基体ホルダープレートの支持面は平らでもアーチ状であってもよい。アー チ状の支持面を用いると、本発明の商業生産が容易になる。 次の実施例で本発明を説明する。実施例1 2つの対照フィルムを製造した。ほぼ長さ11″×幅15.5″の、厚さが1 ミルの延伸ポリプロピレンフィルムを、第2電極に取り付けた長さ10″×幅1 5.5″の基体ホルダープレート上に置いた。基体ホルダープレートのアーチ状 表面の曲率半径は40″であった。フィルムはその長さに沿って基体ホルダープ レートから突き出て、ホルダーに固定される。 室をポンプ操作で約1ミリトルに下げた。次に、アセチレン/アルゴンガス混 合物を100sccmの流量で室へ導入した。混合物の70%はアセチレンであ った。室内の圧力を、真空ポンプの入り口にあるゲートバルブを用いることによ って約100ミリトルの反応圧に上げた。100ワットの電圧レベルで13.5 MHzの第1周波数を第1電極へ加え、25ワットで95KHzの第2周波数を 第2電極へ加えた。 基体を約300秒間被覆した。その後、ガス混合物を止め、室を再びポンプ操 作により約1ミリトルに下げた。次に、乾燥窒素ガス中でブリードすることによ って室の真空を破り、被覆された基体を取り出した。 その後、2つの対照フィルムを試験した。第1対照フィルムの酸素透過率(T O2)は23℃および相対湿度0%で0.4ccO2/100in2/気圧/24 時間であり、水蒸気透過率(WVTR)は100°Fおよび相対湿度90%で0 .02gH2O/100in2/気圧/24時間であった。第2対照フィルムの酸 素透過率は23℃および相対湿度0%で0.6ccO2/100in2/気圧/2 4時間であり、水蒸気透過率は100°Fおよび相対湿度90%で0.09gH2 O/100in2/気圧/24時間であった。 従って、平均対照酸素透過率は23℃および相対湿度0%で0.5ccO2/ 100in2/気圧/24時間であり、そして平均対照水蒸気透過率は100° Fおよび相対湿度90%で0.055gH2O/100in2/気圧/24時間で あった。実施例2 非晶質ナイロンとポリプロピレンとをベースシートへと同時押し出しし、これ をその後2軸延伸することによって、本発明による遮断フィルムを製造した。デ ュポン社のナイロンPA−3426の樹脂ペレットを、Atmer QF−50 0Aの結束層と共に用いた。延伸フィルムの厚さはほぼ1ミルであり、非晶質ナ イロン層はフィルム全体の厚さの約6%、すなわち0.06ミルであった。 ほぼ長さ11″×幅15.5″の重合体試料を、実施例1に記載のように第2 電極に取り付けられた基体ホルダープレート上に置いた。 室をポンプ操作によって約1ミリトルに下げた。次に、アセチレン/アルゴン ガス混合物を60sccmの流量で室へ導入した。混合物のほぼ83%はアセチ レンであった。室内の圧を、真空ポンプの入り口にあるゲートバルブを用いるこ とによって約100ミリトルの反応圧に上げた。100ワットで13.5MHz の第1周波数を第1電極へ加え、25ワットで95KHzの第2周波数を第2電 極へ加えた。 基体を約60秒間被覆した。その後、ガス混合物を締め出し、室を再びポンプ 操作により約1ミリトルに下げた。次に、乾燥窒素ガス中でブリードすることに よって室の真空を破り、被覆された基体を取り出した。 その後、重合体試料を試験した。試料フィルムの酸素透過率は23℃および相 対湿度0%で0.42ccO2/100in2/気圧/24時間であり、水蒸気透 過率は100°Fおよび相対湿度90%で0.024gH2O/100in2/気 圧/24時間であった。 追加の重合体試料を様々な試験条件下で製造した。全重合体試料、すなわち試 料1〜8の測定結果を次表に示す。 上記の試験データから、炭素を非晶質ナイロン層の露出高エネルギー表面上へ 付着させることによって遮断フィルムを製造しうることが容易に認められる。そ のような遮断フィルムの製造速度を約10倍にすることができること、すなわち 、被覆時間が約300秒から約15〜60秒に短縮されることは、特に重要なこ とである。得られたフィルムは著しく減少した酸素透過率を示すと同時に、水分 透過率レベルを改善するかまたは最少限に維持することも重要なことである。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1. 露出高エネルギー表面上に炭素被覆を付着させた非晶質ナイロン層を含み 、該被覆はプラズマの存在下で分解性先駆体を蒸着することによって形成しうる 、遮断性を有する重合体フィルム。 2. ナイロン層が重合体基体に接着されているか、あるいは重合体基体と共に 同時押し出しされている、請求項1に記載の重合体フィルム。 3. プラズマの存在下で分解性先駆体を蒸着することによって、炭素被覆を非 晶質ナイロン層の露出高エネルギー表面上に付着させることを含んでなる、遮断 性を有する重合体フィルムの製造方法。 4. 付着を2つの周波数条件下で行う、請求項3に記載の方法。 5. 付着工程が、第1の無線周波数を反応室内に配置された第1の電極に加え てプラズマを発生させ、そして90〜450KHzの第2の周波数を反応室内に 配置された第2の電極に加えて炭素被覆の露出高エネルギー表面上への付着を容 易にすることを含む、請求項3または4に記載の方法。 6. 第2電極が基体ホルダープレートを含み、そして露出高エネルギー表面上 に炭素被覆を受けるために非晶質ナイロン層が基体ホルダー上に配置される、請 求項3、4または5に記載の方法。 7. 分解性先駆体が1〜20個の炭素原子を含む炭化水素よりなる、請求項1 〜6のいずれかに記載の方法。 8. 炭化水素がアセチレンよりなる、請求項7に記載の方法。 9. プラズマの存在下で分解性先駆体を蒸着することによって形成しうる付着 炭素被覆を含む、遮断性を有する重合体フィルムの製造速度を上げるための、露 出高エネルギー表面上に炭素被覆を付着させた非晶質ナイロン層の使用。
JP7525696A 1994-04-01 1995-02-22 炭素−被覆された高エネルギー表面を有する遮断フィルム Ceased JPH09511193A (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US221,620 1988-07-20
US22162094A 1994-04-01 1994-04-01
PCT/US1995/002799 WO1995026879A1 (en) 1994-04-01 1995-02-22 Barrier films having carbon-coated surfaces

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH09511193A true JPH09511193A (ja) 1997-11-11

Family

ID=22828582

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP7525696A Ceased JPH09511193A (ja) 1994-04-01 1995-02-22 炭素−被覆された高エネルギー表面を有する遮断フィルム

Country Status (12)

Country Link
US (1) US5672383A (ja)
EP (1) EP0755327A4 (ja)
JP (1) JPH09511193A (ja)
KR (1) KR970702152A (ja)
CN (1) CN1144503A (ja)
AU (1) AU2116395A (ja)
CA (1) CA2183664A1 (ja)
NZ (1) NZ283189A (ja)
SG (1) SG44616A1 (ja)
TW (1) TW357198B (ja)
WO (1) WO1995026879A1 (ja)
ZA (1) ZA951795B (ja)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE69624504T2 (de) 1995-12-01 2003-06-26 E.I. Du Pont De Nemours And Co., Wilmington Diamantartige kohlenstoffbeschichtete aramidfasern mit verbesserten mechanischen eigenschaften
EP0876528B1 (en) * 1995-12-01 2002-10-02 E.I. Du Pont De Nemours And Company Capacitively coupled rf diamond-like-carbon reactor
DE19826259A1 (de) 1997-06-16 1998-12-17 Bosch Gmbh Robert Verfahren und Einrichtung zum Vakuumbeschichten eines Substrates
US6893720B1 (en) 1997-06-27 2005-05-17 Nissin Electric Co., Ltd. Object coated with carbon film and method of manufacturing the same
WO2011151374A1 (en) 2010-06-03 2011-12-08 Cryovac, Inc. Plate and apparatus for forming a plastic material flanged hollow article

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3663265A (en) * 1970-11-16 1972-05-16 North American Rockwell Deposition of polymeric coatings utilizing electrical excitation
JPS5518403A (en) * 1978-07-25 1980-02-08 Toshiba Corp Formation of organic thin film
US4633183A (en) * 1985-02-28 1986-12-30 Hayes Microcomputer Products, Inc. Constant resolution frequency synthesizer
US4675206A (en) * 1985-04-19 1987-06-23 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Process for the production of a surface-coated article
US4756964A (en) * 1986-09-29 1988-07-12 The Dow Chemical Company Barrier films having an amorphous carbon coating and methods of making
US5000831A (en) * 1987-03-09 1991-03-19 Minolta Camera Kabushiki Kaisha Method of production of amorphous hydrogenated carbon layer
US5230931A (en) * 1987-08-10 1993-07-27 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Plasma-assisted cvd of carbonaceous films by using a bias voltage
US4824699A (en) * 1987-08-21 1989-04-25 Minnesota Mining And Manufacturing Company Process for improved adhesion to semicrystalline polymer film
US4911963A (en) * 1987-08-31 1990-03-27 Viskase Corporation Multilayer film containing amorphous nylon
DE3733135C1 (de) * 1987-10-01 1988-09-22 Leybold Ag Vorrichtung zum Beschichten oder AEtzen mittels eines Plasmas
US5137780A (en) * 1987-10-16 1992-08-11 The Curators Of The University Of Missouri Article having a composite insulative coating
US4826955A (en) * 1988-01-21 1989-05-02 Allied-Signal Inc. Amorphous copolyamide article of manufacture with moisture-insensitive oxygen barrier properties
US4902378A (en) * 1988-04-27 1990-02-20 Minnesota Mining And Manufacturing Company Polymer with reduced internal migration
US5041201A (en) * 1988-09-16 1991-08-20 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Plasma processing method and apparatus
DE3843098A1 (de) * 1988-12-21 1990-06-28 Technics Plasma Gmbh Verfahren und vorrichtung zur kunststoffbeschichtung von strangprofilen
US5175238A (en) * 1989-07-21 1992-12-29 Amoco Corporation Polyamide having improved gas barrier properties from adipic acid, isophthalic acid and m-xylylene diamine
ATE153912T1 (de) * 1991-12-11 1997-06-15 Mobil Oil Corp Hoch sperrender film

Also Published As

Publication number Publication date
TW357198B (en) 1999-05-01
CN1144503A (zh) 1997-03-05
AU2116395A (en) 1995-10-23
WO1995026879A1 (en) 1995-10-12
KR970702152A (ko) 1997-05-13
NZ283189A (en) 1997-12-19
EP0755327A1 (en) 1997-01-29
SG44616A1 (en) 1997-12-19
CA2183664A1 (en) 1995-10-12
ZA951795B (en) 1996-09-03
EP0755327A4 (en) 1998-04-08
US5672383A (en) 1997-09-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3330143B2 (ja) 低温プラズマおよび電着を使用した金属被覆方法
Deshmukh et al. The mechanism of adhesion and printability of plasma processed PET films
AU705485B2 (en) Barrier films having vapor coated EVOH surfaces
JPS6117907B2 (ja)
JPH02178630A (ja) ポリイミド薄膜の製法及びその装置
JPH09511193A (ja) 炭素−被覆された高エネルギー表面を有する遮断フィルム
EP0763144B1 (en) Production of carbon-coated barrier films with increased concentration of carbon with tetrahedral coordination
JPH1126155A (ja) エレクトロルミネッセンス素子用保護フィルム
KR20010013156A (ko) 플라즈마를 이용한 재료 표면에의 고분자 중합막 합성방법
WO2000048749A1 (en) Method for adhering laminate structures
US5560800A (en) Protective coating for pressure-activated adhesives
JPS62132940A (ja) 高分子基材へのプラズマ重合薄膜形成方法
WO1997037053A1 (en) Barrier films having vapor coated high energy surfaces
JPH04103777A (ja) カーボン硬質膜を形成した基材
JP3333640B2 (ja) ポリイミドフィルムの接着性改善方法及び接着性を改善したポリイミドフィルム
JPS6362093B2 (ja)
JPS59223731A (ja) 合成樹脂成形品表面への金属薄膜形成方法及び成形品
JP2000349084A (ja) 半導体基板上のシリコン重合体絶縁膜及びその膜を形成する方法
CA2249394C (en) Barrier films having vapor coated evoh surfaces
JPH049470A (ja) プラズマ重合絶縁膜の製造方法
JP2625154B2 (ja) プラズマ重合による基体表面コーティング法
JPH01304130A (ja) フッ化オレフイン重合体成形物の表面処理方法
JP2004010741A (ja) 撥水性被膜の形成方法および該方法で形成される撥水性被膜
JP2530694B2 (ja) 光学記録ディスク用反射膜の製造方法
CN1041189A (zh) 等离子体处理方法和设备

Legal Events

Date Code Title Description
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20041109

A045 Written measure of dismissal of application [lapsed due to lack of payment]

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A045

Effective date: 20050329