JPH0952864A - アクリル酸第三級アルキルエステルの製造方法 - Google Patents
アクリル酸第三級アルキルエステルの製造方法Info
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-
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明の目的は、短時間で且つ収率良くアク
リル酸第三級アルキルエステルを得る製造方法を提供す
ることである。 【解決手段】 アクリル酸クロライドと第三級アルコー
ルとのエステル化反応において、炭化水素系有機溶剤中
で反応させることを特徴とする下記一般式(1) 【化1】 (式中、R1、R2、R3は炭素数1〜12の置換基であ
り、R1、R2、R3の炭素数の合計は5〜21であ
る。)に示すアクリル酸第三級アルキルエステルの製造
方法である。
リル酸第三級アルキルエステルを得る製造方法を提供す
ることである。 【解決手段】 アクリル酸クロライドと第三級アルコー
ルとのエステル化反応において、炭化水素系有機溶剤中
で反応させることを特徴とする下記一般式(1) 【化1】 (式中、R1、R2、R3は炭素数1〜12の置換基であ
り、R1、R2、R3の炭素数の合計は5〜21であ
る。)に示すアクリル酸第三級アルキルエステルの製造
方法である。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規なアクリル酸
第三級アルキルエステルの製造方法に関するものであ
る。より詳細にはアクリル酸クロライドと第三級アルコ
ールとの反応からアクリル酸第三級アルキルエステルを
製造するに際して、特定の溶剤中で反応させることを特
徴とする製造方法に関するものである。
第三級アルキルエステルの製造方法に関するものであ
る。より詳細にはアクリル酸クロライドと第三級アルコ
ールとの反応からアクリル酸第三級アルキルエステルを
製造するに際して、特定の溶剤中で反応させることを特
徴とする製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、アクリル酸アルキルエステルの製
造に関しては、アクリル酸と第一級アルコール又は第二
級アルコールを用いた反応が殆どであり、例えば、高分
子実験学「単量体I」221頁(共立出版)には、アク
リル酸クロライドと第一級アルコール又は第二級アルコ
ールを塩基触媒存在下でエステル化を行う方法が紹介さ
れている。また、第3級アルコールに関しては、オルガ
ニック.シンセシス.コレクティブ「Organic.Synthese
s.Collective」第3巻,142頁に、酢酸クロライドと
第三級ブチルアルコールによる反応が紹介されている。
一方、有機化学合成協会誌26巻(7号),601頁
(1968)に、アクリル酸とイソブチレンの反応によ
りエステル化を行う方法が紹介されている。
造に関しては、アクリル酸と第一級アルコール又は第二
級アルコールを用いた反応が殆どであり、例えば、高分
子実験学「単量体I」221頁(共立出版)には、アク
リル酸クロライドと第一級アルコール又は第二級アルコ
ールを塩基触媒存在下でエステル化を行う方法が紹介さ
れている。また、第3級アルコールに関しては、オルガ
ニック.シンセシス.コレクティブ「Organic.Synthese
s.Collective」第3巻,142頁に、酢酸クロライドと
第三級ブチルアルコールによる反応が紹介されている。
一方、有機化学合成協会誌26巻(7号),601頁
(1968)に、アクリル酸とイソブチレンの反応によ
りエステル化を行う方法が紹介されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】アクリル酸とイソブチ
レンとの付加反応によるエステル化は、5時間以上の反
応時間が必要であり、しかも収率は30〜65%と低い。ま
た前述のように、酢酸の第三級アルキルエステルや、ア
クリル酸の第一級アルコール又は第二級アルコールとの
エステルの製造方法については既に報告がなされている
が、本発明のアクリル酸クロライドと第三級アルコール
とのエステル化によるアクリル酸第三級アルキルの製造
方法に関しては全く報告がされていない。そして原料の
アルコールや副生成物であるアンモニウム塩酸塩に対す
る良溶媒という観点から、通常は極性溶媒が選択される
が、そういう溶媒中でアクリル酸クロライドと第三級ア
ルコールとを反応させても非常に低収率でしか目的物が
得られない。本発明の目的は短時間で、且つ収率良くア
クリル酸第三級アルキルエステルを得る製造方法を提供
することである。
レンとの付加反応によるエステル化は、5時間以上の反
応時間が必要であり、しかも収率は30〜65%と低い。ま
た前述のように、酢酸の第三級アルキルエステルや、ア
クリル酸の第一級アルコール又は第二級アルコールとの
エステルの製造方法については既に報告がなされている
が、本発明のアクリル酸クロライドと第三級アルコール
とのエステル化によるアクリル酸第三級アルキルの製造
方法に関しては全く報告がされていない。そして原料の
アルコールや副生成物であるアンモニウム塩酸塩に対す
る良溶媒という観点から、通常は極性溶媒が選択される
が、そういう溶媒中でアクリル酸クロライドと第三級ア
ルコールとを反応させても非常に低収率でしか目的物が
得られない。本発明の目的は短時間で、且つ収率良くア
クリル酸第三級アルキルエステルを得る製造方法を提供
することである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、アクリル酸ク
ロライドと下記一般式(1)
ロライドと下記一般式(1)
【化3】 (式中、R1、R2、R3は炭素数1〜12の置換基であ
り、R1、R2、R3の炭素数の合計は5〜21であ
る。)に示す第三級アルコールとを、炭化水素有機溶剤
中でエステル化反応させることを特徴とする下記一般式
(2)
り、R1、R2、R3の炭素数の合計は5〜21であ
る。)に示す第三級アルコールとを、炭化水素有機溶剤
中でエステル化反応させることを特徴とする下記一般式
(2)
【化4】 (式中、R1、R2、R3は炭素数1〜12の置換基であ
り、R1、R2、R3の炭素数の合計は5〜21であ
る。)に示すアクリル酸第三級アルキルエステルの製造
方法である。
り、R1、R2、R3の炭素数の合計は5〜21であ
る。)に示すアクリル酸第三級アルキルエステルの製造
方法である。
【0005】
【発明の実施の形態】本発明に用いる第三級アルコール
の具体例としては、2−メチル−2−ブタノール、2,
3−ジメチル−2−ブタノール、2−メチル−2−ペン
タノール、3−メチル−3−ペンタノール、3−エチル
−3−ペンタノール、2,4−ジメチル−2−ペンタノ
ール、2,3−ジメチル−3−ペンタノール、2,2,
4−トリメチル−3−ペンタノール、3−エチル−2,
2−ジメチル−3−ペンタノール、2−メチル−2−ヘ
キサノール、3−メチル−3−ヘキサノール、2,3−
ジメチル−2−ヘキサノール、2,5−ジメチル−2−
ヘキサノール、3,4−ジメチル−3−ヘキサノール、
3,5−ジメチル−3−ヘキサノール、2−メチル−2
−ヘプタノール、3−メチル−3−ヘプタノール、3−
エチル−3−ヘプタノール、4−メチル−4−ヘプタノ
ール、4−メチル−4−オクタノール、4−メチル−4
−ノナノール、3,7−ジメチル−3−オクタノール、
2,3−ジメチル−2,3−ブタンジオール、2−メチ
ル−2,4−ペンタンジオール、2,4−ジメチル−
2,4−ペンタンジオール、2,5−ジメチル−2,5
−ヘキサンジオール、2−メチル−3−ブテン−2−オ
ール、3−メチル−1−ペンテン−3−オール、2−メ
チル−4−ペンテン−2−オール、2,3−ジメチル−
3−ペンテン−2−オール、3−エチル−5−ヘキセン
−3−オール、3,5−ジメチル−5−ヘキセン−3−
オール、4−メチル−1−ヘプテン−4−オール、4−
メチル−1,6−ヘプタジエン−4−オール、3−ヒド
ロキシ−3,7,11−トリメチル−1,6,10−ド
デカトリエン、シクロヘキシルジシクロプロピルカルビ
ノール、1−メチルシクロペンタノール、1−エチルシ
クロペンタノール、1−プロピルシクロペンタノール、
1−ブチルシクロペンタノール、1−メチルシクロオク
タノール、1−アダマンタノール、1−(トリクロロメ
チル)−シクロヘキサノール、2−メチル−3,3,
4,4−テトラフロロ−2−ブタノール、2,5−ジメ
チル−1,2,6−ヘキサントリオール、2−フェニル
−2−プロパノール、α−シクロプロピル−α−メチル
ベンジルアルコール、α−メチル−α−(1−メチルシ
クロプロピル)−ベンジルアルコール、α,α−ジシク
ロプロピルベンジルアルコール、シクロプロピルジフェ
ニルカルビノール、1−フェニル−1−シクロヘキサノ
ール、1,1−ジフェニルエタノール、トリフェニルメ
タノール、1,1,2−トリフェニルエタノール、ベン
ゾピナコール、1,1,4,4−テトラフェニル−1,
4−ブタンジオール、1,1,1,3,3,3−ヘキサ
フロロ−2−フェニル−2−プロパノール、α−シクロ
プロピル−α,p−ジメチルベンジルアルコール、α,
p−ジメチル−α−(1−メチルシクロプロピル)−ベ
ンジルアルコール、α,α−ジシクロプロピル−p−メ
チルベンジルアルコール、α−シクロプロピル−p−フ
ロロ−α−メチルベンジルアルコール、α,α−ジシク
ロプロピル−p−フロロベンジルアルコール、p−クロ
ロ−α−シクロプロピル−α−メチルベンジルアルコー
ル、p−クロロ−α,α−ジシクロプロピル−α−メチ
ルベンジルアルコール、p−ブロモ−α−シクロプロピ
ル−α−メチルベンジルアルコール、ベンジル−第三級
ブタノール、p−クロロ−α,α−ジメチルフェネチル
アルコール等が挙げられる。
の具体例としては、2−メチル−2−ブタノール、2,
3−ジメチル−2−ブタノール、2−メチル−2−ペン
タノール、3−メチル−3−ペンタノール、3−エチル
−3−ペンタノール、2,4−ジメチル−2−ペンタノ
ール、2,3−ジメチル−3−ペンタノール、2,2,
4−トリメチル−3−ペンタノール、3−エチル−2,
2−ジメチル−3−ペンタノール、2−メチル−2−ヘ
キサノール、3−メチル−3−ヘキサノール、2,3−
ジメチル−2−ヘキサノール、2,5−ジメチル−2−
ヘキサノール、3,4−ジメチル−3−ヘキサノール、
3,5−ジメチル−3−ヘキサノール、2−メチル−2
−ヘプタノール、3−メチル−3−ヘプタノール、3−
エチル−3−ヘプタノール、4−メチル−4−ヘプタノ
ール、4−メチル−4−オクタノール、4−メチル−4
−ノナノール、3,7−ジメチル−3−オクタノール、
2,3−ジメチル−2,3−ブタンジオール、2−メチ
ル−2,4−ペンタンジオール、2,4−ジメチル−
2,4−ペンタンジオール、2,5−ジメチル−2,5
−ヘキサンジオール、2−メチル−3−ブテン−2−オ
ール、3−メチル−1−ペンテン−3−オール、2−メ
チル−4−ペンテン−2−オール、2,3−ジメチル−
3−ペンテン−2−オール、3−エチル−5−ヘキセン
−3−オール、3,5−ジメチル−5−ヘキセン−3−
オール、4−メチル−1−ヘプテン−4−オール、4−
メチル−1,6−ヘプタジエン−4−オール、3−ヒド
ロキシ−3,7,11−トリメチル−1,6,10−ド
デカトリエン、シクロヘキシルジシクロプロピルカルビ
ノール、1−メチルシクロペンタノール、1−エチルシ
クロペンタノール、1−プロピルシクロペンタノール、
1−ブチルシクロペンタノール、1−メチルシクロオク
タノール、1−アダマンタノール、1−(トリクロロメ
チル)−シクロヘキサノール、2−メチル−3,3,
4,4−テトラフロロ−2−ブタノール、2,5−ジメ
チル−1,2,6−ヘキサントリオール、2−フェニル
−2−プロパノール、α−シクロプロピル−α−メチル
ベンジルアルコール、α−メチル−α−(1−メチルシ
クロプロピル)−ベンジルアルコール、α,α−ジシク
ロプロピルベンジルアルコール、シクロプロピルジフェ
ニルカルビノール、1−フェニル−1−シクロヘキサノ
ール、1,1−ジフェニルエタノール、トリフェニルメ
タノール、1,1,2−トリフェニルエタノール、ベン
ゾピナコール、1,1,4,4−テトラフェニル−1,
4−ブタンジオール、1,1,1,3,3,3−ヘキサ
フロロ−2−フェニル−2−プロパノール、α−シクロ
プロピル−α,p−ジメチルベンジルアルコール、α,
p−ジメチル−α−(1−メチルシクロプロピル)−ベ
ンジルアルコール、α,α−ジシクロプロピル−p−メ
チルベンジルアルコール、α−シクロプロピル−p−フ
ロロ−α−メチルベンジルアルコール、α,α−ジシク
ロプロピル−p−フロロベンジルアルコール、p−クロ
ロ−α−シクロプロピル−α−メチルベンジルアルコー
ル、p−クロロ−α,α−ジシクロプロピル−α−メチ
ルベンジルアルコール、p−ブロモ−α−シクロプロピ
ル−α−メチルベンジルアルコール、ベンジル−第三級
ブタノール、p−クロロ−α,α−ジメチルフェネチル
アルコール等が挙げられる。
【0006】これらの中では、反応率が高いため2−メ
チル−2−ブタノール、2,3−ジメチル−2−ブタノ
ール、2−メチル−2−ペンタノール、3−メチル−3
−ペンタノール、3−エチル−3−ペンタノール、2,
4−ジメチル−2−ペンタノール、2,3−ジメチル−
3−ペンタノール、2,2,4−トリメチル−3−ペン
タノール、3−エチル−2,2−ジメチル−3−ペンタ
ノール、2−メチル−2−ヘキサノール、3−メチル−
3−ヘキサノール、2,3−ジメチル−2−ヘキサノー
ル、2,5−ジメチル−2−ヘキサノール、3,4−ジ
メチル−3−ヘキサノール、3,5−ジメチル−3−ヘ
キサノール、2,3−ジメチル−2,3−ブタンジオー
ル、2−メチル−2,4−ペンタンジオール、2,4−
ジメチル−2,4−ペンタンジオール、2,5−ジメチ
ル−2,5−ヘキサンジオール、2−メチル−3−ブテ
ン−2−オール、3−メチル−1−ペンテン−3−オー
ル、2−メチル−4−ペンテン−2−オール、2,3−
ジメチル−3−ペンテン−2−オール、3−エチル−5
−ヘキセン−3−オール、3,5−ジメチル−5−ヘキ
セン−3−オール、4−メチル−1−ヘプテン−4−オ
ール、1−メチルシクロペンタノール、1−エチルシク
ロペンタノール、1−プロピルシクロペンタノール、1
−ブチルシクロペンタノール、1−メチルシクロオクタ
ノール、1−アダマンタノール、2,5−ジメチル−
1,2,6−ヘキサントリオール、2−フェニル−2−
プロパノール、α−シクロプロピル−α−メチルベンジ
ルアルコール、 α−メチル−α−(1−メチルシクロ
プロピル)−ベンジルアルコール、α,α−ジシクロプ
ロピルベンジルアルコール、シクロプロピルジフェニル
カルビノール、1−フェニル−1−シクロヘキサノー
ル、1,1−ジフェニルエタノール、トリフェニルメタ
ノール、1,1,2−トリフェニルエタノール、ベンゾ
ピナコール、1,1,4,4−テトラフェニル−1,4
−ブタンジオール、α−シクロプロピル−α,p−ジメ
チルベンジルアルコール、α,p−ジメチル−α−(1
−メチルシクロプロピル)−ベンジルアルコール、α,
α−ジシクロプロピル−p−メチルベンジルアルコー
ル、α−シクロプロピル−p−フロロ−α−メチルベン
ジルアルコール、α,α−ジシクロプロピル−p−フロ
ロベンジルアルコール、ベンジル−第三級ブタノールが
好ましい例として挙げられる。
チル−2−ブタノール、2,3−ジメチル−2−ブタノ
ール、2−メチル−2−ペンタノール、3−メチル−3
−ペンタノール、3−エチル−3−ペンタノール、2,
4−ジメチル−2−ペンタノール、2,3−ジメチル−
3−ペンタノール、2,2,4−トリメチル−3−ペン
タノール、3−エチル−2,2−ジメチル−3−ペンタ
ノール、2−メチル−2−ヘキサノール、3−メチル−
3−ヘキサノール、2,3−ジメチル−2−ヘキサノー
ル、2,5−ジメチル−2−ヘキサノール、3,4−ジ
メチル−3−ヘキサノール、3,5−ジメチル−3−ヘ
キサノール、2,3−ジメチル−2,3−ブタンジオー
ル、2−メチル−2,4−ペンタンジオール、2,4−
ジメチル−2,4−ペンタンジオール、2,5−ジメチ
ル−2,5−ヘキサンジオール、2−メチル−3−ブテ
ン−2−オール、3−メチル−1−ペンテン−3−オー
ル、2−メチル−4−ペンテン−2−オール、2,3−
ジメチル−3−ペンテン−2−オール、3−エチル−5
−ヘキセン−3−オール、3,5−ジメチル−5−ヘキ
セン−3−オール、4−メチル−1−ヘプテン−4−オ
ール、1−メチルシクロペンタノール、1−エチルシク
ロペンタノール、1−プロピルシクロペンタノール、1
−ブチルシクロペンタノール、1−メチルシクロオクタ
ノール、1−アダマンタノール、2,5−ジメチル−
1,2,6−ヘキサントリオール、2−フェニル−2−
プロパノール、α−シクロプロピル−α−メチルベンジ
ルアルコール、 α−メチル−α−(1−メチルシクロ
プロピル)−ベンジルアルコール、α,α−ジシクロプ
ロピルベンジルアルコール、シクロプロピルジフェニル
カルビノール、1−フェニル−1−シクロヘキサノー
ル、1,1−ジフェニルエタノール、トリフェニルメタ
ノール、1,1,2−トリフェニルエタノール、ベンゾ
ピナコール、1,1,4,4−テトラフェニル−1,4
−ブタンジオール、α−シクロプロピル−α,p−ジメ
チルベンジルアルコール、α,p−ジメチル−α−(1
−メチルシクロプロピル)−ベンジルアルコール、α,
α−ジシクロプロピル−p−メチルベンジルアルコー
ル、α−シクロプロピル−p−フロロ−α−メチルベン
ジルアルコール、α,α−ジシクロプロピル−p−フロ
ロベンジルアルコール、ベンジル−第三級ブタノールが
好ましい例として挙げられる。
【0007】エステル化反応に用いる塩基触媒として
は、第三級アミン及び、無機塩基が挙げられる。具体例
としては、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、
N,N−ジイソプロピルエチルアミン、トリブチルアミ
ン、トリオクチルアミン、N,N,N’,N’−テトラ
メチルジアミノメタン、N,N,N’,N’−テトラエ
チルジアミノメタン、N,N,N’,N’−テトラメチ
ルエチレンジアミン、N,N,N’,N’−テトラエチ
ルエチレンジアミン、N,N,N’,N’−テトラメチ
ル−1,3−プロパンジアミン、N,N,N’,N’−
テトラメチル−1,4−ブタンジアミン、N,N,
N’,N’−テトラメチル−1,2−プロパンジアミ
ン、N,N,N’,N’−テトラメチル−1,6−ヘキ
サンジアミン、N,N−ジエチル−シクロヘキシルアミ
ン、トリアリルアミン、N,N,N’,N’−テトラメ
チル−2−ブテン−1,4−ジアミン、N−(メトキシ
メチル)−ジエチルアミン、2,2’−オキシビス−
(N,N−ジメチルエチルアミン)、N−メチルピペリ
ジン、N−エチルピペラジン、N,N’−ジメチルピペ
ラジン、N−メチルモルホリン、N−エチルモルホリ
ン、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニ
リン、N,N−ジプロピルアニリン、トリフェニルアミ
ン、N,N−ジベンジルアニリン、N−アリル−N−メ
チルアニリン、N,N−ジエチル−m−トルイジン、
N,N−ジメチル−p−トルイジン、N,N,N’,
N’−テトラメチル−ベンジジン、N,N−ジエチル−
p−アニシジン、4,4’−メチレンビス−(N,N−
ジメチルアニリン)、N,N−ジメチルベンジルアミ
ン、N,N−ジメチル−1−フェニルシクロヘキシルア
ミン、トリベンジルアミン、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸
カリウム、炭酸水素カリウム等が挙げられる。
は、第三級アミン及び、無機塩基が挙げられる。具体例
としては、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、
N,N−ジイソプロピルエチルアミン、トリブチルアミ
ン、トリオクチルアミン、N,N,N’,N’−テトラ
メチルジアミノメタン、N,N,N’,N’−テトラエ
チルジアミノメタン、N,N,N’,N’−テトラメチ
ルエチレンジアミン、N,N,N’,N’−テトラエチ
ルエチレンジアミン、N,N,N’,N’−テトラメチ
ル−1,3−プロパンジアミン、N,N,N’,N’−
テトラメチル−1,4−ブタンジアミン、N,N,
N’,N’−テトラメチル−1,2−プロパンジアミ
ン、N,N,N’,N’−テトラメチル−1,6−ヘキ
サンジアミン、N,N−ジエチル−シクロヘキシルアミ
ン、トリアリルアミン、N,N,N’,N’−テトラメ
チル−2−ブテン−1,4−ジアミン、N−(メトキシ
メチル)−ジエチルアミン、2,2’−オキシビス−
(N,N−ジメチルエチルアミン)、N−メチルピペリ
ジン、N−エチルピペラジン、N,N’−ジメチルピペ
ラジン、N−メチルモルホリン、N−エチルモルホリ
ン、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニ
リン、N,N−ジプロピルアニリン、トリフェニルアミ
ン、N,N−ジベンジルアニリン、N−アリル−N−メ
チルアニリン、N,N−ジエチル−m−トルイジン、
N,N−ジメチル−p−トルイジン、N,N,N’,
N’−テトラメチル−ベンジジン、N,N−ジエチル−
p−アニシジン、4,4’−メチレンビス−(N,N−
ジメチルアニリン)、N,N−ジメチルベンジルアミ
ン、N,N−ジメチル−1−フェニルシクロヘキシルア
ミン、トリベンジルアミン、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸
カリウム、炭酸水素カリウム等が挙げられる。
【0008】これらの中では、反応率が高いためトリエ
チルアミン、トリプロピルアミン、N,N−ジイソプロ
ピルエチルアミン、トリブチルアミン、N,N,N’,
N’−テトラメチルジアミノメタン、N,N,N’,
N’−テトラエチルジアミノメタン、N,N,N’,
N’−テトラメチルエチレンジアミン、N,N,N’,
N’−テトラエチルエチレンジアミン、N,N,N’,
N’−テトラメチル−1,3−プロパンジアミン、N,
N,N’,N’−テトラメチル−1,4−ブタンジアミ
ン、N,N,N’,N’−テトラメチル−1,2−プロ
パンジアミン、N−メチルモルホリン、N−エチルモル
ホリン、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジエチル
アニリン、N,N−ジプロピルアニリン、トリフェニル
アミン、N,N−ジベンジルアニリン、4,4’−メチ
レンビス−(N,N−ジメチルアニリン)、N,N−ジ
メチルベンジルアミン、N,N−ジメチル−1−フェニ
ルシクロヘキシルアミン、トリベンジルアミン、水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水
素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム等が好
ましい例として挙げられる。
チルアミン、トリプロピルアミン、N,N−ジイソプロ
ピルエチルアミン、トリブチルアミン、N,N,N’,
N’−テトラメチルジアミノメタン、N,N,N’,
N’−テトラエチルジアミノメタン、N,N,N’,
N’−テトラメチルエチレンジアミン、N,N,N’,
N’−テトラエチルエチレンジアミン、N,N,N’,
N’−テトラメチル−1,3−プロパンジアミン、N,
N,N’,N’−テトラメチル−1,4−ブタンジアミ
ン、N,N,N’,N’−テトラメチル−1,2−プロ
パンジアミン、N−メチルモルホリン、N−エチルモル
ホリン、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジエチル
アニリン、N,N−ジプロピルアニリン、トリフェニル
アミン、N,N−ジベンジルアニリン、4,4’−メチ
レンビス−(N,N−ジメチルアニリン)、N,N−ジ
メチルベンジルアミン、N,N−ジメチル−1−フェニ
ルシクロヘキシルアミン、トリベンジルアミン、水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水
素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム等が好
ましい例として挙げられる。
【0009】本発明に用いる炭化水素溶剤とは、炭素と
水素のみから構成される化合物から成る溶剤を意味し、
直鎖又は分岐のパラフィンおよびオレフィン類、シクロ
パラフィン、芳香族化合物等を挙げることができる。具
体例としては、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタ
ン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、トリデカ
ン、テトラデカン、ペンタデカン、ヘキサデカン、ヘプ
タデカン、オクタデカン等の直鎖パラフィン、前記直鎖
パラフィンのメチル、ジメチル、トリメチル、エチル、
ジエチル、トリエチル、プロピル、ジプロピル、トリプ
ロピル、ブチル等のアルキル置換した分岐パラフィン、
更に前記直鎖又は分岐パラフィンのモノエン、ジエン、
トリエン、モノイン、ジイン、トリインであるオレフィ
ン類、そしてシクロペンタン、シクロヘキサン、シクロ
ヘプタン、シクロオクタン、シクロノナン、シクロデカ
ン、ジシクロプロピルメタン、ジシクロペンチル、ジシ
クロヘキシル、ノルボルネン等のシクロパラフィン、前
記シクロパラフィンのメチル、ジメチル、トリメチル、
エチル、ジエチル、トリエチル、プロピル、ジプロピ
ル、トリプロピル、ブチルの等のアルキル置換した分岐
シクロパラフィン、更に前記シクロパラフィン又は分岐
シクロパラフィンのモノエン、ジエン、トリエン、モノ
イン、ジイン、トリインであるオレフィン類、ベンゼ
ン、トルエン、エチルベンゼン、プロピルベンゼン、ブ
チルベンゼン、ペンチルベンゼン、フェニルヘキサン、
フェニルヘプタン、フェニルオクタン、フェニルノナ
ン、フェニルデカン、フェニルウンデカン、フェニルド
デカン、シクロプロピルフェニルメタン、シクロヘキシ
ルベンゼン、ジフェニルメタン、キシレン、エチルトル
エン、ジエチルベンゼン、ジプロピルベンゼン、ジブチ
ルベンゼン、トリルメタン、トリルエタン、トリメチル
ベンゼン、テトラメチルベンゼン、トリエチルベンゼ
ン、トリプロピルベンゼン等があり、これらを単独また
は混合して用いることができる。更に、石油エーテル、
石油ベンジン、ガソリン等の市販の工業用溶剤も使用で
きる。
水素のみから構成される化合物から成る溶剤を意味し、
直鎖又は分岐のパラフィンおよびオレフィン類、シクロ
パラフィン、芳香族化合物等を挙げることができる。具
体例としては、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタ
ン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、トリデカ
ン、テトラデカン、ペンタデカン、ヘキサデカン、ヘプ
タデカン、オクタデカン等の直鎖パラフィン、前記直鎖
パラフィンのメチル、ジメチル、トリメチル、エチル、
ジエチル、トリエチル、プロピル、ジプロピル、トリプ
ロピル、ブチル等のアルキル置換した分岐パラフィン、
更に前記直鎖又は分岐パラフィンのモノエン、ジエン、
トリエン、モノイン、ジイン、トリインであるオレフィ
ン類、そしてシクロペンタン、シクロヘキサン、シクロ
ヘプタン、シクロオクタン、シクロノナン、シクロデカ
ン、ジシクロプロピルメタン、ジシクロペンチル、ジシ
クロヘキシル、ノルボルネン等のシクロパラフィン、前
記シクロパラフィンのメチル、ジメチル、トリメチル、
エチル、ジエチル、トリエチル、プロピル、ジプロピ
ル、トリプロピル、ブチルの等のアルキル置換した分岐
シクロパラフィン、更に前記シクロパラフィン又は分岐
シクロパラフィンのモノエン、ジエン、トリエン、モノ
イン、ジイン、トリインであるオレフィン類、ベンゼ
ン、トルエン、エチルベンゼン、プロピルベンゼン、ブ
チルベンゼン、ペンチルベンゼン、フェニルヘキサン、
フェニルヘプタン、フェニルオクタン、フェニルノナ
ン、フェニルデカン、フェニルウンデカン、フェニルド
デカン、シクロプロピルフェニルメタン、シクロヘキシ
ルベンゼン、ジフェニルメタン、キシレン、エチルトル
エン、ジエチルベンゼン、ジプロピルベンゼン、ジブチ
ルベンゼン、トリルメタン、トリルエタン、トリメチル
ベンゼン、テトラメチルベンゼン、トリエチルベンゼ
ン、トリプロピルベンゼン等があり、これらを単独また
は混合して用いることができる。更に、石油エーテル、
石油ベンジン、ガソリン等の市販の工業用溶剤も使用で
きる。
【0010】これらの中では、反応率が高く、かつ後の
工程で脱溶剤し易いためペンタン、ヘキサン、ヘプタ
ン、オクタン、ノナン、デカン、更にこれらのメチル、
ジメチル、トリメチル、エチル、ジエチル、トリエチ
ル、モノエン、モノイン、等のアルキル置換及び不飽和
化合物、例えば、3−メチルペンタン、2−ヘキセン、
そしてシクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタ
ン、シクロオクタン、シクロノナン、シクロデカン、ジ
シクロプロピルメタン、更にこれらのメチル、ジメチ
ル、トリメチル、エチル、ジエチル、トリエチル、モノ
エン、モノイン等のアルキル置換及び不飽和化合物、そ
してベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、プロピルベ
ンゼン、ブチルベンゼン、ペンチルベンゼン、フェニル
ヘキサン、シクロヘキシルベンゼン、キシレン、エチル
トルエン、ジエチルベンゼン、トリメチルベンゼン、ト
リエチルベンゼン等が好ましい例として挙げられる。
工程で脱溶剤し易いためペンタン、ヘキサン、ヘプタ
ン、オクタン、ノナン、デカン、更にこれらのメチル、
ジメチル、トリメチル、エチル、ジエチル、トリエチ
ル、モノエン、モノイン、等のアルキル置換及び不飽和
化合物、例えば、3−メチルペンタン、2−ヘキセン、
そしてシクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタ
ン、シクロオクタン、シクロノナン、シクロデカン、ジ
シクロプロピルメタン、更にこれらのメチル、ジメチ
ル、トリメチル、エチル、ジエチル、トリエチル、モノ
エン、モノイン等のアルキル置換及び不飽和化合物、そ
してベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、プロピルベ
ンゼン、ブチルベンゼン、ペンチルベンゼン、フェニル
ヘキサン、シクロヘキシルベンゼン、キシレン、エチル
トルエン、ジエチルベンゼン、トリメチルベンゼン、ト
リエチルベンゼン等が好ましい例として挙げられる。
【0011】本発明に於けるアクリル酸クロライドと第
三級アルコールの反応は以下の条件下で行われる。一般
的には、アクリル酸クロライド、第三級アルコールと炭
化水素溶剤を、反応器に導入し、第三級アミンと炭化水
素溶剤との混合液を滴下する手法が用いられる。具体的
には、アクリル酸クロライド1モルに対し、第三級アル
コールを0.2〜2モル当量、好ましくは0.5〜1.
5モル当量、炭化水素溶剤を、アクリル酸クロライドと
第三級アルコールの合計が5〜70重量%、好ましくは
10〜50重量%となる量を、反応器に導入する。第三
級アルコールが0.2モル当量未満または2モル当量を
超える、更に炭化水素溶剤をアクリル酸クロライドと第
三級アルコールの合計が5重量%未満または70重量%
を超えると、収率が低下すると共に反応効率が悪くなる
傾向にある。
三級アルコールの反応は以下の条件下で行われる。一般
的には、アクリル酸クロライド、第三級アルコールと炭
化水素溶剤を、反応器に導入し、第三級アミンと炭化水
素溶剤との混合液を滴下する手法が用いられる。具体的
には、アクリル酸クロライド1モルに対し、第三級アル
コールを0.2〜2モル当量、好ましくは0.5〜1.
5モル当量、炭化水素溶剤を、アクリル酸クロライドと
第三級アルコールの合計が5〜70重量%、好ましくは
10〜50重量%となる量を、反応器に導入する。第三
級アルコールが0.2モル当量未満または2モル当量を
超える、更に炭化水素溶剤をアクリル酸クロライドと第
三級アルコールの合計が5重量%未満または70重量%
を超えると、収率が低下すると共に反応効率が悪くなる
傾向にある。
【0012】一方、第三級アミンをアクリル酸クロライ
ド1モルに対し、0.7〜2モル、好ましくは0.8〜
1.5モル、炭化水素溶剤を、第三級アミンが1〜10
0重量%、好ましくは2〜50重量%となる混合溶液を
用意する。第三級アミンが0.7モル未満または2モル
を超える場合、更に炭化水素溶剤を第三級アミンが1重
量%未満では、収率が低下すると共に反応効率が悪くな
る傾向にある。反応器を−78〜150℃、好ましくは
0℃〜100℃とし、攪拌しながら先の第三級アミンと
炭化水素溶剤の混合溶液を、0.1時間〜3時間、好ま
しくは0.2時間〜1.5時間かけて反応器中に攪拌し
ながら滴下する。反応器を−78℃未満にすると、反応
に時間を要すると共に収率が低下する傾向にある。15
0℃を超えると、アクリルの重合が始まり収率が低下す
る傾向にある。また、滴下時間を0.1時間未満にする
と反応が激しく温度制御が困難となって収率が低下し易
く、逆に3時間より長く時間をかけて滴下しても収率を
向上させることにはならない。滴下終了後、更に攪拌を
続けて熟成させるが、通常は3時間以下で十分であり、
好ましくは2.5時間以下で良い。
ド1モルに対し、0.7〜2モル、好ましくは0.8〜
1.5モル、炭化水素溶剤を、第三級アミンが1〜10
0重量%、好ましくは2〜50重量%となる混合溶液を
用意する。第三級アミンが0.7モル未満または2モル
を超える場合、更に炭化水素溶剤を第三級アミンが1重
量%未満では、収率が低下すると共に反応効率が悪くな
る傾向にある。反応器を−78〜150℃、好ましくは
0℃〜100℃とし、攪拌しながら先の第三級アミンと
炭化水素溶剤の混合溶液を、0.1時間〜3時間、好ま
しくは0.2時間〜1.5時間かけて反応器中に攪拌し
ながら滴下する。反応器を−78℃未満にすると、反応
に時間を要すると共に収率が低下する傾向にある。15
0℃を超えると、アクリルの重合が始まり収率が低下す
る傾向にある。また、滴下時間を0.1時間未満にする
と反応が激しく温度制御が困難となって収率が低下し易
く、逆に3時間より長く時間をかけて滴下しても収率を
向上させることにはならない。滴下終了後、更に攪拌を
続けて熟成させるが、通常は3時間以下で十分であり、
好ましくは2.5時間以下で良い。
【0013】また、上記記述は、反応器側にアクリル酸
クロライドと第三級アルコールを入れ、そして滴下する
混合溶液側に第三級アミンを導入しているが、それ以外
に、反応器側にアクリル酸クロライドを入れ、そして滴
下する混合溶液側に第三級アルコールと第三級アミンを
導入したり、反応器側に第三級アミンを入れ、そして滴
下する混合溶液側にアクリル酸クロライドと第三級アル
コールとを導入したり、反応器側に第三級アミンと第三
級アルコールを入れ、そして滴下する混合溶液側にアク
リル酸クロライドを導入する方法で反応させることもで
きる。
クロライドと第三級アルコールを入れ、そして滴下する
混合溶液側に第三級アミンを導入しているが、それ以外
に、反応器側にアクリル酸クロライドを入れ、そして滴
下する混合溶液側に第三級アルコールと第三級アミンを
導入したり、反応器側に第三級アミンを入れ、そして滴
下する混合溶液側にアクリル酸クロライドと第三級アル
コールとを導入したり、反応器側に第三級アミンと第三
級アルコールを入れ、そして滴下する混合溶液側にアク
リル酸クロライドを導入する方法で反応させることもで
きる。
【0014】反応終了後、精製は、通常の方法に従えば
良く特に特定されるものではない。精製法の例を挙げる
とすれば、水洗、蒸留、シリカゲルカラム等による精製
法がある。塩酸塩の除去を目的として水洗を行い、その
後蒸留により目的物を精製する方法や、水洗を行わずに
直接蒸留により目的物を精製する方法、更に、水洗後溶
媒を留去するだけで精製とする方法等がある。
良く特に特定されるものではない。精製法の例を挙げる
とすれば、水洗、蒸留、シリカゲルカラム等による精製
法がある。塩酸塩の除去を目的として水洗を行い、その
後蒸留により目的物を精製する方法や、水洗を行わずに
直接蒸留により目的物を精製する方法、更に、水洗後溶
媒を留去するだけで精製とする方法等がある。
【0015】
【実施例】以下、実施例及び比較例を挙げてこの発明を
より具体的に説明する。なお、各例中の%は特に断らな
い限り重量%を意味する。 実施例1 温度計、攪拌機及び還流冷却管を備えた反応器に、トル
エン2700ml、アクリル酸クロライド271g、
2,5−ジメチル−2,5−ヘキサンジオール219g
を仕込み、攪拌しながら50℃に加熱した。そこに、ト
リエチルアミン303gとトルエン5700mlの混合
液を1時間かけて滴下した。滴下終了後更に50℃で2
時間反応を続けた。反応終了後、塩酸塩を除去するため
に濾紙で濾過を行い、溶媒を留去するために濾過液を減
圧下で濃縮した。濃縮液を、シリカゲルカラムを用いて
精製を行ったところ、収率85%で純度98%の2,5
−ジメチル−2,5−ヘキサンジオールのジアクリレー
トを得ることができた。得られた化合物の赤外吸収スペ
クトル(IR)および核磁気共鳴スペクトル(NMR)
は以下の通りであり、2,5−ジメチル−2,5−ヘキ
サンジオールのジアクリレートであることが確認でき
た。 IR :1720cm-1にカルボニル基及び1637c
m-1に炭素二重結合に基づく吸収が認められた。 NMR:1.5ppmにメチル水素、1.8ppmにの
メチレン水素及び5.7〜6.3ppmにビニル水素に
基づくシグナルが観測された。
より具体的に説明する。なお、各例中の%は特に断らな
い限り重量%を意味する。 実施例1 温度計、攪拌機及び還流冷却管を備えた反応器に、トル
エン2700ml、アクリル酸クロライド271g、
2,5−ジメチル−2,5−ヘキサンジオール219g
を仕込み、攪拌しながら50℃に加熱した。そこに、ト
リエチルアミン303gとトルエン5700mlの混合
液を1時間かけて滴下した。滴下終了後更に50℃で2
時間反応を続けた。反応終了後、塩酸塩を除去するため
に濾紙で濾過を行い、溶媒を留去するために濾過液を減
圧下で濃縮した。濃縮液を、シリカゲルカラムを用いて
精製を行ったところ、収率85%で純度98%の2,5
−ジメチル−2,5−ヘキサンジオールのジアクリレー
トを得ることができた。得られた化合物の赤外吸収スペ
クトル(IR)および核磁気共鳴スペクトル(NMR)
は以下の通りであり、2,5−ジメチル−2,5−ヘキ
サンジオールのジアクリレートであることが確認でき
た。 IR :1720cm-1にカルボニル基及び1637c
m-1に炭素二重結合に基づく吸収が認められた。 NMR:1.5ppmにメチル水素、1.8ppmにの
メチレン水素及び5.7〜6.3ppmにビニル水素に
基づくシグナルが観測された。
【0016】実施例2 実施例1のトルエンをヘキサンに変える以外は、実施例
1に従い2,5−ジメチル−2,5−ヘキサンジオール
のジアクリレートを製造したところ収率83%で純度9
8%の目的物を得ることができた。得られた化合物のI
RおよびNMRは実施例1に同一であった。
1に従い2,5−ジメチル−2,5−ヘキサンジオール
のジアクリレートを製造したところ収率83%で純度9
8%の目的物を得ることができた。得られた化合物のI
RおよびNMRは実施例1に同一であった。
【0017】実施例3 実施例1の50℃を100℃に変え、更に、重合禁止剤
としてメトキシフェノール0.2gを反応器へアクリル
酸クロライドと同時に仕込む以外は、実施例1に従い
2,5−ジメチル−2,5−ヘキサンジオールのジアク
リレートを製造したところ収率80%で純度97%の目
的物を得ることができた。得られた化合物のIRおよび
NMRは実施例1に同一であった。
としてメトキシフェノール0.2gを反応器へアクリル
酸クロライドと同時に仕込む以外は、実施例1に従い
2,5−ジメチル−2,5−ヘキサンジオールのジアク
リレートを製造したところ収率80%で純度97%の目
的物を得ることができた。得られた化合物のIRおよび
NMRは実施例1に同一であった。
【0018】実施例4 実施例1の50℃を0℃に変える以外は、実施例1に従
い2,5−ジメチル−2,5−ヘキサンジオールのジア
クリレートを製造したところ収率75%で純度95%の
目的物を得ることができた。得られた化合物のIRおよ
びNMRは実施例1に同一であった。
い2,5−ジメチル−2,5−ヘキサンジオールのジア
クリレートを製造したところ収率75%で純度95%の
目的物を得ることができた。得られた化合物のIRおよ
びNMRは実施例1に同一であった。
【0019】実施例5 実施例1のトルエン2700mlをオクタン1000m
lに、トルエン5700mlをシクロヘキサン700m
lに変える以外は、実施例1に従い2,5−ジメチル−
2,5−ヘキサンジオールのジアクリレートを製造した
ところ収率71%で純度95%の目的物を得ることがで
きた。得られた化合物のIRおよびNMRは実施例1に
同一であった。
lに、トルエン5700mlをシクロヘキサン700m
lに変える以外は、実施例1に従い2,5−ジメチル−
2,5−ヘキサンジオールのジアクリレートを製造した
ところ収率71%で純度95%の目的物を得ることがで
きた。得られた化合物のIRおよびNMRは実施例1に
同一であった。
【0020】実施例6 実施例1のトルエンを3−メチルペンタンに変える以外
は、実施例1に従ったところ収率87%で純度97%の
目的物を得ることができた。得られた化合物のIRおよ
びNMRは実施例1に同一であった。
は、実施例1に従ったところ収率87%で純度97%の
目的物を得ることができた。得られた化合物のIRおよ
びNMRは実施例1に同一であった。
【0021】実施例7 実施例1の2,5−ジメチル−2,5−ヘキサンジオー
ル219gを2−メチル−2−プロパノール267g
に、トリエチルアミン303gをトリプロピルアミン4
35gに換え、更に、精製は減圧蒸留により行ったとこ
ろ収率87%で純度98%の2−メチル−2−プロパノ
ールのアクリレートを得ることができた。得られた化合
物のIRおよびNMRは以下の通りであり2−メチル−
2−プロパノールのアクリレートであることが確認され
た。 IR:1720cm-1にカルボニル基及び1631cm
-1に炭素二重結合に基づく吸収が認められた。 NMR:1.5ppmにメチル水素及び5.7〜6.3
ppmにビニル水素に基づくシグナルが観測された。
ル219gを2−メチル−2−プロパノール267g
に、トリエチルアミン303gをトリプロピルアミン4
35gに換え、更に、精製は減圧蒸留により行ったとこ
ろ収率87%で純度98%の2−メチル−2−プロパノ
ールのアクリレートを得ることができた。得られた化合
物のIRおよびNMRは以下の通りであり2−メチル−
2−プロパノールのアクリレートであることが確認され
た。 IR:1720cm-1にカルボニル基及び1631cm
-1に炭素二重結合に基づく吸収が認められた。 NMR:1.5ppmにメチル水素及び5.7〜6.3
ppmにビニル水素に基づくシグナルが観測された。
【0022】実施例8 温度計、攪拌機及び還流冷却管を備えた反応器に、キシ
レン2000mlと2,3−ジメチル−2,3−ブタン
ジオール147gとトリエチルアミン303gを仕込
み、攪拌しながら37℃に加熱した。そこに、アクリル
酸クロライド271gとヘプタン3500mlの混合液
を1時間かけて滴下した。滴下終了後更に50℃で2時
間反応を続けた。反応終了後、塩酸塩を除去するために
濾紙で濾過を行い、溶媒を留去するために濾過液を減圧
下で濃縮した。濃縮液を、シリカゲルカラムを用いて精
製を行ったところ、収率85%で純度97%の2,3−
ジメチル−2,3−ブタンジオールのジアクリレートを
得ることができた。得られた化合物のIRおよびNMR
は以下の通りであり2,3−ジメチル−2,3−ブタン
ジオールのジアクリレートであることが確認された。 IR:1720cm-1にカルボニル基及び1635cm
-1に炭素二重結合に基づく吸収が認められた。 NMR:1.5ppmにメチル水素及び5.7〜6.3
ppmにビニル水素に基づくシグナルが観測された。
レン2000mlと2,3−ジメチル−2,3−ブタン
ジオール147gとトリエチルアミン303gを仕込
み、攪拌しながら37℃に加熱した。そこに、アクリル
酸クロライド271gとヘプタン3500mlの混合液
を1時間かけて滴下した。滴下終了後更に50℃で2時
間反応を続けた。反応終了後、塩酸塩を除去するために
濾紙で濾過を行い、溶媒を留去するために濾過液を減圧
下で濃縮した。濃縮液を、シリカゲルカラムを用いて精
製を行ったところ、収率85%で純度97%の2,3−
ジメチル−2,3−ブタンジオールのジアクリレートを
得ることができた。得られた化合物のIRおよびNMR
は以下の通りであり2,3−ジメチル−2,3−ブタン
ジオールのジアクリレートであることが確認された。 IR:1720cm-1にカルボニル基及び1635cm
-1に炭素二重結合に基づく吸収が認められた。 NMR:1.5ppmにメチル水素及び5.7〜6.3
ppmにビニル水素に基づくシグナルが観測された。
【0023】実施例9 温度計、攪拌機及び還流冷却管を備えた反応器に、ベン
ゼン5000ml、2−メチル−2,4−ペンタンジオ
ール177g、トリブチルアミン555gを仕込み、攪
拌しながら60℃に加熱した。そこに、アクリル酸クロ
ライド271gとヘキサン2000mlの混合液を2時
間かけて滴下した。滴下終了後更に60℃で0.5時間
反応を続けた。反応終了後、塩酸塩を除去するために濾
紙で濾過を行い、溶媒を留去するために濾過液を減圧下
で濃縮した。濃縮液を、シリカゲルカラムを用いて精製
を行ったところ、収率83%で純度98%の2−メチル
−2,4−ペンタンジオールのジアクリレートを得るこ
とができた。得られた化合物のIRおよびNMRは以下
の通りであり2−メチル−2,4−ペンタンジオールの
ジアクリレートであることが確認された。 IR:1720cm-1にカルボニル基及び1633cm
-1に炭素二重結合に基づく吸収が認められた。 NMR:1.3〜1.5ppmにメチル水素、1.7p
pmにメチレン水素、2.0ppmにメチン水素及び
5.7〜6.3ppmにビニル水素に基づくシグナルが
観測された。
ゼン5000ml、2−メチル−2,4−ペンタンジオ
ール177g、トリブチルアミン555gを仕込み、攪
拌しながら60℃に加熱した。そこに、アクリル酸クロ
ライド271gとヘキサン2000mlの混合液を2時
間かけて滴下した。滴下終了後更に60℃で0.5時間
反応を続けた。反応終了後、塩酸塩を除去するために濾
紙で濾過を行い、溶媒を留去するために濾過液を減圧下
で濃縮した。濃縮液を、シリカゲルカラムを用いて精製
を行ったところ、収率83%で純度98%の2−メチル
−2,4−ペンタンジオールのジアクリレートを得るこ
とができた。得られた化合物のIRおよびNMRは以下
の通りであり2−メチル−2,4−ペンタンジオールの
ジアクリレートであることが確認された。 IR:1720cm-1にカルボニル基及び1633cm
-1に炭素二重結合に基づく吸収が認められた。 NMR:1.3〜1.5ppmにメチル水素、1.7p
pmにメチレン水素、2.0ppmにメチン水素及び
5.7〜6.3ppmにビニル水素に基づくシグナルが
観測された。
【0024】実施例10 温度計、攪拌機及び還流冷却管を備えた反応器に、トル
エン1500ml、アクリル酸クロライド271gを仕
込み、攪拌しながら50℃に加熱した。そこに、2−メ
チル−2−ヘキサノール216g、トリエチルアミン3
03gとトルエン3700mlの混合液を1時間かけて
滴下した。滴下終了後更に50℃で1.5時間反応を続
けた。反応終了後、塩酸塩を除去するために濾紙で濾過
を行い、溶媒を留去するために濾過液を減圧下で濃縮し
た。濃縮液を、シリカゲルカラムを用いて精製を行った
ところ、収率81%で純度97%の2−メチル−2−ヘ
キサノールのアクリレートを得ることができた。得られ
た化合物のIRおよびNMRは以下の通りであり3−エ
チル−3−ヘプタノールのアクリレートであることが確
認された。 IR:1720cm-1にカルボニル基及び1631cm
-1に炭素二重結合に基づく吸収が認められた。 NMR:0.9ppmにメチル水素、1.5ppmにメ
チル水素、1.3〜1.7ppmにメチレン水素及び
5.7〜6.3ppmにビニル水素に基づくシグナルが
観測された。
エン1500ml、アクリル酸クロライド271gを仕
込み、攪拌しながら50℃に加熱した。そこに、2−メ
チル−2−ヘキサノール216g、トリエチルアミン3
03gとトルエン3700mlの混合液を1時間かけて
滴下した。滴下終了後更に50℃で1.5時間反応を続
けた。反応終了後、塩酸塩を除去するために濾紙で濾過
を行い、溶媒を留去するために濾過液を減圧下で濃縮し
た。濃縮液を、シリカゲルカラムを用いて精製を行った
ところ、収率81%で純度97%の2−メチル−2−ヘ
キサノールのアクリレートを得ることができた。得られ
た化合物のIRおよびNMRは以下の通りであり3−エ
チル−3−ヘプタノールのアクリレートであることが確
認された。 IR:1720cm-1にカルボニル基及び1631cm
-1に炭素二重結合に基づく吸収が認められた。 NMR:0.9ppmにメチル水素、1.5ppmにメ
チル水素、1.3〜1.7ppmにメチレン水素及び
5.7〜6.3ppmにビニル水素に基づくシグナルが
観測された。
【0025】実施例11 温度計、攪拌機及び還流冷却管を備えた反応器に、トル
エン1500ml、トリエチルアミン303gを仕込
み、攪拌しながら50℃に加熱した。そこに、アクリル
酸クロライド271g、2−メチル−2−ヘキサノール
216gとトルエン3700mlの混合液を1時間かけ
て滴下した。滴下終了後更に50℃で1.5時間反応を
続けた。反応終了後、塩酸塩を除去するために濾紙で濾
過を行い、溶媒を留去するために濾過液を減圧下で濃縮
した。濃縮液を、シリカゲルカラムを用いて精製を行っ
たところ、収率85%で純度98%2−メチル−2−ヘ
キサノールのアクリレートを得ることができた。得られ
た化合物のIRおよびNMRは実施例10に同一であっ
た。
エン1500ml、トリエチルアミン303gを仕込
み、攪拌しながら50℃に加熱した。そこに、アクリル
酸クロライド271g、2−メチル−2−ヘキサノール
216gとトルエン3700mlの混合液を1時間かけ
て滴下した。滴下終了後更に50℃で1.5時間反応を
続けた。反応終了後、塩酸塩を除去するために濾紙で濾
過を行い、溶媒を留去するために濾過液を減圧下で濃縮
した。濃縮液を、シリカゲルカラムを用いて精製を行っ
たところ、収率85%で純度98%2−メチル−2−ヘ
キサノールのアクリレートを得ることができた。得られ
た化合物のIRおよびNMRは実施例10に同一であっ
た。
【0026】実施例12 実施例1のトルエンを2−ヘキセンに変える以外は、実
施例1に従ったところ収率77%で純度95%の目的物
を得ることができた。得られた化合物のIRおよびNM
Rは実施例1に同一であった。
施例1に従ったところ収率77%で純度95%の目的物
を得ることができた。得られた化合物のIRおよびNM
Rは実施例1に同一であった。
【0027】比較例1 実施例1のトルエンをアセトンに変える以外は、実施例
1に従い2,5−ジメチル−2,5−ヘキサンジオール
のジアクリレートを製造したところ収率7%で目的物を
得ることができた。
1に従い2,5−ジメチル−2,5−ヘキサンジオール
のジアクリレートを製造したところ収率7%で目的物を
得ることができた。
【0028】比較例2 実施例1のトルエンをメチルイソブチルケトンに変える
以外は、実施例1に従い2,5−ジメチル−2,5−ヘ
キサンジオールのジアクリレートを製造したところ収率
11%で目的物を得ることができた。
以外は、実施例1に従い2,5−ジメチル−2,5−ヘ
キサンジオールのジアクリレートを製造したところ収率
11%で目的物を得ることができた。
【0029】比較例3 実施例1のトルエンを酢酸エチルに変える以外は、実施
例1に従い2,5−ジメチル−2,5−ヘキサンジオー
ルのジアクリレートを製造したところ収率12%で目的
物を得ることができた。
例1に従い2,5−ジメチル−2,5−ヘキサンジオー
ルのジアクリレートを製造したところ収率12%で目的
物を得ることができた。
【0030】比較例4 実施例1のトルエンをジメチルホルムアミドに変える以
外は、実施例1に従い2,5−ジメチル−2,5−ヘキ
サンジオールのジアクリレートを製造したところ収率5
%で目的物を得ることができた。
外は、実施例1に従い2,5−ジメチル−2,5−ヘキ
サンジオールのジアクリレートを製造したところ収率5
%で目的物を得ることができた。
【0031】比較例5 実施例1のトルエンをテトラヒドロフランに変える以外
は、実施例1に従い2,5−ジメチル−2,5−ヘキサ
ンジオールのジアクリレートを製造したところ収率8%
で目的物を得ることができた。以上の結果より、アクリ
ル酸クロライドと第三級アルコールの反応に於いて、極
性溶剤中で反応させると収率が非常に低下するのに対
し、本発明のように炭化水素系溶剤中で反応させた場合
は、高収率で目的のアクリル酸エステルが得られること
が明らかとなった。
は、実施例1に従い2,5−ジメチル−2,5−ヘキサ
ンジオールのジアクリレートを製造したところ収率8%
で目的物を得ることができた。以上の結果より、アクリ
ル酸クロライドと第三級アルコールの反応に於いて、極
性溶剤中で反応させると収率が非常に低下するのに対
し、本発明のように炭化水素系溶剤中で反応させた場合
は、高収率で目的のアクリル酸エステルが得られること
が明らかとなった。
【0032】
【発明の効果】本発明の方法によれば、アクリル酸クロ
ライドと第三級アルコールとを炭化水素の溶剤中で反応
させることにより、短時間で、かつ収率良く、アクリル
酸第三級アルキルエステルを製造することが可能となっ
た。
ライドと第三級アルコールとを炭化水素の溶剤中で反応
させることにより、短時間で、かつ収率良く、アクリル
酸第三級アルキルエステルを製造することが可能となっ
た。
Claims (1)
- 【請求項1】 アクリル酸クロライドと下記一般式
(1) 【化1】 (式中、R1、R2、R3は炭素数1〜12の置換基であ
り、R1、R2、R3の炭素数の合計は5〜21であ
る。)に示す第三級アルコールとを、炭化水素有機溶剤
中でエステル化反応させることを特徴とする下記一般式
(2) 【化2】 (式中、R1、R2、R3は炭素数1〜12の置換基であ
り、R1、R2、R3の炭素数の合計は5〜21であ
る。)に示すアクリル酸第三級アルキルエステルの製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7203569A JPH0952864A (ja) | 1995-08-09 | 1995-08-09 | アクリル酸第三級アルキルエステルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7203569A JPH0952864A (ja) | 1995-08-09 | 1995-08-09 | アクリル酸第三級アルキルエステルの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0952864A true JPH0952864A (ja) | 1997-02-25 |
Family
ID=16476305
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7203569A Pending JPH0952864A (ja) | 1995-08-09 | 1995-08-09 | アクリル酸第三級アルキルエステルの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0952864A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001090045A1 (en) * | 2000-05-22 | 2001-11-29 | Tokuyama Corporation | Process of the preparation of high-purity alkyladamantyl esters |
| WO2002042252A1 (en) * | 2000-11-24 | 2002-05-30 | Daicel Chemical Industries, Ltd. | Process for preparation of tertiary alcohol esters |
| JP2002179620A (ja) * | 2000-12-15 | 2002-06-26 | Nissan Chem Ind Ltd | 脂環式モノアクリレート化合物類の製造方法 |
| JP2002193883A (ja) * | 2000-12-21 | 2002-07-10 | Daicel Chem Ind Ltd | 2−アルキル−2−アダマンチル(メタ)アクリレート類の製造法 |
| JP2008105955A (ja) * | 2006-10-23 | 2008-05-08 | Daicel Chem Ind Ltd | (メタ)アクリル酸エステルの製造方法 |
| JP2016500717A (ja) * | 2012-10-08 | 2016-01-14 | ディーエスエム アイピー アセッツ ビー.ブイ. | 香味香気配合物(v) |
| JP2016212237A (ja) * | 2015-05-08 | 2016-12-15 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法ならびに化合物及びこれを含む樹脂 |
-
1995
- 1995-08-09 JP JP7203569A patent/JPH0952864A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001090045A1 (en) * | 2000-05-22 | 2001-11-29 | Tokuyama Corporation | Process of the preparation of high-purity alkyladamantyl esters |
| US6696595B2 (en) | 2000-05-22 | 2004-02-24 | Tokuyama Corporation | Process of the preparation of high-purity alkyladamantyl esters |
| WO2002042252A1 (en) * | 2000-11-24 | 2002-05-30 | Daicel Chemical Industries, Ltd. | Process for preparation of tertiary alcohol esters |
| JP2002161070A (ja) * | 2000-11-24 | 2002-06-04 | Daicel Chem Ind Ltd | 第3級アルコールエステルの製造法 |
| JP2002179620A (ja) * | 2000-12-15 | 2002-06-26 | Nissan Chem Ind Ltd | 脂環式モノアクリレート化合物類の製造方法 |
| JP2002193883A (ja) * | 2000-12-21 | 2002-07-10 | Daicel Chem Ind Ltd | 2−アルキル−2−アダマンチル(メタ)アクリレート類の製造法 |
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| JP2016212237A (ja) * | 2015-05-08 | 2016-12-15 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法ならびに化合物及びこれを含む樹脂 |
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