JPH0955394A - Semiconductor chip mounting method - Google Patents
Semiconductor chip mounting methodInfo
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- JPH0955394A JPH0955394A JP7208735A JP20873595A JPH0955394A JP H0955394 A JPH0955394 A JP H0955394A JP 7208735 A JP7208735 A JP 7208735A JP 20873595 A JP20873595 A JP 20873595A JP H0955394 A JPH0955394 A JP H0955394A
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- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
- Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 センシティブエリアと封止樹脂の間に若干の
空気層を設けることにより、センシティブエリアが受け
る封止樹脂の誘電率に起因するC(容量)成分の影響を
防ぐことができ、センシティブエリアを持つ高速半導体
及び低電圧メモリ等の動作不良を防止することができる
半導体チップの実装方法を提供する。
【構成】 基板31に半導体チップ32をベースボンド
した後、ワイヤ33によりワイヤボンディングを行う。
次に、センシティブエリア34より若干大きな投影面積
を有する立方体形状のカバー35を、そのセンシティブ
エリア34上に搭載する。その状態にて、封止樹脂36
をコーティングする。その封止樹脂36を熱により硬化
させた後、カバー35を1〜2mm上方へ引き上げ、セ
ンシティブエリア34に空気層を形成する。その後、封
止樹脂36とカバー35の間隙を埋めるように接着剤3
7でカバー35を固定する。
(57) [Abstract] [Purpose] To prevent the influence of the C (capacitance) component due to the dielectric constant of the sealing resin on the sensitive area by providing a slight air layer between the sensitive area and the sealing resin. Provided is a semiconductor chip mounting method capable of preventing malfunction of a high-speed semiconductor having a sensitive area and a low-voltage memory. [Structure] After a semiconductor chip 32 is base-bonded to a substrate 31, wire bonding is performed with a wire 33.
Next, a cube-shaped cover 35 having a slightly larger projected area than the sensitive area 34 is mounted on the sensitive area 34. In that state, the sealing resin 36
Coating. After the sealing resin 36 is hardened by heat, the cover 35 is pulled up by 1 to 2 mm to form an air layer in the sensitive area 34. After that, the adhesive 3 is formed so as to fill the gap between the sealing resin 36 and the cover 35.
The cover 35 is fixed at 7.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体チップの実
装方法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor chip mounting method.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、通信分野において、電子機器は、
交換技術に代表される高速技術及びハンディ端末等に代
表される高密度技術が重要となってきており、これらの
技術を具現化する共通な技術として、半導体のベアチッ
プ実装が、実装技術の主流となっている。2. Description of the Related Art In recent years, in the field of communication, electronic devices have
High-speed technology typified by exchange technology and high-density technology typified by handheld terminals are becoming important. As a common technology embodying these technologies, bare chip mounting of semiconductors is the mainstream mounting technology. Has become.
【0003】このような半導体ベアチップ実装技術に
は、ワイヤボンディング実装、フリップチップ実装、T
AB(TAPE AUTOMATED BONDIN
G)実装等があり、各種用途によって使い分けられてい
る。図4はかかる従来のワイヤボンディング実装図であ
る。この図に示すように、半導体チップ4はペースト2
により、ガラスエポキシ,セラミックス等を材料とした
基板1の所定の場所に固定される。この半導体チップ4
上の電極5と基板1上のパッド3は、Au等を材料とす
るワイヤ6で電気的に接続され、封止樹脂8で封止され
るものである。7は半導体チップのセンシティブエリア
である。Such semiconductor bare chip mounting technology includes wire bonding mounting, flip chip mounting, and T mounting.
AB (TAPE AUTOMATED BONDIN
G) There is mounting, etc., and they are used properly according to various purposes. FIG. 4 is a conventional wire bonding mounting diagram. As shown in this figure, the semiconductor chip 4 is a paste 2
Thus, it is fixed at a predetermined place on the substrate 1 made of glass epoxy, ceramics or the like. This semiconductor chip 4
The upper electrode 5 and the pad 3 on the substrate 1 are electrically connected by a wire 6 made of Au or the like and sealed with a sealing resin 8. Reference numeral 7 is a sensitive area of the semiconductor chip.
【0004】図5は従来のフリップチップ実装図であ
る。この図に示すように、半導体チップ13のパターン
面には電極14が設けられ、ガラスエポキシ、セラミッ
クス等を材料としたこの基板11には、パット12が形
成されている。このパット12と電極14は電気的接続
(場合によっては機械的接続および熱伝導経路などを含
む)を得るために、ハンダバンプ16にて接続される。FIG. 5 is a conventional flip-chip mounting diagram. As shown in this figure, an electrode 14 is provided on the pattern surface of the semiconductor chip 13, and a pad 12 is formed on the substrate 11 made of glass epoxy, ceramics or the like. The pad 12 and the electrode 14 are connected by a solder bump 16 in order to obtain an electrical connection (including a mechanical connection and a heat conduction path in some cases).
【0005】一般に、ハンダバンプ16の溶融はリフロ
ー炉にて行うが、溶融接続後、封止樹脂17にて半導体
チップ13と基板11の間隙を封止している。15は半
導体チップ13のセンシティブエリアである。この樹脂
による封止は、半導体チップ13の熱膨張係数(例え
ば、Si:4ppm前後)と、基板11の熱膨張係数
(アルミナセラミックス:8ppm〜ガラスエポキシ:
15ppm程度)の差により発生する応力を吸収し、バ
ンプ接続の寿命を向上させることが広く知られている。Generally, the solder bumps 16 are melted in a reflow furnace, but after fusion connection, a gap between the semiconductor chip 13 and the substrate 11 is sealed with a sealing resin 17. Reference numeral 15 is a sensitive area of the semiconductor chip 13. The resin is sealed by the coefficient of thermal expansion of the semiconductor chip 13 (for example, Si: around 4 ppm) and the coefficient of thermal expansion of the substrate 11 (alumina ceramics: 8 ppm to glass epoxy:
It is widely known that the stress generated by the difference of about 15 ppm) is absorbed to improve the life of bump connection.
【0006】図6は従来のTAB実装図である。この図
に示すように、半導体チップ23上の電極24には電気
的接続用にAuバンプ26が、電気メッキもしくはワイ
ヤボンディング装置を利用した方法により形成される。
半導体チップ23上の電極24と基板21上のパッド2
2は、Auバンプ26を経由し、CuにAuメッキ等を
施して材料としたリード27で電気的に接続され、封止
樹脂28で封止されるものである。25は半導体チップ
のセンシティブエリアである。FIG. 6 is a conventional TAB mounting diagram. As shown in this figure, Au bumps 26 for electrical connection are formed on the electrodes 24 on the semiconductor chip 23 by a method using electroplating or a wire bonding apparatus.
The electrodes 24 on the semiconductor chip 23 and the pads 2 on the substrate 21
2 is electrically connected by a lead 27, which is a material obtained by subjecting Cu to Au plating or the like, via an Au bump 26, and is sealed with a sealing resin 28. Reference numeral 25 is a sensitive area of the semiconductor chip.
【0007】一般に上記した実装方法は、SOP(SM
ALL OUTLINE PACKAGE)、QFP
(QUAD FLAT PACKAGE)に代表される
SMD(SURFACE MOUNT DEVICE)
より配線長が短く、高速向きで、且つ、実装面積を格段
に小さくすることが可能である。ここで、図4〜図6に
示されたセンシティブエリアについて説明する。Generally, the mounting method described above is based on the SOP (SM
ALL OUTLINE PACKAGE), QFP
SMD (SURFACE MOUNT DEVICE) represented by (QUAD FLAT PACKAGE)
The wiring length is shorter, it is suitable for high speed, and the mounting area can be significantly reduced. Here, the sensitive area shown in FIGS. 4 to 6 will be described.
【0008】例えば、高速半導体では、半導体チップ
4,13,23上のパターン間に発生する容量(C)成
分等の影響で、信号波形に、なまり、遅延等が発生し、
動作不良の原因となる。またICカード等に代表される
低電圧メモリ等では、センスアンプ等を形成する半導体
がC(容量)成分より受ける影響で、理論判定ミスを誘
発することが知られている。センシティブエリア7,1
5,25は、これら容量成分等の影響を受け易い半導体
パターンの一部で、特に考慮が必要な部分をエリアとし
たものである。For example, in a high-speed semiconductor, rounding, delay, etc. occur in the signal waveform due to the influence of the capacitance (C) component generated between the patterns on the semiconductor chips 4, 13, 23,
It may cause malfunction. In addition, it is known that in a low voltage memory represented by an IC card or the like, a semiconductor forming a sense amplifier or the like is affected by a C (capacitance) component, which causes a theoretical judgment error. Sensitive area 7,1
Reference numerals 5 and 25 are portions of the semiconductor pattern that are easily affected by these capacitance components and the like, and the portions that need special consideration are areas.
【0009】[0009]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た従来の半導体チップの実装方法では、封止樹脂8,1
7,28の誘電率(3.0〜5.0)により発生する容
量成分が、半導体チップ4,13,23のパターン上に
のってしまい、特に、このセンシティブエリア7,1
5,25を持つ高速半導体及び低電圧メモリ等の動作
が、正常に行えないという問題点があった。However, in the above-mentioned conventional semiconductor chip mounting method, the sealing resin 8, 1 is used.
Capacitance components generated by the dielectric constants (3.0 to 5.0) of 7, 28 are placed on the patterns of the semiconductor chips 4, 13, 23, and particularly, the sensitive areas 7, 1
There is a problem in that the operation of the high speed semiconductor having 5,25, the low voltage memory, etc. cannot be performed normally.
【0010】本発明は、上記問題点を解決するために、
センシティブエリアと封止樹脂の間に若干の空気層を設
けることにより、センシティブエリアが受ける封止樹脂
の誘電率に起因するC(容量)成分の影響を防ぐことが
でき、センシティブエリアを持つ高速半導体及び低電圧
メモリ等の動作不良を防止することができる半導体チッ
プの実装方法を提供することを目的とする。In order to solve the above problems, the present invention provides
By providing a slight air layer between the sensitive area and the sealing resin, it is possible to prevent the influence of the C (capacitance) component on the sensitive area due to the dielectric constant of the sealing resin, and to provide a high-speed semiconductor having the sensitive area. Another object of the present invention is to provide a semiconductor chip mounting method capable of preventing malfunction of a low-voltage memory or the like.
【0011】[0011]
【課題を解決するための手段】本発明は、上記の目的を
達成するために、半導体チップの実装方法において、 (1)半導体チップ上に形成されたセンシティブエリア
より若干大きな投影面積を有する立方体形状のカバーを
前記センシティブエリア上に搭載し、封止樹脂をコーテ
ィングして、封止樹脂を硬化させ、前記カバーを前記セ
ンシティブエリアと反対側方向へ引き上げ、前記封止樹
脂とカバーの間隙を埋めるように接着剤で前記カバーを
固定するようにしたものである。In order to achieve the above object, the present invention provides a method of mounting a semiconductor chip, comprising: (1) a cubic shape having a projected area slightly larger than a sensitive area formed on the semiconductor chip. The cover is mounted on the sensitive area, the sealing resin is coated, the sealing resin is cured, and the cover is pulled up in the direction opposite to the sensitive area to fill the gap between the sealing resin and the cover. The cover is fixed with an adhesive.
【0012】このように、カバーを若干引き上げるだけ
で、センシティブエリアと封止樹脂の間に若干の空気層
を設けることにより、センシティブエリアが受ける封止
樹脂の誘電率に起因するC(容量)成分の影響を防ぐこ
とができ、したがって、センシティブエリアを持つ高速
半導体及び低電圧メモリ等の動作不良を防止することが
できる。As described above, a slight air layer is provided between the sensitive area and the sealing resin by merely pulling up the cover, whereby the C (capacitance) component due to the dielectric constant of the sealing resin received by the sensitive area is provided. It is possible to prevent the influence of the above, and thus to prevent the operation failure of the high speed semiconductor and the low voltage memory having the sensitive area.
【0013】(2)半導体チップ上に形成されたセンシ
ティブエリアの中心位置と投影座標上の同じ中心位置に
ある開口部を基板に形成し、この基板上へ半導体チップ
をハンダバンプを介して接続し、前記開口部より空気圧
力を加えながら半導体チップと基板の間隙を埋めるよう
に封止樹脂を充填し、その後、前記基板の開口部に蓋を
取り付けるようにしたものである。(2) An opening is formed on the substrate at the center position of the sensitive area formed on the semiconductor chip and at the same center position on the projected coordinates, and the semiconductor chip is connected to the substrate via solder bumps. A sealing resin is filled so as to fill the gap between the semiconductor chip and the substrate while applying air pressure from the opening, and then a lid is attached to the opening of the substrate.
【0014】したがって、簡単、かつ自動化された工程
で、センシティブエリアと封止樹脂の間に若干の空気層
を設けることができ、センシティブエリアが受ける封止
樹脂の誘電率に起因するC(容量)成分の影響を防ぐこ
とができる。 (3)半導体チップ上に形成されたセンシティブエリア
の中心位置と投影座標上の同じ中心位置にある開口部を
基板に形成し、この基板上に前記センシティブエリアよ
り1回り大きいサイズで、且つこのセンシティブエリア
の中心位置と投影座標上の同じ中心位置にあるダムを形
成し、前記基板上へ前記半導体チップをハンダバンプを
介して接続し、前記開口部より空気圧力を加えながら、
前記半導体チップと基板の間隙を埋めるように封止樹脂
を充填し、前記基板の開口部に蓋をするようにしたもの
である。Therefore, a slight air layer can be provided between the sensitive area and the sealing resin in a simple and automated process, and C (capacitance) due to the dielectric constant of the sealing resin received by the sensitive area. The influence of the component can be prevented. (3) An opening is formed in the substrate at the same center position as the projected area and the center position of the sensitive area formed on the semiconductor chip, and the size is one size larger than the sensitive area on the substrate, and this sensitive area is formed. A dam is formed at the same center position on the projected coordinates as the center position of the area, the semiconductor chip is connected to the substrate through a solder bump, and air pressure is applied from the opening,
A sealing resin is filled so as to fill the gap between the semiconductor chip and the substrate, and the opening of the substrate is covered.
【0015】したがって、上記(2)に加えて、ダムを
形成することにより、封止樹脂のセンシティブエリアへ
の影響を確実に防止することができる。Therefore, in addition to the above (2), by forming a dam, the influence of the sealing resin on the sensitive area can be surely prevented.
【0016】[0016]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例について図
面を参照しながら説明する。図1は本発明の第1実施例
を示す半導体チップの実装工程断面図である。 (1)まず、図1(a)に示すように、基板31に半導
体チップ32をベースボンドした後、ワイヤ33により
ワイヤボンディングを行う。次に、センシティブエリア
34より若干大きな投影面積を有する立方体形状のカバ
ー35を、そのセンシティブエリア34上に搭載する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a sectional view of a semiconductor chip mounting process showing a first embodiment of the present invention. (1) First, as shown in FIG. 1A, after the semiconductor chip 32 is base-bonded to the substrate 31, wire bonding is performed with the wire 33. Next, a cube-shaped cover 35 having a slightly larger projected area than the sensitive area 34 is mounted on the sensitive area 34.
【0017】(2)その状態にて、図1(b)に示すよ
うに、封止樹脂36(例えば、エポキシ等)をコーティ
ングする。 (3)その封止樹脂36を熱により硬化させた後、図1
(c)に示すように、カバー35を1〜2mm上方へ引
き上げると、センシティブエリア34は、封止樹脂36
で封止されることはなく、若干の空気層が形成される。(2) In that state, as shown in FIG. 1B, a sealing resin 36 (eg, epoxy) is coated. (3) After the sealing resin 36 is cured by heat, as shown in FIG.
As shown in (c), when the cover 35 is pulled upward by 1 to 2 mm, the sensitive area 34 becomes the sealing resin 36.
However, a slight air layer is formed.
【0018】(4)その後、図1(d)に示すように、
封止樹脂36とカバー35の間隙を埋めるように接着剤
37でカバー35を固定する。以下、そのカバーについ
て説明する。図2、図3はカバーの形状を示す図であ
り、図2(a)、図3(a)はそのカバーの正面図、図
2(b)、図3(b)はそのカバーの底面図である。(4) After that, as shown in FIG.
The cover 35 is fixed with an adhesive 37 so as to fill the gap between the sealing resin 36 and the cover 35. The cover will be described below. 2 and 3 are views showing the shape of the cover. FIGS. 2 (a) and 3 (a) are front views of the cover, and FIGS. 2 (b) and 3 (b) are bottom views of the cover. Is.
【0019】これらの図に示すように、カバー35の側
面にはテーパー35aを形成することにより、このカバ
ー35を引き上げることを容易にし、また、同時に側面
へは剥離剤(例えば、シリコーン樹脂等)を塗布してお
くと、より一層の効果が期待できる。また、センシティ
ブエリア34の側面は、封止樹脂36が硬化する時に回
り込みが発生しないよう平坦性が必要となる。そこで、
場合によっては、図3に示すように、カバー35の先端
に凹部35bを加工しても良い。As shown in these figures, by forming a taper 35a on the side surface of the cover 35, it is possible to easily pull up the cover 35, and at the same time, on the side surface, a release agent (for example, silicone resin). If it is applied, a further effect can be expected. Further, the side surface of the sensitive area 34 needs to be flat so as not to wrap around when the sealing resin 36 is cured. Therefore,
Depending on the case, as shown in FIG. 3, a recess 35b may be formed at the tip of the cover 35.
【0020】更に、高弾性材料(例えば、シリコーン等
で封止樹脂36の硬化温度:150℃程度に耐えうる材
料)をカバー35材料に適用し、封止樹脂36のコーテ
ィング時より硬化終了まで、ある程度の荷重を加えてお
くようにすると良い。次に、本発明の第2実施例につい
て説明する。図7は本発明の第2実施例を示す半導体チ
ップの実装工程断面図である。Further, a highly elastic material (for example, a material such as silicone that can withstand the curing temperature of the sealing resin 36: about 150 ° C.) is applied to the material of the cover 35, and from the time of coating the sealing resin 36 to the completion of curing. It is advisable to apply a certain amount of load. Next, a second embodiment of the present invention will be described. FIG. 7 is a sectional view of a semiconductor chip mounting process showing a second embodiment of the present invention.
【0021】(1)まず、図7(a)に示すように、基
板41の所定位置に貫通口42を形成しておき、一方、
半導体チップ43の電極(図示なし)にハンダバンプ4
4を電気メッキ等で形成した後、半導体チップ43のセ
ンシティブエリア45が基板41の貫通口42に対応す
るように位置決めし、基板41上のパッド(図示なし)
上へフラックスを塗布した後、半導体チップ43を基板
41へ搭載し、リフローすることにより、半導体チップ
43と基板41が接続される。そこで、カバー46を基
板41の貫通口42の裏面より挿入する。(1) First, as shown in FIG. 7A, a through hole 42 is formed at a predetermined position of a substrate 41, while
Solder bumps 4 are provided on the electrodes (not shown) of the semiconductor chip 43.
After forming 4 by electroplating or the like, the sensitive area 45 of the semiconductor chip 43 is positioned so as to correspond to the through hole 42 of the substrate 41, and a pad (not shown) on the substrate 41 is formed.
After applying flux onto the semiconductor chip 43, the semiconductor chip 43 is mounted on the substrate 41 and reflowed to connect the semiconductor chip 43 and the substrate 41. Therefore, the cover 46 is inserted from the back surface of the through hole 42 of the substrate 41.
【0022】(2)次に、図7(b)に示すように、こ
の状態で、半導体チップ43と基板41の間隙を埋める
ように、封止樹脂47を充填する。 (3)その後、図7(c)に示すように、カバー46を
1〜2mm程度下方へ引き下げると、センシティブエリ
ア45は、封止樹脂47で封止されることはなく、若干
の空気層が形成される。(2) Next, as shown in FIG. 7B, in this state, a sealing resin 47 is filled so as to fill the gap between the semiconductor chip 43 and the substrate 41. (3) After that, as shown in FIG. 7C, when the cover 46 is pulled down by about 1 to 2 mm, the sensitive area 45 is not sealed with the sealing resin 47, and a slight air layer is formed. It is formed.
【0023】(4)次に、図7(d)に示すように、封
止樹脂47とカバー46の間隙を埋めるように接着剤4
9でカバー46を固定する。 次に、本発明の第3実施例について説明する。図8は本
発明の第3実施例を示す半導体チップの実装工程断面図
である。 (1)まず、図8(a)に示すように、半導体チップ5
1上の電極(図示なし)上に基板57〔図8(d)参
照〕との電気的接続用にAuバンプ52が、電気メッキ
もしくはワイヤボンディング装置を用いて形成される。
その後、熱、圧力、超音波等を加えることにより、リー
ド55とAuバンプ52の接続(ILB:INNER
LEAD BONDING)を行い、さらに、センシテ
ィブエリア53上にカバー54を搭載する。(4) Next, as shown in FIG. 7D, the adhesive 4 is formed so as to fill the gap between the sealing resin 47 and the cover 46.
The cover 46 is fixed at 9. Next, a third embodiment of the present invention will be described. FIG. 8 is a sectional view of a semiconductor chip mounting process showing the third embodiment of the present invention. (1) First, as shown in FIG.
Au bumps 52 are formed on the electrodes (not shown) on the substrate 1 for electrical connection with the substrate 57 [see FIG. 8 (d)] by electroplating or wire bonding.
After that, by applying heat, pressure, ultrasonic waves, etc., the lead 55 and the Au bump 52 are connected (ILB: INNER).
Lead Bonding) is performed, and the cover 54 is mounted on the sensitive area 53.
【0024】(2)次に、図8(b)に示すように、カ
バー54へ若干の荷重を加えながら封止樹脂56をコー
ティングする。 (3)次に、図8(c)に示すように、上方へカバー5
4を1〜2mm程度上方へ引き上げると、センシティブ
エリア53は、封止樹脂56で封止されることはなく、
若干の空気層が形成される。(2) Next, as shown in FIG. 8B, the cover 54 is coated with the sealing resin 56 while applying a slight load. (3) Next, as shown in FIG. 8C, the cover 5 is moved upward.
When 4 is pulled upward by about 1 to 2 mm, the sensitive area 53 is not sealed with the sealing resin 56,
Some air layer is formed.
【0025】(4)次に、図8(d)に示すように、封
止樹脂56と、カバー54の間隙を埋めるように接着剤
58でカバー54を固定する。リード55と基板57の
接続は、ILB同様、熱、圧力、超音波を加えながら行
われる(OLB:OUTERLEAD BONDIN
G)。 次に、本発明の第4実施例について説明する。(4) Next, as shown in FIG. 8D, the cover 54 is fixed with the adhesive 58 so as to fill the gap between the sealing resin 56 and the cover 54. Like the ILB, the lead 55 and the substrate 57 are connected while applying heat, pressure, and ultrasonic waves (OLB: OUTERLEAD BONDIN).
G). Next, a fourth embodiment of the present invention will be described.
【0026】図9は本発明の第4実施例を示す半導体チ
ップの実装工程断面図である。 (1)まず、図9(a)に示すように、ハンダバンプ6
4を電気メッキ等で半導体チップ63の電極(図示な
し)へ形成した後、基板61上のパッド(図示なし)へ
フラックスを塗布し、半導体チップ63を基板61へ搭
載した後、リフローすることにより、半導体チップ63
と基板61が接続される。この基板61には、センシテ
ィブエリア65の中心位置と投影座標上同じ中心位置に
ある開口部62が形成されている。FIG. 9 is a sectional view of a semiconductor chip mounting process showing the fourth embodiment of the present invention. (1) First, as shown in FIG.
4 is formed on an electrode (not shown) of the semiconductor chip 63 by electroplating or the like, flux is applied to a pad (not shown) on the substrate 61, the semiconductor chip 63 is mounted on the substrate 61, and then reflow is performed. , Semiconductor chip 63
And the substrate 61 are connected. An opening 62 is formed in the substrate 61 at the same center position as the center position of the sensitive area 65 in projection coordinates.
【0027】(2)次に、図9(b)に示すように、こ
の開口部62より空気圧力を加えながら、半導体チップ
63と基板61の間隙を埋めるように、封止樹脂66を
充填し硬化させる。 (3)その後、図9(c)に示すように、基板61の開
口部62を接着剤等により蓋67をすることで封止が完
了する。つまり、センシティブエリア65は封止樹脂6
6で封止されることはなく、若干の空気層が形成され
る。(2) Next, as shown in FIG. 9B, a sealing resin 66 is filled so as to fill the gap between the semiconductor chip 63 and the substrate 61 while applying air pressure from the opening 62. Let it harden. (3) Thereafter, as shown in FIG. 9C, the opening 62 of the substrate 61 is covered with a lid 67 with an adhesive or the like to complete the sealing. That is, the sensitive area 65 is the sealing resin 6
6 is not sealed, and a slight air layer is formed.
【0028】次に、本発明の第5実施例について説明す
る。図10は本発明の第5実施例を示す半導体チップの
実装工程断面図である。この実施例では、第4実施例と
異なる点は、基板71上へ半導体チップ74のセンシテ
ィブエリア76より1回り大きいサイズで、且つ、セン
シティブエリア76の中心位置と投影座標上同じ中心位
置にあるダム73を形成することにより、封止樹脂77
のセンシティブエリア76までの拡がりを確実に防止す
ることが可能となる。すなわち、 (1)まず、図10(a)に示すように、ハンダバンプ
75を電気メッキ等で半導体チップ74の電極(図示な
し)へ形成した後、基板71上のパッド(図示なし)へ
フラックスを塗布し、半導体チップ74を基板71へ搭
載した後、リフローすることにより、半導体チップ74
と基板71が接続される。この基板71−は、センシテ
ィブエリア76の中心位置と投影座標上の同じ中心位置
にある開口部72が形成されている。Next, a fifth embodiment of the present invention will be described. FIG. 10 is a sectional view of a semiconductor chip mounting process showing the fifth embodiment of the present invention. This embodiment is different from the fourth embodiment in that the dam on the substrate 71 is one size larger than the sensitive area 76 of the semiconductor chip 74 and is located at the same center position as the center position of the sensitive area 76 in projection coordinates. By forming 73, the sealing resin 77
It is possible to reliably prevent the expansion to the sensitive area 76. That is, (1) first, as shown in FIG. 10A, solder bumps 75 are formed on electrodes (not shown) of the semiconductor chip 74 by electroplating or the like, and then flux is applied to pads (not shown) on the substrate 71. After applying and mounting the semiconductor chip 74 on the substrate 71, the semiconductor chip 74 is reflowed.
And the substrate 71 are connected. The substrate 71-has an opening 72 formed at the same center position as the center position of the sensitive area 76 on the projected coordinates.
【0029】(2)次に、図10(b)に示すように、
この開口部72より空気圧力を加えながら、半導体チッ
プ74と基板71の間隙を埋めるように、封止樹脂77
を充填し硬化させる。 (3)その後、図10(c)に示すように、基板71の
開口部72を接着剤等により蓋78をすることで封止が
完了する。つまり、センシティブエリア76は封止樹脂
77で封止されることはなく、若干の空気層が形成され
る。(2) Next, as shown in FIG.
While applying air pressure from the opening 72, the sealing resin 77 is filled so as to fill the gap between the semiconductor chip 74 and the substrate 71.
Fill and cure. (3) After that, as shown in FIG. 10C, the opening 72 of the substrate 71 is covered with an adhesive or the like to complete the sealing. That is, the sensitive area 76 is not sealed with the sealing resin 77, and a slight air layer is formed.
【0030】なお、本発明は上記実施例に限定されるも
のではなく、本発明の趣旨に基づいて種々の変形が可能
であり、これらを本発明の範囲から排除するものではな
い。It should be noted that the present invention is not limited to the above embodiment, but various modifications are possible based on the spirit of the present invention, and these are not excluded from the scope of the present invention.
【0031】[0031]
【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明に
よれば、以下のような効果を奏することができる。 (1)請求項1記載の発明によれば、カバーを若干引き
上げるだけで、センシティブエリアと封止樹脂の間に若
干の空気層を設けることにより、センシティブエリアが
受ける封止樹脂の誘電率に起因するC(容量)成分の影
響を防ぐことができ、したがって、センシティブエリア
を持つ高速半導体及び低電圧メモリ等の動作不良を防止
することができる。As described in detail above, according to the present invention, the following effects can be achieved. (1) According to the invention as set forth in claim 1, a slight air layer is provided between the sensitive area and the sealing resin only by slightly pulling up the cover, which results from the dielectric constant of the sealing resin received by the sensitive area. It is possible to prevent the influence of the C (capacitance) component that occurs, and thus prevent the malfunction of the high-speed semiconductor having a sensitive area, the low-voltage memory, and the like.
【0032】(2)請求項2記載の発明によれば、基板
に形成される開口部より空気圧力を加えながら、半導体
チップと基板の間隙を埋めるように封止樹脂を充填し、
その後、基板の開口部に蓋を取り付けるようにしたの
で、簡単、かつ自動化された工程で、センシティブエリ
アと封止樹脂の間に若干の空気層を設けることができ、
センシティブエリアが受ける封止樹脂の誘電率に起因す
るC(容量)成分の影響を防ぐことができる。(2) According to the second aspect of the invention, while the air pressure is applied from the opening formed in the substrate, the sealing resin is filled so as to fill the gap between the semiconductor chip and the substrate,
After that, since the lid is attached to the opening of the substrate, a slight air layer can be provided between the sensitive area and the sealing resin in a simple and automated process.
It is possible to prevent the influence of the C (capacitance) component due to the dielectric constant of the sealing resin on the sensitive area.
【0033】(3)請求項3記載の発明によれば、上記
(2)の効果に加えて、ダムを形成することにより、封
止樹脂のセンシティブエリアへの影響を確実に防止する
ことができる。(3) According to the invention of claim 3, in addition to the effect of (2) above, by forming a dam, the influence of the sealing resin on the sensitive area can be reliably prevented. .
【図1】本発明の第1実施例を示す半導体チップの実装
工程断面図である。FIG. 1 is a sectional view of a semiconductor chip mounting process showing a first embodiment of the present invention.
【図2】本発明の第1実施例を示す半導体チップの実装
に用いるカバーの形状を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing a shape of a cover used for mounting a semiconductor chip showing the first embodiment of the present invention.
【図3】本発明の第1実施例を示す半導体チップの実装
に用いる他のカバーの形状を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing the shape of another cover used for mounting the semiconductor chip according to the first embodiment of the present invention.
【図4】従来のワイヤボンディング実装図である。FIG. 4 is a conventional wire bonding mounting diagram.
【図5】従来のフリップチップ実装図である。FIG. 5 is a conventional flip chip mounting diagram.
【図6】従来のTAB実装図である。FIG. 6 is a conventional TAB mounting diagram.
【図7】本発明の第2実施例を示す半導体チップの実装
工程断面図である。FIG. 7 is a sectional view of a semiconductor chip mounting process showing a second embodiment of the present invention.
【図8】本発明の第3実施例を示す半導体チップの実装
工程断面図である。FIG. 8 is a sectional view of a semiconductor chip mounting process showing a third embodiment of the present invention.
【図9】本発明の第4実施例を示す半導体チップの実装
工程断面図である。FIG. 9 is a sectional view of a semiconductor chip mounting process showing the fourth embodiment of the present invention.
【図10】本発明の第5実施例を示す半導体チップの実
装工程断面図である。FIG. 10 is a sectional view of a semiconductor chip mounting process showing a fifth embodiment of the present invention.
31,41,57,61,71 基板 32,43,51,63,74 半導体チップ 33 ワイヤ 34,45,53,65,76 センシティブエリア 35,46,54 カバー 35a テーパー 35b 凹部 36,47,56,66,77 封止樹脂 37,49,58 接着剤 42 貫通口 44,64,75 ハンダバンプ 52 Auバンプ 55 リード 62,72 開口部 67,78 蓋 73 ダム 31, 41, 57, 61, 71 Substrate 32, 43, 51, 63, 74 Semiconductor chip 33 Wire 34, 45, 53, 65, 76 Sensitive area 35, 46, 54 Cover 35a Taper 35b Recess 36, 47, 56, 66,77 Sealing resin 37,49,58 Adhesive 42 Through hole 44,64,75 Solder bump 52 Au bump 55 Lead 62,72 Opening 67,78 Lid 73 Dam
Claims (3)
ティブエリアより若干大きな投影面積を有する立方体形
状のカバーを前記センシティブエリア上に搭載し、
(b)封止樹脂をコーティングして、封止樹脂を硬化さ
せ、(c)前記カバーを前記センシティブエリアと反対
側方向へ引き上げ、(d)前記封止樹脂とカバーの間隙
を埋めるように接着剤で前記カバーを固定することを特
徴とする半導体チップの実装方法。1. A cube-shaped cover having a projected area slightly larger than a sensitive area formed on a semiconductor chip is mounted on the sensitive area.
(B) Encapsulating resin is coated to cure the encapsulating resin, (c) the cover is pulled up in the direction opposite to the sensitive area, and (d) adhesive is applied so as to fill the gap between the encapsulating resin and the cover. A method for mounting a semiconductor chip, characterized in that the cover is fixed with an agent.
ティブエリアの中心位置と投影座標上の同じ中心位置に
ある開口部を基板に形成し、(b)該基板上へ半導体チ
ップをハンダバンプを介して接続し、前記開口部より空
気圧力を加えながら半導体チップと基板の間隙を埋める
ように封止樹脂を充填し、(c)その後、前記基板の開
口部に蓋を取り付けることを特徴とする半導体チップの
実装方法。2. An opening is formed in a substrate at a center position of a sensitive area formed on the semiconductor chip and the same center position as projected coordinates on the substrate, and a semiconductor chip is solder bumped on the substrate. And a sealing resin is filled so as to fill the gap between the semiconductor chip and the substrate while applying air pressure from the opening, and (c) after that, a lid is attached to the opening of the substrate. Semiconductor chip mounting method.
ティブエリアの中心位置と投影座標上の同じ中心位置に
ある開口部を基板に形成し、(b)該基板上に前記セン
シティブエリアより1回り大きいサイズで、且つ該セン
シティブエリアの中心位置と投影座標上の同じ中心位置
にあるダムを形成し、(c)前記基板上へ前記半導体チ
ップをハンダバンプを介して接続し、前記開口部より空
気圧力を加えながら、前記半導体チップと基板の間隙を
埋めるように封止樹脂を充填し、前記基板の開口部に蓋
をすることを特徴とする半導体チップの実装方法。3. An opening is formed in a substrate at the same center position on projected coordinates as a center position of a sensitive area formed on a semiconductor chip, and (b) 1 opening from the sensitive area on the substrate. A dam having a large size and located at the same center position on the projected coordinates as the center position of the sensitive area is formed, and (c) the semiconductor chip is connected to the substrate via a solder bump, and air is introduced from the opening. A method of mounting a semiconductor chip, which comprises filling a sealing resin so as to fill a gap between the semiconductor chip and a substrate while applying pressure, and covering an opening of the substrate.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7208735A JPH0955394A (en) | 1995-08-16 | 1995-08-16 | Semiconductor chip mounting method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7208735A JPH0955394A (en) | 1995-08-16 | 1995-08-16 | Semiconductor chip mounting method |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0955394A true JPH0955394A (en) | 1997-02-25 |
Family
ID=16561219
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7208735A Withdrawn JPH0955394A (en) | 1995-08-16 | 1995-08-16 | Semiconductor chip mounting method |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0955394A (en) |
-
1995
- 1995-08-16 JP JP7208735A patent/JPH0955394A/en not_active Withdrawn
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