JP2909097B2 - Ｎ‐イソプロピルヘテロアリールオキシアセトアニリド - Google Patents

Ｎ‐イソプロピルヘテロアリールオキシアセトアニリド

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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は新規なＮ−イソプロピルヘテロアリールオキ
シアセトアニリド、その製造方法及びその除草剤として
の使用に関するものである。
あるヘテロアリールオキシアセトアニリド例えばＮ−
メチル−２−（５−クロロ−1,3,4−チアジアゾル−２
−イル−オキシ）−アセトアニリドが除草特性を示すこ
とは既に開示されている（ヨーロツパ特許出願公開第19
2,117号参照）。しかしながら、この公知の化合物の有
用植物による許容性は常に完全に満足できるものではな
い。またＮ−イソプロピル−（５−トリフルオロメチル
−1,3,4−チアジアゾル−２−イル）−オキシアセトア
ニリドは開示されている（ドイツ国特許出願公開第3,21
8,482号；ヨーロツパ特許出願公開第94,541号；米国特
許第4,585,471号参照）。
最後に、一般式（Ｉ）の新規なＮ−イソプロピルヘテ
ロアリールオキシアセトアニリドは興味ある除草特性を
持つ。
驚くべきことに、一般式（Ｉ）の新規なＮ−イソプロ
ピルヘテロアリールオキシアセトアニリドは公知である
Ｎ−メチル−２−（５−クロロ−1,3,4−チアジアゾル
−２−イル−オキシ）−アセトアニリドよりかなり良好
な選択的特性を示し、その際に強い強い除草作用を有し
ている。
化合物Ｎ−イソプロピル−（５−トリフルオロメチル
−1,3,4−チアジアゾル−２−イル）−オキシアセトア
ニリドを除く、一般式（Ｉ） 式中、Ａは窒素または基Ｃ−R3を表わし、ここに R3はハロゲン、シアノ、アルキル、ハロゲノアルキ
ル、アルコキシ、ハロゲノアルコキシ、アルキルチオ、
ハロゲノアルキルチオ、アルキルスルフイニルまたはア
ルキルスルホニルを表わし、 Ｂは窒素または基Ｃ−R4を表わし、ここに R4はハロゲン、シアノ、アルキル、ハロゲノアルキ
ル、アルコキシ、ハロゲノアルコキシ、アルキルチオ、
ハロゲノアルキルチオ、アルキルスルフイニル、ハロゲ
ノアルキルスルフイニル、アルキルスルホニル、ハロゲ
ノアルキルスルホニル、随時ハロゲン、アルキル、ハロ
ゲノアルキル、アルコキシもしくはハロゲノアルコキシ
で置換されていてもよいフエニルまたは基−CY2−Ｚ−R
5を表わし、ここに R5は随時ハロゲン、アルコキシもしくはアルキルチオ
で置換されていてもよいアルキルまたは随時ハロゲン、
アルキル、ハロゲノアルキル、アルコキシ、ハロゲノア
ルコキシ、アルキルチオもしくはハロゲノアルキルチオ
で置換されていてもよいフエニルを表わし、 Ｙは水素またはハロゲンを表わし、 Ｚは酸素、硫黄、SOまたはSO2を表わし、 R1は水素、ハロゲン、シアノ、ニトロ、アルキル、ハ
ロゲノアルキル、アルコキシ、ハロゲノアルコキシ、ア
ルキルチオまたはハロゲノアルキルチオを表わし、 R2は水素、ハロゲン、アルキル、ハロゲノアルキルま
たはアルコキシを表わし、そして Ｘは酸素または硫黄を表わす、 のＮ−イソプロピルヘテロアリールオキシアセトアニリ
ドが見い出された。
更に一般式（II） 式中、Ａ、Ｂ及びＸは上記の意味を有し、そして Ｄは核脱離基を表わす、 のヘテロアレーンを適当ならび希釈剤の存在下、適当な
らば酸結合剤の存在下及び適当ならば触媒の存在下で一
般式（III） 式中、R1及びR2は上記の意味を有する、 のＮ−イソプロピルヒドロキシアセトアニリドと反応さ
せる場合に一般式（Ｉ）の新規なＮ−イソプロピルヘテ
ロアリールオキシアセトアニリドが得られることが見い
出された。
最後に、一般式（Ｉ）の新規なＮ−イソプロピルヘテ
ロアリールオキシアセトアニリドが興味ある除草特性を
持つことが見い出された。
驚くべきことに、一般式（Ｉ）の新規なＮ−イソプロ
ピルヘテロアリールオキシアセトアニリドは強い除草作
用を有する一方、公知であるＮ−メチル−２−（５−ク
ロロ−1,3,4−チアジアゾル−２−イル−オキシ）−ア
セトアニリドよりかなり良好な選択的特性を示す。
本発明は好ましくは化合物Ｎ−イソプロピル−（５−
トリフルオロメチル−1,3,4−チアジアゾル−２−イ
ル）−オキシアセトアニリドを除き、Ａは窒素または基
Ｃ−R3を表わし、ここにR3がフツ素、塩素、臭素、シア
ノ、随時フツ素及び／もしくは塩素で置換されていても
よいC1−C4−アルキルで置換されていてもよいC1−C4−
アルキル、随時フツ素及び／もしくは塩素で置換されて
いてもよいC1−C4−アルコキシ、随時フツ素及び／もし
くは塩素で置換されていてもよいC1−C4−アルキルチ
オ、C1−C4−アルキルスルフイニルまたはC1−C4−アル
キルスルホニルを表わし、Ｂが窒素または基Ｃ−R4を表
わし、ここにR4がフツ素、塩素、臭素、シアノ、随時フ
ツ素及び／もしくは塩素で置換されていてもよいC1〜C4
−アルキル、随時フツ素及び／もしくは塩素で置換され
ていてもよいC1〜C4−アルコキシ、随時フツ素及び／も
しくは塩素で置換されていてもよいC1〜C4−アルキルチ
オ、随時フツ素及び／もしくは塩素で置換されていても
よいC1〜C4−アルキルスルフイニル、随時フツ素及び／
もしくは塩素で置換されていてもよいC1〜C4−アルキル
スルホニル、随時フツ素、塩素、臭素、C1〜C4−アルキ
ル、トリフルオロメチル、C1〜C4−アルコキシもしくは
トリフルオロメトキシで置換されていてもよいフエニル
または基−CY2−Ｚ−R5を表わし、ここにR5が随時フツ
素及び／もしくは塩素で置換されていてもよいC1〜C4−
アルキル、C1〜C4−アルコキシまたはC1〜C4−アルキル
チオ或いは随時フツ素、塩素、臭素、C1〜C4−アルキ
ル、トリフルオロメチル、C1〜C4−アルコキシ、トリフ
ルオロメトキシ、C1〜C4−アルキルチオもしくはトリフ
ルオロメチルチオで置換されていてもよいフエニルを表
わし、Ｙが水素、フツ素または塩素を表わし、Ｚが酸
素、硫黄、SOまたはSO2を表わし、R1が水素、フツ素、
塩素、臭素、シアノ、ニトロ、随時フツ素及び／もしく
は塩素で置換されていてもよいC1〜C4−アルキル、随時
フツ素及び／もしくは塩素で置換されていてもよいC1〜
C4−アルコキシまたは随時フツ素及び／もしくは塩素で
置換されていてもよいC1〜C4−アルキルチオを表わし、
R2が水素、フツ素、塩素、臭素、メチル、トリフルオロ
メチルまたはメトキシを表わし、そしてＸが酸素または
硫黄を表わす、式（Ｉ）の化合物に関するものである。
極めて殊に好ましい式（Ｉ）の化合物の群は化合物Ｎ
−イソプロピル−５−（トリフルオロメチル−1,3,4−
チアジアゾル−２−イル）−オキシアセトニトリルを除
く、式（I a） 式中、R1は水素、フツ素、塩素、メチル、トリフルオ
ロメチルまたはメトキシを表わし、 R2は水素を表わし、 R4は塩素、トリフルオロメチル、クロロジフルオロメ
チル、フルオロジクロロメチル、ジクロロメチル、トリ
クロロメチル、ペンタフルオロエチル、ヘプタフルオロ
プロピル、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、メ
チルスルフイニル、エチルスルフイニル、プロピルスル
フイニル、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロ
ピルスルホニルまたはフエニルを表わし、そして Ｘは酸素または硫黄を表わす、 のものである。
更に殊に好適な式（Ｉ）の化合物の群は式（I b） 式中、R1は水素、フツ素、塩素、メチル、トリフルオ
ロメチルまたはメトキシを表わし、 R2は水素を表わし、 R3は塩素、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、
クロロジフルオロメチル、フルオロジクロロメチル、ジ
クロロメチル、トリクロロメチル、メチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、メチルチオ、エチルチオ、プロ
ピルチオ、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロ
ピルスルホニル、メチルスルフイニル、エチルスルフイ
ニルまたはプロピルスルフイニルを表わし、そして Ｘは酸素または硫黄を表わす、 のものである。
第三の殊に好適な式（Ｉ）の化合物の群は式（I c） 式中、R1は水素、フツ素、塩素、メチル、トリフルオ
ロメチルまたはメトキシを表わし、 R2は水素を表わし、 R3は塩素、フツ素、メチル、ジフルオロメチル、ジク
ロロメチル、クロロジフルオロメチル、フルオロジクロ
ロメチル、トリクロロメチルまたはトリフルオロメチル
を表わし、そして R4は塩素、シアノ、ジフルオロメチル、ジクロロメチ
ル、クロロジフルオロメチル、フルオロジクロロメチ
ル、トリクロロメチルまたはトリフルオロメチルを表わ
す、 のものである。
式（Ｉ）の化合物の例を下の第１表に示す−製造実施
例も参照。
例えば出発物質として2,4,5−トリクロロチアゾール
及びＮ−イソプロピルヒドロキシアセトアニリドを用い
る場合、本発明による工程における反応の径路は次式に
より表わし得る： 式（II）は式（Ｉ）の化合物の製造に対して本発明に
よる方法における出発物質として用いられるヘテロアレ
ーンの一般的定義を与える。
式（II）において、Ａ、Ｂ及びＸは好ましくは、また
は殊にＡ、Ｂ及びＸに対して好適か、または殊に好適な
ものとして本発明による式（Ｉ）の化合物の記載に関連
して上に既に挙げられたものの意味を有し、そしてＤは
好ましくはハロゲンまたはC1〜C4−アルキルスルホニ
ル、殊に塩素またはメチルスルホニルを表わす。
挙げ得る式（II）の出発物質の例には次のものがあ
る:2,4,5−トリクロロ−チアゾール、2,4−ジクロロ−
５−シアノ−チアゾール、2,4−ジクロロ−５−ジフル
オロメチル−トリアゾール、2,4−ジクロロ−５−ジク
ロロメチル−チアゾール、2,4−ジクロロ−５−トリク
ロロメチル−チアゾール、２−クロロ−４−フルオロ−
５−ジフルオロメチル−チアゾール、２−クロロ−４−
フルオロ−５−ジクロロメチル−チアゾール、２−クロ
ロ−４−フルオロ−５−トリフルオロメチル−チアゾー
ル、２−クロロ−４−トリフルオロメチル−５−シアノ
−チアゾール、２−クロロ−４−メチル−５−シアノ−
チアゾール、2,4−ジクロロ−５−クロロジフルオロメ
チル−チアゾール、2,4−ジクロロ−５−フルオロ−ジ
クロロメチル−チアゾール、2,5−ジクロロ−４−メチ
ル−チアゾール、2,5−ジクロロ−４−ジフルオロメチ
ル−チアゾール、2,5−ジクロロ−４−トリクロロメチ
ル−チアゾール、2,5−ジクロロ−４−クロロジフルオ
ロメチル−チアゾール、3,5−ジクロロ−1,2,4−チアジ
アゾール、３−ジフルオロメチル−５−クロロ−1,2,4
−チアジアゾール、３−トリフルオロメチル−５−クロ
ロ−1,2,4−チアジアゾール、３−クロロジフルオロメ
チル−５−クロロ−1,2,4−チアジアゾール、３−フル
オロジクロロメチル−５−クロロ−1,2,4−チアジアゾ
ール、３−ジクロロメチル−５−クロロ−1,2,4−チア
ジアゾール、３−トリクロロメチル−５−クロロ−1,2,
4−チアジアゾール、３−メチル−５−クロロ−1,2,4−
チアジアゾール、３−メチルチオ−５−クロロ−1,2,4
−チアジアゾール、３−メチルスルフイニル−５−クロ
ロ−1,2,4−チアジアゾール、３−メチルスルホニル−
５−クロロ−1,2,4−チアジアゾール、2,5−ジクロロ−
1,3,4−チアジアゾール、２−クロロ−５−メチルスル
ホニル−1,3,4−チアジアゾール、２−クロロ−５−ト
リフルオロメチル−1,3,4−チアジアゾール、２−メチ
ルスルホニル−５−トリフルオロメチル−1,3,4−チア
ジアゾール、２−クロロ−５−クロロジフルオロメチル
−1,3,4−チアジアゾール、２−クロロ−５−フルオロ
ジクロロメチル−1,3,4−チアジアゾール、２−クロロ
−５−ジクロロメチル−1,3,4−チアジアゾール、２−
クロロ−５−トリクロロメチル−1,3,4−チアジアゾー
ル、２−クロロ−５−ペンタフルオロエチル−1,3,4−
チアジアゾール、２−クロロ−５−ヘプタフルオロプロ
ピル−1,3,4−チアジアゾール、２−クロロ−５−メチ
ルチオ−1,3,4−チアジアゾール及び２−クロロ−５−
メチル−スルフイニル−1,3,4−チアジアゾール。
式（II）の出発物質は公知であり、そして／またはそ
れ自体公知である方法により製造し得る［米国特許第4,
645,525号及びここに引用される文献;J.Heterocycl.Che
m.11（1974）、343〜345;J.Org.Chem.27（1962）、2589
〜2592;ドイツ国特許出願公開第3,422,861号参照］。
式（III）は本発明による方法における出発物質とし
て用いられるＮ−イソプロピルヒドロキシアセトアニリ
ドの一般的定義を与える。
式（III）において、R1及びR2は好ましくは、または
殊にR1及びR2に対して好適か、または殊に好適なものと
して本発明による式（Ｉ）の化合物の記載に関連して上
に既に挙げられた意味を有する。
挙げ得る式（III）の出発物質の例には次のものがあ
る:N−イソプロピルヒドロキシアセトアニリド、２′−
フルオロ−、３′−フルオロ−、４′−フルオロ、２′
−クロロ−、３′−クロロ、４′−クロロ−、３′−メ
チル−、４′−メチル−、３′−メトキシ−、４′−メ
トキシ−、３′−トリフルオロメチル−及び４′−トリ
フルオロメチル−Ｎ−イソプロピルヒドロキシアセトア
ニリド。
式（III）のＮ−イソプロピルヒドロキシアセトアニ
リドは公知であり、そして／またはそれ自体公知である
方法により製造し得る（米国特許第4,509,971号及び同
第4,645,525号；更に同第4,334,073号、ドイツ国特許出
願公開第3,038,598号、同第3,038,636号、ヨーロツパ特
許出願公開第37,526号参照）。
式（Ｉ）の新規なＮ−イソプロピルヘテロアリールオ
キシアセトアニリドの製造に対する本発明による方法は
好ましくは希釈剤を用いて行う。これらのものには好ま
しくは炭化水素例えばトルエン、キシレンまたはシクロ
ヘキサン、ハロゲノ炭化水素例えば塩化メチレン、塩化
エチレン、クロロホルムまたはクロロベンゼン、エーテ
ル例えばジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイ
ソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジイソブチル
エーテル、グリコールジメチルエーテル、テトラヒドロ
フラン及びジオキサン、アルコール例えばメタノール、
エタノール、プロパノール、イソプロパノールまたはブ
タノール、ケトン例えばアセトン、メチルエチルケト
ン、メチルイソプロピルケトン及びメチルイソブチルケ
トン、エステル例えば酢酸メチル及び酢酸エチル、アミ
ド例えばジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド
及びＮ−メチルピロリドン、ニトリル例えばアセトニト
リル及びプロピオニトリル、スルホキシド例えばジメチ
ルスルホキシド、並びにまた水または塩水溶液が含まれ
る。
この工程に使用し得る塩には好ましくはアルカリ金属
またはアルカリ土金属の塩化物または硫酸塩例えば塩化
ナトリウム、塩化カリウムまたは塩化カルシウムが含ま
れる。塩化ナトリウムが殊に好ましい。
本発明による方法は好ましくは酸結合剤を用いて行
う。好適に用いる酸結合剤には強塩基性アルカリ金属化
合物及びアルカリ土金属化合物例えば酸化物例えば酸化
ナトリウム、酸化カリウム、酸化マグネシウム及び酸化
カルシウム、水酸化物例えば水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、水酸化マグネシウム及び水酸化カルシウム、
並びに／または炭酸塩例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウム、炭酸マグネシウム及び炭酸カルシウムが含まれ
る。
相間移動触媒0.01〜10重量％（用いる式（III）のグ
リコールアミンをベースとして）の添加がある場合に有
利であることを知り得る。挙げ得るかかる触媒の例には
次のものがある：塩化テトラブチルアンモニウム、臭化
テトラブチルアンモニウム、臭化トリブチル−メチルホ
スホニウム、塩化トリメチル−C13/C15−アルキル−ア
ンモニウム、メチル硫酸ジベンジル−ジメチル−アンモ
ニウム、塩化ジメチル−C12/C14−アルキル−ベンジル
アンモニウム、水酸化テトラブチルアンモニウム、18−
クラウン−６、塩化トリエチルベンジルアンモニウム、
塩化トリメチルベンジルアンモニウム、臭化テトラエチ
ルアンモニウム。
本発明による方法において、反応温度は比較的広い範
囲で変え得る。一般に、本法は−50乃至110℃間の温
度、好ましくは−20乃至100℃間の温度で行う。
本発明による方法は一般に大気圧下で行うが、昇圧ま
たは減圧下、例えば0.1乃至10バール間で行うこともで
きる。
本発明による方法を行う際に、式（II）のヘテロアレ
ーン１モル当り0.5〜５モル、好ましくは0.8〜1.5モル
の式（III）のＮ−イソプロピルヒドロキシアセトアニ
リドを一般に用いる。反応体はいずれかの順番で配合し
得る。反応混合物は各々の場合に反応が完了するまで撹
拌し、そして常法により処理する。
本発明による活性化合物は、落葉剤、乾燥剤、広葉樹
の破壊剤及び、ことに殺雑草剤として使用することがで
きる。雑草とは、最も広い意味において、植物を望まな
い場所に生長するすべての植物を意味する。本発明によ
る物質は、本質的に使用量に依存して完全除草剤または
選択的除草剤として作用する。
本発明による化合物は、例えば、次の植物に関連して
使用することができる： 次の属の双子葉雑草：カラシ属（Sinapis）、マメグン
バイナズナ属（Leipidium）、ヤエムグラ属（Galiu
m）、ハコベ属（Stellaria）、シカギク属（Matricari
a）、カミツレモドキ属（Anthemis）、ガリンソガ属（G
alinsoga）、アカザ属（Chenopodium）、イラクサ属（U
rtica）、キオン属（Senecio）、ヒユ属（Amaranthu
s）、スベリヒユ属（Portulaca）、オナモミ属（Xanthi
umu）、ヒルガオ属（Convolvulus）、サツマイモ属（Ip
omoea）、タデ属（Polygonum）、セスバニア属（Sesban
ia）、オナモミ属（Ambrosia）、アザミ属（Cirsiu
m）、ヒレアザミ属（Carduus）、ノゲシ属（Sonchu
s）、ナス属（Solanum）、イヌガラシ属（Rorippa）、
キカシグサ属（Rotala）、アゼナ属（Lindernia）、ラ
ミウム属（Lamium）、クワガタソウ属（Veronica）、イ
チビ属（Abutilon）、エメクス属（Emex）、チヨウセン
アサガオ属（Datura）、スミレ属（Viola）、チシマオ
ドリコ属（Galeopsis）、ケシ属（Papaver）及びセンタ
ウレア属（Centaurea）。
次の属の双子葉栽培植物：ワタ属（Gossypium）、ダイ
ズ属（Glycine）、フダンソウ属（Beta）、ニンジン属
（Daucus）、インゲンマメ属（Phaseolus）、エンドウ
属（Pisum）、ナス属（Solanum）、アマ属（Linum）、
サツマイモ属（Ipomoea）、ソラマメ属（Vicia）、タバ
コ属（Nicotiana）、トマト属（Lycopersicon）、ラツ
マセイ属（Arachis）、アブラナ属（Brassica）、アキ
ノノゲシ属（Lactuca）、キユウリ属（Cucumis）及びウ
リ属（Cucurbita）。
次の属の単子葉雑草：ヒエ属（Echinochloa）、エノコ
ログサ属（Setaria）、キビ属（Panicum）、メヒシバ属
（Digitaria）、アワガリエ属（Phleum）、スズメノカ
タビラ属（Poa）、ウシノケグサ属（Festuca）、オヒシ
バ属（Eleucine）、ブラキアリア属（Brachiaria）、ド
クムギ属（Lolium）、スズメノチヤヒキ属（Bromus）、
カラスムギ属（Avena）、カラツリグサ属（Cyperus）、
モロコシ属（Sorghum）、カモジグサ属（Agropyron）、
シノドン属（Cynodon）、ミズアオイ属（Monochori
a）、テンツキ属（Fimbristylis）、オモダカ属（Sagit
taria）、ハリイ属（Eleocharis）、ホタルイ属（Scirp
us）、パスパルム属（Paspalum）、カモノハシ属（Isch
aemum）、スフエノクレア属（Sphenoclea）、ダクチロ
クテニウム属（Dactyloctenium）、ヌカボ属（Agrosti
s）、スズメノテツポウ属（Alopecurus）及びアペラ属
（Apera）。
次の属の単子葉栽培植物：イネ属（Oryza）、トウモロ
コシ属（Zea）、コムギ属（Triticum）、オオムギ属（H
ordeum）、カラスムギ属（Avena）、ライムギ属（Secal
e）、モロコシ属（Sorghum）、キビ属（Panicum）、サ
トウキビ属（Saccharum）、アナナス属（Ananas）、ク
サスギカズラ属（Asparagus）およびネギ属（Alliu
m）。
しかしながら、本発明による活性化合物の使用はこれ
らの属にまつたく限定されず、同じ方法で他の植物に及
ぶ。
化合物は、濃度に依存して、例えば工業地域及び鉄道
線路上、樹木が存在するか或いは存在しない道路及び広
場上の雑草の完全防除に適する。同等に、化合物は多年
生栽培植物、例えば造林、装飾樹木、果樹園、ブドウ
園、かんきつ類の木立、クルミの果樹園、バナナの植
林、コーヒーの植林、茶の植林、ゴムの木の植林、油ヤ
シの植林、カカオの植林、小果樹の植え付け及びホツプ
の栽培植物の中の雑草の防除に、そして１年生栽培植物
中の雑草の選択的防除に使用することができる。
本発明による式（Ｉ）の化合物は特に発芽前法を用い
て、単子葉及び双子葉作物における単子葉雑草の選択的
防除に殊に適している。これらのものは大麦、小麦、ト
ウモロコシ、イネ、ヒマワリ及び大豆による十分に許容
されることに殊に特徴がある。
本活性化合物は普通の組成物例えば、溶液、乳液、水
和剤、懸濁剤、粉末、粉剤、塗布剤、可溶性粉末、顆
粒、懸濁−乳液濃厚剤、活性化合物を含浸させた天然及
び合成物質、並びに種子用の重合物質中の極く細かいカ
プセルに変えることができる。
これらの組成物は公知の方法において、例えば活性化
合物を伸展剤、即ち液体溶媒及び／または固体の単体と
随時表面活性剤、即ち乳化剤及び／または分散剤及び／
または発泡剤と混合して製造される。
また伸展剤として水を用いる場合、例えば補助溶媒と
して有機溶媒を用いることもできる。液体溶媒として、
主に、芳香族炭化水素例えばキシレン、トルエンもしく
はアルキルナフタレン、塩素化された芳香族もしくは塩
素化された脂肪族炭化水素例えばクロロベンゼン、クロ
ロエチレンもしくは塩化メチレン、脂肪族炭化水素例え
ばシクロヘキサン、またはパラフイン例えば鉱油留分、
鉱油及び植物油、アルコール例えばブタノールもしくは
グリコール並びにそのエーテル及びエステル、ケトン例
えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトンもしくはシクロヘキサノン、強い有極性溶媒例え
ばジメチルホルムアミド及びジメチルスルホキシド並び
に水が適している。
固体の単体として、例えばアンモニウム塩並びに粉砕
した天然鉱物、例えばカオリン、クレイ、タルク、チョ
ーク、石英、アタパルジヤイト、モントモリロナイト、
またはケイソウ土並びに粉砕した合成鉱物例えば高度に
分散生ケイ酸、アルミナ及びシリケートが適している、
粒剤に対する固体の担体として、粉砕し且つ分別した天
然岩、例えば方解石、大理石、軽石、海泡石及び白雲石
並びに無機及び有機のひきわり合成顆粒及び有機物質の
顆粒例えばおがくず、やしがら、トウモロコシ穂軸及び
タバコ茎が適している；乳化剤及び／または発泡剤とし
て非イオン性及び陰イオン性乳化剤例えばポリオキシエ
チレン−脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪族ア
ルコールエーテル例えばアルキルアリールポリグリコー
ルエーテル、アルキルスルホネート、アルキルスルフエ
ート、アリールスルホネート並びにアルブミン加水分解
生成物が適している；分散剤として、例えばリグニンス
ルフアイト廃液及びメチルセルロースが適している。
接着剤例えばカルボキシメチルセルロース並びに粉
状、粒状またはラテツクス状の天然及び合成重合体例え
ばアラビアゴム、ポリビニルアルコール及びポリビニル
アセテート並びに天然リン脂質例えばセフアリン及びレ
シチン、及び合成リン脂質を組成物に用いることができ
る。更に添加物は鉱油及び植物油であることができる。
着色剤例えば無機顔料、例えば酸化鉄、酸化チタン及
びプルシアンブルー並びに有機染料例えばアリザリン染
料、アゾ染料及び金属フタロシアニン染料、及び微量の
栄養剤例えば鉄、マンガン、ホウ素、銅、コバルト、モ
リブデン及び亜鉛の塩を用いることができる。
調製物は一般に活性化合物0.1乃至95重量％間、好ま
しくは0.5乃至90重量％間を含有する。
また本発明による活性化合物は、そのまま或いはその
調製物の形態において、公知の除草剤との混合物として
雑草を防除するために用いることもでき、仕上げた配合
物または槽混合が可能である。
混合物として適する除草剤には公知の除草剤、例えば
穀物中の雑草を防除するための１−アミノ−６−エチル
チオ−３−（2,2−ジメチルプロピル）−1,3,5−トリア
ジン−2,4−（1H,3H）−ジオン（AMETHYDIONE）または
Ｎ−（２−ベンゾチアゾリル）−N,N′−ジメチルウレ
ア（METABENZTHIAZURON）；テンサイ中の雑草を防除す
るための４−アミノ−３−メチル−６−フエニル−1,2,
4−トリアジン−５（4H）−オン（METAMITRON）及び大
豆中の雑草を防除するための４−アミノ−６−（1,1−
ジメチルエチル）−３−メチルチオ−1,2,4−トリアジ
ン−５（4H）−オン（METRIBUZIN）；更にまた２−クロ
ロ−４−エチルアミノ−６−イソプロピルアミノ−1,3,
5−トリアジン（ATRAZIN）;2−［［［［［（4,6−ジメ
トキシピリミド−イン−２−イル）−アミノ］−カルボ
ニル］−アミノ］−スルホニル］−メチル］−安息香酸
メチル（BENSULFURON）;5−アミノ−４−クロロ−２−
フエニル−2,3−ジヒドロ−３−オキシ−ピリダジン（C
HLORIDAZON）;2−｛［（４−クロロ−６−メトキシ−２
−ピリミジニル）−アミノカルボニル］−アミノスルホ
ニル｝−安息香酸エチル（CHLORIMURON）;2−クロロ−
Ｎ−｛［（４−メトキシ−６−メチル−1,3,5−トリア
ジン−２−イル）−アミノ］−カルボニル｝−ベンゼン
スルホンアミド（CHLORSULFURON）;2−クロロ−４−エ
チルアミノ−６−（３−シアノプロピルアミノ）−1,3,
5−トリアジン（CYANZINE）;4−アミノ−６−ｔ−ブチ
ル−３−エチルチオ−1,2,4−トリアジン−５（4H）−
オン（ETHIOZIN）;1−メチル−３−フエニル−５−（３
−トリフルオロメチルフエニル）−４−ピリドン（FLUR
IDONE）;5−（２−クロロ−４−トリフルオロメチル−
フエノキシ）−Ｎ−メチルスルホニル−２−ニトロベン
ズアミド（FOMESAFEN）;2−［4,5−ジヒドロ−４−メチ
ル−４−（１−メチルエチル）−５−オキソ−1H−イミ
ダゾル−２−イル］−４（５）−メチル安息香酸メチル
（IMAZAMETHABENZ）;2−［５−メチル−５−（１−メチ
ルエチル）−４−オキソ−２−イミダゾリン−２−イ
ル］−３−キノリンカルボン酸（IMAZQUIN）;N−メチル
−２−（1,3−ベンゾチアゾル−２−イルオキシ）−ア
セトアニリド（MEFENACET）;2−｛［［（（４−メトキ
シ−６−メチル−1,3,5−トリアジン−２−イル）−エ
ミノ−カルボニル］−エミノ］−スルホニル｝−安息香
酸またはそのメチルエステル（METSULFURON）Ｎ−（１
−エチルプロピル）−3,4−ジメチル−2,6−ジニトロア
ニリン（PENDIMETHALIN）;2−クロロ−4,6−ビス−（エ
チルアミノ）−1,3,5−トリアジン（SIMAZIN）;2,4−ビ
ス−［Ｎ−エチルアミノ］−６−メチルチオ−1,3,5−
トリアジン（SIMETRYNE）;4−エチルアミノ−２−ｔ−
ブチルアミノ−６−メチルチオ−ｓ−トリアジン（TERB
UTRYNE）;3−［［［［（４−メトキシ−６−メチル−1,
3,5−トリアジン−２−イル）−アミノ］−カルボニ
ル］−アミノ］−スルホニル］−チオフエン−２−カル
ボン酸メチル及び2,6−ジニトロ−４−トリフルオロメ
チル−N,N−ジプロピルアニリン（TRIFLURALIN）があ
る。驚くべきことに、ある混合物は相乗作用も示す。
他の活性化合物例えば殺菌・殺カビ剤、殺虫剤（inse
cticides）、殺ダニ剤（acaricides）、殺線虫剤（nema
ticides）、小鳥忌避剤、植物栄養剤及び土壌改良剤と
の混合物が可能である。
本活性化合物はそのままで、或いはその配合物の形態
またはその配合物から更に希釈して調製した使用形態、
例えば調製済液剤、懸濁剤、乳剤、粉剤、塗布剤及び粒
剤の形態で使用することができる。これらのものは普通
の方法で、例えば液剤散布（watering）、スプレー、ア
トマイジング（atomising）または粒剤散布（scatterin
g）によつて施用される。
本発明による活性化合物は植物の発芽の前または後に
施用することができる。
また本化合物は種子をまく前に土壌中に混入すること
ができる。
本活性化合物の使用量は実質的な範囲内で変えること
ができる。この量は本質的に所望の効果の特質に依存す
る。一般に、施用量は土壌表面１ヘクタール当り活性化
合物0.01乃至10kg間、好ましくは0.05乃至5kg/ha間であ
る。
本発明による活性化合物の製造及び用途は次の実施例
から知り得る。
製造実施例 実施例１ ２−メチルスルホニル−５−トリフルオロメチル−1,
3,4−チアジアゾール11.8g（0.05モル）を３′−クロロ
−Ｎ−イソプロピルヒドロキシアセトアニリド11.4g
（0.05g）と一緒にアセトン100mlに溶解した。水酸化ナ
トリウム粉末2.4g及び水9mlの溶液を−20℃で滴下しな
がら徐々に加えた。次に撹拌を−20℃で３時間続け、次
に反応混合物を水中に注いだ。結晶性生成物を吸引濾過
により単離した。
屈折率▲ｎ20 D▼:1.5170のＮ−イソプロピル−（５−
トリフルオロメチル−1,3,4−チアジアゾル−２−イ
ル）−３′−クロロ−オキシアセトアニリド16.1g（理
論値の85％）が得られた。
また下の第２表に示す式（Ｉ）の化合物を実施例１と
同様に、そして本発明による製造方法の一般的記載に従
つて製造することもできた： 式（III）の出発物質 実施例（III−１） Ｎ−イソプロピルアニリン259g（1.91モル）をピリジ
ン182g（2.29モル）と一緒にトルエン2.2に溶解し
た。次に塩化アセトキシアセチル259.7g（1.91モル）を
０〜５℃で滴下しながら加えた。次に撹拌を０〜５℃で
１時間及び20℃で12時間続けた。処理のために、トルエ
ン相を水及び希塩酸と振盪することにより抽出し、水を
用いて中性にまるまで洗浄し、乾燥し、そして濃縮し
た。101℃で溶融する結晶性のベージユ色の固体が残つ
た。
かくてＮ−イソプロピルアセトキシアセトアニリド34
0g（理論値の76％）が得られた。
このものの334g（1.42モル）をメタノール500mlに懸
濁させた。この懸濁液を水500ml及び水酸化ナトリウム6
3g（1.57モル）の溶液中に導入した。混合物を40℃で３
時間、次に20℃で更に12時間撹拌した。濃塩酸を用いて
反応溶液のpH値を６に調整し、そして溶液をロータリー
・エバポレータ上で半分に濃縮した。次に水500mlを加
え、そして反応生成物をクロロホルム700mlを用いて抽
出した。有機相を水で洗浄し、硫酸ナトリウムを用いて
乾燥し、濾過し、そして蒸発させた。
かくて融点39℃の結晶性残渣としてＮ−イソプロピル
ヒドロキシアセトアニリド256g（理論値の94％）が得ら
れた。
また下の第３表に示す式（III）の化合物が実施例（I
II−１）と同様に製造することができた： 使用例 次の使用例において、比較物質として下の式の化合物
を用いた： Ｎ−メチル−２−（５−クロロ−1,3,4−チアジアゾ
ル−２−イル−オキシ）アセトアニリド（ヨーロツパ特
許出願公開第192,117号に開示）。
実施例Ａ 発芽前試験 溶 媒：アセトン５重量部 乳化剤：アルキルアリールポリグリコールエーテル１
重量部 活性化合物の適当な調製物を製造するために、活性化
合物１重量部を上記量の溶媒と混合し、上記量の乳化剤
を加え、この濃厚物を水で希釈して所望の濃度にした。
試験植物の種子を通常の土壌中にまき、24時間後、活
性化合物の調製物を液剤散布した。単位面積当りの水の
量を一定に保持することが適当である。調製物中の活性
化合物の濃度は重要ではなく、単位面積当り施用した活
性化合物の量のみが決めてとなる。３週間後、植物に対
する損傷の程度を、未処理対照植物の発育と比較して、
％損傷として評価した。数字は次を意味する： ０％＝作用なし（未処理対照と同様） 100％＝全撲滅 この試験において、例えば製造実施例（１）、（５）
及び（34）の化合物は従来のものと比較して作物植物に
おける選択性に関して明らかな優位性を示した。その結
果を第Ａ表に示す。
本発明の主なる特徴及び態様は以下のとおりである。
1.化合物Ｎ−イソプロピル−（５−トリフルオロメチル
−1,3,4−チアジアゾル−２−イル）−オキシアセトア
ニリドを除く、一般式（Ｉ） 式中、Ａは窒素または基Ｃ−R3を表わし、ここに R3はハロゲン、シアノ、アルキル、ハロゲノアルキ
ル、アルコキシ、ハロゲノアルコキシ、アルキルチオ、
ハロゲノアルキルチオ、アルキルスルフイニルまたはア
ルキルスルホニルを表わし、 Ｂは窒素または基Ｃ−R4を表わし、ここに R4はハロゲン、シアノ、アルキル、ハロゲノアルキ
ル、アルコキシ、ハロゲノアルコキシ、アルキルチオ、
ハロゲノアルキルチオ、アルキルスルフイニル、ハロゲ
ノアルキルスルフイニル、アルキルスルホニル、ハロゲ
ノアルキルスルホニル、随時ハロゲン、アルキル、ハロ
ゲノアルキル、アルコキシもしくはハロゲノアルコキシ
で置換されていてもよいフエニルまたは基−CY2−Ｚ−R
5を表わし、ここに R5は随時ハロゲン、アルコキシもしくはアルキルチオ
で置換されていてもよいアルキルまたは随時ハロゲン、
アルキル、ハロゲノアルキル、アルコキシ、ハロゲノア
ルコキシ、アルキルチオもしくはハロゲノアルキルチオ
で置換されていてもよいフエニルを表わし、 Ｙは水素またはハロゲンを表わし、 Ｚは酸素、硫黄、SOまたはSO2を表わし、 R1は水素、ハロゲン、シアノ、ニトロ、アルキル、ハ
ロゲノアルキル、アルコキシ、ハロゲノアルコキシ、ア
ルキルチオまたはハロゲノアルキルチオを表わし、 R2は水素、ハロゲン、アルキル、ハロゲノアルキルま
たはアルコキシを表わし、そして Ｘは酸素または硫黄を表わす、 のＮ−イソプロピルヘテロアリールオキシアセトアニリ
ド。
2.化合物Ｎ−イソプロピル−（５−トリフルオロメチル
−1,3,4−チアジアゾル−２−イル）−オキシアセトア
ニリドを除き、 Ａが窒素または基Ｃ−R3を表わし、ここに R3がフツ素、塩素、臭素、シアノ、随時フツ素及び／
もしくは塩素で置換されていてもよいC1−C4−アルキ
ル、随時フツ素及び／もしくは塩素で置換されていても
よいC1−C4−アルコキシ、随時フツ素及び／もしくは塩
素で置換されていてもよいC1−C4−アルキルチオ、C1−
C4−アルキルスルフイニルまたはC1−C4−アルキルスル
ホニルを表わし、 Ｂが窒素または基Ｃ−R4を表わし、ここに R4がフツ素、塩素、臭素、シアノ、随時フツ素及び／
もしくは塩素で窒素で置換されていてもよいC1〜C4−ア
ルキル、随時フツ素及び／もしくは塩素で置換されてい
てもよいC1〜C4−アルコキシ、随時フツ素及び／もしく
は塩素で置換されていてもよいC1〜C4−アルキルチオ、
随時フツ素及び／もしくは塩素で置換されていてもよい
C1〜C4−アルキルスルフイニル、随時フツ素及び／もし
くは塩素で置換されていてもよいC1〜C4−アルキルスル
ホニル、随時フツ素、塩素、臭素、C1〜C4−アルキル、
トリフルオロメチル、C1〜C4−アルコキシもしくはトリ
フルオロメトキシで置換されていてもよいフエニルまた
は基−CY2−Ｚ−R5を表わし、ここに R5が随時フツ素及び／もしくは塩素で置換されていて
もよいC1〜C4−アルキル、C1〜C4−アルコキシまたはC1
〜C4−アルキルチオ或いは随時フツ素、塩素、臭素、C1
〜C4−アルキル、トリフルオロメチル、C1〜C4−アルコ
キシ、トリフルオロメトキシ、C1〜C4−アルキルチオも
しくはトリフルオロメチルチオで置換されていてもよい
フェニルを表わし、 Ｙが水素、フツ素または塩素を表わし、 Ｚが酸素、硫黄、SOまたはSO2を表わし、 R1が水素、フツ素、塩素、臭素、シアノ、ニトロ、随
時フツ素及び／もしくは塩素で置換されていてもよいC1
〜C4−アルキル、随時フツ素及び／もしくは塩素で置換
されていてもよいC1〜C4−アルコキシまたは随時フツ素
及び／もしくは塩素で置換されていてもよいC1〜C4−ア
ルキルチオを表わし、 R2が水素、フツ素、塩素、臭素、メチル、トリフルオ
ロメチルまたはメトキシを表わし、そして Ｘが酸素または硫黄を表わす、 上記１に記載の一般式（Ｉ）の化合物。
3.化合物Ｎ−イソプロピル−５−（トリフルオロメチル
−1,3,4−チアジアゾル−２−イル）−オキシアセトア
ニリドを除く、式（I a） 式中、R1は水素、フツ素、塩素、メチル、トリフルオ
ロメチルまたはメトキシを表わし、 R2は水素を表わし、 R4は塩素、トリフルオロメチル、クロロジフルオロメ
チル、フルオロジクロロメチル、ジクロロメチル、トリ
クロロメチル、ペンタフルオロエチル、ヘプタフルオロ
プロピル、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、メ
チルスルフイニル、エチルスルフイニル、プロピルスフ
ルイニル、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロ
ピルスルホニルまたはフエニルを表わし、そして Ｘは酸素または硫黄を表わす、 の上記１に記載のＮ−イソプロピルヘテロアリールオキ
シアセアニリド。
4.（I b） 式中、R1は水素、フツ素、塩素、メチル、トリフルオ
ロメチルまたはメトキシを表わし、 R2は水素を表わし、 R3は塩素、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、
クロロジフルオロメチル、フルオロジクロロメチル、ジ
クロロメチル、トリクロロメチル、メチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、メチルチオ、エチルチオ、プロ
ピルチオ、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロ
ピルスルホニル、メチルスルフイニル、エチルスルフイ
ニルまたはプロピルスルフイニルを表わし、そして Ｘは酸素または硫黄を表わす、 の上記１に記載のＮ−イソプロピルヘテロアリールオキ
シアセトアニリド。
5.式（I c） 式中、R1は水素、フツ素、塩素、メチル、トリフルオ
ロメチルまたはメトキシを表わし、 R2は水素を表わし、 R3は塩素、フツ素、メチル、ジフルオロメチル、ジク
ロロメチル、クロロジフルオロメチル、フルオロジクロ
ロメチル、トリクロロメチルまたはトリフルオロメチル
を表わし、そして R4は塩素、シアノ、ジフルオロメチル、ジクロロメチ
ル、クロロジフルオロメチル、フルオロジクロロメチ
ル、トリクロロメチルまたはトリフルオロメチルを表わ
す、 の上記１に記載のＮ−イソプロピルヘテロアリールオキ
シアセトアニリド。
6.一般式（II） 式中、Ａ、Ｂ及びＸは上記１に記載の意味を有し、そ
して Ｄは核脱離基（nucleofugic leaving group）を表わ
す、 のヘテロアレーンを適当ならば希釈剤の存在下、適当な
らば酸結合剤の存在下及び適当ならば触媒の存在下で一
般式（III） 式中、R1及びR2は上記１に記載の意味を有する、 のＮ−イソプロピルヒドロキシアセトアニリドと反応さ
せることを特徴とする、上記１に記載の一般式（Ｉ）の
Ｎ−イソプロピルヘテロアリールオキシアセトアニリド
の製造方法。
7.少なくとも１つの上記１に記載の式（Ｉ）のＮ−イソ
プロピルヘテロアリールオキシアセトアニリドを含むこ
とを特徴とする、除草剤。
8.上記１に記載の式（Ｉ）のＮ−イソプロピルヘテロア
リールオキシアセトアニリドを植物またはその環境上に
作用させることを特徴とする、望ましくない植物生長の
防除方法。
9.望ましくない植物生長を防除する際の、上記１に記載
の式（Ｉ）のＮ−イソプロピルヘテロアリールオキシア
セトアニリドの使用。
10.上記１に記載の式（Ｉ）のＮ−イソプロピルヘテロ
アリールオキシアセトアニリドを増量剤及び／または表
面活性剤と混合することを特徴とする、除草剤の製造方
法。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ０７Ｄ 277/34 Ｃ０７Ｄ 285/12 285/08 Ａ０１Ｎ 43/82 １０１Ｂ 285/12 １０４ Ｃ０７Ｄ 277/34 (72)発明者 ロベルト・アール・シユミツト ドイツ連邦共和国デー5060ベルギツシユ グラート バツハ２・イムバルトビンケ ル 110 (72)発明者 ハリイ・ストラング ドイツ連邦共和国デー4000ジユツセルド ルフ31・ウンタードルフシユトラーセ ６アー (56)参考文献 特開 昭58−206578（ＪＰ，Ａ) 特開 昭55−147267（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−95973（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−189279（ＪＰ，Ａ) 特許2641518（ＪＰ，Ｂ２) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ) ＣＡ（ＳＴＮ)

Claims (8)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】化合物Ｎ−イソプロピル−（５−トリフル
    オロメチル−1,3,4−チアジアゾル−２−イル）−オキ
    シアセトアニリド、 Ｎ−イソプロピル−（３−トリクロロメチル−1,2,4−
    チアジアゾル−５−イル）−オキシアセトアニリド、 Ｎ−イソプロピル−（３−クロロ−1,2,4−チアジアゾ
    ル−５−イル）−オキシアセトアニリド、 Ｎ−イソプロピル−Ｎ−（３−クロロフェニル）−（３
    −クロロ−1,2,4−チアジアゾル−５−イル）−オキシ
    アセトアミド、 Ｎ−イソプロピル−Ｎ−（４−クロロフェニル）−（３
    −クロロ−1,2,4−チアジアゾル−５−イル）−オキシ
    アセトアミド、 Ｎ−イソプロピル−Ｎ−（2,4−ジクロロフェニル）−
    （３−クロロ−1,2,4−チアジアゾル−５−イル）−オ
    キシアセトアミド、および Ｎ−イソプロピル−Ｎ−（２−クロロフェニル）−（３
    −クロロ−1,2,4−チアジアゾル−５−イル）−オキシ
    アセトアミド を除く、一般式（Ｉ） 式中、 Ａが窒素または基Ｃ−R3を表わし、ここに R3がフッ素、塩素、臭素、シアノ、随時フッ素及び／も
    しくは塩素で置換されていてもよいC1−C4−アルキル、
    随時フッ素及び／もしくは塩素で置換されていてもよい
    C1−C4−アルコキシ、随時フッ素及び／もしくは塩素で
    置換されていてもよいC1−C4−アルキルチオ、C1−C4−
    アルキルスルフィニルまたはC1−C4−アルキルスルホニ
    ルを表わし、 Ｂが窒素または基Ｃ−R4を表わし、ここに R4がフッ素、塩素、シアノ、随時フッ素及び／もしくは
    塩素で置換されていてもよいC1〜C4−アルキル、随時フ
    ッ素及び／もしくは塩素で置換されていてもよいC1〜C4
    −アルコキシ、随時フッ素及び／もしくは塩素で置換さ
    れていてもよいC1〜C4−アルキルチオ、随時フッ素及び
    ／もしくは塩素で置換されていてもよいC1〜C4−アルキ
    ルスルフィニル、随時フッ素及び／もしくは塩素で置換
    されていてもよいC1〜C4−アルキルスルホニル、随時フ
    ッ素、塩素、臭素、C1〜C4−アルキル、トリフルオロメ
    チル、C1〜C4−アルコキシもしくはトリフルオロメトキ
    シで置換されていてもよいフェニルまたは基−CY2−Ｚ
    −R5を表わし、ここに R5が随時フッ素及び／もしくは塩素で置換されていても
    よいC1〜C4−アルキル、C1〜C4−アルコキシまたはC1〜
    C4−アルキルチオ或いは随時フッ素、塩素、臭素、C1〜
    C4−アルキル、トリフルオロメチル、C1〜C4−アルコキ
    シ、トリフルオロメトキシ、C1〜C4−アルキルチオもし
    くはトリフルオロメチルチオで置換されていてもよいフ
    ェニルを表わし、 Ｙが水素、フッ素または塩素を表わし、 Ｚが酸素、硫黄、SOまたはSO2を表わし、 R1が水素、フッ素、塩素、臭素、シアノ、ニトロ、随時
    フッ素及び／もしくは塩素で置換されていてもよいC1〜
    C4−アルキル、随時フッ素及び／もしくは塩素で置換さ
    れていてもよいC1〜C4−アルコキシまたは随時フッ素及
    び／もしくは塩素で置換されていてもよいC1〜C4−アル
    キルチオを表わし、 R2が水素、フッ素、塩素、臭素、メチル、トリフルオロ
    メチルまたはメトキシを表わし、そして Ｘが酸素または硫黄を表わす、 のＮ−イソプロピルヘテロアリールオキシアセトアニリ
    ド。
  2. 【請求項２】化合物Ｎ−イソプロピル−（５−トリフル
    オロメチル−1,3,4−チアジアゾル−２−イル）−オキ
    シアセトアニリドを除く、式（I a） 式中、R1は水素、フッ素、塩素、メチル、トリフルオロ
    メチルまたはメトキシを表わし、 R2が水素を表わし、 R4は塩素、トリフルオロメチル、クロロジフルオロメチ
    ル、フルオロジクロロメチル、ジクロロメチル、トリク
    ロロメチル、ペンタフルオロエチル、ヘプタフルオロプ
    ロピル、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、メチ
    ルスルフィニル、エチルスルフィニル、プロピルスルフ
    ィニル、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピ
    ルスルホニルまたはフェニルを表わし、そして Ｘは酸素または硫黄を表わす、 の特許請求の範囲第１項記載のＮ−イソプロピルヘテロ
    アリールオキシアセトアニリド。
  3. 【請求項３】化合物Ｎ−イソプロピル−（３−クロロ−
    1,2,4−チアジアゾル−５−イル）−オキシアセアニリ
    ド、 Ｎ−イソプロピル−Ｎ−（３−クロロフェニル）−（３
    −クロロ−1,2,4−チアジアゾル−５−イル）−オキシ
    アセトアミド、 Ｎ−イソプロピル−Ｎ−（４−クロロフェニル）−（３
    −クロロ−1,2,4−チアジアゾル−５−イル）−オキシ
    アセトアミド、および Ｎ−イソプロピル−Ｎ−（２−クロロフェニル）−（３
    −クロロ−1,2,4−チアジアゾル−５−イル）−オキシ
    アセトアミド を除く、式（I b） 式中、R1は水素、フッ素、塩素、メチル、トリフルオロ
    メチルまたはメトキシを表わし、 R2は水素を表わし、 R3は塩素、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、ク
    ロロジフルオロメチル、フルオロジクロロメチル、ジク
    ロロメチル、メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
    ル、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、メチルス
    ルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、メ
    チルスルフィニル、エチルスルフィニルまたはプロピル
    スルフィニルを表わし、そして Ｘは酸素または硫黄を表わす、 の特許請求の範囲第１項記載のＮ−イソプロピルヘテロ
    アリールオキシアセトアニリド。
  4. 【請求項４】式（I c） 式中、R1は水素、フッ素、塩素、メチル、トリフルオロ
    メチルまたはメトキシを表わし、 R2は水素を表わし、 R3は塩素、フッ素、メチル、ジフルオロメチル、ジクロ
    ロメチル、クロロジフルオロメチル、フルオロジクロロ
    メチル、トリクロロメチルまたはトリフルオロメチルを
    表わし、そして R4は塩素、シアノ、ジフルオロメチル、ジクロロメチ
    ル、クロロジフルオロメチル、フルオロジクロロメチ
    ル、トリクロロメチルまたはトリフルオロメチルを表わ
    す、 の特許請求の範囲第１項記載のＮ−イソプロピルヘテロ
    アリールオキシアセトアニリド。
  5. 【請求項５】式 の特許請求の範囲第１項または第２項記載のＮ−イソプ
    ロピル−Ｎ−（４−フルオロフェニル）−（５−トリフ
    ルオロメチル−1,3,4−チアジアジル−５−イル）−オ
    キシアセトアミド。
  6. 【請求項６】一般式（II） 式中、Ａ、Ｂ及びＸは特許請求の範囲第１項記載の意味
    を有し、そして Ｄは核脱離基を表わす、 のヘテロアレーンを適当ならば希釈剤の存在下、適当な
    らば酸結合剤の存在下及び適当ならば触媒の存在下で一
    般式（III） 式中、R1及びR2は特許請求の範囲第１項記載の意味を有
    する、 のＮ−イソプロピルヒドロキシアセトアミドと反応させ
    ることを特徴とする、特許請求の範囲第１項記載の一般
    式（Ｉ）のＮ−イソプロピルヘテロアリールオキシアセ
    トアニリドの製造方法。
  7. 【請求項７】少なくとも１つの特許請求の範囲第１項記
    載のＮ−イソプロピルヘテロアリールオキシアセトアニ
    リドを含むことを特徴とする、除草剤。
  8. 【請求項８】特許請求の範囲第１項記載のＮ−イソプロ
    ピルヘテロアリールオキシアセトアニリドを植物または
    その環境上に作用させることを特徴とする、望ましくな
    い植物生長の防除方法。
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