JPH0957171A - 円筒状基材の塗布装置及び塗布方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 円筒状基材上に塗布された感光膜厚の変動を
低減し、円筒状基材への塗布液の塗布性と乾燥性とを向
上させ、塗布ムラや塗膜欠陥のない均一な乾燥済み塗膜
を得る。 【構成】 複数の円筒状基材１の筒軸を垂直方向に合致
させて積み重ねた円筒状基材群を固定台４５上に設置
し、円筒状基材群の外周面を環状塗布手段２０の塗布液
吐出口を有する環状内径部の内方に貫通させ、環状塗布
手段２０を垂直方向に下降させながら、円筒状基材１の
外周面上に塗布液Ｌを連続的に塗布する円筒状基材の塗
布装置に、円筒状基材１上に塗布された塗布液Ｌの蒸発
乾燥を調整する乾燥調整器３１と塗布液Ｌを強制乾燥す
る乾燥器３２とから成る乾燥手段３０を一体に設けた円
筒状基材の塗布装置。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、複数の円筒状基材外周
面上に塗布液を連続的に塗布する垂直型環状塗布装置及
び方法に関し、特に、該円筒状基材を供給、搬送、位置
決め、塗布したのち乾燥する連続塗布装置及び方法に関
する。

【０００２】

【従来の技術】エンドレスに形成された連続面を有する
円筒状基材の外面上への薄膜で均一な塗布に関連してス
プレー塗布法、浸漬塗布法、ブレード塗布法、ロール塗
布法等の種々の方法が検討されている。特に電子写真感
光体ドラムのような薄膜で均一な塗布については生産性
の優れた塗布装置を開発すべく検討されている。しかし
ながら、従来のエンドレスに形成された連続面を有する
円筒状基材への塗布装置及び塗布方法においては、均一
な塗膜が得られなかったり、生産性が悪い等の短所があ
った。

【０００３】スプレー塗布法では、スプレーガンより噴
出した塗布液滴が該エンドレスに形成された連続面を有
する円筒状基材の外周面上に到達するまでに溶媒が蒸発
するために塗布液滴の固形分濃度が上昇してしまい、そ
れにともない塗布液滴の粘度上昇が起って液滴が面に到
達したとき、液滴が面上を充分に広がらないために、或
いは乾燥固化してしまった粒子が表面に付着するため
に、塗布表面の平滑性の良いものがえられない。また、
該連続面を有する円筒状基材への液滴の到達率が１００
％でなく塗布液のロスがあったり、部分的にも不均一で
あるため、膜厚コントロールが非常に困難である。更
に、高分子溶液等では糸引きを起こす事があるため、使
用する溶媒及び樹脂に制限がある。

【０００４】ブレード塗布法、ロール塗布法は例えば円
筒状基材の長さ方向にブレード若しくはロールを配置
し、該円筒状基材を回転させて塗布を行い円筒状基材を
１回転させたのち、ブレード若しくはロールを後退させ
るものである。しかしながらブレード若しくはロールを
後退させる際、塗布液の粘性により、塗布膜厚の一部に
他の部分より厚い部分が生じ、均一な塗膜が得られない
欠点がある。

【０００５】浸漬塗布法は、上記におけるような塗布液
表面の平滑性、塗布膜の均一性の悪い点は改良される。

【０００６】しかし、塗布膜厚の制御が塗布液物性例え
ば粘度、表面張力、密度、温度等と塗布速度に支配さ
れ、塗布液物性の調整が非常に重要となる。また塗布速
度も低いし、塗布液槽を満たすためにはある一定量以上
の液量が必要である。さらに重層する場合、下層成分が
溶け出し塗布液槽が汚染されやすい等の欠点がある。

【０００７】そこで特開昭５８−１８９０６１号公報に
記載の如く円形量規制型塗布装置（この中にはスライド
ホッパー型塗布装置が含まれる）が開発された。このス
ライドホッパー型塗布装置はエンドレスに形成された連
続周面を有する円筒状基材を連続的にその長手方向に移
動させながら、その周囲を環状に取り囲み、円筒状基材
の外周面に対して塗布液を塗布するものであって、さら
にこの塗布装置は環状の塗布液溜まり室と、この塗布液
溜まり室内の一部に対して外部から塗布液を供給する供
給口と、前記塗布液溜まり室の内方に開口する塗布液分
配スリットとを有し、このスリットから流出した塗布液
を斜め下方に傾斜する塗布液スライド面上に流下させ、
塗布液スライド面の下端のホッパー塗布面と円筒状基材
との僅かな間隙部分にビードを形成し、円筒状基材の移
動に伴ってその外周面に塗布するものである。このスラ
イドホッパー型塗布装置を用いることにより、少ない液
量で塗布でき、塗布液が汚染されず、生産性の高い、膜
厚制御の容易な塗布が可能となった。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記ス
ライドホッパー型塗布装置を用いてもなお諸問題があり
未だ満足のいくものではない。

【０００９】本発明は従来の諸問題を解決するために提
案されたものであり、その目的とするところのものは、 （イ）使用塗布液によるビード切れ発生を防止する。

【００１０】（ロ）塗布ムラや膜厚変動等の塗膜欠陥が
なく、塗布性を向上する。

【００１１】（ハ）円筒状基材の把持搬送性能を向上
し、長期の安定塗布を可能にする。

【００１２】（ニ）円筒状基材の把持搬送性能を安定化
し、円筒状基材の変形、損傷を防止する。

【００１３】（ホ）円筒状基材を供給、搬送、位置決
め、塗布、乾燥、搬出する生産工程を連続安定生産にす
ることにより、生産性が向上する。

【００１４】（ヘ）上記工程を連続且つ完全自動化する
ことにより、ゴミやほこり等の異物混入を防止し、高品
質な製品を得る。

【００１５】（ト）円筒状基材に振動が発生しても、完
成された感光体ドラム上の画像形成に影響を与えないよ
うな連続塗布装置を達成する。

【００１６】（チ）円筒状基材に振動が発生しても、振
動が同じ位置に集中しないで分散させることにより、重
畳されて大きな振動となることを防止する。

【００１７】等の効果が達成される優れた塗布装置及び
塗布方法を提供することにある。

【００１８】

【課題を解決するための手段】上記目的は、複数の円筒
状基材の筒軸を垂直方向に合致させて積み重ねた円筒状
基材群を固定台上に設置し、該円筒状基材群の外周面を
環状塗布手段の塗布液吐出口を有する環状内径部の内方
に貫通させ、前記環状塗布手段を垂直方向に下降させな
がら、前記円筒状基材の外周面上に塗布液を連続的に塗
布する円筒状基材の塗布装置に、前記円筒状基材上に塗
布された塗布液の蒸発乾燥を調整する乾燥調整器と該塗
布液を強制乾燥する乾燥器とから成る乾燥手段を一体に
設けたことを特徴とする円筒状基材の塗布装置によって
達成される。

【００１９】また上記目的は、複数の円筒状基材の筒軸
を垂直方向に合致させて積み重ねた円筒状基材群を固定
台上に設置し、該円筒状基材群の外周面を環状塗布手段
の塗布液吐出口を有する環状内径部の内方に貫通させ、
前記環状塗布手段を垂直方向に下降させながら、前記円
筒状基材の外周面上に塗布液を連続的に塗布する円筒状
基材の塗布方法であって、前記円筒状基材上に塗布され
た塗布液の蒸発乾燥を調整する乾燥調整器と該塗布液を
強制乾燥する乾燥器とから成る乾燥手段を一体に設けた
塗布手段により塗布、乾燥することを特徴とする円筒状
基材の塗布方法によって達成される。

【００２０】

【実施例】以下、図面を用いて本発明の一実施例を説明
する。

【００２１】図１は本発明による実施例１である円筒状
基材の塗布装置の全体構成を示す正面図、図２は円筒状
基材の塗布装置の要部斜視図である。

【００２２】互いに相対向し直立する一組の装置本体１
０Ａ，１０Ｂの内側には、それぞれ垂直方向に支持され
たボールねじ１１Ａ，１１Ｂが設けられている。該各ボ
ールねじ１１Ａ，１１Ｂはそれぞれ駆動用モータ１２
Ａ，１２Ｂにより正逆回転される。各ボールねじ１１
Ａ，１１Ｂにそれぞれ螺合する昇降部材１３は、ボール
ねじ１１Ａ，１１Ｂの正逆回転により直進昇降する。該
昇降部材１３には、内径部に環状の塗布液吐出口を有す
る環状塗布手段２０と、該環状塗布手段２０の上方に設
けた乾燥手段３０とが一体に設けてある。前記乾燥手段
３０は、円筒状基材１上に塗布された塗布液の蒸発乾燥
を調整する乾燥調整器３１および該塗布液を強制乾燥す
る乾燥器（リング式吸引乾燥器）３２から成る乾燥手段
を一体に備えている。

【００２３】なお、前記環状塗布手段２０の下方には図
示省略した位置決め手段を一体に固定してもよい。該位
置決め手段は前記昇降部材１３により保持されている。
位置決め手段は円筒状基材１を所定の位置に正確に保持
する装置であり、例えばエアーベアリング等により構成
され、円筒状基材１を非接触保持する。

【００２４】複数の円筒状基材、例えば７本の円筒状基
材の最下部の円筒状基材１Ｇは、予め相互に段差のない
ように下部スペーサードラム４１上に垂直に積み重ねら
れ、最上部の円筒状基材１Ａの上部には上部スペーサー
ドラム４２が設置されている。下部スペーサードラム４
１は下部把持部材４３により外方から把持され、所定位
置に固定されている。また上部スペーサードラム４２は
上部把持部材４４により外方から把持され、所定位置に
固定されている。４５は下部スペーサードラム４１を所
定位置に載置する固定台であるが、塗布、乾燥処理後の
円筒状基材群を上方に順次押し上げる機構を有し、図示
しない分離手段により最上段の円筒状基材１Ａから順次
分離、搬出して、排出ロボットにより収納室、乾燥室あ
るいは次の工程に移行するようにしてもよい。

【００２５】環状塗布手段２０は円筒状基材１（１Ａ〜
１Ｇ）の外周面上に塗布液を均一に塗布するものであ
り、昇降部材１３が所定速度で下降することにより、円
筒状基材１（１Ａ〜１Ｇ）上に順次塗膜が形成される。
同時に、環状塗布手段２０と一体をなす前記乾燥調整器
３１および乾燥器３２により塗膜が乾燥させられる。こ
の間、円筒状基材群は動くことはないから、振動による
塗布ムラは発生しない。

【００２６】本発明の塗布装置は、上記の各手段を連続
して垂直中心線ＺＺ上に配置した構成であり、人手を要
しない完全自動化生産が高精度で達成される。

【００２７】上記環状塗布手段２０および乾燥手段３０
の詳細は後述する。

【００２８】図３は本発明による実施例２の塗布装置を
示す正面図である。なお、図中前記実施例１と同じ機能
を有する部分には同符号を付している。また、前記実施
例と異なる点を説明する。この実施例２では、前記昇降
部材１３上に設けた前記環状塗布手段２０の上方に、前
記乾燥調整器３１、前記乾燥器（リング式吸引乾燥器）
３２、第２の乾燥器（リング式加熱乾燥器）３３から成
る乾燥手段３０を一体に設けたものである。また、前記
環状塗布手段２０の下部には、エアベアリング式位置決
め手段５０も一体に設けてある。これら環状塗布手段２
０、乾燥手段３０、位置決め手段５０は昇降部材１３と
ともに一体となってボールねじ１１Ａ，１１Ｂに沿って
上下駆動される。

【００２９】前記装置本体１０Ａ，１０Ｂの下方には供
給手段６０が設けてある。該供給手段６０は、前記円筒
状基材を取り付け可能にする複数の保持部材６１を配置
した回転テーブル６２と、該回転テーブル６２制御して
回転させ前記塗布手段２０の前記垂直中心線ＺＺ直下へ
円筒状基材を送り込む駆動手段６３と、前記保持部材６
１により保持された複数の円筒状基材のうち、垂直中心
線ＺＺ直下の円筒状基材を順次上方に押し上げる押し上
げ手段６４等から構成されている。なお、前記回転テー
ブル６２上の保持部材６１への円筒状基材の供給は、ロ
ボットハンドルにより行われる。

【００３０】一方、装置本体１０Ａ，１０Ｂの垂直中心
線ＺＺ最上方には、分離排出手段７０が配置されてい
る。該分離排出手段７０は、塗布乾燥されて垂直上方に
搬送されてきた積み重ね状の複数の円筒状基材の最上部
から、内径部を把持して分離させて１個ずつ取り出して
装置本体外に排出させる装置である。

【００３１】図４は、位置決め手段５０と環状塗布手段
２０とを示す断面図、図５は環状塗布手段２０の斜視図
である。

【００３２】図４に示されるように中心線ＺＺに沿って
垂直状に重ね合わせた複数の円筒状基材１Ａ，１Ｂ（以
下、円筒状基材１と称す）を連続的に積み重ね、その周
囲を取り囲み、円筒状基材１の外周面に対しスライドホ
ッパー型の環状塗布手段２０を垂直方向に下降駆動させ
て、塗布に直接係わる部分であるホッパー塗布面２１に
より塗布液（感光液）Ｌを塗布させる。なお、円筒状基
材１としては中空ドラム例えばアルミニウムドラム、プ
ラスチックドラムのほかシームレスベルト型の基材でも
良い。前記ホッパー塗布面２１には、円筒状基材１側に
開口する塗布液流出口２２を有する幅狭の塗布液分配ス
リット（スリットと略称する）２３が水平方向に形成さ
れている。このスリット２３は環状の塗布液分配室（塗
布液溜り室）２４に連通し、この環状の塗布液分配室２
４には貯留タンク２内の塗布液Ｌを圧送ポンプ３により
供給管４を介して供給するようになっている。他方、ス
リット２３の塗布液流出口２２の下側には、連続して下
方に傾斜し、円筒状基材１の外径寸法よりやや大なる寸
法で終端をなすように形成された塗布液スライド面（以
下、スライド面と称す）２５が形成されている。さら
に、このスライド面２５終端より下方に延びる唇状部２
６が形成されている。かかる環状塗布手段２０による塗
布においては、円筒状基材１を固定して環状塗布手段２
０を下降させる過程で、塗布液Ｌをスリット２３から押
し出し、スライド面２５に沿って流下させると、スライ
ド面２５の終端に至った塗布液は、そのスライド面２５
の終端と円筒状基材１の外周面との間にビードを形成し
た後、円筒状基材１の表面に塗布される。スライド面２
５の終端と円筒状基材１は、ある間隙を持って配置され
ているため円筒状基材１を傷つける事なく、また性質の
異なる層を多層形成させる場合においても、既に塗布さ
れた層を損傷することなく塗布できる。

【００３３】一方、前記圧送ポンプ３の塗布液供給部よ
り最も遠い位置で、前記塗布液分配室２４の一部には、
塗布液分配室２４内の泡抜き用の空気抜き部材２６が設
けられている。貯留タンク２内の塗布液Ｌが塗布液分配
室２４に供給されて塗布液分配スリット２３から塗布液
流出口２２に供給されるとき、開閉弁２７を開いて空気
抜き部材２８より塗布液分配室２４内の空気を排出す
る。

【００３４】前記環状塗布手段２０の下部には、円筒状
基材の円周方向を位置決めする位置決め手段５０が固定
されている。前記円筒状基材１の位置決め手段５０の本
体５１には、複数の給気口５２と、複数の排気口５３が
穿設されている。該複数の給気口５２は、図示しない給
気ポンプに接続され、空気等の流体が圧送される。該給
気口５２の一端部で円筒状基材１の外周面に対向する側
には、吐出口５４が貫通している。該吐出口５４は前記
円筒状基材１の外周面と所定の間隙を保って対向してい
る。該間隙は、２０μｍ〜３ｍｍ、好ましくは３０μｍ
〜２ｍｍである。この間隙が２０μｍより小さいと、円
筒状基材１の僅かな振れで本体５１の内壁に接触して円
筒状基材１を傷つけやすい。また、この間隙が３ｍｍよ
り大であると、円筒状基材１の位置決め精度が低下す
る。前記吐出口５４は直径０．０１〜１．０ｍｍの小口
径のノズルであり、好ましくは０．０５〜０．５ｍｍが
良い。

【００３５】前記本体５１の内壁下部の内周面は、入り
口側が広がったテーパー面５５になっている。このテー
パー面５５は、例えば軸方向の長さが５０ｍｍで、片側
傾斜角が０．５ｍｍの円錐面である。このテーパー面５
５を設けることにより、円筒状基材１が本体５１の内壁
に進入するとき、円筒状基材１の先端部が内壁の内周面
に接触することを防止している。

【００３６】前記給気ポンプから圧送された流体は、複
数の給気口５２から本体５１の内部に導入されて、複数
の吐出口５４から吐出され、前記円筒状基材１Ａ（１
Ｂ）の外周面と均一な流体膜層を形成する。吐出後の流
体は複数の排気口５３から装置外に排出される。

【００３７】前記吐出口５４の開口直径は０．０１〜１
ｍｍ、好ましくは０．０５〜０．５ｍｍ、例えば０．２
〜０．５ｍｍの円形に形成されている。排気口５３の開
口直径は１．０〜１０ｍｍ、好ましくは２．０〜８．０
ｍｍ、例えば３〜５ｍｍの円形に形成されている。

【００３８】前記給気口５３に供給される流体は、空
気、不活性ガス例えば窒素ガスが良い。そして該流体
は、ＪＩＳ規格でクラス１００以上の清浄な気体が良
い。

【００３９】なお、位置決め手段５０に接続される環状
塗布装置としては、スライドホッパー型、押し出し型、
リングコーター等の各種装置が用いられる。

【００４０】前記環状塗布手段２０の上方には、乾燥調
整器（乾燥フード）３１と乾燥器（例えばリング式吸引
乾燥器）３２とから成る乾燥手段３０が設けられている
（実施例１）。また、実施例２では乾燥調整器（乾燥フ
ード）３１と乾燥器（例えばリング式吸引乾燥器）３２
と、第２の乾燥器（リング式加熱乾燥器）３３とから成
る乾燥手段３０が設けられている。第２の乾燥機３３は
リング状のヒーターを内蔵し、円筒状基材１の表面に塗
布された塗布液を加熱して蒸発乾燥させる。

【００４１】図６は前記環状塗布手段２０と該塗布手段
２０の上部に設けた乾燥フード３１の断面図である。該
乾燥フード３１は環状の壁面を有し、該壁面には多数の
開口３１Ａが穿設されている。前記環状塗布手段２０を
矢示方向に下降させ、前記塗布手段２０のホッパー塗布
面（塗布ヘッド）２１で塗布液を塗布し、感光層５を形
成する。円筒状基材１上に形成された感光層５は前記乾
燥フード３１内を通過しながら徐々に乾燥される。この
乾燥は前記多数の開口３１Ａより塗布液に含まれている
溶媒の蒸気を壁面外に発散させることにより行われる。
前記のように、塗布手段２０により円筒状基材１上に塗
布液を塗布することにより、形成された感光層５は、塗
布直後において乾燥フード３１により包囲されており、
開口３１Ａからのみ溶媒が放出されるため、塗布直後に
おける感光層５の乾燥速度は、前記開口３１Ａの開口面
積にほぼ比例する。

【００４２】図７は乾燥フードの他の実施例と環状塗布
手段２０とを示す断面図である。この乾燥フード３４は
前記図６における乾燥フード３１の上部を延長してＡ部
とＢ部を形成したものである。このＡ部には複数個の開
口３４Ａが、Ｂ部には複数個の開口３４Ｂがそれぞれ穿
設されている。この乾燥フード３４を環状塗布手段２０
の上部に設けることにより、円筒状基材１の外周面上に
塗布された塗布液Ｌの溶媒蒸気濃度が制御される。従っ
て塗膜乾燥速度が制御されることで塗膜の均一化を計る
ことが可能である。また上記のような乾燥フード３４を
設けることで、ビード部分の溶媒蒸気濃度が高くなるた
め、急速な乾燥が防止され、ビード切れを防止できる。

【００４３】図８に本発明の乾燥器３２の断面図を示
す。乾燥器３２は吸引スリット３２１、吸引チャンバー
３２２、吸引ノズル３２３を有する吸引スリット部材３
２４の下部に筒状部材３２５、上部に筒状部材３２６が
それぞれ同心に結合されている。

【００４４】そして、複数設けられた吸引ノズル３２３
から吸引を行ない、周方向均一な吸引チャンバー３２
２、周方向均一な吸引スリット３２１により周方向の均
一化がなされた吸引エアーが流れ、更に、吸引スリット
部材３２４、その上下の筒状部材３２６，３２５の各内
径面と塗布済みの円筒状基材１の外周面との間の空気流
の乱れをバッファー空間３２７で極く僅かにおさえて、
３２８に示す乾燥の為の均一吸引エアーの空気流を作り
出している。

【００４５】この乾燥ゾーンに矢印で示す方向に塗布済
の円筒状基材１を搬送することにより、塗布膜の乾燥を
行うものである。

【００４６】次に、乾燥手段３０の他の実施例として、
図９に示された強制排気乾燥器３６について説明する。
前記のように円筒状基体１Ａ、１Ｂに環状塗布手段２０
にて塗布液（感光液）Ｌが塗布されて感光層５が形成さ
れる。前記強制排気乾燥器３６は塗布した直後の感光層
５より蒸発する溶媒を吸引し、更に乾燥を行うもので、
前記環状塗布手段２０の直上に設けられている。３６１
は環状に形成された吸引ダクトで、該吸引ダクト３６１
より前記感光層５に向けて吸引口３６２が形成されてい
る。前記吸引ダクト３６１の一部には排気管３６３が接
続され、該排気管３６３内に設けた排気ファン３６４に
より前記感光層５より蒸発する溶媒を吸引して、強制的
に外部に排出し乾燥させる。前記のように環状塗布手段
２０にて感光液Ｌを塗布した直後に、該感光液Ｌより発
生する溶媒蒸気を排気するため円筒状基体１Ａ、１Ｂに
塗布された感光液Ｌが多量に流下するのを停止させるこ
とができる。その際前記排気ファン３６４による排気風
速を０．５〜５ｍ／ｓｅｃで行い、前記吸引口３６２は
前記塗布ヘッド２１の位置より３００ｍｍ以下が望まし
い。そして前記感光液Ｌ内の溶媒が３０％以上蒸発する
まで前記円筒状基体１Ａ、１Ｂを連結状態に保ち、分離
した後、感光層５を完全に乾燥させる。前記のような強
制排気乾燥器３６を作動させることにより、多数の円筒
状基体１を接続して感光液Ｌを塗布した場合でも感光層
５の近傍より溶媒を急速に排出出来ると共に、感光液Ｌ
による塗膜の流下を強制的に制御して感光層５に発生す
る前記薄膜や液溜りの発生を防止する事も出来る。尚、
前記排気ファン３６４は、吸引ダクト３６１に複数箇所
設けてもよい。

【００４７】次に、具体的な実施例により本発明を説明
するが、本発明はこれに限定されるものではない。

【００４８】実施例１ 導電性支持体（円筒状基材）１としては鏡面加工を施し
た直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍ、２８３ｇのアルミニ
ウムドラム支持体を用いた。又塗布液Ｌとしては下記記
載のＵＣＬ−１塗布液組成物を用い、乾燥膜厚３．０
μｍになるように塗布した。

【００４９】ＵＣＬ−１塗布液組成物（４．０Ｗ／Ｖ
％ポリマ−濃度） 共重合ナイロン樹脂（ＣＭ−８０００ 東レ社製） メタノール／ｎ−ブタノール＝１０／１（Ｖｏｌ比） 塗布装置を前記図１に示す。

【００５０】円筒状基材（１Ａ〜１Ｇ）７本はあらかじ
め段差がないよう下部スペサードラム４１上に積み重ね
られ、上部には上部スペーサードラム４２が設置されて
いる。下部及び上部スペサードラム４１，４２は外方よ
り把持され円筒状基材１を固定している。リング式吸引
乾燥器３２及び乾燥フード３１からなる乾燥手段３０と
コーターとは１つの組になっており、上方より下方に下
降しながら塗布、乾燥される。この間ドラムは動かない
ため振動による塗布ムラは発生しない。

【００５１】本実施例１では、図６に示されるＡ−１タ
イプ（全長１００ｍｍ、穴径３．４ｍｍ）乾燥フード３
１と、図８に示されるＢ−１タイプ（全長６００ｍｍ）
リング式吸引乾燥器３２とを使用した。なお比較例とし
て本発明の乾燥調整器３１、乾燥器３２とから成る乾燥
手段３０を用いないもので塗布乾燥を行った。結果を表
１に示す。

【００５２】

【表１】

【００５３】表１に示す如く膜厚ムラ、液タレ等の塗膜
欠陥がなく、塗布性の良好な塗布済み円筒状基材が得ら
れた。

【００５４】実施例２ 円筒状基材１として鏡面加工を施した直径８０ｍｍ、高
さ３５５ｍｍ、２８３ｇのアルミニウムドラム支持体を
用いた。塗布液Ｌとしては下記の如く各々塗布液組成物
ＵＣＬ−１、ＣＧＬ−２及びＣＴＬ−１を調整
し、スライドホッパ−型環状塗布手段２０にて図３に示
す塗布装置に従い各層それぞれ乾燥膜厚０．８μｍ、
２．１μｍ及び２３μｍになるように３層の逐次重層塗
布、乾燥を行った。６０は供給手段を示す。円筒状基材
１は図示されていない供給ロボットにより円筒状基材収
納室より回転テーブル６２上にある円筒状基材１Ｈの位
置に置かれる。円筒状基材１Ｈは回転テーブル６２の回
転により１Ｇの位置に達する。この時、押し上げ手段６
４が下方より上方へ円筒状基材１Ｇを押し上げ、下部把
持部材４３の搬送ハンド位置まで供給される。好ましく
は押し上げ手段６４による押し上げが完了する時、緩衝
機構が作用し、上下の円筒状基材１Ｆ，１Ｇ間の接合時
のショックを無くするのが良い。このようにして円筒状
基材１Ｇが円筒状基材１Ｆまで運び込まれる。このよう
にして図３の如く７本の円筒状基材が段差無しに積み重
ねられる。

【００５５】リング式加熱乾燥器３３、リング式吸引乾
燥器３２及び乾燥フ−ド３１からなる乾燥手段３０とコ
ーターとは１つの組になっており、上方より下方に下降
しながら塗布、乾燥される。２０はコーターすなわち垂
直型環状塗布手段であり、スライドホッパー型押し
出し型リングコーター型スプレーコーター型等円筒
状基材を積み重ねて上方又は下方に相対的に移動する事
により塗布するものであれば種類を問わないが、信頼性
の高い連続安定塗布が得られる事によりのスライドホ
ッパー型コーターが好ましく、例えば特開昭５８−１８
９０６１号公報に詳しい。このようにして正確に位置決
めされた円筒状基材は垂直型環状塗布手段２０により塗
布される。

【００５６】塗布され乾燥された円筒状基材は上方にあ
る分離排出手段７０により排出される。分離手段７０と
しては特開平７−４３９１７号公報に詳しく述べられて
いるものが良い。別のものとしては特開昭６１−１２０
６６２号、同６１−１２０６６４号公報等も良い。分離
された円筒状基材は排出ロボットにより本乾燥室、収納
室、あるいは次の工程に移行される。

【００５７】なお比較例として本発明の乾燥器、乾燥調
節器を用いないもので塗布、乾燥を行った。使用した乾
燥フ−ド、吸引リング式乾燥器は実施例１と同じであ
る。結果を表２に示す。

【００５８】

【表２】

【００５９】 ＵＣＬ−１塗布液組成物（４．０Ｗ／Ｖ％ ポリマー濃度） 共重合ナイロン樹脂（ＣＭ−８０００ 東レ社製） メタノール／ｎ−ブタノール＝１０／１（Ｖｏｌ比） ＣＧＬ−２塗布液組成物 ペリレン顔料（ＣＧＭ−２） １５０ｇ ブチラール樹脂（エスレックＢＸ−Ｌ 積水化学社製） ７５ｇ メチルエチルケトン ８ｌ 上記塗布液組成物（固形分については固形分重量比ＣＧ
Ｍ−２：ＢＸ−Ｌ＝２：１に固定）をサンサミルを用い
て２０時間分散したもの。

【００６０】 ＣＴＬ−１塗布液組成物 ＣＴＭ−１ ５ｋｇ ポリカーボネート（Ｚ−２００ 三菱瓦斯化学社製） ５．６ｋｇ １，２−ジクロロエタン ２８ｌ 固形分については固形分重量比ＣＴＭ−１：Ｚ−２００
＝０．８９：１に固定

【００６１】

【化１】

【００６２】

【化２】

【００６３】表２に示す如く塗布ムラ、膜厚ムラ、色ム
ラ、液タレ、色流れ等の塗膜欠陥がなく、塗布性の良好
な塗布ドラムが得られた。

【００６４】得られた感光体Ｎｏ．２−１をコニカ社製
Ｕ−ＢＩＸ ３０３５複写機で実写したところ濃淡ム
ラ、カブリムラやゴミ等に起因する画像欠陥（黒ポチ、
白ポチ、ゴミ、スジ）等がなく、良好な画像が得られ
た。比較例感光体については画像ムラがひどく評価の対
象とならなかった。

【００６５】

【発明の効果】本発明の第１発明の連続塗布装置及び第
２発明の連続塗布方法によるときは、円筒状基材の供
給、把持搬送、位置決め、塗布、乾燥、分離排出の各手
段を連続配置して、上記手段の各工程を連続処理するこ
とを可能にするもであるから、円筒状基材上に形成さ
れた塗膜が均一であり、塗布ムラや塗膜欠陥がなく塗布
性が良好である、円筒状基材の把持搬送性能をが高
く、長期安定塗布ができる、円筒状基材の変形や損傷
を受けることなく確実に保持できる、連続安定生産が
可能となり、生産性が向上した、連続かつ完全自動化
が達成されたからゴミやほこり等の異物が混入せず高品
質な製品が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による一実施例としての塗布装置の全体
構成を示す正面図。

【図２】上記塗布装置の要部斜視図。

【図３】本発明による塗布装置の他の実施例を示す正面
図。

【図４】位置決め手段と塗布手段とを示す断面図。

【図５】上記塗布手段の斜視図。

【図６】上記塗布手段と乾燥フードとを示す断面図。

【図７】乾燥フードの他の実施例を示す断面図。

【図８】リング式吸引乾燥器の断面図。

【図９】乾燥手段の他の実施例としての強制排気乾燥装
置の断面図。

【符号の説明】

１，１Ａ〜１Ｈ 円筒状基材（円筒状ドラム、導電性支
持体） ５ 感光層 １０Ａ，１０Ｂ 装置本体 １１Ａ，１１Ｂ ボールねじ １３ 昇降部材 ２０ 環状塗布手段（コーター） ３０ 乾燥手段 ３１，３４ 乾燥調整器（乾燥フード） ３２，３５ 乾燥器（リング式吸引乾燥器） ３３ 第２の乾燥器（リング式加熱乾燥器） ３６ 強制排気乾燥器 ４１ 下部スペーサードラム ４２ 上部スペーサードラム ４３ 下部把持部材 ４４ 上部把持部材 ５０ 位置決め手段 ６０ 供給手段 ６１ 保持部材 ６２ 回転テーブル ６４ 押し上げ手段 ７０ 分離排出手段 Ｌ 塗布液（感光液）

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 複数の円筒状基材の筒軸を垂直方向に合
   致させて積み重ねた円筒状基材群を固定台上に設置し、
   該円筒状基材群の外周面を環状塗布手段の塗布液吐出口
   を有する環状内径部の内方に貫通させ、前記環状塗布手
   段を垂直方向に下降させながら、前記円筒状基材の外周
   面上に塗布液を連続的に塗布する円筒状基材の塗布装置
   に、前記円筒状基材上に塗布された塗布液の蒸発乾燥を
   調整する乾燥調整器と該塗布液を強制乾燥する乾燥器と
   から成る乾燥手段を一体に設けたことを特徴とする円筒
   状基材の塗布装置。
2. 【請求項２】 前記環状塗布手段が、スライドホッパー
   型塗布装置であることを特徴とする請求項１記載の円筒
   状基材の塗布装置。
3. 【請求項３】 前記乾燥器が、リング式吸引乾燥器およ
   びリング式加熱乾燥器であることを特徴とする請求項１
   記載の円筒状基材の塗布装置。
4. 【請求項４】 複数の円筒状基材の筒軸を垂直方向に合
   致させて積み重ねた円筒状基材群を固定台上に設置し、
   該円筒状基材群の外周面を環状塗布手段の塗布液吐出口
   を有する環状内径部の内方に貫通させ、前記環状塗布手
   段を垂直方向に下降させながら、前記円筒状基材の外周
   面上に塗布液を連続的に塗布する円筒状基材の塗布方法
   にであって、前記円筒状基材上に塗布された塗布液の蒸
   発乾燥を調整する乾燥調整器と該塗布液を強制乾燥する
   乾燥器とから成る乾燥手段を一体に設けた塗布手段によ
   り塗布、乾燥することを特徴とする円筒状基材の塗布方
   法。