JPH0959276A - 縮合ヘテロ環誘導体及び除草剤 - Google Patents
縮合ヘテロ環誘導体及び除草剤Info
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- JPH0959276A JPH0959276A JP7227193A JP22719395A JPH0959276A JP H0959276 A JPH0959276 A JP H0959276A JP 7227193 A JP7227193 A JP 7227193A JP 22719395 A JP22719395 A JP 22719395A JP H0959276 A JPH0959276 A JP H0959276A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】水田及び畑に発生する一年生及び多年生雑草を
低薬量で防除し、作物に対して高い安全性を有する除草
剤を提供する。 【解決手段】 一般式［Ｉ］ ［式中、−Ａ−Ｂ−は基−ＣＨ＝ＣＨ−、基−ＯＣＨ２
−、基−ＮＨＣＨ２−または基−Ｎ＝ＣＨ−を示し、Ｙ
およびＷは同一または相異なり窒素原子または基−ＣＨ
を示し、Ｒ１およびＲ２は同一または相異なり水素原
子、アルキル基、ハロゲン原子またはハロアルキル基を
示し、Ｚは窒素原子または式−ＣＲ４（式中、Ｒ４は水
素原子、アルキル基、ハロゲン原子またはハロアルキル
基を示す。）を示し、Ｒは水素原子、アルキル基、アル
ケニル基、アルキニル基、ハロアルキル基、シクロアル
キル基またはハロアルケニル基を示す。］で表される縮
合ヘテロ環誘導体、およびこれを有効成分として含有す
る除草剤。
低薬量で防除し、作物に対して高い安全性を有する除草
剤を提供する。 【解決手段】 一般式［Ｉ］ ［式中、−Ａ−Ｂ−は基−ＣＨ＝ＣＨ−、基−ＯＣＨ２
−、基−ＮＨＣＨ２−または基−Ｎ＝ＣＨ−を示し、Ｙ
およびＷは同一または相異なり窒素原子または基−ＣＨ
を示し、Ｒ１およびＲ２は同一または相異なり水素原
子、アルキル基、ハロゲン原子またはハロアルキル基を
示し、Ｚは窒素原子または式−ＣＲ４（式中、Ｒ４は水
素原子、アルキル基、ハロゲン原子またはハロアルキル
基を示す。）を示し、Ｒは水素原子、アルキル基、アル
ケニル基、アルキニル基、ハロアルキル基、シクロアル
キル基またはハロアルケニル基を示す。］で表される縮
合ヘテロ環誘導体、およびこれを有効成分として含有す
る除草剤。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、縮合ヘテロ環誘導
体およびこれを有効成分として含有する除草剤に関する
ものである。
体およびこれを有効成分として含有する除草剤に関する
ものである。
【０００２】
【従来の技術】ＵＳ−５３００４７８号公報明細書中に
は縮合ヘテロ環誘導体としてピラゾロ縮合環誘導体が除
草剤として有効であると記載されている。ピラゾロ縮合
環誘導体は下記の化４の一般式で示されている。
は縮合ヘテロ環誘導体としてピラゾロ縮合環誘導体が除
草剤として有効であると記載されている。ピラゾロ縮合
環誘導体は下記の化４の一般式で示されている。
【０００３】
【化４】 上記一般式中、ＵＳ−５３００４７８号公報明細書の特
許請求範囲で定義されている種々の置換基の内、例え
ば、Ｙが窒素原子を示し、Ｚが基Ｃ−ＯＨを示す化合物
は、下記の化５の一般式で示され、この化合物にはケト
／エノール型の互変異性体が考えられる。
許請求範囲で定義されている種々の置換基の内、例え
ば、Ｙが窒素原子を示し、Ｚが基Ｃ−ＯＨを示す化合物
は、下記の化５の一般式で示され、この化合物にはケト
／エノール型の互変異性体が考えられる。
【０００４】
【化５】 しかしながら本発明化合物である縮合ヘテロ環誘導体は
上記ＵＳ−５３００４７８号公報明細書中には上記の化
５で示される様な化合物は特許請求範囲の一般式に一部
含まれるものの具体的には全く記載されておらず、その
製造法又は除草効果についても何も記載されていない。
上記ＵＳ−５３００４７８号公報明細書中には上記の化
５で示される様な化合物は特許請求範囲の一般式に一部
含まれるものの具体的には全く記載されておらず、その
製造法又は除草効果についても何も記載されていない。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】近年、特に有用作物と
雑草に同時に施用しても、作物に対して害を与えずに雑
草のみを枯殺する選択作用を有する除草剤が強く要望さ
れている。また、環境中に薬剤が過剰に残留することを
防止するために、低薬量で完全な効果が得られる薬剤の
開発が望まれている。本発明は、これらの要望を満たし
た新規な除草剤を提供することを課題とする。
雑草に同時に施用しても、作物に対して害を与えずに雑
草のみを枯殺する選択作用を有する除草剤が強く要望さ
れている。また、環境中に薬剤が過剰に残留することを
防止するために、低薬量で完全な効果が得られる薬剤の
開発が望まれている。本発明は、これらの要望を満たし
た新規な除草剤を提供することを課題とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記の課題
を達成するために数多くの縮合ヘテロ環誘導体を合成
し、それらの有用性について種々検討した。その結果、
ある種の新規な縮合ヘテロ環誘導体が上記の目的に適う
優れた除草活性と選択性を有することを見いだし、本発
明を完成するに至った。すなわち、本発明は、一般式
［Ｉ］
を達成するために数多くの縮合ヘテロ環誘導体を合成
し、それらの有用性について種々検討した。その結果、
ある種の新規な縮合ヘテロ環誘導体が上記の目的に適う
優れた除草活性と選択性を有することを見いだし、本発
明を完成するに至った。すなわち、本発明は、一般式
［Ｉ］
【０００７】
【化６】 ［式中、−Ａ−Ｂ−は基−ＣＨ＝ＣＨ−、基−ＯＣＨ２
−、基−ＣＨ２Ｏ−、基−ＮＨＣＨ２−、基−ＣＨ２Ｎ
Ｈ−、基−Ｎ＝ＣＨ−または基−ＣＨ＝Ｎ−を示し、Ｙ
およびＷは同一または相異なり窒素原子または基−ＣＨ
を示し、Ｒ１およびＲ２は同一または相異なり水素原
子、アルキル基、ハロゲン原子またはハロアルキル基を
示し、Ｚは窒素原子または式−ＣＲ４（式中、Ｒ４は水
素原子、アルキル基、ハロゲン原子またはハロアルキル
基を示す。）を示し、ＲはＲ３（ここでＲ３はアルキル
基、アルケニル基、アルキニル基、ハロアルキル基、シ
クロアルキル基またはハロアルケニル基を示す。）を示
す。］で表される縮合ヘテロ環誘導体または［式中、−
Ａ−Ｂ−は基−ＯＣＨ２−、基−ＣＨ２Ｏ−、基−ＮＨ
ＣＨ２−、基−ＣＨ２ＮＨ−、基−Ｎ＝ＣＨ−または基
−ＣＨ＝Ｎ−を示し、ＹおよびＷは同一または相異なり
窒素原子または基−ＣＨを示し、Ｒ１およびＲ２は同一
または相異なり水素原子、アルキル基、ハロゲン原子ま
たはハロアルキル基を示し、Ｚは窒素原子または式−Ｃ
Ｒ４（式中、Ｒ４は水素原子、アルキル基、ハロゲン原
子またはハロアルキル基を示す。）を示し、Ｒは水素原
子を示す。］で表される縮合ヘテロ環誘導体または［式
中、−Ａ−Ｂ−は基−ＣＨ＝ＣＨ−を示し、ＹおよびＷ
は同一または相異なり窒素原子または基−ＣＨを示し、
Ｒ１およびＲ２は同一または相異なり水素原子、アルキ
ル基、ハロゲン原子またはハロアルキル基を示し、Ｚは
窒素原子または式−ＣＲ４（式中、Ｒ４は水素原子、ア
ルキル基、ハロゲン原子またはハロアルキル基を示
す。）を示し、Ｒは水素原子を示す。但し、Ｙが窒素原
子を示す時、Ｗは窒素原子を示す。］で表される縮合ヘ
テロ環誘導体およびこれを有効成分として含有する除草
剤を提供することにより上記課題を達成したものであ
る。
−、基−ＣＨ２Ｏ−、基−ＮＨＣＨ２−、基−ＣＨ２Ｎ
Ｈ−、基−Ｎ＝ＣＨ−または基−ＣＨ＝Ｎ−を示し、Ｙ
およびＷは同一または相異なり窒素原子または基−ＣＨ
を示し、Ｒ１およびＲ２は同一または相異なり水素原
子、アルキル基、ハロゲン原子またはハロアルキル基を
示し、Ｚは窒素原子または式−ＣＲ４（式中、Ｒ４は水
素原子、アルキル基、ハロゲン原子またはハロアルキル
基を示す。）を示し、ＲはＲ３（ここでＲ３はアルキル
基、アルケニル基、アルキニル基、ハロアルキル基、シ
クロアルキル基またはハロアルケニル基を示す。）を示
す。］で表される縮合ヘテロ環誘導体または［式中、−
Ａ−Ｂ−は基−ＯＣＨ２−、基−ＣＨ２Ｏ−、基−ＮＨ
ＣＨ２−、基−ＣＨ２ＮＨ−、基−Ｎ＝ＣＨ−または基
−ＣＨ＝Ｎ−を示し、ＹおよびＷは同一または相異なり
窒素原子または基−ＣＨを示し、Ｒ１およびＲ２は同一
または相異なり水素原子、アルキル基、ハロゲン原子ま
たはハロアルキル基を示し、Ｚは窒素原子または式−Ｃ
Ｒ４（式中、Ｒ４は水素原子、アルキル基、ハロゲン原
子またはハロアルキル基を示す。）を示し、Ｒは水素原
子を示す。］で表される縮合ヘテロ環誘導体または［式
中、−Ａ−Ｂ−は基−ＣＨ＝ＣＨ−を示し、ＹおよびＷ
は同一または相異なり窒素原子または基−ＣＨを示し、
Ｒ１およびＲ２は同一または相異なり水素原子、アルキ
ル基、ハロゲン原子またはハロアルキル基を示し、Ｚは
窒素原子または式−ＣＲ４（式中、Ｒ４は水素原子、ア
ルキル基、ハロゲン原子またはハロアルキル基を示
す。）を示し、Ｒは水素原子を示す。但し、Ｙが窒素原
子を示す時、Ｗは窒素原子を示す。］で表される縮合ヘ
テロ環誘導体およびこれを有効成分として含有する除草
剤を提供することにより上記課題を達成したものであ
る。
【０００８】なお、本明細書において、アルキル基とは
炭素数１〜６の直鎖または分岐鎖状のアルキル基を示
し、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソ
プロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブ
チル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル
基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル
基、３，３−ジメチルブチル基等を挙げることができ
る。
炭素数１〜６の直鎖または分岐鎖状のアルキル基を示
し、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソ
プロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブ
チル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル
基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル
基、３，３−ジメチルブチル基等を挙げることができ
る。
【０００９】ハロゲン原子とはフッ素原子、塩素原子、
臭素原子、またはヨウ素原子を示す。
臭素原子、またはヨウ素原子を示す。
【００１０】ハロアルキル基とはハロゲン原子によって
置換された炭素数１〜３のアルキル基を示し、例えばジ
フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフル
オロエチル基等を挙げることができる。
置換された炭素数１〜３のアルキル基を示し、例えばジ
フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフル
オロエチル基等を挙げることができる。
【００１１】アルケニル基とは炭素数２〜６の直鎖また
は分岐鎖状のアルケニル基を示し、例えばビニル基、プ
ロペニル基、イソプロペニル基、ブテニル基、ペンテニ
ル基、ヘキセニル基等を挙げることができる。
は分岐鎖状のアルケニル基を示し、例えばビニル基、プ
ロペニル基、イソプロペニル基、ブテニル基、ペンテニ
ル基、ヘキセニル基等を挙げることができる。
【００１２】アルキニル基とは炭素数２〜６の直鎖また
は分岐鎖状のアルキニル基を示し、例えばエチニル基、
プロピニル基、ブチニル基、ペンチニル基、ヘキシニル
基、３，３−ジメチル−１−ブチニル基、４−メチル−
１−ペンチニル基、３−メチル−１−ペンチニル基等を
挙げることができる。
は分岐鎖状のアルキニル基を示し、例えばエチニル基、
プロピニル基、ブチニル基、ペンチニル基、ヘキシニル
基、３，３−ジメチル−１−ブチニル基、４−メチル−
１−ペンチニル基、３−メチル−１−ペンチニル基等を
挙げることができる。
【００１３】シクロアルキル基とは炭素数３〜６のシク
ロアルキル基を示し、例えばシクロプロピル基、シクロ
ヘキシル基等を挙げることができる。
ロアルキル基を示し、例えばシクロプロピル基、シクロ
ヘキシル基等を挙げることができる。
【００１４】ハロアルケニル基とはハロゲン原子によっ
て置換された炭素数２〜６の直鎖または分岐鎖状のアル
ケニル基を示し、例えば２−クロロ−２−プロペニル
基、３−クロロ−２−プロペニル基等を挙げることがで
きる。
て置換された炭素数２〜６の直鎖または分岐鎖状のアル
ケニル基を示し、例えば２−クロロ−２−プロペニル
基、３−クロロ−２−プロペニル基等を挙げることがで
きる。
【００１５】一般式［Ｉ］で表される本発明化合物の中
でも後記する本発明除草剤の有効成分として好ましい化
合物として、−Ａ−Ｂ−が基−ＣＨ＝ＣＨ−、基−ＯＣ
Ｈ２−、基−ＮＨＣＨ２−または基−Ｎ＝ＣＨ−で、Ｙ
が窒素原子で、Ｗが基−ＣＨで、Ｒ１がハロアルキル基
で、Ｚが式−ＣＲ４で、Ｒ２およびＲ４が共にハロゲン
原子で、Ｒがアルキル基、アルケニル基、アルキニル基
またはハロアルキル基である化合物を挙げることができ
る。
でも後記する本発明除草剤の有効成分として好ましい化
合物として、−Ａ−Ｂ−が基−ＣＨ＝ＣＨ−、基−ＯＣ
Ｈ２−、基−ＮＨＣＨ２−または基−Ｎ＝ＣＨ−で、Ｙ
が窒素原子で、Ｗが基−ＣＨで、Ｒ１がハロアルキル基
で、Ｚが式−ＣＲ４で、Ｒ２およびＲ４が共にハロゲン
原子で、Ｒがアルキル基、アルケニル基、アルキニル基
またはハロアルキル基である化合物を挙げることができ
る。
【００１６】
【発明の実施の形態】次に、本発明化合物の具体例を表
１〜表７に記載する。しかしながら、本発明化合物はこ
れらの化合物に限定されるものではない。なお、化合物
番号は以後の記載において参照される。
１〜表７に記載する。しかしながら、本発明化合物はこ
れらの化合物に限定されるものではない。なお、化合物
番号は以後の記載において参照される。
【００１７】
【表１】
【００１８】
【表２】
【００１９】
【表３】
【００２０】
【表４】
【００２１】
【表５】
【００２２】
【表６】
【００２３】
【表７】 本発明化合物は、例えば以下に示す製造法に従って製造
することができる。しかし、その製造法はこれらの方法
に限定されるものではない。 ＜製造法１＞
することができる。しかし、その製造法はこれらの方法
に限定されるものではない。 ＜製造法１＞
【００２４】
【化７】 （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｗ、Ｙ、およびＺは前記と
同じ意味を示し、Ｘはハロゲン原子を示す。） 一般式［II］で表される化合物と一般式［III］で表さ
れる化合物を塩基の存在下、反応させて一般式［IV］で
表される化合物を製造することができる。
同じ意味を示し、Ｘはハロゲン原子を示す。） 一般式［II］で表される化合物と一般式［III］で表さ
れる化合物を塩基の存在下、反応させて一般式［IV］で
表される化合物を製造することができる。
【００２５】溶媒としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎージメチルアセトアミ
ド、ジメチルスルホキシドなどの非プロトン性極性溶
媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨ
Ｆ）、ジオキサンなどのエーテル類、ｎ−ヘキサン、ベ
ンゼン、トルエンなどの炭化水素類、アセトン、メチル
エチルケトンなどの脂肪族ケトン類、メタノール、エタ
ノールなどのアルコール類などの有機溶媒を使用するこ
とができる。
ホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎージメチルアセトアミ
ド、ジメチルスルホキシドなどの非プロトン性極性溶
媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨ
Ｆ）、ジオキサンなどのエーテル類、ｎ−ヘキサン、ベ
ンゼン、トルエンなどの炭化水素類、アセトン、メチル
エチルケトンなどの脂肪族ケトン類、メタノール、エタ
ノールなどのアルコール類などの有機溶媒を使用するこ
とができる。
【００２６】塩基としては、例えば、ナトリウム、カリ
ウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、ナトリウム
メトキシド、ナトリウムエトキシド、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムな
どの無機塩基を使用することができる。
ウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、ナトリウム
メトキシド、ナトリウムエトキシド、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムな
どの無機塩基を使用することができる。
【００２７】上記の反応は−２０℃から溶媒の沸点温度
の範囲で行ない、通常は１〜２４時間で終了する。
の範囲で行ない、通常は１〜２４時間で終了する。
【００２８】目的化合物［IV］は反応液から常法により
単離することができる。また、必要に応じて再結晶ある
いはカラムクロマトグラフィーにて精製する。
単離することができる。また、必要に応じて再結晶ある
いはカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【００２９】次に、得られた一般式[IV]で表される化合
物を酸の存在下、加水分解し一般式［Ｖ］で表されるア
ミノ化合物を製造することができる。
物を酸の存在下、加水分解し一般式［Ｖ］で表されるア
ミノ化合物を製造することができる。
【００３０】溶媒としては、例えば、メタノール、エタ
ノールなどのアルコール類または水などの極性溶媒、あ
るいはこれらの混合溶媒を使用することができる。
ノールなどのアルコール類または水などの極性溶媒、あ
るいはこれらの混合溶媒を使用することができる。
【００３１】酸としては、例えば、三フッ化ホウ素、硫
酸、塩酸などの無機酸を使用することができる。
酸、塩酸などの無機酸を使用することができる。
【００３２】上記の反応は−２０℃から溶媒の沸点温度
の範囲で行ない、通常は１〜２４時間で終了する。
の範囲で行ない、通常は１〜２４時間で終了する。
【００３３】目的化合物「Ｖ］は反応液から常法により
単離することができる。また、必要に応じて再結晶ある
いはカラムクロマトグラフィーにて精製する。
単離することができる。また、必要に応じて再結晶ある
いはカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【００３４】次に、得られた一般式［Ｖ］で表される化
合物を酸の存在下、例えば亜硝酸ナトリウムを用いてジ
アゾ化して、ジアゾニウム塩を合成した後、これを加水
分解して一般式［VI］で表される化合物を製造すること
ができる。
合物を酸の存在下、例えば亜硝酸ナトリウムを用いてジ
アゾ化して、ジアゾニウム塩を合成した後、これを加水
分解して一般式［VI］で表される化合物を製造すること
ができる。
【００３５】溶媒としては、ジアゾ化段階では水を使用
し、次の加水分解では水または水とトルエンもしくはベ
ンゼンなどの炭化水素類との混合溶媒を使用することが
できる。
し、次の加水分解では水または水とトルエンもしくはベ
ンゼンなどの炭化水素類との混合溶媒を使用することが
できる。
【００３６】酸としては、硫酸または塩酸を使用するこ
とができる。
とができる。
【００３７】上記の反応は−２０℃から溶媒の沸点温度
の範囲で行ない、通常は１〜２４時間で終了する。
の範囲で行ない、通常は１〜２４時間で終了する。
【００３８】目的化合物［VI］は反応液から常法により
単離することができる。また、必要に応じて再結晶ある
いはカラムクロマトグラフィーにて精製する。
単離することができる。また、必要に応じて再結晶ある
いはカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【００３９】次に、一般式［VI］で表される化合物と一
般式［VII］で表される化合物を塩基の存在下、反応さ
せて一般式［I-1］で表される本発明化合物を製造する
ことができる。
般式［VII］で表される化合物を塩基の存在下、反応さ
せて一般式［I-1］で表される本発明化合物を製造する
ことができる。
【００４０】溶媒としては、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎージメチルアセトアミ
ド、ジメチルスルホキシドなどの非プロトン性極性溶
媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ンなどのエーテル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエ
ンなどの炭化水素類、アセトン、メチルエチルケトンな
どの脂肪族ケトン類、メタノール、エタノールなどのア
ルコール類などの有機溶媒を使用することができる。
ルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎージメチルアセトアミ
ド、ジメチルスルホキシドなどの非プロトン性極性溶
媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ンなどのエーテル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエ
ンなどの炭化水素類、アセトン、メチルエチルケトンな
どの脂肪族ケトン類、メタノール、エタノールなどのア
ルコール類などの有機溶媒を使用することができる。
【００４１】塩基としては、例えばナトリウム、カリウ
ム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、ナトリウムメ
トキシド、ナトリウムエトキシド、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムなどの
無機塩基を使用することができる。
ム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、ナトリウムメ
トキシド、ナトリウムエトキシド、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムなどの
無機塩基を使用することができる。
【００４２】上記の反応は−２０℃から溶媒の沸点温度
の範囲で行ない、通常は１〜２４時間で終了する。
の範囲で行ない、通常は１〜２４時間で終了する。
【００４３】目的の本発明化合物［I-1］は反応液から
常法により単離することができる。また、必要に応じて
再結晶あるいはカラムクロマトグラフィーにて精製す
る。 ＜製造法２＞
常法により単離することができる。また、必要に応じて
再結晶あるいはカラムクロマトグラフィーにて精製す
る。 ＜製造法２＞
【００４４】
【化８】 （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｗ、Ｘ、Ｙ、およびＺは前
記と同じ意味を示す。） 一般式［VIII］で表されるニトロ化合物を鉄粉などの還
元剤を使用して閉環させることにより、一般式［IX］で
表される本発明化合物を製造することができる。
記と同じ意味を示す。） 一般式［VIII］で表されるニトロ化合物を鉄粉などの還
元剤を使用して閉環させることにより、一般式［IX］で
表される本発明化合物を製造することができる。
【００４５】溶媒としては、鉄粉を使う場合は水と酢酸
との混合溶媒を使用することができる。
との混合溶媒を使用することができる。
【００４６】上記の反応は室温から溶媒の沸点温度の範
囲で行ない、通常は１〜２４時間で終了する。
囲で行ない、通常は１〜２４時間で終了する。
【００４７】目的化合物［IX］は反応液から常法により
単離することができる。また、必要に応じて再結晶ある
いはカラムクロマトグラフィーにて精製する。
単離することができる。また、必要に応じて再結晶ある
いはカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【００４８】次に、一般式［IX］で表される本発明化合
物と一般式[VII]で表される化合物を塩基の存在下、反
応させて一般式［I-2］で表される本発明化合物を製造
することができる。
物と一般式[VII]で表される化合物を塩基の存在下、反
応させて一般式［I-2］で表される本発明化合物を製造
することができる。
【００４９】溶媒としては、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド、Ｎ，Ｎージメチルアセトアミド、ジメチル
スルホキシドなどの非プロトン性極性溶媒、ジエチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテ
ル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエンなどの炭化水
素類、アセトン、メチルエチルケトンなどの脂肪族ケト
ン類、メタノール、エタノールなどのアルコール類など
の有機溶媒を使用することができる。
ルムアミド、Ｎ，Ｎージメチルアセトアミド、ジメチル
スルホキシドなどの非プロトン性極性溶媒、ジエチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテ
ル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエンなどの炭化水
素類、アセトン、メチルエチルケトンなどの脂肪族ケト
ン類、メタノール、エタノールなどのアルコール類など
の有機溶媒を使用することができる。
【００５０】塩基としては、例えばナトリウム、カリウ
ム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、ナトリウムメ
トキシド、ナトリウムエトキシド、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムなどの
無機塩基を使用することができる。
ム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、ナトリウムメ
トキシド、ナトリウムエトキシド、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムなどの
無機塩基を使用することができる。
【００５１】上記の反応は−２０℃から溶媒の沸点温度
の範囲で行ない、通常は１〜２４時間で終了する。
の範囲で行ない、通常は１〜２４時間で終了する。
【００５２】目的の本発明化合物［I-2］は反応液から
常法により単離することができる。また、必要に応じて
再結晶あるいはカラムクロマトグラフィーにて精製す
る。 ＜製造法３＞
常法により単離することができる。また、必要に応じて
再結晶あるいはカラムクロマトグラフィーにて精製す
る。 ＜製造法３＞
【００５３】
【化９】 （式中、Ｒ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｗ、Ｘ、Ｙ、およびＺ
は前記と同じ意味を示す。） 一般式［Ｘ］で表されるニトロ化合物を鉄粉などの還元
剤を使用して閉環させることにより、一般式[XI]で表さ
れる環状アミド化合物を製造することができる。
は前記と同じ意味を示す。） 一般式［Ｘ］で表されるニトロ化合物を鉄粉などの還元
剤を使用して閉環させることにより、一般式[XI]で表さ
れる環状アミド化合物を製造することができる。
【００５４】溶媒としては、鉄粉を使う場合は水と酢酸
との混合溶媒を使用することができる。
との混合溶媒を使用することができる。
【００５５】上記の反応は室温から溶媒の沸点温度の範
囲で行ない、通常は１〜２４時間で終了する。
囲で行ない、通常は１〜２４時間で終了する。
【００５６】目的化合物［XI］は反応液から常法により
単離することができる。また、必要に応じて再結晶ある
いはカラムクロマトグラフィーにて精製する。
単離することができる。また、必要に応じて再結晶ある
いはカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【００５７】次に、一般式［XI］で表される化合物と一
般式［VII］で表される化合物を塩基の存在下、反応さ
せて一般式［XII］で表される化合物を製造することが
できる。
般式［VII］で表される化合物を塩基の存在下、反応さ
せて一般式［XII］で表される化合物を製造することが
できる。
【００５８】溶媒としては、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド、Ｎ，Ｎージメチルアセトアミド、ジメチル
スルホキシドなどの非プロトン性極性溶媒、ジエチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテ
ル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエンなどの炭化水
素類、アセトン、メチルエチルケトンなどの脂肪族ケト
ン類、メタノール、エタノールなどのアルコール類など
の有機溶媒を使用することができる。
ルムアミド、Ｎ，Ｎージメチルアセトアミド、ジメチル
スルホキシドなどの非プロトン性極性溶媒、ジエチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテ
ル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエンなどの炭化水
素類、アセトン、メチルエチルケトンなどの脂肪族ケト
ン類、メタノール、エタノールなどのアルコール類など
の有機溶媒を使用することができる。
【００５９】塩基としては、例えばナトリウム、カリウ
ム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、ナトリウムメ
トキシド、ナトリウムエトキシド、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムなどの
無機塩基を使用することができる。
ム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、ナトリウムメ
トキシド、ナトリウムエトキシド、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムなどの
無機塩基を使用することができる。
【００６０】上記の反応は−２０℃から溶媒の沸点温度
の範囲で行ない、通常は１〜２４時間で終了する。
の範囲で行ない、通常は１〜２４時間で終了する。
【００６１】目的化合物［XII］は反応液から常法によ
り単離することができる。また、必要に応じて再結晶あ
るいはカラムクロマトグラフィーにて精製する。
り単離することができる。また、必要に応じて再結晶あ
るいはカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【００６２】次に、得られた一般式［XII］で表される
化合物を塩基の存在下で加水分解し、一般式［I-3］で
表される本発明化合物を製造することができる。
化合物を塩基の存在下で加水分解し、一般式［I-3］で
表される本発明化合物を製造することができる。
【００６３】溶媒としては、メタノール、エタノールな
どのアルコール類または水などの極性溶媒あるいはこれ
らの混合溶媒を使用することができる。
どのアルコール類または水などの極性溶媒あるいはこれ
らの混合溶媒を使用することができる。
【００６４】塩基としては、例えば水酸化カリウム、水
酸化ナトリウムなどの無機塩基を使用することができ
る。
酸化ナトリウムなどの無機塩基を使用することができ
る。
【００６５】上記の反応は−２０℃から溶媒の沸点温度
の範囲で行ない、通常は１〜２４時間で終了する。
の範囲で行ない、通常は１〜２４時間で終了する。
【００６６】目的の本発明化合物［I-3］は反応液から
常法により単離することができる。また、必要に応じて
再結晶あるいはカラムクロマトグラフィーにて精製す
る。
常法により単離することができる。また、必要に応じて
再結晶あるいはカラムクロマトグラフィーにて精製す
る。
【００６７】次に、得られた一般式［I-3］で表される
本発明化合物を酸化剤を用いて酸化することにより、一
般式［I-4］で表される本発明化合物を製造することが
できる。
本発明化合物を酸化剤を用いて酸化することにより、一
般式［I-4］で表される本発明化合物を製造することが
できる。
【００６８】酸化剤としては、塩素、次亜塩素酸ナトリ
ウム、次亜塩素酸−ｔｅｒｔ−ブチルなどの塩素化剤を
使用し、場合によっては次の塩基を使用する。
ウム、次亜塩素酸−ｔｅｒｔ−ブチルなどの塩素化剤を
使用し、場合によっては次の塩基を使用する。
【００６９】塩基としては、例えばナトリウム、カリウ
ム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、ナトリウムメ
トキシド、ナトリウムエトキシド、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムなどの
無機塩基を使用することができる。
ム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、ナトリウムメ
トキシド、ナトリウムエトキシド、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムなどの
無機塩基を使用することができる。
【００７０】溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類、またはｎ
−ヘキサン、ベンゼン、トルエンなどの炭化水素類を使
用することができる。
ヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類、またはｎ
−ヘキサン、ベンゼン、トルエンなどの炭化水素類を使
用することができる。
【００７１】上記の反応は−２０℃から溶媒の沸点温度
の範囲で行ない、通常は１〜２４時間で終了する。
の範囲で行ない、通常は１〜２４時間で終了する。
【００７２】目的の本発明化合物［I-4］は反応液から
常法により単離することができる。また、必要に応じて
再結晶あるいはカラムクロマトグラフィーにて精製す
る。
常法により単離することができる。また、必要に応じて
再結晶あるいはカラムクロマトグラフィーにて精製す
る。
【００７３】
【実施例】次に実施例を挙げて本発明化合物の製造法、
製剤法及び用途を具体的に説明する。
製剤法及び用途を具体的に説明する。
【００７４】＜製造法１＞ １）一般式［IV］の製造例 ５−アセチルアミノ−１−（２，６−ジクロロ−４−ト
リフルオロメチルフェニル）−１Ｈ−ピラゾロ［４，３
−ｂ］ピリジンの製造 ５−アセチルアミノ−１Ｈ−ピラゾロ［４，３−ｂ］ピ
リジン５．８ｇ（０．０３３ｍｏｌ）をＤＭＦ５０ｍｌ
に溶解し、０℃に冷却した。６０％水素化ナトリウム
１．５ｇ（０．０３８ｍｏｌ）を加え、室温で３０分撹
拌した。３，５−ジクロロ−４−フルオロベンゾトリフ
ルオライド８．４ｇ（０．０３６ｍｏｌ）を滴下し、室
温で一晩反応させた。反応終了後、水にあけ、酢酸エチ
ル（ＡｃＯＥｔ）で抽出した。有機層を水洗、乾操、濃
縮して得られた結晶をカラムクロマトグラフフィーで精
製して、５．５ｇ（収率４３％）の目的物（融点１０１
〜１０３℃）を得た。
リフルオロメチルフェニル）−１Ｈ−ピラゾロ［４，３
−ｂ］ピリジンの製造 ５−アセチルアミノ−１Ｈ−ピラゾロ［４，３−ｂ］ピ
リジン５．８ｇ（０．０３３ｍｏｌ）をＤＭＦ５０ｍｌ
に溶解し、０℃に冷却した。６０％水素化ナトリウム
１．５ｇ（０．０３８ｍｏｌ）を加え、室温で３０分撹
拌した。３，５−ジクロロ−４−フルオロベンゾトリフ
ルオライド８．４ｇ（０．０３６ｍｏｌ）を滴下し、室
温で一晩反応させた。反応終了後、水にあけ、酢酸エチ
ル（ＡｃＯＥｔ）で抽出した。有機層を水洗、乾操、濃
縮して得られた結晶をカラムクロマトグラフフィーで精
製して、５．５ｇ（収率４３％）の目的物（融点１０１
〜１０３℃）を得た。
【００７５】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：２．３
（ｓ，１Ｈ），７．５（ｄ，１Ｈ），７．７（ｓ，２
Ｈ），８．３（ｓ，１Ｈ），８．４（ｄ，１Ｈ），８．
７（ｂｓ，１Ｈ）ｐｐｍ
（ｓ，１Ｈ），７．５（ｄ，１Ｈ），７．７（ｓ，２
Ｈ），８．３（ｓ，１Ｈ），８．４（ｄ，１Ｈ），８．
７（ｂｓ，１Ｈ）ｐｐｍ
【００７６】２）一般式［Ｖ］の製造例 ５−アミノ−１−（２，６−ジクロロ−４−トリフルオ
ロメチルフェニル）−１Ｈ−ピラゾロ［４，３−ｂ］ピ
リジンの製造 ５−アセチルアミノ−１−（２，６−ジクロロ−４−ト
リフルオロメチルフェニル）−１Ｈ−ピラゾロ［４，３
−ｂ］ピリジン３．０ｇ（０．００７７ｍｏｌ）をメタ
ノール３０ｍｌに溶解し、１５％三フッ化ホウ素メタノ
ール錯体３０ｍｌ（０．０４ｍｏｌ）を加え、２時間還
流した。放冷後、水にあけ水酸化ナトリウム水溶液で、
ｐＨ９とし、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗、乾
操、濃縮して得られた結晶をイソプロピルエーテル（Ｉ
ＰＥ）で洗浄して２．５ｇ（収率９３％）の目的物（融
点１７４〜１７７℃）を得た。
ロメチルフェニル）−１Ｈ−ピラゾロ［４，３−ｂ］ピ
リジンの製造 ５−アセチルアミノ−１−（２，６−ジクロロ−４−ト
リフルオロメチルフェニル）−１Ｈ−ピラゾロ［４，３
−ｂ］ピリジン３．０ｇ（０．００７７ｍｏｌ）をメタ
ノール３０ｍｌに溶解し、１５％三フッ化ホウ素メタノ
ール錯体３０ｍｌ（０．０４ｍｏｌ）を加え、２時間還
流した。放冷後、水にあけ水酸化ナトリウム水溶液で、
ｐＨ９とし、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗、乾
操、濃縮して得られた結晶をイソプロピルエーテル（Ｉ
ＰＥ）で洗浄して２．５ｇ（収率９３％）の目的物（融
点１７４〜１７７℃）を得た。
【００７７】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：４．６
（ｂｓ，２Ｈ），６．６（ｄ，１Ｈ），７．３（ｄ，１
Ｈ），７．７（ｓ，２Ｈ），８．１（ｓ，１Ｈ）ｐｐｍ
（ｂｓ，２Ｈ），６．６（ｄ，１Ｈ），７．３（ｄ，１
Ｈ），７．７（ｓ，２Ｈ），８．１（ｓ，１Ｈ）ｐｐｍ
【００７８】３）一般式［VI］の製造例（参考例） １−（２，６−ジクロロ−４−トリフルオロメチルフェ
ニル）−５−ヒドロキシ−１Ｈ−ピラゾロ［４，３−
ｂ］ピリジンの製造 ５−アミノ−１−（２，６−ジクロロ−４−トリフルオ
ロメチルフェニル）−１Ｈ−ピラゾロ［４，３−ｂ］ピ
リジン２．５ｇ（０．００７２ｍｏｌ）を５０％硫酸６
０ｍｌに懸濁させ、５℃以下で亜硝酸ナトリウム０．６
２ｇ（０．００８９ｍｏｌ）を加えた。０℃で３０分間
撹拌してジアゾ化した後、反応液を沸騰水中に加えてジ
アゾニウム塩を分解し、さらに１０分間還流した。冷却
後、酢酸エチルで抽出し、常法により処理し、得られた
結晶をＩＰＥで洗浄して１．９ｇ（収率７４％）の目的
物（融点２５３〜２５４℃）を得た。
ニル）−５−ヒドロキシ−１Ｈ−ピラゾロ［４，３−
ｂ］ピリジンの製造 ５−アミノ−１−（２，６−ジクロロ−４−トリフルオ
ロメチルフェニル）−１Ｈ−ピラゾロ［４，３−ｂ］ピ
リジン２．５ｇ（０．００７２ｍｏｌ）を５０％硫酸６
０ｍｌに懸濁させ、５℃以下で亜硝酸ナトリウム０．６
２ｇ（０．００８９ｍｏｌ）を加えた。０℃で３０分間
撹拌してジアゾ化した後、反応液を沸騰水中に加えてジ
アゾニウム塩を分解し、さらに１０分間還流した。冷却
後、酢酸エチルで抽出し、常法により処理し、得られた
結晶をＩＰＥで洗浄して１．９ｇ（収率７４％）の目的
物（融点２５３〜２５４℃）を得た。
【００７９】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：６．７
（ｓ，１Ｈ），７．３（ｓ，１Ｈ），７．７（ｓ，２
Ｈ），７．９（ｓ，１Ｈ），１３．１（ｂｓ，１Ｈ）ｐ
ｐｍ
（ｓ，１Ｈ），７．３（ｓ，１Ｈ），７．７（ｓ，２
Ｈ），７．９（ｓ，１Ｈ），１３．１（ｂｓ，１Ｈ）ｐ
ｐｍ
【００８０】４）一般式［I-1］の製造例 １−（２，６−ジクロロ−４−トリフルオロメチルフェ
ニル）−４−メチル−４，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピラゾ
ロ［４，３−ｂ］ピリジン−５−オンの製造（化合物番
号１） １−（２，６−ジクロロ−４−トリフルオロメチルフェ
ニル）−５−ヒドロキシ−１Ｈ−ピラゾロ［４，３−
ｂ］ピリジン１．９ｇ（０．００５５ｍｏｌ）をＤＭＦ
２０ｍｌに溶解し、０℃に冷却した。６０％水素化ナト
リウム０．２５ｇ（０．００６ｍｏｌ）を加え、室温で
３０分撹拌した。ヨウ化メチル０．９ｇ（０．００６ｍ
ｏｌ）を加え、室温で一晩反応させた。
ニル）−４−メチル−４，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピラゾ
ロ［４，３−ｂ］ピリジン−５−オンの製造（化合物番
号１） １−（２，６−ジクロロ−４−トリフルオロメチルフェ
ニル）−５−ヒドロキシ−１Ｈ−ピラゾロ［４，３−
ｂ］ピリジン１．９ｇ（０．００５５ｍｏｌ）をＤＭＦ
２０ｍｌに溶解し、０℃に冷却した。６０％水素化ナト
リウム０．２５ｇ（０．００６ｍｏｌ）を加え、室温で
３０分撹拌した。ヨウ化メチル０．９ｇ（０．００６ｍ
ｏｌ）を加え、室温で一晩反応させた。
【００８１】反応終了後、水にあけ、酢酸エチルで抽出
した。有機層を水洗、乾操、濃縮して得られた結晶をＩ
ＰＥで洗浄して、１．４ｇ（収率７１％）の目的物（融
点１６９〜１７０℃）を得た。
した。有機層を水洗、乾操、濃縮して得られた結晶をＩ
ＰＥで洗浄して、１．４ｇ（収率７１％）の目的物（融
点１６９〜１７０℃）を得た。
【００８２】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：３．７
（ｓ，３Ｈ），６．６（ｓ，１Ｈ），７．２（ｓ，１
Ｈ），７．７（ｓ，２Ｈ），７．８（ｓ，１Ｈ）ｐｐｍ
（ｓ，３Ｈ），６．６（ｓ，１Ｈ），７．２（ｓ，１
Ｈ），７．７（ｓ，２Ｈ），７．８（ｓ，１Ｈ）ｐｐｍ
【００８３】＜製造法２の実施例＞ ５）一般式［IX］の製造例 ７−（２，６−ジクロロ−４−トリフルオロメチルフェ
ニル）−２，３，４，７−テトラヒドロピラゾロ［３，
４−ｂ］［１，４］オキサジン−３−オンの製造（化合
物番号２４） 鉄粉２．１３ｇ（３４．２ｍｍｏｌ）を２１ｍｌの５％
酢酸水溶液に懸濁し、還流下、１−（２，６−ジクロロ
−４−トリフルオロメチルフェニル）−４−ニトロ−３
−ピラゾールオキシ酢酸メチル１．４２ｇ（３．４２ｍ
ｍｏｌ）を２１ｍｌの酢酸に溶かして滴下し３時間還流
した。冷却後ろ過し、ろ液を酢酸エチルで抽出した。抽
出液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）で精製して目的
物０．３７ｇ（収率３１％）を得た。
ニル）−２，３，４，７−テトラヒドロピラゾロ［３，
４−ｂ］［１，４］オキサジン−３−オンの製造（化合
物番号２４） 鉄粉２．１３ｇ（３４．２ｍｍｏｌ）を２１ｍｌの５％
酢酸水溶液に懸濁し、還流下、１−（２，６−ジクロロ
−４−トリフルオロメチルフェニル）−４−ニトロ−３
−ピラゾールオキシ酢酸メチル１．４２ｇ（３．４２ｍ
ｍｏｌ）を２１ｍｌの酢酸に溶かして滴下し３時間還流
した。冷却後ろ過し、ろ液を酢酸エチルで抽出した。抽
出液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）で精製して目的
物０．３７ｇ（収率３１％）を得た。
【００８４】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：４．８
（２Ｈ，ｓ），７．４（１Ｈ，ｓ），７．７（２Ｈ，
ｓ），９．６（１Ｈ，ｂｓ）ｐｐｍ
（２Ｈ，ｓ），７．４（１Ｈ，ｓ），７．７（２Ｈ，
ｓ），９．６（１Ｈ，ｂｓ）ｐｐｍ
【００８５】６）一般式［I-2］の製造例 ７−（２，６−ジクロロ−４−トリフルオロメチルフェ
ニル）−４−メチル−２，３，４，７−テトラヒドロピ
ラゾロ［３，４−ｂ］［１，４］−オキサジン−３−オ
ンの製造（化合物番号２５） ６０％水素化ナトリウム０．０４ｇ（１．０５ｍｏｌ）
を５ｍｌのＤＭＦに懸濁し、７−（２，６−ジクロロ−
４−トリフルオロメチルフェニル）−２，３，４，７−
テトラヒドロピラゾロ［３，４−ｂ］［１，４］−オキ
サジン−３−オン０．３７ｇ（１．０５ｍｍｏｌ）を１
０ｍｌのＤＭＦに溶かして滴下した。３０分後ヨウ化メ
チル０．１５ｇ（１．０５ｍｍｏｌ）を加えてさらに１
時間撹拌した。反応系に水を加え、析出した結晶をろ別
しヘキサンで洗浄して０．３６ｇ（収率９４％）の目的
物（融点１３９〜１４３℃）を得た。
ニル）−４−メチル−２，３，４，７−テトラヒドロピ
ラゾロ［３，４−ｂ］［１，４］−オキサジン−３−オ
ンの製造（化合物番号２５） ６０％水素化ナトリウム０．０４ｇ（１．０５ｍｏｌ）
を５ｍｌのＤＭＦに懸濁し、７−（２，６−ジクロロ−
４−トリフルオロメチルフェニル）−２，３，４，７−
テトラヒドロピラゾロ［３，４−ｂ］［１，４］−オキ
サジン−３−オン０．３７ｇ（１．０５ｍｍｏｌ）を１
０ｍｌのＤＭＦに溶かして滴下した。３０分後ヨウ化メ
チル０．１５ｇ（１．０５ｍｍｏｌ）を加えてさらに１
時間撹拌した。反応系に水を加え、析出した結晶をろ別
しヘキサンで洗浄して０．３６ｇ（収率９４％）の目的
物（融点１３９〜１４３℃）を得た。
【００８６】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：３．３
（３Ｈ，ｓ），４．８（２Ｈ，ｓ），７．４（１Ｈ，
ｓ），７．７（２Ｈ，ｓ）ｐｐｍ
（３Ｈ，ｓ），４．８（２Ｈ，ｓ），７．４（１Ｈ，
ｓ），７．７（２Ｈ，ｓ）ｐｐｍ
【００８７】＜製造法３の実施例＞ ７）一般式［XI］の製造例 １−（２，６−ジクロロ−４−トリフルオロメチルフェ
ニル）−７−メトキシカルボニル−４，５，６，７−テ
トラヒドロ−１Ｈ−ピラゾロ−［３，４−ｂ］［１，
４］ジアジン−５−オンの製造 鉄粉３．２１ｇ（５４．５ｍｍｏｌ）を３４ｍｌの５％
酢酸に懸濁し、１−（２，６−ジクロロ−４−トリフル
オロメチルフェニル）−５−（Ｎ−メトキシカルボニル
−Ｎ−メトキシカルボニルメチル）アミノ−４−ニトロ
ピラゾール２．５７ｇ（５．４５ｍｍｏｌ）を３４ｍｌ
の酢酸に溶かした溶液を還流下、これに滴下し２時間還
流を続けた。冷却後ろ過し、ろ液を酢酸エチルで抽出し
た。抽出液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（酢酸エチル）で精製して１．５１ｇ（収率
６８％）の目的物を得た。
ニル）−７−メトキシカルボニル−４，５，６，７−テ
トラヒドロ−１Ｈ−ピラゾロ−［３，４−ｂ］［１，
４］ジアジン−５−オンの製造 鉄粉３．２１ｇ（５４．５ｍｍｏｌ）を３４ｍｌの５％
酢酸に懸濁し、１−（２，６−ジクロロ−４−トリフル
オロメチルフェニル）−５−（Ｎ−メトキシカルボニル
−Ｎ−メトキシカルボニルメチル）アミノ−４−ニトロ
ピラゾール２．５７ｇ（５．４５ｍｍｏｌ）を３４ｍｌ
の酢酸に溶かした溶液を還流下、これに滴下し２時間還
流を続けた。冷却後ろ過し、ろ液を酢酸エチルで抽出し
た。抽出液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（酢酸エチル）で精製して１．５１ｇ（収率
６８％）の目的物を得た。
【００８８】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：３．６
（３Ｈ，ｓ），４，６（２Ｈ，ｓ），７．６（１Ｈ，
ｓ），７．８（２Ｈ，ｓ），９．１（１Ｈ，ｂｓ）ｐｐ
ｍ
（３Ｈ，ｓ），４，６（２Ｈ，ｓ），７．６（１Ｈ，
ｓ），７．８（２Ｈ，ｓ），９．１（１Ｈ，ｂｓ）ｐｐ
ｍ
【００８９】８）一般式［XII］の製造例 １−（２，６−ジクロロ−４−トリフルオロメチルフェ
ニル）−７−メトキシカルボニル−４−メチル−４，
５，６，７−テトラヒドロ−１Ｈ−ピラゾロ［３，４−
ｂ］［１，４］ジアジン−５−オンの製造 ６０％水素化ナトリウム０．１５ｇ（３．６２ｍｍｏ
ｌ）を１０ｍｌのＤＭＦに懸濁し，１−（２，６−ジク
ロロ−４−トリフルオロメチルフェニル）−７−メトキ
シカルボニル−４，５，６，７−テトラヒドロ−１Ｈ−
ピラゾロ［３，４−ｂ］［１，４］ジアジン−５−オン
１．４８ｇ（３．６２ｍｍｏｌ）を２０ｍｌのＤＭＦに
溶かして滴下した。４０分後ヨウ化メチル０．５８ｇ
（３．９８ｍｍｏｌ）を滴下してさらに、１時間撹拌し
た。系に水を加えてエーテルで抽出した。抽出液を濃縮
し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキ
サン：酢酸エチル＝１：２）で精製し、１．４３ｇ（収
率９３％）の目的物（融点１９４〜１９７℃）を得た。
ニル）−７−メトキシカルボニル−４−メチル−４，
５，６，７−テトラヒドロ−１Ｈ−ピラゾロ［３，４−
ｂ］［１，４］ジアジン−５−オンの製造 ６０％水素化ナトリウム０．１５ｇ（３．６２ｍｍｏ
ｌ）を１０ｍｌのＤＭＦに懸濁し，１−（２，６−ジク
ロロ−４−トリフルオロメチルフェニル）−７−メトキ
シカルボニル−４，５，６，７−テトラヒドロ−１Ｈ−
ピラゾロ［３，４−ｂ］［１，４］ジアジン−５−オン
１．４８ｇ（３．６２ｍｍｏｌ）を２０ｍｌのＤＭＦに
溶かして滴下した。４０分後ヨウ化メチル０．５８ｇ
（３．９８ｍｍｏｌ）を滴下してさらに、１時間撹拌し
た。系に水を加えてエーテルで抽出した。抽出液を濃縮
し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキ
サン：酢酸エチル＝１：２）で精製し、１．４３ｇ（収
率９３％）の目的物（融点１９４〜１９７℃）を得た。
【００９０】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：３．４
（３Ｈ，ｓ），３．５（３Ｈ，ｓ），４．５（２Ｈ，
ｓ），７．２（１Ｈ，ｓ），７．９（２Ｈ，ｓ）ｐｐｍ
（３Ｈ，ｓ），３．５（３Ｈ，ｓ），４．５（２Ｈ，
ｓ），７．２（１Ｈ，ｓ），７．９（２Ｈ，ｓ）ｐｐｍ
【００９１】９）一般式［I-3］の製造例 １−（２，６−ジクロロ−４−トリフルオロメチルフェ
ニル）−４−メチル−４，５，６，７−テトラヒドロ−
１Ｈ−ピラゾロ［３，４−ｂ］［１，４］ジアジン−５
−オンの製造（化合物番号７６） １−（２，６−ジクロロ−４−トリフルオロメチルフェ
ニル）−７−メトキシカルボニル−４−メチル−４，
５，６，７−テトラヒドロ−１Ｈ−ピラゾロ［３，４−
ｂ］［１，４］ジアジン−５−オン１．０２ｇ（２．４
１ｍｍｏｌ）を１５ｍｌのＴＨＦに溶かし、２５％水酸
化ナトリウム水溶液０．４６ｇ（２．８９ｍｍｏｌ）を
滴下して、１０時間加熱還流した。冷却後、溶媒を減圧
濃縮し酢酸エチルで抽出した。抽出液を濃縮して残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸
エチル＝１：２）で精製して０．４７ｇ（収率５５％）
の目的物（融点１６５〜１６７℃）を得た。
ニル）−４−メチル−４，５，６，７−テトラヒドロ−
１Ｈ−ピラゾロ［３，４−ｂ］［１，４］ジアジン−５
−オンの製造（化合物番号７６） １−（２，６−ジクロロ−４−トリフルオロメチルフェ
ニル）−７−メトキシカルボニル−４−メチル−４，
５，６，７−テトラヒドロ−１Ｈ−ピラゾロ［３，４−
ｂ］［１，４］ジアジン−５−オン１．０２ｇ（２．４
１ｍｍｏｌ）を１５ｍｌのＴＨＦに溶かし、２５％水酸
化ナトリウム水溶液０．４６ｇ（２．８９ｍｍｏｌ）を
滴下して、１０時間加熱還流した。冷却後、溶媒を減圧
濃縮し酢酸エチルで抽出した。抽出液を濃縮して残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸
エチル＝１：２）で精製して０．４７ｇ（収率５５％）
の目的物（融点１６５〜１６７℃）を得た。
【００９２】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：３．３
（３Ｈ，ｓ），３．９（１Ｈ，ｂｓ），４．０（２Ｈ，
ｂｓ），７．４（１Ｈ，ｓ），７．７（２Ｈ，ｓ）ｐｐ
ｍ
（３Ｈ，ｓ），３．９（１Ｈ，ｂｓ），４．０（２Ｈ，
ｂｓ），７．４（１Ｈ，ｓ），７．７（２Ｈ，ｓ）ｐｐ
ｍ
【００９３】１０）一般式[I-4]の製造例 １−（２，６−ジクロロ−４−トリフルオロメチルフェ
ニル）−４−メチル−４，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピラゾ
ロ［３，４−ｂ］［１，４］ジアジン−５−オンの製造
（化合物番号５１） １−（２，６−ジクロロ−４−トリフルオロメチルフェ
ニル）−４−メチル−４，５，６，７−テトラヒドロピ
ラゾロ−［３，４−ｂ］［１，４］ジアジン−５−オン
０．７９ｇ（２．１６ｍｍｏｌ）を１０ｍｌのＴＨＦに
溶かし氷浴中で冷却しながら、次亜塩素酸−ｔｅｒｔ−
ブチル０．２３ｇ（２．１６ｍｍｏｌ）を滴下して、４
５分間撹拌した。さらに２８％ナトリウムメトキシドメ
タノール溶液０．４２ｇ（２．１６ｍｍｏｌ）を滴下し
て１時間加熱還流した。反応液に水を加えて酢酸エチル
で抽出し、水、塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。抽出
液を濃縮して残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）で精製して０．５
７ｇ（収率７３％）の目的物（融点２０３〜２０６℃）
を得た。
ニル）−４−メチル−４，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピラゾ
ロ［３，４−ｂ］［１，４］ジアジン−５−オンの製造
（化合物番号５１） １−（２，６−ジクロロ−４−トリフルオロメチルフェ
ニル）−４−メチル−４，５，６，７−テトラヒドロピ
ラゾロ−［３，４−ｂ］［１，４］ジアジン−５−オン
０．７９ｇ（２．１６ｍｍｏｌ）を１０ｍｌのＴＨＦに
溶かし氷浴中で冷却しながら、次亜塩素酸−ｔｅｒｔ−
ブチル０．２３ｇ（２．１６ｍｍｏｌ）を滴下して、４
５分間撹拌した。さらに２８％ナトリウムメトキシドメ
タノール溶液０．４２ｇ（２．１６ｍｍｏｌ）を滴下し
て１時間加熱還流した。反応液に水を加えて酢酸エチル
で抽出し、水、塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。抽出
液を濃縮して残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）で精製して０．５
７ｇ（収率７３％）の目的物（融点２０３〜２０６℃）
を得た。
【００９４】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：４．１
（３Ｈ，ｓ），８．２（２Ｈ，ｓ），８．３（１Ｈ，
ｓ），８．４（１Ｈ，ｓ）ｐｐｍ
（３Ｈ，ｓ），８．２（２Ｈ，ｓ），８．３（１Ｈ，
ｓ），８．４（１Ｈ，ｓ）ｐｐｍ
【００９５】本発明の除草剤は、一般式［Ｉ］で示され
る縮合ヘテロ環誘導体を有効成分としてなる。
る縮合ヘテロ環誘導体を有効成分としてなる。
【００９６】本発明化合物を除草剤として使用するには
本発明化合物それ自体で用いてもよいが、製剤化に一般
的に用いられる担体、界面活性剤、分散剤または補助剤
等を配合して、粉剤、水和剤、乳剤、微粒剤または粒剤
等に製剤して使用することもできる。
本発明化合物それ自体で用いてもよいが、製剤化に一般
的に用いられる担体、界面活性剤、分散剤または補助剤
等を配合して、粉剤、水和剤、乳剤、微粒剤または粒剤
等に製剤して使用することもできる。
【００９７】製剤化に際して用いられる担体としては、
例えばタルク、ベントナイト、クレー、カオリン、珪藻
土、ホワイトカーボン、バーミキュライト、炭酸カルシ
ウム、消石灰、珪砂、硫安、尿素等の固体担体、イソプ
ロピルアルコール、キシレン、シクロヘキサン、メチル
ナフタレン等の液体担体等があげられる。
例えばタルク、ベントナイト、クレー、カオリン、珪藻
土、ホワイトカーボン、バーミキュライト、炭酸カルシ
ウム、消石灰、珪砂、硫安、尿素等の固体担体、イソプ
ロピルアルコール、キシレン、シクロヘキサン、メチル
ナフタレン等の液体担体等があげられる。
【００９８】界面活性剤及び分散剤としては、例えばア
ルキルベンゼンスルホン酸金属塩、ジナフチルメタンジ
スルホン酸金属塩、アルコール硫酸エステル塩、アルキ
ルアリールスルホン酸塩、リグニンスルホン酸塩、ポリ
オキシエチレングリコールエーテル、ポリオキシエチレ
ンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレンソル
ビタンモノアルキレート等があげられる。補助剤として
は、例えばカルボキシメチルセルロース、ポリエチレン
グリコール、アラビアゴム等があげられる。使用に際し
ては適当な濃度に希釈して散布するかまたは直接施用す
る。
ルキルベンゼンスルホン酸金属塩、ジナフチルメタンジ
スルホン酸金属塩、アルコール硫酸エステル塩、アルキ
ルアリールスルホン酸塩、リグニンスルホン酸塩、ポリ
オキシエチレングリコールエーテル、ポリオキシエチレ
ンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレンソル
ビタンモノアルキレート等があげられる。補助剤として
は、例えばカルボキシメチルセルロース、ポリエチレン
グリコール、アラビアゴム等があげられる。使用に際し
ては適当な濃度に希釈して散布するかまたは直接施用す
る。
【００９９】本発明の除草剤は茎葉散布、土壌施用また
は水面施用等により使用することができる。有効成分の
配合割合については必要に応じて適宜選ばれるが、粉剤
または粒剤とする場合は０．０１〜５０％（重量）、好
ましくは０．５〜２０％（重量）の範囲から適宜選ぶの
がよい。また、乳剤及び水和剤とする場合は１〜５０％
（重量）、好ましくは５〜３０％（重量）の範囲から適
宜選ぶのがよい。
は水面施用等により使用することができる。有効成分の
配合割合については必要に応じて適宜選ばれるが、粉剤
または粒剤とする場合は０．０１〜５０％（重量）、好
ましくは０．５〜２０％（重量）の範囲から適宜選ぶの
がよい。また、乳剤及び水和剤とする場合は１〜５０％
（重量）、好ましくは５〜３０％（重量）の範囲から適
宜選ぶのがよい。
【０１００】本発明の除草剤の施用量は使用される化合
物の種類、対象雑草、発生傾向、環境条件ならびに使用
する剤型等によってかわるが、粉剤及び粒剤のようにそ
のまま使用する場合は、有効成分として１０アール当り
０．１ｇ〜５ｋｇ、好ましくは１ｇ〜１ｋｇの範囲から
適宜選ぶのがよい。また、乳剤及び水和剤とする場合の
ように液状で使用する場合は、０．１〜５０，０００ｐ
ｐｍ、好ましくは１０〜１０，０００ｐｐｍの範囲から
適宜選ぶのがよい。
物の種類、対象雑草、発生傾向、環境条件ならびに使用
する剤型等によってかわるが、粉剤及び粒剤のようにそ
のまま使用する場合は、有効成分として１０アール当り
０．１ｇ〜５ｋｇ、好ましくは１ｇ〜１ｋｇの範囲から
適宜選ぶのがよい。また、乳剤及び水和剤とする場合の
ように液状で使用する場合は、０．１〜５０，０００ｐ
ｐｍ、好ましくは１０〜１０，０００ｐｐｍの範囲から
適宜選ぶのがよい。
【０１０１】また、本発明の化合物は必要に応じて殺虫
剤、殺菌剤、他の除草剤、植物生長調節剤、肥料等と混
用してもよい。
剤、殺菌剤、他の除草剤、植物生長調節剤、肥料等と混
用してもよい。
【０１０２】次に代表的な製剤例をあげて製剤方法を具
体的に説明する。化合物、添加剤の種類及び配合比率
は、これのみに限定されることなく広い範囲で変更可能
である。以下の説明において「部」は重量部を意味す
る。
体的に説明する。化合物、添加剤の種類及び配合比率
は、これのみに限定されることなく広い範囲で変更可能
である。以下の説明において「部」は重量部を意味す
る。
【０１０３】〈製剤例１〉 水和剤 化合物（３）の１０部にポリオキシエチレンオクチルフ
ェニルエーテルの０．５部、β−ナフタレンスルホン酸
ホルマリン縮合物ナトリウム塩の０．５部、珪藻土の２
０部、クレーの６９部を混合粉砕し、水和剤を得る。
ェニルエーテルの０．５部、β−ナフタレンスルホン酸
ホルマリン縮合物ナトリウム塩の０．５部、珪藻土の２
０部、クレーの６９部を混合粉砕し、水和剤を得る。
【０１０４】〈製剤例２〉 水和剤 化合物（６）の１０部にポリオキシエチレンオクチルフ
ェニルエーテルの０．５部、β−ナフタレンスルホン酸
ホルマリン縮合物ナトリウム塩の０．５部、珪藻土の２
０部、ホワイトカーボンの５部、クレーの６４部を混合
粉砕し、水和剤を得る。
ェニルエーテルの０．５部、β−ナフタレンスルホン酸
ホルマリン縮合物ナトリウム塩の０．５部、珪藻土の２
０部、ホワイトカーボンの５部、クレーの６４部を混合
粉砕し、水和剤を得る。
【０１０５】〈製剤例３〉 水和剤 化合物（７）の１０部にポリオキシエチレンオクチルフ
ェニルエーテルの０．５部、β−ナフタレンスルホン酸
ホルマリン縮合物ナトリウム塩の０．５部、珪藻土の２
０部、ホワイトカーボンの５部、炭酸カルシウムの６４
部を混合粉砕し、水和剤を得る。
ェニルエーテルの０．５部、β−ナフタレンスルホン酸
ホルマリン縮合物ナトリウム塩の０．５部、珪藻土の２
０部、ホワイトカーボンの５部、炭酸カルシウムの６４
部を混合粉砕し、水和剤を得る。
【０１０６】〈製剤例４〉 乳剤 化合物（２）の３０部にキシレンとイソホロンの等量混
合物６０部、界面活性剤ポリオキシエチレンソルビタン
アルキレート、ポリオキシエチレンアルキルアリールポ
リマー及びアルキルアリールスルホネートの混合物の１
０部を加え、これらをよくかきまぜることによって乳剤
を得る。
合物６０部、界面活性剤ポリオキシエチレンソルビタン
アルキレート、ポリオキシエチレンアルキルアリールポ
リマー及びアルキルアリールスルホネートの混合物の１
０部を加え、これらをよくかきまぜることによって乳剤
を得る。
【０１０７】〈製剤例５〉 粒剤 化合物（５）の１０部、タルクとベントナイトを１：３
の割合の混合した増量剤の８０部、ホワイトカーボンの
５部、界面活性剤ポリオキシエチレンソルビタンアルキ
レート、ポリオキシエチレンアルキルアリールポリマー
及びアルキルアリールスルホネートの混合物の５部に水
１０部を加え、よく練ってペースト状としたものを直径
０．７ｍｍのふるい穴から押し出して乾燥した後に０．
５〜１ｍｍの長さに切断し、粒剤を得る。
の割合の混合した増量剤の８０部、ホワイトカーボンの
５部、界面活性剤ポリオキシエチレンソルビタンアルキ
レート、ポリオキシエチレンアルキルアリールポリマー
及びアルキルアリールスルホネートの混合物の５部に水
１０部を加え、よく練ってペースト状としたものを直径
０．７ｍｍのふるい穴から押し出して乾燥した後に０．
５〜１ｍｍの長さに切断し、粒剤を得る。
【０１０８】
【発明の効果】一般式［Ｉ］で表される本発明の化合物
は、畑地において問題となる種々の雑草、例えばオオイ
ヌタデ、アオビユ、シロザ、ハコベ、イチビ、アメリカ
キンゴジカ、アメリカツノクサネム等の広葉雑草をはじ
め、カヤツリグサ、コゴメガヤツリ等の多年生および１
年生カヤツリグサ科雑草、ヒエ、メヒシバ、エノコログ
サ、ジョンソングラス、ノスズメノテッポウ、野生エン
バク等のイネ科雑草の発芽前から生育期の広い範囲にわ
たって優れた除草効果を発揮する。また、水田に発生す
るタイヌビエ、タマガヤツリ、コナギ等の一年生雑草を
防除することもできる。
は、畑地において問題となる種々の雑草、例えばオオイ
ヌタデ、アオビユ、シロザ、ハコベ、イチビ、アメリカ
キンゴジカ、アメリカツノクサネム等の広葉雑草をはじ
め、カヤツリグサ、コゴメガヤツリ等の多年生および１
年生カヤツリグサ科雑草、ヒエ、メヒシバ、エノコログ
サ、ジョンソングラス、ノスズメノテッポウ、野生エン
バク等のイネ科雑草の発芽前から生育期の広い範囲にわ
たって優れた除草効果を発揮する。また、水田に発生す
るタイヌビエ、タマガヤツリ、コナギ等の一年生雑草を
防除することもできる。
【０１０９】一方、本発明の除草剤は作物に対する安全
性も高く、中でもイネ、コムギ、オオムギ等に対して高
い安全性を示す。
性も高く、中でもイネ、コムギ、オオムギ等に対して高
い安全性を示す。
【０１１０】次に試験例をあげて本発明化合物の奏する
効果を説明する。尚、比較剤としてＵＳ−５３００４７
８号公報明細書のクレームに包含される１−（２，６−
ジクロロ−４−トリフルオロメチルフェニル）−５−ヒ
ドロキシ−１Ｈ−ピラゾロ［４，３−ｂ］ピリジンを用
いた。
効果を説明する。尚、比較剤としてＵＳ−５３００４７
８号公報明細書のクレームに包含される１−（２，６−
ジクロロ−４−トリフルオロメチルフェニル）−５−ヒ
ドロキシ−１Ｈ−ピラゾロ［４，３−ｂ］ピリジンを用
いた。
【０１１１】〈試験例１〉 水田土壌処理による除草効
果試験 １００ｃｍ２のプラスチックポットに水田土壌を充填
し、代掻後、タイヌビエ（Ｅｏ）、コナギ（Ｍｏ）及び
ホタルイ（Ｓｃ）の各種子を播種し、水深３ｃｍに湛水
した。翌日、製剤例１に準じて調製した水和剤を水で希
釈し、水面滴下した。施用量は、有効成分を１０アール
当り１００ｇとした。その後、温室内で育成し、処理後
２１日目に表８の基準に従って除草効果を調査した。結
果を表９に示す。
果試験 １００ｃｍ２のプラスチックポットに水田土壌を充填
し、代掻後、タイヌビエ（Ｅｏ）、コナギ（Ｍｏ）及び
ホタルイ（Ｓｃ）の各種子を播種し、水深３ｃｍに湛水
した。翌日、製剤例１に準じて調製した水和剤を水で希
釈し、水面滴下した。施用量は、有効成分を１０アール
当り１００ｇとした。その後、温室内で育成し、処理後
２１日目に表８の基準に従って除草効果を調査した。結
果を表９に示す。
【０１１２】
【表８】
【０１１３】
【表９】
【０１１４】〈試験例２〉 畑地土壌処理による除草効
果試験 １２０ｃｍ２プラスチックポットに畑地土壌を充填し、
食用ビエ（Ｅｃ）、メヒシバ（Ｄｉ）、オオイヌタデ
（Ｐｏ）、アオビユ（Ａｍ）、シロザ（Ｃｈ）の各種子
を播種して覆土した。製剤例１に準じて調製した水和剤
を水で希釈し、１０アール当り有効成分が１００ｇにな
る様に、１０アール当り１００ｌを小型噴霧器で土壌表
面に均一に散布した。その後、温室内で育成し、処理２
１日目に表８の基準に従って、除草効果を調査した。そ
の結果を表１０に示す。
果試験 １２０ｃｍ２プラスチックポットに畑地土壌を充填し、
食用ビエ（Ｅｃ）、メヒシバ（Ｄｉ）、オオイヌタデ
（Ｐｏ）、アオビユ（Ａｍ）、シロザ（Ｃｈ）の各種子
を播種して覆土した。製剤例１に準じて調製した水和剤
を水で希釈し、１０アール当り有効成分が１００ｇにな
る様に、１０アール当り１００ｌを小型噴霧器で土壌表
面に均一に散布した。その後、温室内で育成し、処理２
１日目に表８の基準に従って、除草効果を調査した。そ
の結果を表１０に示す。
【０１１５】
【表１０】 〈試験例３〉 畑地茎葉処理による除草効果試験 １２０ｃｍ２プラスチックポットに畑地土壌を充填し、
食用ビエ（Ｅｃ）、メヒシバ（Ｄｉ）、オオイヌタデ
（Ｐｏ）、アオビユ（Ａｍ）、シロザ（Ｃｈ）、コゴメ
ガヤツリ（Ｃｉ）の各種子を播種し、温室内で２週間育
成後、製剤例１に準じて調製した水和剤を水に希釈し、
１０アール当り有効成分が１００ｇになる様に、１０ア
ール当り１００ｌを小型噴霧器で植物体の上方から全体
に茎葉散布処理した。その後、温室内で育成し、処理１
４日目に表８の基準に従って、除草効果を調査した。そ
の結果を表１１に示す。
食用ビエ（Ｅｃ）、メヒシバ（Ｄｉ）、オオイヌタデ
（Ｐｏ）、アオビユ（Ａｍ）、シロザ（Ｃｈ）、コゴメ
ガヤツリ（Ｃｉ）の各種子を播種し、温室内で２週間育
成後、製剤例１に準じて調製した水和剤を水に希釈し、
１０アール当り有効成分が１００ｇになる様に、１０ア
ール当り１００ｌを小型噴霧器で植物体の上方から全体
に茎葉散布処理した。その後、温室内で育成し、処理１
４日目に表８の基準に従って、除草効果を調査した。そ
の結果を表１１に示す。
【０１１６】
【表１１】
【０１１７】〈試験例４〉 畑地土壌処理による作物選
択性試験 ６００ｃｍ２プラスチックポットに畑地土壌を充填し、
コムギ（Ｔｒ）、食用ヒエ（Ｅｃ）、メヒシバ（Ｄ
ｉ）、エノコログサ（Ｓｅ）、ジョンソングラス（Ｓ
ｏ）オオイヌタデ（Ｐｏ）、アオビユ（Ａｍ）、シロザ
（Ｃｈ）、イチビ（Ａｂ）の各種子を播種して覆土し
た。翌日、製剤例１に準じて調製した水和剤の所定有効
成分量（ｇ／１０ａ）を水で希釈し、１０アール当り１
００ｌを小型噴霧器で土壌表面に均一に散布した。その
後、温室内で育成し、処理後２１日目に表８の基準に従
って除草効果を調査した試験結果を表１２に示す。
択性試験 ６００ｃｍ２プラスチックポットに畑地土壌を充填し、
コムギ（Ｔｒ）、食用ヒエ（Ｅｃ）、メヒシバ（Ｄ
ｉ）、エノコログサ（Ｓｅ）、ジョンソングラス（Ｓ
ｏ）オオイヌタデ（Ｐｏ）、アオビユ（Ａｍ）、シロザ
（Ｃｈ）、イチビ（Ａｂ）の各種子を播種して覆土し
た。翌日、製剤例１に準じて調製した水和剤の所定有効
成分量（ｇ／１０ａ）を水で希釈し、１０アール当り１
００ｌを小型噴霧器で土壌表面に均一に散布した。その
後、温室内で育成し、処理後２１日目に表８の基準に従
って除草効果を調査した試験結果を表１２に示す。
【０１１８】
【表１２】
【０１１９】〈試験例５〉 畑地茎葉処理による作物選
択性試験 ６００ｃｍ２プラスチックポットに畑地土壌を充填し、
コムギ（Ｔｒ）、オオイヌタデ（Ｐｏ）、シロザ（Ｃ
ｈ）、イチビ（Ａｂ）の各種子を播種し、温室内で２週
間育成後、製剤例１に準じて調製した水和剤の所定有効
成分量（ｇ／１０ａ）を水で希釈し、１０アール当り１
００ｌを小型噴霧器で植物体の上方から全体に茎葉散布
処理した。その後、温室内で育成し、処理１４日目に表
８の基準に従って、除草効果を調査した。その結果を表
１３に示す。
択性試験 ６００ｃｍ２プラスチックポットに畑地土壌を充填し、
コムギ（Ｔｒ）、オオイヌタデ（Ｐｏ）、シロザ（Ｃ
ｈ）、イチビ（Ａｂ）の各種子を播種し、温室内で２週
間育成後、製剤例１に準じて調製した水和剤の所定有効
成分量（ｇ／１０ａ）を水で希釈し、１０アール当り１
００ｌを小型噴霧器で植物体の上方から全体に茎葉散布
処理した。その後、温室内で育成し、処理１４日目に表
８の基準に従って、除草効果を調査した。その結果を表
１３に示す。
【０１２０】
【表１３】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｄ 487/04 １４１ Ｃ０７Ｄ 487/04 １４１ １４２ １４２ １４４ １４４ １４５ １４５ １４６ １４６ 498/04 498/04 １１２Ｑ (72)発明者 山口 幹夫 静岡県磐田郡福田町塩新田408番地の１ 株式会社ケイ・アイ研究所内 (72)発明者 山地 充洋 静岡県小笠郡菊川町1809番地 (72)発明者 花井 涼 静岡県小笠郡菊川町青葉台２丁目４番地の ９ (72)発明者 佐土原 英雄 静岡県小笠郡菊川町1809番地
Claims (6)
- 【請求項１】 一般式 【化１】 ［式中、−Ａ−Ｂ−は基−ＣＨ＝ＣＨ−、基−ＯＣＨ２
−、基−ＣＨ２Ｏ−、基−ＮＨＣＨ２−、基−ＣＨ２Ｎ
Ｈ−、基−Ｎ＝ＣＨ−または基−ＣＨ＝Ｎ−を示し、Ｙ
およびＷは同一または相異なり窒素原子または基−ＣＨ
を示し、Ｒ１およびＲ２は同一または相異なり水素原
子、アルキル基、ハロゲン原子またはハロアルキル基を
示し、Ｚは窒素原子または式−ＣＲ４（式中、Ｒ４は水
素原子、アルキル基、ハロゲン原子またはハロアルキル
基を示す。）を示し、Ｒ３はアルキル基、アルケニル
基、アルキニル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基
またはハロアルケニル基を示す。］で表される縮合ヘテ
ロ環誘導体。 - 【請求項２】 一般式 【化２】 ［式中、−Ａ−Ｂ−は基−ＯＣＨ２−、基−ＣＨ２Ｏ
−、基−ＮＨＣＨ２−、基−ＣＨ２ＮＨ−、基−Ｎ＝Ｃ
Ｈ−または基−ＣＨ＝Ｎ−を示し、ＹおよびＷは同一ま
たは相異なり窒素原子または基−ＣＨを示し、Ｒ１およ
びＲ２は同一または相異なり水素原子、アルキル基、ハ
ロゲン原子またはハロアルキル基を示し、Ｚは窒素原子
または式−ＣＲ４（式中、Ｒ４は水素原子、アルキル
基、ハロゲン原子またはハロアルキル基を示す。）を示
す。］で表される縮合ヘテロ環誘導体。 - 【請求項３】 一般式 【化３】 ［式中、−Ａ−Ｂ−は基−ＣＨ＝ＣＨ−を示し、Ｙおよ
びＷは同一または相異なり窒素原子または基−ＣＨを示
し、Ｒ１およびＲ２は同一または相異なり水素原子、ア
ルキル基、ハロゲン原子またはハロアルキル基を示し、
Ｚは窒素原子または式−ＣＲ４（式中、Ｒ４は水素原
子、アルキル基、ハロゲン原子またはハロアルキル基を
示す。）を示す。但し、Ｙが窒素原子を示す時、Ｗは窒
素原子を示す。］で表される縮合ヘテロ環誘導体。 - 【請求項４】 一般式［Ｉ］において−Ａ−Ｂ−が基−
ＣＨ＝ＣＨ−、基−ＯＣＨ２−、基−ＮＨＣＨ２−また
は基−Ｎ＝ＣＨ−を示し、Ｙが窒素原子を示し、Ｗが基
−ＣＨを示す請求項１に記載の縮合ヘテロ環誘導体。 - 【請求項５】 一般式［Ｉ］においてＹが窒素原子を示
し、Ｗが基−ＣＨを示し、Ｒ１がハロアルキル基を示
し、Ｚが式−ＣＲ４（式中、Ｒ４はハロゲン原子を示
す。）を示し、Ｒ２がハロゲン原子を示し、Ｒ３がアル
キル基、アルケニル基、アルキニル基またはハロアルキ
ル基を示す請求項１または請求項４に記載の縮合ヘテロ
環誘導体。 - 【請求項６】 請求項１、請求項２、請求項３、請求項
４または請求項５に記載の縮合ヘテロ環誘導体を有効成
分として含有する除草剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7227193A JPH0959276A (ja) | 1995-08-11 | 1995-08-11 | 縮合ヘテロ環誘導体及び除草剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7227193A JPH0959276A (ja) | 1995-08-11 | 1995-08-11 | 縮合ヘテロ環誘導体及び除草剤 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0959276A true JPH0959276A (ja) | 1997-03-04 |
Family
ID=16856957
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7227193A Pending JPH0959276A (ja) | 1995-08-11 | 1995-08-11 | 縮合ヘテロ環誘導体及び除草剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0959276A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003033502A1 (en) * | 2001-10-16 | 2003-04-24 | Celltech R & D Limited | Bicyclic oxopyridine and oxopyrimidine derivatives |
| JP2008156654A (ja) * | 2004-02-11 | 2008-07-10 | Mallinckrodt Baker Inc | ハロゲン酸素酸、その塩及び誘導体含有、マイクロエレクトロニクス洗浄組成物 |
| US10723719B2 (en) * | 2013-06-11 | 2020-07-28 | Kala Pharmaceuticals, Inc. | Urea derivatives and uses thereof |
-
1995
- 1995-08-11 JP JP7227193A patent/JPH0959276A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003033502A1 (en) * | 2001-10-16 | 2003-04-24 | Celltech R & D Limited | Bicyclic oxopyridine and oxopyrimidine derivatives |
| US7176215B2 (en) | 2001-10-16 | 2007-02-13 | Celltech R&D Limited | Bicyclic oxopyridine and oxopyrimidine derivatives |
| EA007957B1 (ru) * | 2001-10-16 | 2007-02-27 | Селлтек Р Энд Д Лимитед | Производные тиенопиримидина, содержащая их фармацевтическая композиция и их применение |
| JP2008156654A (ja) * | 2004-02-11 | 2008-07-10 | Mallinckrodt Baker Inc | ハロゲン酸素酸、その塩及び誘導体含有、マイクロエレクトロニクス洗浄組成物 |
| US10723719B2 (en) * | 2013-06-11 | 2020-07-28 | Kala Pharmaceuticals, Inc. | Urea derivatives and uses thereof |
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