JPH095730A - ブラックマトリクス基板、およびその製造方法 - Google Patents
ブラックマトリクス基板、およびその製造方法Info
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- JPH095730A JPH095730A JP7153269A JP15326995A JPH095730A JP H095730 A JPH095730 A JP H095730A JP 7153269 A JP7153269 A JP 7153269A JP 15326995 A JP15326995 A JP 15326995A JP H095730 A JPH095730 A JP H095730A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 液晶表示装置のカラーフィルタに要求される
平坦性を損なわない薄い膜厚で、しかも高い光学濃度を
有する樹脂ブラックマトリクス基板、およびその製造方
法を提供する。 【構成】 透明基板１上に光照射または光照射と加熱と
により効果可能であり、かつインク受容性を有する厚さ
２．０μｍ以下の樹脂層２を形成し（Ａ）、次いで該樹
脂層２の透明部形成予定部４ａを光照射または光照射と
加熱により硬化させ（Ｂ）た後、該樹脂層２の未硬化部
の遮光部形成予定部６ａにインクジェット法により黒色
インクを付与し（Ｃ）、その後着色された該樹脂層を光
照射または光照射と加熱により硬化させることにより、
透明部４と前記透明部４の周縁部にインクドットで形成
した遮光部６とを多数配列した厚さ２．０μｍ以下の樹
脂層２を透明基板１上に形成したブラックマトリクス基
板８を製造する。
平坦性を損なわない薄い膜厚で、しかも高い光学濃度を
有する樹脂ブラックマトリクス基板、およびその製造方
法を提供する。 【構成】 透明基板１上に光照射または光照射と加熱と
により効果可能であり、かつインク受容性を有する厚さ
２．０μｍ以下の樹脂層２を形成し（Ａ）、次いで該樹
脂層２の透明部形成予定部４ａを光照射または光照射と
加熱により硬化させ（Ｂ）た後、該樹脂層２の未硬化部
の遮光部形成予定部６ａにインクジェット法により黒色
インクを付与し（Ｃ）、その後着色された該樹脂層を光
照射または光照射と加熱により硬化させることにより、
透明部４と前記透明部４の周縁部にインクドットで形成
した遮光部６とを多数配列した厚さ２．０μｍ以下の樹
脂層２を透明基板１上に形成したブラックマトリクス基
板８を製造する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、各種電子機器の表示装
置などとして多用されているカラー液晶表示装置に用い
るカラーフィルタのブラックマトリクス基板に関する。
置などとして多用されているカラー液晶表示装置に用い
るカラーフィルタのブラックマトリクス基板に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に液晶表示装置は、パーソナルコン
ピュータ、ワードプロセッサー、自動車ナビゲーション
システム、小型テレビなどに搭載され、近年需要が増大
している。液晶表示装置の市場拡大の中で、同装置の主
要部を構成するカラーフィルタに要求される内容は、高
精細化、大型化、高品質化などの性能のほかに、低コス
トと言う課題も課せられている。
ピュータ、ワードプロセッサー、自動車ナビゲーション
システム、小型テレビなどに搭載され、近年需要が増大
している。液晶表示装置の市場拡大の中で、同装置の主
要部を構成するカラーフィルタに要求される内容は、高
精細化、大型化、高品質化などの性能のほかに、低コス
トと言う課題も課せられている。
【０００３】液晶表示装置のカラーフィルタは、透明基
板上に分光特性の異なる複数の着色部、一般に赤色、緑
色、黄色を画素として繰りし配列して構成される。画素
を構成する着色部の形成は、染色法、顔料分散法、電着
法、印刷法などがある。また各画素間には表示コントラ
ストを高めるためにブラックマトリクスが設けられてい
る。
板上に分光特性の異なる複数の着色部、一般に赤色、緑
色、黄色を画素として繰りし配列して構成される。画素
を構成する着色部の形成は、染色法、顔料分散法、電着
法、印刷法などがある。また各画素間には表示コントラ
ストを高めるためにブラックマトリクスが設けられてい
る。
【０００４】通常、ブラックマトリクスは、透明基板の
表面に形成した金属クロムの蒸着膜やスパッタリング膜
にエッチング処理をして多数の開口部を形成して製造さ
れるが、カラーフィルタの低コスト化、またブラックマ
トリクスの低反射化を図るために、新たなブラックマト
リクスとして樹脂ブラックマトリクスの製造方法がいく
つか提案されている。
表面に形成した金属クロムの蒸着膜やスパッタリング膜
にエッチング処理をして多数の開口部を形成して製造さ
れるが、カラーフィルタの低コスト化、またブラックマ
トリクスの低反射化を図るために、新たなブラックマト
リクスとして樹脂ブラックマトリクスの製造方法がいく
つか提案されている。
【０００５】樹脂ブラックマトリクスを形成する場合、
ブラックマトリクスに要求される光学濃度を得るために
は、膜厚を厚くする必要がある。このためブラックマト
リクスとなる遮光部と開口部との間に段差が生じ、液晶
表示装置のカラーフィルタとして必要な平坦性が維持で
きなくなる問題がある。
ブラックマトリクスに要求される光学濃度を得るために
は、膜厚を厚くする必要がある。このためブラックマト
リクスとなる遮光部と開口部との間に段差が生じ、液晶
表示装置のカラーフィルタとして必要な平坦性が維持で
きなくなる問題がある。
【０００６】この点を改良した樹脂ブラックマトリクス
の製造方法の一つとして特開平６−２６５７１３が挙げ
られる。特開平６−２６５７１３では、透明着色層を基
板に塗布し、ブラックマトリクスとなる部分を紫外線露
光して被染色部を得、この被染色部を黒色インクに浸漬
してブラックマトリクスを形成しているが、浸漬法を用
いているため、十分な光学濃度を得るためには、透明着
色層の膜厚を２．０μｍを超える膜厚にする必要があ
る。しかし２．０μｍを超える膜厚にする場合には、他
のプロセスでの加熱処理で、樹脂層の剥れやクラックな
どが発生しやすくなり、歩留まりの低下につながる。
の製造方法の一つとして特開平６−２６５７１３が挙げ
られる。特開平６−２６５７１３では、透明着色層を基
板に塗布し、ブラックマトリクスとなる部分を紫外線露
光して被染色部を得、この被染色部を黒色インクに浸漬
してブラックマトリクスを形成しているが、浸漬法を用
いているため、十分な光学濃度を得るためには、透明着
色層の膜厚を２．０μｍを超える膜厚にする必要があ
る。しかし２．０μｍを超える膜厚にする場合には、他
のプロセスでの加熱処理で、樹脂層の剥れやクラックな
どが発生しやすくなり、歩留まりの低下につながる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記事情に鑑
みなされたもので、その目的とするところは液晶表示装
置のカラーフィルタに要求される平坦性を損なわない薄
い膜厚で、しかも高い光学濃度を有する樹脂ブラックマ
トリクス基板、およびその製造方法を提供することにあ
る。
みなされたもので、その目的とするところは液晶表示装
置のカラーフィルタに要求される平坦性を損なわない薄
い膜厚で、しかも高い光学濃度を有する樹脂ブラックマ
トリクス基板、およびその製造方法を提供することにあ
る。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記の目的は、以下の手
段により達成される。
段により達成される。
【０００９】すなわち、本発明は、透明部と前記透明部
の周縁部にインクドットで形成した遮光部とを多数配列
してなる厚さ２．０μｍ以下の樹脂層を透明基板上に形
成してなることを特徴とするブラックマトリクス基板
で、ブラックマトリクスが階調ある光学濃度を形成して
なること、該樹脂層の樹脂材料がアクリル系共重合樹脂
であること、アクリル系共重合樹脂が、アクリル酸、ア
クリル酸メチル、アクリル酸エチル、ヒドロキシエチル
メタクリレート、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−
エトキシメチルアクリルアミドからなる群から選ばれる
少なくとも１以上の単量体との共重合樹脂であることを
含む。
の周縁部にインクドットで形成した遮光部とを多数配列
してなる厚さ２．０μｍ以下の樹脂層を透明基板上に形
成してなることを特徴とするブラックマトリクス基板
で、ブラックマトリクスが階調ある光学濃度を形成して
なること、該樹脂層の樹脂材料がアクリル系共重合樹脂
であること、アクリル系共重合樹脂が、アクリル酸、ア
クリル酸メチル、アクリル酸エチル、ヒドロキシエチル
メタクリレート、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−
エトキシメチルアクリルアミドからなる群から選ばれる
少なくとも１以上の単量体との共重合樹脂であることを
含む。
【００１０】また、本発明は、透明部と前記透明部の周
縁部にインクドットで形成した遮光部とを多数配列して
なる厚さ２．０μｍ以下の樹脂層を透明基板上に形成し
てなるブラックマトリクス基板の製造方法において、下
記（１）乃至（４）の工程、（１）透明基板上に光照射
または光照射と加熱とにより硬化可能であり、かつイン
ク受容性を有する厚さ２．０μｍ以下の樹脂層を形成す
る工程、（２）該樹脂層の透明部形成予定部を光照射ま
たは光照射と加熱により硬化させる工程、（３）該樹脂
層の未硬化部の遮光部形成予定部にインクジェット法に
より黒色インクを付与する工程および、（４）着色され
た該樹脂層を光照射または光照射と加熱により硬化させ
る工程、を含むことを特徴とするブラックマトリクス基
板の製造方法である。
縁部にインクドットで形成した遮光部とを多数配列して
なる厚さ２．０μｍ以下の樹脂層を透明基板上に形成し
てなるブラックマトリクス基板の製造方法において、下
記（１）乃至（４）の工程、（１）透明基板上に光照射
または光照射と加熱とにより硬化可能であり、かつイン
ク受容性を有する厚さ２．０μｍ以下の樹脂層を形成す
る工程、（２）該樹脂層の透明部形成予定部を光照射ま
たは光照射と加熱により硬化させる工程、（３）該樹脂
層の未硬化部の遮光部形成予定部にインクジェット法に
より黒色インクを付与する工程および、（４）着色され
た該樹脂層を光照射または光照射と加熱により硬化させ
る工程、を含むことを特徴とするブラックマトリクス基
板の製造方法である。
【００１１】以下、図面を参照して本発明を説明する。
図１は、本発明におけるブラックマトリクスの製造工程
を示したものであり、本発明のブラックマトリクスの構
成が示されている。
図１は、本発明におけるブラックマトリクスの製造工程
を示したものであり、本発明のブラックマトリクスの構
成が示されている。
【００１２】本発明において用いる基板としては、透光
性の基板が好ましく、一般にガラス基板が用いられてい
る。しかし、液晶用カラーフィルタとしての透明性、機
械的強度等の必要特性を有するものであれば、ガラス基
板に限定されるものではない。
性の基板が好ましく、一般にガラス基板が用いられてい
る。しかし、液晶用カラーフィルタとしての透明性、機
械的強度等の必要特性を有するものであれば、ガラス基
板に限定されるものではない。
【００１３】図１（Ａ）は、基板１上に光照射または光
照射と加熱により硬化可能であり、かつインク受容性を
有する樹脂組成物を塗布し、必要に応じてプリベークを
行って樹脂層２を形成した状態を示している。
照射と加熱により硬化可能であり、かつインク受容性を
有する樹脂組成物を塗布し、必要に応じてプリベークを
行って樹脂層２を形成した状態を示している。
【００１４】樹脂層２は乾燥膜厚が２．０μｍ以下、好
ましくは１．８μｍとするものである。
ましくは１．８μｍとするものである。
【００１５】本発明で使用する硬化可能な樹脂組成物と
しては、インク受容性を有し、かつ光照射または光照射
と加熱により硬化するものであれば、いずれのものでも
使用可能である。樹脂としては、例えばアクリル系樹
脂；エポキシ樹脂；シリコン樹脂；ヒドロキシプロピル
セルロース、ヒドロキシエチルエセルロース、メチルセ
ルロース、カルボキシメチルセルロースなどのセルロー
ス誘導体あるいはその変性物などが挙げられるが、アク
リル系樹脂が好ましく、特にアクリル系共重合樹脂が好
ましい。アクリル系共重合樹脂としては、アクリル酸、
アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、ヒドロキシエチ
ルメタクリレート、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ
−エトキシメチルアクリルアミドなどの単量体の１以上
を共重合したものが好ましい。これらの単量体の配合割
合は樹脂に対し、５〜９５モル％とすることが好まし
い。
しては、インク受容性を有し、かつ光照射または光照射
と加熱により硬化するものであれば、いずれのものでも
使用可能である。樹脂としては、例えばアクリル系樹
脂；エポキシ樹脂；シリコン樹脂；ヒドロキシプロピル
セルロース、ヒドロキシエチルエセルロース、メチルセ
ルロース、カルボキシメチルセルロースなどのセルロー
ス誘導体あるいはその変性物などが挙げられるが、アク
リル系樹脂が好ましく、特にアクリル系共重合樹脂が好
ましい。アクリル系共重合樹脂としては、アクリル酸、
アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、ヒドロキシエチ
ルメタクリレート、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ
−エトキシメチルアクリルアミドなどの単量体の１以上
を共重合したものが好ましい。これらの単量体の配合割
合は樹脂に対し、５〜９５モル％とすることが好まし
い。
【００１６】樹脂組成物を基板に塗布する方法として
は、スピンコート、ロールコート、ディップ法などの各
種の塗布方法を用いることができ、特に限定されるもの
ではない。
は、スピンコート、ロールコート、ディップ法などの各
種の塗布方法を用いることができ、特に限定されるもの
ではない。
【００１７】次に、ブラックマトリクスの遮光部となる
領域以外（透明部予定部４ａ）をフォトマスク３を使用
してパターン露光し（図１（Ｂ））、その後、ブラック
マトリクスの遮光部６となる遮光部予定部６ａに黒色イ
ンクにて着色を行う（図１（Ｃ））。そして最後に、必
要に応じて遮光部予定部６ａを光照射または光照射と加
熱により硬化させ遮光部６を形成する（図１（Ｄ））。
着色の方法は、インクジェット法を用いて行う。なお、
図中５はインクジェットヘッドを示すものである。
領域以外（透明部予定部４ａ）をフォトマスク３を使用
してパターン露光し（図１（Ｂ））、その後、ブラック
マトリクスの遮光部６となる遮光部予定部６ａに黒色イ
ンクにて着色を行う（図１（Ｃ））。そして最後に、必
要に応じて遮光部予定部６ａを光照射または光照射と加
熱により硬化させ遮光部６を形成する（図１（Ｄ））。
着色の方法は、インクジェット法を用いて行う。なお、
図中５はインクジェットヘッドを示すものである。
【００１８】これにより、透明部４とその周縁部に形成
した遮光部６とを多数配列してなる樹脂層２を基板１上
に形成したブラックマトリックス基板８を得る。
した遮光部６とを多数配列してなる樹脂層２を基板１上
に形成したブラックマトリックス基板８を得る。
【００１９】インクジェット法は、浸漬法とは異なり、
次のような利点をもっている。（１）高濃度の黒色イン
クを直接付与し、着色することが可能なため、樹脂層の
膜厚は薄くて済む。（２）樹脂層で収容しきれなかった
黒色インクの固型分は、樹脂層上で結晶化するが、この
ことを利用することで、遮光性の向上を図ることが可能
となる。（３）薄膜トランジスタに接するブラックマト
リクス領域の光学濃度のみを調整するなど、ブラックマ
トリクス内での光学濃度に階調をもたせることができ
る。
次のような利点をもっている。（１）高濃度の黒色イン
クを直接付与し、着色することが可能なため、樹脂層の
膜厚は薄くて済む。（２）樹脂層で収容しきれなかった
黒色インクの固型分は、樹脂層上で結晶化するが、この
ことを利用することで、遮光性の向上を図ることが可能
となる。（３）薄膜トランジスタに接するブラックマト
リクス領域の光学濃度のみを調整するなど、ブラックマ
トリクス内での光学濃度に階調をもたせることができ
る。
【００２０】ブラックマトリクスはその遮光部の光学濃
度が均一であってもよいが、ブラックマトリクスの遮光
部の各部分によって光学濃度を異ならしめて階調を持た
せてもよい。異なる光学濃度間は連続的に変化しても、
断続的に変化してもよい。
度が均一であってもよいが、ブラックマトリクスの遮光
部の各部分によって光学濃度を異ならしめて階調を持た
せてもよい。異なる光学濃度間は連続的に変化しても、
断続的に変化してもよい。
【００２１】図２（Ａ）は液晶表示装置の表示電極部の
部分拡大図であり、この電極部にブラックマトリクスを
重ねて液晶表示装置の画素を構成するものである。
部分拡大図であり、この電極部にブラックマトリクスを
重ねて液晶表示装置の画素を構成するものである。
【００２２】図２（Ａ）中、２１は表示電極、２２は薄
膜トランジスタ（ＴＦＴ）、２３は信号配線、２４はゲ
ート配線である。
膜トランジスタ（ＴＦＴ）、２３は信号配線、２４はゲ
ート配線である。
【００２３】図２（Ｂ）は前記図２（Ａ）に示す表示電
極部に重ねるブラックマトリクスを示す部分図で、透明
部２６の周縁部にインクドットで形成した遮光部２７を
形成したものである。前記遮光部２７は高光学濃度部２
８と低光学濃度部２９で示される異なる光学濃度（異な
る遮光度）の階調をもって形成されている。
極部に重ねるブラックマトリクスを示す部分図で、透明
部２６の周縁部にインクドットで形成した遮光部２７を
形成したものである。前記遮光部２７は高光学濃度部２
８と低光学濃度部２９で示される異なる光学濃度（異な
る遮光度）の階調をもって形成されている。
【００２４】上記ブラックマトリクスを表示電極に重ね
ると、高光学濃度部２８がＴＦＴ２２を完全に覆い、Ｔ
ＦＴ２２上に必要とされる光学濃度をもつ遮光層を形成
することで、優れた遮光効果を発揮するものである。
ると、高光学濃度部２８がＴＦＴ２２を完全に覆い、Ｔ
ＦＴ２２上に必要とされる光学濃度をもつ遮光層を形成
することで、優れた遮光効果を発揮するものである。
【００２５】ブラックマトリクスに階調を持たせるに
は、インクジェットの色素濃度を変える方法、ドット密
度を変える方法などがある。
は、インクジェットの色素濃度を変える方法、ドット密
度を変える方法などがある。
【００２６】なお、ブラックマトリクス基板のその他の
構成は前述の通りである。
構成は前述の通りである。
【００２７】
【実施例】以下に具体的な実施例を挙げて本発明を説明
するが、本発明はこれに限定されるものではない。本発
明は、本発明の目的が達成される範囲内で構成要素を公
知技術と変更、置換したものをも包含する。
するが、本発明はこれに限定されるものではない。本発
明は、本発明の目的が達成される範囲内で構成要素を公
知技術と変更、置換したものをも包含する。
【００２８】実施例１ 表面研磨した無アルカリガラス上に下記に示す組成から
なるアクリル系共重合体からなる感光性樹脂組成物を塗
布して感光性樹脂を形成した。具体的には、感光性樹脂
組成物をスピンナーで塗布した後、９０℃で２０分間ベ
ーク処理をして膜厚１μｍの感光性樹脂層を形成した。
なるアクリル系共重合体からなる感光性樹脂組成物を塗
布して感光性樹脂を形成した。具体的には、感光性樹脂
組成物をスピンナーで塗布した後、９０℃で２０分間ベ
ーク処理をして膜厚１μｍの感光性樹脂層を形成した。
【００２９】 感光性樹脂組成物 ・メチルメタクリレートとヒドロキシエチルメタクリレートと Ｎ−メチロールアクリルアミドの３元共重合体（モノマー重量組成比２：３ ：５）平均分子量約２０，０００ １０重量部 ・トリフェニルスルフォニウムヘキサフルオロアンチモレート０．３重量部 ・エチルセロソルブ ８９．７重量部 さらにブラックマトリクスが形成されるべき領域以外が
露光されるようにフォトマスクを介して感光性樹脂層の
一部を露光し、ホットプレート上で１２０℃で１分間、
熱処理を行った。この工程により感光性樹脂層の部分的
な硬化処理がなされた。未硬化部部分の感光性樹脂層に
下記に示す組成からなる黒色インクをインクジェット法
で着色し、９０℃で２０分と２００℃で６０分のベーク
処理を行い、黒色に着色されたブラックマトリクスを形
成した。
露光されるようにフォトマスクを介して感光性樹脂層の
一部を露光し、ホットプレート上で１２０℃で１分間、
熱処理を行った。この工程により感光性樹脂層の部分的
な硬化処理がなされた。未硬化部部分の感光性樹脂層に
下記に示す組成からなる黒色インクをインクジェット法
で着色し、９０℃で２０分と２００℃で６０分のベーク
処理を行い、黒色に着色されたブラックマトリクスを形
成した。
【００３０】 黒色インク組成 ・カーボンブラック（三菱化成製ＭＣＦ−８８） ５重量部 ・ポリビニルピロリドン ０．８重量部 ・エチレングリコール １０重量部 ・イソプロピルアルコール ３重量部 ・グリセリン ５重量部 ・水 ７６．８重量部 なおここで使用するポリビニルピロリドンは、黒色顔料
であるカーボンブラックの分散剤としての機能も果たし
ている。
であるカーボンブラックの分散剤としての機能も果たし
ている。
【００３１】このように形成されたブラックマトリクス
基板を用いてカラーフィルタを作製したところ、優れた
平坦性を示し、このカラーフィルタを用いた液晶表示装
置は優れた表示コントラストを示した。
基板を用いてカラーフィルタを作製したところ、優れた
平坦性を示し、このカラーフィルタを用いた液晶表示装
置は優れた表示コントラストを示した。
【００３２】
【発明の効果】本発明のブラックマトリクス基板は、液
晶表示装置のカラーフィルタに要求される平坦性を損な
わない薄い膜厚で、しかも高い光学濃度を有する樹脂ブ
ラックマトリクスで構成できる。さらに簡易な工程で製
造ができ、製造コストの削減も可能となる。
晶表示装置のカラーフィルタに要求される平坦性を損な
わない薄い膜厚で、しかも高い光学濃度を有する樹脂ブ
ラックマトリクスで構成できる。さらに簡易な工程で製
造ができ、製造コストの削減も可能となる。
【図１】（Ａ）〜（Ｄ）は本発明のブラックマトリクス
基板の製造例を示す工程図である。
基板の製造例を示す工程図である。
【図２】（Ａ）は画素の拡大部分図で、（Ｂ）は（Ａ）
の画素に重ねるための本発明のブラックマトリクスの一
例を示す拡大部分図である。
の画素に重ねるための本発明のブラックマトリクスの一
例を示す拡大部分図である。
１ 基板 ２ 樹脂層 ３ フォトマスク ４ 透明部 ４ａ 透明部予定部 ５ インクジェットヘッド ６ 遮光部 ６ａ 遮光部予定部 ８ ブラックマトリクス基板
フロントページの続き (72)発明者 山田 聡彦 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内
Claims (5)
- 【請求項１】 透明部と前記透明部の周縁部にインクド
ットで形成した遮光部とを多数配列してなる厚さ２．０
μｍ以下の樹脂層を透明基板上に形成してなることを特
徴とするブラックマトリクス基板。 - 【請求項２】 ブラックマトリクスが階調ある光学濃度
を形成してなる請求項１に記載のブラックマトリクス基
板。 - 【請求項３】 該樹脂層の樹脂材料がアクリル系共重合
樹脂である請求項１に記載のブラックマトリックス基
板。 - 【請求項４】 アクリル系共重合樹脂が、アクリル酸、
アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、ヒドロキシエチ
ルメタクリレート、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ
−エトキシメチルアクリルアミドからなる群から選ばれ
る少なくとも１以上の単量体との共重合樹脂である請求
項３に記載のブラックマトリクス基板。 - 【請求項５】 透明部と前記透明部の周縁部にインクド
ットで形成した遮光部とを多数配列してなる厚さ２．０
μｍ以下の樹脂層を透明基板上に形成してなるブラック
マトリクス基板の製造方法において、下記（１）乃至
（４）の工程、 （１）透明基板上に光照射または光照射と加熱とにより
硬化可能であり、かつインク受容性を有する厚さ２．０
μｍ以下の樹脂層を形成する工程、 （２）該樹脂層の透明部形成予定部を光照射または光照
射と加熱により硬化させる工程、 （３）該樹脂層の未硬化部の遮光部形成予定部にインク
ジェット法により黒色インクを付与する工程および、 （４）着色された該樹脂層を光照射または光照射と加熱
により硬化させる工程、 を含むことを特徴とするブラックマトリクス基板の製造
方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7153269A JPH095730A (ja) | 1995-06-20 | 1995-06-20 | ブラックマトリクス基板、およびその製造方法 |
| US08/667,836 US5736278A (en) | 1995-06-20 | 1996-06-20 | Color filter having light screening resin layer and filter resin layer |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7153269A JPH095730A (ja) | 1995-06-20 | 1995-06-20 | ブラックマトリクス基板、およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH095730A true JPH095730A (ja) | 1997-01-10 |
Family
ID=15558775
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7153269A Pending JPH095730A (ja) | 1995-06-20 | 1995-06-20 | ブラックマトリクス基板、およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH095730A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6547616B1 (en) | 1998-04-15 | 2003-04-15 | Fujitsu Display Technologies Corporation | Display, its manufacture, ink coating apparatus, all suitable for narrowing display frame |
| KR100546701B1 (ko) * | 1998-11-25 | 2006-03-23 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정표시장치의 칼라필터 제조방법 |
| KR100802264B1 (ko) * | 2005-05-26 | 2008-02-11 | 도시바 마쯔시따 디스플레이 테크놀로지 컴퍼니, 리미티드 | 액정 표시 장치 및 그 제조 방법 |
-
1995
- 1995-06-20 JP JP7153269A patent/JPH095730A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6547616B1 (en) | 1998-04-15 | 2003-04-15 | Fujitsu Display Technologies Corporation | Display, its manufacture, ink coating apparatus, all suitable for narrowing display frame |
| KR100546701B1 (ko) * | 1998-11-25 | 2006-03-23 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정표시장치의 칼라필터 제조방법 |
| KR100802264B1 (ko) * | 2005-05-26 | 2008-02-11 | 도시바 마쯔시따 디스플레이 테크놀로지 컴퍼니, 리미티드 | 액정 표시 장치 및 그 제조 방법 |
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