JPH09512281A

JPH09512281A - アルキルスルフィニル及びアルキルスルホニル−１，２，４−チアジアゾリルオキシアセトアミド及びその除草剤としての使用

Info

Publication number: JPH09512281A
Application number: JP7527963A
Authority: JP
Inventors: フエルスター，ハインツ; ザンテル，ハンス−ヨアヒム; ドリンガー，マルクス
Original assignee: バイエル・アクチエンゲゼルシヤフト
Priority date: 1994-05-02
Filing date: 1995-04-19
Publication date: 1997-12-09
Also published as: CN1151738A; DE59509781D1; DE4415338A1; EP0758326A1; AU2406995A; CN1073561C; WO1995029905A1; EP0758326B1; KR100369704B1; US5827800A

Abstract

(57)【要約】本発明はｎが１または２の数であり、Ｒ¹が水素または可能であれば置換されていてもよいアルキル、アルケニル、アルキニルもしくはアラルキルであり、Ｒ²が可能であれば置換されていてもよいアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、アラルキル、アリール、アルコキシ、アルケニルオキシまたはアルキニルオキシであるか、或いはＲ¹及びＲ²がこれらのものが結合する窒素原子と一緒になって他のヘテロ原子を含んでいてもよく、かつヘンゾ基に融合されていてもよい可能であれば置換されていてもよい、飽和もしくは不飽和の窒素複素環を形成し、そしてＲ³が可能であれば置換されていてもよいアルキル、アリールまたはアリールアルキルである式（Ｉ）の新規なアルキルスルフィニル及びアルキルスルホニル−１，２，４−チアジアゾリルオキシアセトアミド（ここにある種の従来の個々の化合物は除く）、並びにまた新規な化合物を製造するための方法及び新規な中間体生成物並びにその除草剤としての使用に関する。

Description

【発明の詳細な説明】アルキルスルフィニル及びアルキルスルホニル−１，２，４−チアジアゾリルオキシアセトアミド及びその除草剤としての使用本発明は新規なアルキルスルフィニル−及びアルキルスルホニル−１，２，４ −チアジアゾリルオキシアセトアミド、その製造に対する方法及び新規な中間体並びにその除草剤としての使用に関する。ある種のアルキルスルフィニル−及びアルキルスルホニル−１，２，４−チアジアゾリルオキシアセトアミド例えばＮ−イソプロピル−α−（３−メチルスルフィニル−１，２，４−チアジアゾル−５−イル−オキシ）−アセトアニリドが除草特性を示すことは既に開示されている（例えばヨーロッパ特許出願公開第３４８，７３７号及び先に出願されているが未だ公開されていない１９９３年５月２５日付け、ドイツ国特許出願第４，３１７，３２３号参照）。しかしながら、これらの先に開示された化合物の活性は殊に低い施用割合及び濃度で全ての施用の分野において完全には満足されない。１９９３年５月２５日付け、ドイツ国特許出願第４，３１７，３２３号参照の化合物Ｎ−イソプロピル−α−（３−メチルスルフィニル−１，２，４−チアジアゾル−５−イル−オキシ）−アセトアニリド、Ｎ−イソプロピル−α−（３− メチルスルホニル−１，２，４−チアジアゾル−５−イル−オキシ）−アセトアニリド、Ｎ−イソプロピル−α−（３ーエチルスルフィニル−１，２，４−チアジアゾル−５−イル−オキシ）−アセトアニリド、Ｎ−イソプロピル−α−（３ −エチルスルホニル−１，２，４−チアジアゾル−５−イル−オキシ）−アセトアニリド、Ｎ−イソプロピル−α−（３−プロピルスルフィニル−１，２，４− チアジアゾル−５−イル−オキシ）−アセトアニリド、Ｎ−イソプロピル−α−（３ −プロピルスルホニル−１，２，４−チアジアゾル−５−イル−オキシ）−アセトアニリド並びにまた化合物Ｎ−メチル−Ｎ−（４−フルオロ−フェニル）−α −（３−メチルスルフィニル−１，２，４−チアジアゾル−５−イル−オキシ） −アセトアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−（４−フルオロ−フェニル）−α−（３−メチルスルホニル−１，２，４−チアジアゾル−５−イル−オキシ）−アセトアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−（４−フルオロ−フェニル）−α−（３−エチルスルホニル−１，２，４−チアジアゾル−５−イル−オキシ）−アセトアミド、Ｎ−エチル−Ｎ−（４−フルオロ−フェニル）−α−（３−メチルスルフィニル−１，２，４−チアジアゾル−５−イル−オキシ）−アセトアミド、Ｎ−エチル−Ｎ−（４−フルオロ−フェニル）−α−（３−メチルスルホニル−１，２，４−チアジアゾル−５−イル−オキシ）−アセトアミド及びＮ−エチル−Ｎ−（４−フルオロ−フェニル）−α−（３−エチルスルホニル−１，２，４−チアジアゾル−５ −イル−オキシ）−アセトアミドを除いた、一般式（Ｉ）式中、ｎは１または２の数を表わし、Ｒ¹は水素を表わすか、或いは各々の場合に随時置換されていてもよいアルキル、アルケニル、アルキニルまたはアラルキルを表わし、Ｒ²は各々の場合に随時置換されていてもよいアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、アラルキル、アリール、アルコキシ、アルケニルオキシまたはアルキニルオキシを表わすか、或いはＲ¹及びＲ²はこれらのものが結合する窒素原子と一緒になって更にヘテロ原子を含むことができ、かつこのものにベンゾ基を融合させ得る随時置換されていてもよい、飽和もしくは不飽和の窒素複素環を形成し、そしてＲ³は各々の場合に随時置換されていてもよいアルキル、アリールまたはアリールアルキルを表わす、の新規なアルキルスルフィニル−及びアルキルスルホニル−１，２，４−チアジアゾリルオキシアセトアミドが見い出された。加えて、一般式（Ｉ）の新規なアルキルスルフィニル−及びアルキルスルホニル−１，２，４−チアジアゾリルオキシアセトアミドは（ａ）一般式（II）式中、Ｘはハロゲンまたは基−Ｓ(Ｏ)_n−Ｒ³を表わし、そしてｎ及びＲ³は上記の意味を有する、の１，２，４−チアジアゾール誘導体を適当ならば希釈剤の存在下、適当ならば酸結合剤の存在下及び適当ならば触媒の存在下で一般式（III）式中、Ｒ¹及びＲ²は上記の意味を有する、のヒドロキシアセトアミドと反応させるか、或いは（ｂ）一般式（IV）式中、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は請求の範囲第１項記載の意味を有する、のアルキル（アリール−、アラルキル−）チオ−１，２，４−チアジアゾリルオキシアセトアミドを適当ならば触媒の存在下及び適当ならば希釈剤の存在下で酸化剤と反応させる場合に得られることが見い出された。最後に、一般式（Ｉ）の新規なアルキルスルフィニル−及びアルキルスルホニル−１，２，４−チアジアゾリルオキシアセトアミドは興味ある除草特性を持つことが見い出された。ある場合に栽培された植物例えばワタに関して極めて良好な許容性を示す一方、驚くべきことに式（Ｉ）の新規な化合物は、化学的に類似である公知の化合物のＮ−イソプロピル−α−（３−メチルスルフィニル−１，２，４−チアジアゾル−５−イル−オキシ）−アセトアニリドよりも防除が困難な雑草に対して実質的に強い効果を示す。本発明は好ましくはｎが１または２の数を表わし、Ｒ¹が水素またはＣ₁〜Ｃ₈−アルキル（随時フッ素、塩素、シアノまたはＣ₁〜Ｃ₄−アルコキシで置換されていてもよい）を表わすか、Ｃ₂〜Ｃ₈−アルケニル（随時フッ素及び／または塩素で置換されていてもよい）を表わすか、Ｃ₂〜Ｃ₈ −アルキニルを表わすか、或いはベンジルを表わし、Ｒ²がＣ₁〜Ｃ₈−アルキル（随時フッ素、塩素、シアノまたはＣ₁〜Ｃ₄−アルコキシで置換されていてもよい）またはＣ₂〜Ｃ₈−アルケニル（随時フッ素及び／または塩素で置換されていてもよい）を表わすか、Ｃ₂〜Ｃ₈−アルキニルを表わすか、Ｃ₃〜Ｃ₆−シクロアルキル（随時塩素及び／またはＣ₁〜Ｃ₃−アルキルで置換されていてもよい）を表わすか、Ｃ₅−もしくはＣ₆−シクロアルケニルを表わすか、ベンジル（随時フッ素、塩素及び／またはＣ₁〜Ｃ₄−アルキルで置換されていてもよい）を表わすか、フェニル（随時フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、シアノ、ニトロ、Ｃ₁〜Ｃ₄−アルキル、トリフルオロメチル、Ｃ₁〜Ｃ₄−アルコキシ及び／またはＣ₁〜Ｃ₄−アルキルチオで置換されていてもよい）を表わすか、Ｃ₁〜Ｃ₈−アルコキシ（随時Ｃ₁〜Ｃ₄−アルコキシで置換されていてもよい）を表わすか、或いはＣ₃〜Ｃ₄−アルケニルオキシを表わすか、或いはＲ¹及びＲ²がこれらのものが結合する窒素原子と一緒になって随時Ｃ₁〜Ｃ₃− アルキルで１〜３置換されていてもよく、かつ随時ベンゾ融合されていてもよい飽和もしくは不飽和の、５〜７員の窒素複素環を形成し、そしてＲ³がＣ₁〜Ｃ₈−アルキル（随時フッ素、塩素、臭素、シアノ、Ｃ₁〜Ｃ₄−アルコキシ、ジオキソラニルまたはジオキサニルで置換されていてもよい）を表わすか、或いはフェニルまたはフェニル−Ｃ₁〜Ｃ₂−アルキル（各々の場合に随時フッ素、塩素、臭素、シアノ、ニトロ、Ｃ₁〜Ｃ₄−アルキルまたはＣ₁〜Ｃ₄−アルコキシで置換されていてもよい）を表わし、但し上に放棄される化合物を除く式（Ｉ）の化合物に関する。本発明は殊に、ｎが１または２の数を表わし、Ｒ¹がメチル、エチル、ｎ−もしくはｉ−プロピル、ｎ−、ｉ−もしくはｓ− ブチル、またはｎ−、ｉ−もしくはｓ−ペンチル（各々の場合に随時フッ素、塩素、シアノ、メトキシまたはエトキシで置換されていてもよい）を表わすか、或いはプロペニル、ブテニル、プロピニルまたはブチニルを表わし、Ｒ²がメチル、エチル、ｎ−もしくはｉ−プロピル、ｎ−、ｉ−もしくはｓ− ブチル、ｎ−、ｉ−もしくはｓ−ペンチル、またはｎ−、ｉ−もしくはｓ−ヘキシル（各々随時フッ素、塩素、シアノ、メトキシまたはエトキシで置換されていてもよい）を表わすか、プロペニル、ブテニル、ペンテニル、プロピニル、ブチニルまたはペンチニルを表わすか、シクロペンチルまたはシクロヘキシル（各々の場合に随時メチル及び／またはエチルで置換されていてもよい）を表わすか、シクロヘキセニルを表わすか、ベンジル（随時フッ素、塩素及び／またはメチルで置換されていてもよい）を表わすか、フェニル（各々の場合に随時フッ素、塩素、臭素、シアノ、ニトロ、メチル、エチル、トリフルオロメチル、メトキシまたはエトキシで置換されていてもよい）を表わすか、或いはメトキシ、エトキシ、ｎ−もしくはｉ−プロポキシ、ｎ−、ｉ−もしくはｓ−ブトキシ、またはｎ− 、ｉ−もしくはｓ−ペンチルオキシ（各々の場合に随時メトキシまたはエトキシで置換されていてもよい）を表わすか、或いはＲ¹及びＲ²がこれらのものが結合する窒素原子と一緒になって随時メチル及び／またはエチルで１〜３置換されていてもよいピペリジニルを表わすか、随時メチル及び／またはエチルで１または２置換されていてもよいピロリジニルを表わすか、パーヒドロアゼピニルを表わすか、或いは１，２，３，４−テトラヒドロ（イソ）−キノリニルを表わし、そしてＲ³がメチル、エチル、ｎ−もしくはｉ−プロピル、ｎ−、ｉ−、ｓ−もしくはｔ−ブチル、ｎ−、ｉ−、ｓ−もしくはｔ−ペンチル（各々の場合に随時フッ素、塩素、シアノ、メトキシまたはエトキシで置換されていてもよい）を表わすか、或いはフェニルまたはベンジル（各々の場合に随時フッ素、塩素、シアノ、メチルまたはメトキシで置換されていてもよい）を表わし、但し上に放棄される化合物を除く式（Ｉ）の化合物に関する。式（Ｉ）における基の可能な意味の例を次の表１に示す。上記の一般的な基の定義または好適な範囲において与えられるものは式（Ｉ）の最終生成物及び対応する各々の場合に製造に対して必要とされる出発化合物または中間体の両方に適用される。これらの基の定義はそれら自身間、即ちまた与えられる好適な化合物間で任意に組み合わせ得る。例えば、出発化合物として３−メチルスルフィニル−５−クロロ−１，２，４ −チアジアゾール及びＮ−メチルヒドロキシアセトアニリドを用いる場合、新規な工程（ａ）における反応の径路は次式により概括し得る：例えば、出発化合物としてＮ−シクロヘキシル−Ｎ−メチル−α−（３−メチルチオ−１，２，４−チアジアゾル−５−イル−オキシ）−アセトアミド及び過酸化水素を用いる場合、新規な工程（ｂ）における反応の径路は次式により概括し得る：一般式（Ｉ）の化合物を製造するために新規な工程（ａ）において出発化合物として用いる１，２，４−チアジアゾール誘導体は一般に式（II）により定義される。式（II）において、ｎ及びＲ³は好ましくは、または殊にｎ及びＲ³に対して好適か、または殊に好適なものとして式（Ｉ）の化合物の記載に関連して既に上に示された意味を有する。化合物５−クロロ−３−メチルスルホニル−１，２，４−チアジアゾール及び３，５−ビス−メチルスルホニル−１，２，４−チアジアゾールを除き［Ｃｈｅｍ．Ｂｅｒ．９７（１９６４）、２２５〜２３７；ドイツ国特許出願公開第１，５４４，５０５号参照］、式（II）の出発化合物は文献中に未だ開示されておらず、そして上記化合物以外は同様に本出願の目的物の一部である。式（II）の１，２，４−チアジアゾール誘導体は対応する式（Ｖ）式中、Ｒ³及びＸは上記の意味を有する、のアルキルチオ化合物を適当ならば反応補助剤例えばタングステン酸ナトリウムまたは硫酸の存在下、及び適当ならば希釈剤例えば水、メタノール、ギ酸及び／または酢酸の存在下にて０乃至１５０℃間の温度で酸化剤例えば過酸化水素と反応させる場合に得られる（製造実施例参照）。式（Ｖ）の先駆体は公知であり、そして／またはそれ自身公知である方法により製造し得る［Ｃｈｅｍ．Ｂｅｒ．９０（１９５７）、８９２〜９０１；同誌９７（１９６４）、２２５〜２３７；東ドイツ国特許出願公開第２２１，０６０号；製造実施例参照］。式（Ｉ）の化合物を製造するために新規な工程（ａ）において出発化合物として更に用いるヒドロキシアセトアミドは一般に式（III）により定義される。式（III）において、Ｒ¹及びＲ²は好ましくは、または殊にＲ¹及びＲ²に対して好適か、または殊に好適なものとして式（Ｉ）の新規な化合物の記載に関連して既に上に示された意味を有する。式（III）のヒドロキシアセトアミドは公知であり、そして／またはそれ自身公知である方法により製造し得る（米国特許第４，５０９，９７１号及び同第４，６４５，５２５号；並びに加えて同第４，３３４，０７３号、ドイツ国特許出願公開第３，０３８，５９８号、同第３，０３８，６３６号、ヨーロッパ特許出願公開第３７，５２６号、同第３４８，７３７号及びドイツ国特許出願公開第３，８１９，４７７号参照）。一般式（Ｉ）の化合物を製造するために新規な工程（ｂ）において出発化合物として用いるアルキル（アリール−、アラルキル−）チオ−１，２，４−チアジアゾリルオキシアセトアミドは一般に式（IV）により定義される。式（IV）において、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は好ましくは、または殊にＲ¹、Ｒ²及びＲ³に対して好適か、または殊に好適なものとして式（Ｉ）の化合物の記載に関連して既に上に示された意味を有する。式（IV）の出発化合物は公知であり、そして／またはそれ自身公知である方法により製造し得る（ヨーロッパ特許出願公開第０１８，４９７号及び同第０２９，１７１号参照）。式（Ｉ）の新規なアルキルスルフィニル−及びアルキルスルホニル−１，２，４−チアジアゾリルオキシアセトアミドを製造するための新規な工程（ａ）は好ましくは希釈剤を用いて行う。これらの希釈剤には好ましくは炭化水素例えばトルエン、キシレンまたはシクロヘキサン、ハロゲノ炭化水素例えば塩化メチレン、塩化エチレン、クロロホルムまたはクロロベンゼン、エーテル例えばジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジイソブチルエーテル、グリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン及びジオキサン、アルコール例えばメタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、ｓ−ブタノールまたはｔ−ブタノール、ケトン例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソプロピルケトン及びメチルイソブチルケトン、エステル例えば酢酸メチル及び酢酸エチル、アミド例えばジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド及びＮ−メチル−ピロリドン、ニトリル例えばアセトニトリル及びプロピオニトリル、スルホキシド例えばジメチルスルホキシド、並びにまた水または水性塩溶液が含まれる。これに関して、用いる塩は好ましくはアルカリ金属またはアルカリ土金属の塩化物または硫酸塩例えば塩化ナトリウム、塩化カリウムまたは塩化カルシウムである。塩化ナトリウムが殊に好ましい。新規な工程（ａ）は酸結合剤を用いて行うことが有利である。好適に用いるものは強塩基性アルカリ金属及びアルカリ土金属化合物例えば酸化物例えば酸化ナトリウム、カリウム、マグネシウム及びカルシウム、水酸化物例えば水酸化ナトリウム、カリウム、マグネシウム及びカルシウム、アルコラート例えばナトリウム及びカリウムｔ−ブチラート並びに／または炭酸塩例えば炭酸ナトリウム、カリウム、マグネシウム及びカルシウムである。０．０１〜１０重量％［用いる式（III）のグルコールアミンをベースとして］の相間移動触媒の添加がある場合に有利であることを見い出し得る。挙げ得る：塩化テトラブチルアンモニウム、臭化テトラブチルアンモニウム、臭化トリブチルメチルホスホニウム、塩化トリメチル−Ｃ₁₃／Ｃ₁₅−アルキル−アンモニウム、メチル硫酸ジベンジルジメチルアンモニウム、塩化ジメチル−Ｃ₁₂／Ｃ₁₄− アルキル−ベンジルアンモニウム、水酸化テトラブチルアンモニウム、１８−クラウン−６、塩化トリエチルベンジルアンモニウム、塩化トリメチルベンジルアンモニウム及び臭化テトラエチルアンモニウム。新規な工程（ａ）において、反応温度は比較的広い範囲にわたって変え得る。一般に、本法は−５０乃至１１０℃間、好ましくは−２０乃至８０℃間の温度で行う。一般に、新規な工程（ａ）は標準的な圧力下で行うが；約０．１乃至１０バール間の昇圧または減圧下でも行い得る。一般に、新規な工程（ａ）を行うために、式（II）の１，２，４−チアジアゾール誘導体１モル当り０．５〜５モル、好ましくは０．８〜１．５モルの式（II I）のヒドロキシアセトアミドを用いる。反応成分はいずれの順序でも一緒に加え得る。各々の場合に、反応が完了するまで反応混合物を撹拌し、そして常法に従って処理を行う（製造実施例参照）。式（Ｉ）の化合物を製造するための新規な工程（ｂ）は酸化剤を用いて行う。有機スルフィド（チオエーテル）を対応するスルホキシドまたはスルホンに酸化するに適する通常の化学薬品はこれに関連する使用に適する。挙げ得る適当な酸化剤の例には次のものがある：過酸化水素（Ｈ₂Ｏ_。）、過ギ酸、過酢酸、過プロピオン酸、過安息香酸及び３−クロロ−過安息香酸、並びに塩素または次亜塩素酸及びそのアルカリ金属またはアルカリ土金属塩。新規な工程（ｂ）は随時触媒の存在下で行う。これに関して元素の周期表の第 IV、Ｖ及びVI亜族の金属の塩を触媒として好ましく用いる。挙げ得るこれらの触媒の例には（メタ）バナジン酸ナトリウム、モリブデン酸ナトリウム及びタングステン酸ナトリウムがある。新規な工程（ｂ）は好ましくは希釈剤を用いて行う。酸化反応に通常である有機溶媒が水と共にこれに関する希釈剤としての使用に適する。これらの溶媒には好ましくは塩素化された炭化水素例えば塩化メチレン、塩化エチレン、クロロホルム、テトラクロロメタン、１，１，２−トリクロロエタン、クロロベンゼン及びｏ−ジクロロベンゼン、アルコール例えばメタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール及びｓ−ブタノール、並びにカルボン酸例えばギ酸、酢酸及びプロピオン酸が含まれる。新規な工程（ｂ）において、反応温度は比較的広い範囲にわたって変え得る。一般に、本法は−２０乃至６０℃間、好ましくは０乃至４０℃間の温度で行う。一般に、新規な工程（ｂ）は標準的な圧力下で行う。しかしながらまた、一般に０．１乃至１０バール間の昇圧または減圧下で行うことができる。一般に、新規な工程（ｂ）を行うために、式（II）の出発化合物１モル当り１乃至１０モル間、好ましくは１乃至５モル間の酸化剤及び適当ならば０．００１乃至０．１モル間、好ましくは０．０１乃至０．０５モル間の触媒を用いる。新規な工程（ｂ）の好適な具体例において、式（II）の出発化合物及び適当ならば触媒を最初に希釈剤中に導入し、そして酸化剤を撹拌しながら徐々に計量導入する。反応が完了するまで反応混合物を撹拌し、次に処理を常法で行う（製造実施例参照）。新規な活性化合物は、落葉剤、乾燥剤、広葉樹の破壊剤及び、特に殺雑草剤として使用することができる。雑草とは、最も広い意味において、植物を望まない場所に生長するすべての植物を意味する。本発明による物質は、本質的に使用量に依存して完全除草剤または選択的除草剤として作用する。本発明による化合物は、例えば、次の植物に関連して使用することができる：次の属の双子葉雑草：カラシ属(Sinapis)、マメグンバイナズナ属(Lepidium)、ヤエムグラ属(Galium)、ハコベ属(Stellaria)、シカギク属(Matricaria)、カミツレモドキ属(Anthemis)、ガリンソガ属(Galinsoga)、アカザ属(Chenopodium)、イラクサ属(Urtica)、キオン属(Senecio)、ヒユ属(Amaranthus)、スベリヒユ属( Portulaca)、オナモミ属(Xanthium)、ヒルガオ属(Convolvulus)、サツマイモ属( Ipomoea)、タデ属(Polygonum)、セスバニア属(Sesbania)、オナモミ属(Ambrosia)、アザミ属(Cirsium)、ヒレアザミ属 (Carduus)、ノゲシ属(Sonchus)、ナス属(Solanum) 、イヌガラシ属(Rorippa)、キカシグサ属(Rotala)、アゼナ属(Lindernia)、ラミウム属(Lamium)、クワガタソウ属(Veronica)、イチビ属(Abutilon)、エメクス属 (Emex)、チョウセンアサガオ属(Datura)、スミレ属(Viola)、チシマオドリコ属( Galeopsis)、ケシ属(Papaver)、センタウレア属（Centaurea）ツメクサ属（Trif olium）、キツネノボタン属（Ranunculus）及びタンポポ属（Taraxacum）。次の属の双子葉栽培植物：ワタ属(Gossypium)、ダイズ属(Glycine)、フダンソウ属(Beta)、ニンジン属(Daucus)、インゲンマメ属(Phaseolus)、エンドウ属(Pisu m)、ナス属(Solanum)、アマ属(Linum)、サツマイモ属(Ipomoea)、ソラマメ属(Vi cia)、タバコ属(Nicotiana)、トマト属(Lycopersicon)、ラツカセイ属(Arachis) 、アブラナ属(Brassica)、アキノノゲシ属(Lactuca)、キユウリ属(Cucumis)及びウリ属(Cucurbita)。次の属の単子葉雑草：ヒエ属(Echinochloa)、エノコログサ属(Setaria)、キビ属 (Panicum)、メヒシバ属(Digitaria)、アワガリエ属(Phleum)、スズメノカタビラ属(Poa)、ウシノケグサ属(Festuca)、オヒシバ属(Eleusine)、ブラキアリア属(B rachiaria)、ドクムギ属(Lolium)、スズメノチヤヒキ属(Bromus)、カラスムギ属 (Avena)、カヤツリグサ属(Cyperus)、モロコシ属(Sorghum)、カモジグサ属(Agro pyron)、シノドン属(Cynodon)、ミズアオイ属(Monochoria)、テンツキ属(Fimbri stylis)、オモダカ属(Sagittaria)、ハリイ属(Eleocharis) 、ホタルイ属(Scirpus)、パスパルム属(Paspalum)、カモノハシ属(Ischaemum)、スフエノクレア属(Sphenoclea)、ダクチロクテニウム属(Dactyloctenium)、ヌカボ属(Agrostis)、スズメノテツポウ属（Alopecurus）及びアペラ属（Apera）。次の属の単子葉栽培植物：イネ属(Oryza)、トウモロコシ属(Zea)、コムギ属(Tri ticum)、オオムギ属(Hordeum)、カラスムギ属（Avena）、ライムギ属(Secale)、モロコシ属(Sorghum)、キビ属(Panicum)、サトウキビ属(Saccharum)、アナナス属(Ananas)、クサスギカズラ属（Asparagus）およびネギ属(Allium)。しかしながら、本発明による活性化合物の使用はこれらの属にまったく限定されず、同じ方法で他の植物に及ぶ。化合物は、濃度に依存して、例えば工業地域及び鉄道線路上、樹木が存在するか或いは存在しない道路及び広場上の雑草の完全防除に適する。同等に、化合物は多年生栽培植物、例えば造林、装飾樹木、果樹園、ブドウ園、かんきつ類の木立、クルミの果樹園、バナナの植林、コーヒーの植林、茶の植林、ゴムの木の植林、油ヤシの植林、カカオの植林、小果樹の植え付け及びホップの栽培植物の中の雑草の防除に、そして１年生栽培植物中の雑草の選択的防除に使用することができる。式（Ｉ）の新規な化合物は特に発芽前及び発芽後法により双子葉の栽培植物における単子葉及び双子葉の雑草の選択的防除に殊に適している。本活性化合物は普通の組成物例えば、溶液、乳液、水和剤、懸濁剤、粉末、泡沫剤、塗布剤、可溶性粉末、顆粒、懸濁−乳化濃厚剤、活性化合物を含浸させた天然及び合成物質、及び重合物質中の極く細かいカプセルに変えることができる。これらの組成物は公知の方法において、例えば活性化合物を伸展剤、即ち液体溶媒及び／または固体の担体と随時表面活性剤、即ち乳化剤及び／または分散剤及び／または発泡剤と混合して製造される。また伸展剤として水を用いる場合、例えば補助溶媒として有機溶媒を用いることもできる。液体溶媒として、主に、芳香族炭化水素例えばキシレン、トルエンもしくはアルキルナフタレン、塩素化された芳香族もしくは塩素化された脂肪族炭化水素例えばクロロベンゼン、クロロエチレンもしくは塩化メチレン、脂肪族炭化水素例えばシクロヘキサン、またはパラフィン例えば鉱油留分、鉱油及び植物油、アルコール例えばブタノールもしくはグリコール並びにそのエーテル及びエステル、ケトン例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンもしくはシクロヘキサノン、強い有極性溶媒例えばジメチルホルムアミド及びジメチルスルホキシド並びに水が適している。固体の担体として、例えばアンモニウム塩及び粉砕した天然鉱物、例えばカオリン、クレイ、タルク、チョーク、石英、アタパルジャイト、モントモリロナイト、またはケイソウ土並びに粉砕した合成鉱物例えば高度に分散性ケイ酸、アルミナ及びシリケートが適している；粒剤に対する固体の担体として、粉砕し且つ分別した天然岩、例えば方解石、大理石、軽石、海泡石及び白雲石並びに無機及び有機のひきわり合成顆粒及び有機物質の顆粒例えばおがくず、やしがら、トウモロコシ穂軸及びタバコの茎が適している；乳化剤及び／または発泡剤として非イオン性及び陰イオン性乳化剤例えばポリオキシエチレン−脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪族アルコールエーテル例えばアルキルアリールポリグリコールエーテル、アルキルスルホネート、アルキルスルフェート、アリールスルホネート並びにアルブミン加水分解生成物が適している；分散剤として、例えばリグニンスルファイト廃液及びメチルセルロースが適している。接着剤例えばカルボキシメチルセルロース並びに粉状、粒状またはラテックス状の天然及び合成重合体例えばアラビアゴム、ポリビニルアルコール及びポリビニルアセテート並びに天然リン脂質例えばセフアリン及びレシチン、及び合成リン脂質を組成物に用いることができる。更に添加剤は鉱油及び植物油であることができる。着色剤例えば無機顔料、例えば酸化鉄、酸化チタン及びプルシアンブル−並びに有機染料例えばアリザリン染料、アゾ染料及び金属フタロシアニン染料、及び微量の栄養剤例えば鉄、マンガン、ホウ素、銅、コバルト、モリブテン及び亜鉛の塩を用いることができる。調製物は一般に活性化合物０．１乃至９５重量％間、好ましくは０．５乃至９０重量％間を含有する。また新規な活性化合物は、そのまま或いはその調製物の形態において、公知の除草剤との混合物として雑草を防除するために用いることができ、仕上げた配合物または槽混合が可能である。混合物に適する除草剤には公知の除草剤例えばアニリド例えばジフルフェニカン及びプロパニル；アリールカルボン酸例えばジクロロピコリン酸、ジカンバ及びピコロラム；アリールオキシアルカン酸例えば２，４−Ｄ、２，４−ＤＢ、２，４−ＤＰ、フルロキシピル、ＭＣＰＡ、ＭＣＰＰ及びトリクロピル；アリールオキシ−フェノキシ−アルカン酸エステル例えばジクロホップ−メチル、フェノキサプロップ−エチル、フルアジホップ−ブチル、ハロキシホップ−メチル及びキザロホップ−エチル；アジノン例えばクロリダゾン及びノルフルラゾン；カルバメート例えばクロルプロファム、デスメジファム、フェンメジファム及びプロファム、クロロアセトアニリド例えばアラクロル、アセトクロル、ブタクロル、メタザクロル、メトラクロル、プレチラクロル及びプロパクロル；ジニトロアニリン例えばオリザリン、ペンジメタリン及びトリフルラリン；ジフェニルエステル例えばアシフルオルフェン、ビフェノックス、フルオログリコフェン、ホメサフェン、ハロサフェン、ラクトフェン及びオキシフルオルフェン；ウレア例えばクロルトルロン、ジウロン、フルオメツロン、イソプロツロン、リヌロン及びメタベンズチアズロン；ヒドロキシルアミン例えばアロキシジム、クレトジム、シクロキシジム、セトキシジム及びトラルコキシジム；イミダゾリノン例えばイマゼタピル、イマザメタベンズ、イマザピル及びイマザキン；ニトリル例えばブロモキシニル、ジクロベニル及びイオキシニル；オキシアセトアミド例えばメフェナセット；スルホニルウレア例えばアミドスルフロン、ベンスルフロン−メチル、クロリムロン− エチル、クロルスルフロン、シノスルフロン、メトスルフロン−メチル、ニコスルフロン、プリミスルフロン、ピラゾスルフロン−エチル、チフェンスルフロン −メチル、卜リアスルフロン及びトリベヌロン−メチル；チオカルバメート例えばブチレート、シクロエート、ジ−アレート、ＥＰＴＣ、エスプロカルブ、モリネート、プロスルホカルブ、チオベンカルブ及びトリ−アレート；トリアジン例えばアトラジン、シアナジン、シマジン、シメトリン、ターブトリン及びターブチラジン；トリアジノン例えばヘキサジノン、メタミトロン及びメトリブジン；他のもの例えばアミノトリアゾール、ベンフレセート、ベンタゾン、シンメチリン、クロマゾン、クロピラリド、ジフェンゾクアット、ジチオピル、エトフメセート、フルオロクロリドン、グルホシネート、グリホセート、イソキサベン、ピリデート、キンクロラック、キンメラック、スルホセート及びトリジファンがある。また他の公知の新規な活性化合物、例えば殺菌・殺カビ剤（fungicides）、殺虫剤（insecticides）、殺ダニ剤（acaricides）、殺線虫剤（nematicides）、小鳥忌避剤、植物栄養剤及び土壌改良剤との混合物が可能である。本活性化合物はそのままで、或いはその配合物の形態またはその配合物から更に希釈して調製した使用形態、例えば調製済液剤、懸濁剤、乳剤、粉剤、塗布剤及び粒剤の形態で使用することができる。これらのものは普通の方法で、例えば液剤散布（watering）、スプレー、アトマイジング（atomising）または粒剤散布（scattering）によって施用される。新規な活性化合物は植物の発芽の前または後に施用することができる。またこれらのものは種子をまく前に土壌中に混入することができる。用いる活性化合物の量は比較的広い範囲内で変え得る。この量は本質的に所望の効果の特性に依存する。一般に、施用の割合は土壌表面１ヘクタール当り活性化合物１０ｇ乃至１０ｋｇ間、好ましくは５０ｇ乃至５ｋｇ間である。新規な化合物の製造及び使用は次の実施例から知り得る。【実施例】製造実施例：実施例１３，５−ビス−メチルスルホニル−１，２，４−チアジアゾール３．６ｇ（１５ミリモル）をヒドロキシアセト−２−エチル−ピペリジン２．６ｇ（１５ミリモル）と一緒にアセトン４０ｍｌに溶解した。このものに水３．３ｍｌ中の水酸化ナトリウム０．６ｇの溶液を２０℃で滴加した。反応混合物を−１５℃で１２時間撹拌した。次にこのものを水でその２倍容量に希釈し、そして全体をクロロホルムと共に振盪した。有機相を分別し、硫酸ナトリウムで乾燥し、そして濾過した。溶媒を水流ポンプの真空下で濾液から注意して留去した。スルホニル−１，２，４−チアジアゾル−５−イル−オキシ）−アセト−２−エチルピペリジン４．８ｇ（理論値の７７％）が得られた。実施例２ α−（３−メチルチオ−１，２，４−チアジアゾル−５−イル−オキシ）−アセト−Ｎ−メチル−アニリド２９．５ｇ（０．１０モル）を塩化メチレン５０ｍｌに溶解した。水１００ｍｌを加えた後、塩素１７．７５ｇ（０．２５モル）を撹拌しながら約３時間内に通した。次に有機相を分別し、水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、そして濾過した。溶媒を水流ポンプの真空下で濾液から留去し、そして残渣を少量のメタノールと共に撹拌し；結晶性生成物を吸引濾過により単離した。融点８２℃のα−（３−メチルスルホニル−１，２，４−チアジアゾル−５− イル−オキシ）−アセト−Ｎ−メチル−アニリド７．０ｇ（理論値の２１％）が得られた。また次の表２に示す式（Ｉ）の化合物を例えば製造実施例１及び２と同様に、そして新規な製造方法の一般的記載に従って製造することができた。式（II）の出発化合物：実施例（II−１）５−クロロ−３−メチルチオ−１，２，４−チアジアゾール１４８ｇ（０．７３モル）をメタノール５００ｍｌ及び濃硫酸２３ｇからなる混合物に溶解し、そして全体を還流下で加熱した。次に過酸化水素の３０％水溶液９０．６ｇ（Ｈ₂ Ｏ₂０．８０モル）を滴加した。反応混合物を還流下で３時間加熱した。次にこのものを濃縮し、そして残渣をクロロホルム／水と共に振盪し；有機相を炭酸水素ナトリウム溶液及び次に水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、そして濾過した。溶媒を水流ポンプの真空下で濾液から注意して留去した。融点７２℃を有する５−クロロ−３−メチルスルフィニル−１，２，４−チアジアゾール１１３ｇ（理論値の８５％）が結晶性生成物として得られた。例えば次の化合物を実施例(II−１)と同様に製造することができた：３−エチルスルフィニル−、３−ｎ−プロピル−スルフィニル−、３−ｉ−プロピル−スルフィニル−、３−ｎ−ブチル−スルフィニル−、３−ｉ−ブチル− スルフィニル−、３−ｓ−ブチル−スルフィニル−、３−ベンジル−スルフィニル−、３−（２−クロロ−ベンジル）−スルフィニル−、３−（３−クロロ−ベンジル）−スルフィニル−、３−（４−クロロ−ベンジル）−スルフィニル−、３−（３−トリフルオロメチル−ベンジル）−スルフィニル−及び３−（４−トリフルオロメチル− ベンジル）−スルフィニル−５−クロロ−１，２，４−チアジアゾール。実施例（II−２）２，５−ビス−エチルチオ−１，２，４−チアジアゾール１０５ｇ（０．５モル）及びタングステン酸ナトリウム３．５ｇを最初に酢酸２６０ｍｌ中に導入し、そして過酸化水素の３０％水溶液４７５ｍｌ（Ｈ₂Ｏ₂５．５モル）を２０〜３０℃及び約９０分以内で滴加した。反応混合物を２０℃で５時間撹拌し、次に水２．５ｌで徐々に希釈した。この工程中に結晶状態で生じた生成物を吸引濾過により単離した。融点４２℃を有する２，５−ビス−エチルスルホニル−１，２，４−チアジアゾール１００ｇ（理論値の７４％）が得られた。また次の表３に示す式（II）の化合物を例えば実施例（II−２）と同様に製造することができた。施用例：下に示す施用例において、次の化合物を比較に用いた：Ｎ−イソプロピル−Ｎ−フェニル−α−（３−メチルスルフィニル−１，２，４−チアジアゾル−５−イル−オキシ）−アセトアミド（ヨーロッパ特許出願公開第３４８，７３７号／ＬｅＡ２６０３１、実施例２８参照）。実施例Ａ発芽前試験溶媒：アセトン５重量部乳化剤：アルキルアリールポリグリコールエーテル１重量部活性化合物の適当な調製物を製造するために、活性化合物１重量部を上記量の溶媒と混合し、上記量の乳化剤を加え、この濃厚物を水で希釈して所望の濃度にした。試験植物の種子を通常の土壌中にまき、２４時間後、活性化合物の調製物を液剤散布した。単位面積当りの水の量を一定に保持することが適当である。調製物中の活性化合物の濃度は重要ではなく、単位面積当り施用した活性化合物の量のみが決めてとなる。３週間後、植物に対する損傷の程度を、未処理対照植物の発育と比較して、％損傷として評価した。数字は次を意味する：０％＝作用なし（未処理対照と同様）１００％＝全て撲滅この試験において、製造実施例１、５、６、７、８、９、１１、１２、１４、１７、１９、２０、２１、２２、２３、２４、２５、２６、２７、２８、２９、３０、３１、３２、３３、３４、３５、３６、３７、３８、３９、４１及び４２による化合物は例えば公知の化合物Ａより雑草に対する実質的に強い効果を示し（表Ａ参照）、一方栽培植物例えば大豆には極めて良好な許容性がある。追加の新規な活性化合物及びその施用割合、並びに用いた試験植物及び試験結果を次の表Ｂに示し；またこの表中の実施例番号は上の表２に示される製造実施例に対応する。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＵ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＮ，ＣＺ，ＦＩ，ＨＵ，ＪＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＫ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＫ，ＵＡ，ＵＳ (72)発明者ドリンガー，マルクスドイツ連邦共和国デー−51381レーフエルクーゼン・ブルシヤイダーシユトラーセ 154ベー

Claims

【特許請求の範囲】１．化合物Ｎ−イソプロピル−α−（３−メチルスルフィニル−１，２，４− チアジアゾル−５−イル−オキシ）−アセトアニリド、Ｎ−イソプロピル−α− （３−メチルスルホニル−１，２，４−チアジアゾル−５−イル−オキシ）−アセトアニリド、Ｎ−イソプロピル−α−（３−エチルスルフィニル−１，２，４ −チアジアゾル−５−イル−オキシ）−アセトアニリド、Ｎ−イソプロピル−α −（３−エチルスルホニル−１，２，４−チアジアゾル−５−イル−オキシ）− アセトアニリド、Ｎ−イソプロピル−α−（３−プロピルスルフィニル−１，２，４−チアジアゾル−５−イル−オキシ）−アセトアニリド、Ｎ−イソプロピル −α−（３−プロピルスルホニル−１，２，４−チアジアゾル−５−イル−オキシ）−アセトアニリド並びにまた化合物Ｎ−メチル−Ｎ−（４−フルオロ−フェニル）−α−（３−メチルスルフィニル−１，２，４−チアジアゾル−５−イル −オキシ）−アセトアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−（４−フルオロ−フェニル）−α −（３−メチルスルホニル−１，２，４−チアジアゾル−５−イル−オキシ）− アセトアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−（４−フルオロ−フェニル）−α−（３−エチルスルホニル−１，２，４−チアジアゾル−５−イル−オキシ）−アセトアミド、Ｎ−エチル−Ｎ−（４−フルオロ−フェニル）−α−（３−メチルスルフィニル−１，２，４−チアジアゾル−５−イル−オキシ）−アセトアミド、Ｎ−エチル−Ｎ−（４−フルオロ−フェニル）−α−（３−メチルスルホニル−１，２，４−チアジアゾル−５−イル−オキシ）−アセトアミド及びＮ−エチル−Ｎ−（４−フルオロ−フェニル）−α−（３−エチルスルホニル−１，２，４−チアジアゾル−５−イル−オキシ）−アセトアミドを除いた、一般式（Ｉ）式中、ｎは１または２の数を表わし、Ｒ¹は水素を表わすか、或いは各々の場合に随時置換されていてもよいアルキル、アルケニル、アルキニルまたはアラルキルを表わし、Ｒ²は各々の場合に随時置換されていてもよいアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、アラルキル、アリール、アルコキシ、アルケニルオキシまたはアルキニルオキシを表わすか、或いはＲ¹及びＲ²はこれらのものが結合する窒素原子と一緒になって更にヘテロ原子を含むことができ、かつこのものにベンゾ基を融合させ得る随時置換されていてもよい、飽和もしくは不飽和の窒素複素環を形成し、そしてＲ³は各々の場合に随時置換されていてもよいアルキル、アリールまたはアリールアルキルを表わす、のアルキルスルフィニル−及びアルキルスルホニル−１，２，４−チアジアゾリルオキシアセトアミド。２．ｎが１または２の数を表わし、Ｒ¹が水素またはＣ₁〜Ｃ₈−アルキル（随時フッ素、塩素、シアノまたはＣ₁〜Ｃ₄−アルコキシで置換されていてもよい）を表わすか、Ｃ₂〜Ｃ₈−アルケニル（随時フッ素及び／または塩素で置換されていてもよい）を表わすか、Ｃ₂〜Ｃ₈ −アルキニルを表わすか、或いはベンジルを表わし、Ｒ²がＣ₁〜Ｃ₈−アルキル（随時フッ素、塩素、シアノまたはＣ₁〜Ｃ₄−アルコキシで置換されていてもよい）またはＣ₂〜Ｃ₈−アルケニル（随時フッ素及び／または塩素で置換されていてもよい）を表わすか、Ｃ₂〜Ｃ₈−アルキニルを表わすか、Ｃ₃〜Ｃ₆−シクロアルキル（随時塩素及び／またはＣ₁〜Ｃ₃−アルキルで置換されていてもよい）を表わすか、Ｃ₅−もしくはＣ₆−シクロアルケニルを表わすか、ベンジル（随時フッ素、塩素及び／またはＣ₁〜Ｃ₄−アルキルで置換されていてもよい）を表わすか、フェニル（随時フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、シアノ、ニトロ、Ｃ₁〜Ｃ₄−アルキル、トリフルオロメチル、Ｃ₁〜Ｃ₄−アルコキシ及び／またはＣ₁〜Ｃ₄−アルキルチオで置換されていてもよい）を表わすか、Ｃ₁〜Ｃ₈−アルコキシ（随時Ｃ₁〜Ｃ₄−アルコキシで置換されていてもよい）を表わすか、或いはＣ₃〜Ｃ₄−アルケニルオキシを表わすか、或いはＲ¹及びＲ²がこれらのものが結合する窒素原子と一緒になって随時Ｃ₁〜Ｃ₃− アルキルで１〜３置換されていてもよく、かつ随時ベンゾ融合されていてもよい飽和もしくは不飽和の、５〜７員の窒素複素環を形成し、そしてＲ³がＣ₁〜Ｃ₈−アルキル（随時フッ素、塩素、臭素、シアノ、Ｃ₁〜Ｃ₄−アルコキシ、ジオキソラニルまたはジオキサニルで置換されていてもよい）を表わすか、或いはフェニルまたはフェニル−Ｃ₁〜Ｃ₂−アルキル（各々の場合に随時フッ素、塩素、臭素、シアノ、ニトロ、Ｃ₁〜Ｃ₄−アルキルまたはＣ₁〜Ｃ₄−アルコキシで置換されていてもよい）を表わし、但し請求の範囲第１項記載により放棄される化合物を除くことを特徴とする、請求の範囲第１項記載の式（Ｉ）の化合物。３．請求の範囲第１項記載により放棄される化合物を除くことを特徴とする、請求の範囲第１項記載の化合物。４．（ａ）一般式（II）式中、Ｘはハロゲンまたは基−Ｓ(Ｏ)_n−Ｒ³を表わし、そしてｎ及びＲ³は請求の範囲第１項記載の意味を有する、の１，２，４−チアジアゾール誘導体を適当ならば希釈剤の存在下、適当ならば酸結合剤の存在下及び適当ならば触媒の存在下で一般式（III）式中、Ｒ¹及びＲ²は請求の範囲第１項記載の意味を有する、のヒドロキシアセトアミドと反応させるか、或いは（ｂ）一般式（IV）式中、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は請求の範囲第１項記載の意味を有する、のアルキル（アリール−、アラルキル−）チオ−１，２，４−チアジアゾリルオキシアセトアミドを適当ならば触媒の存在下及び適当ならば希釈剤の存在下で酸化剤と反応させることを特徴とする、請求の範囲第１項記載の式（Ｉ）のアルキルスルフィニル−及びアルキルスルホニル−１，２，４−チアジアゾリルオキシアセトアミドの製造方法。５．少なくとも１つの請求の範囲第１項記載の式（Ｉ）の化合物を含むことを特徴とする、除草剤。６．望ましくない植物の生長を防除するための請求の範囲第１項記載の一般式（Ｉ）の化合物の使用。７．請求の範囲第１項記載の一般式（Ｉ）の化合物を雑草またはその生育地上に作用させることを特徴とする、雑草の防除方法。８．請求の範囲第１項記載の一般式（Ｉ）の化合物を増量剤及び／または表面活性剤と混合することを特徴とする、除草剤の製造方法。９．化合物５−クロロ−３−メチルスルホニル−１，２，４−チアジアゾール及び３，５−ビス−メチルスルホニル−１，２，４−チアジアゾールを除いた、一般式（II）式中、Ｘはハロゲンまたは基−Ｓ(Ｏ)_n−Ｒ³を表わし、ｎは１または２の数を表わし、そしてＲ³は各々の場合に随時置換されていてもよいアルキル、アリールまたはアリールアルキルを表わす、の１，２，４−チアジアゾール誘導体。