JPH0959683A - フラックス除去用洗浄剤 - Google Patents

フラックス除去用洗浄剤

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JPH0959683A
JPH0959683A JP22020695A JP22020695A JPH0959683A JP H0959683 A JPH0959683 A JP H0959683A JP 22020695 A JP22020695 A JP 22020695A JP 22020695 A JP22020695 A JP 22020695A JP H0959683 A JPH0959683 A JP H0959683A
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JP
Japan
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flux
water
cleaning agent
weight
pyrrolidone
Prior art date
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Pending
Application number
JP22020695A
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English (en)
Inventor
Toshiaki Soejima
俊明 副島
Yoshitake Araki
良剛 荒木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Chemical Corp
Original Assignee
Mitsubishi Chemical Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 引火性のない、フラックス除去を短時間に行
える洗浄剤の提供。 【解決手段】 (a)水溶性アミド化合物または水溶性ラクトン化合物 65〜86.89重量% (b)アルカノールアミンまたは4級低級アルキルアンモニウムヒドロキシド 0.01〜15重量% (水)水 13.1〜20重量% を含有するフラックス除去用洗浄剤。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は主として電気、電
子、通信機器などの配線接続や部品の製造のように電気
特性を必要とする製造部門で使用されるフラックスを除
去するのに用いる洗浄剤に関する。
【0002】
【従来の技術】電気・電子産業分野では、プリント回路
又はプリント配線板製造工程において、はんだと基材と
を強固に固着させる為に予めフラックスを塗布してい
る。フラックスは例えば松脂に活性化剤を混合してな
り、母材表面や溶融はんだの表面の酸化膜化を防止する
等の作用によってはんだ付けが良好に行われるようにす
るものである。はんだ付け作業が終了すると、はんだ付
け部の表面を洗浄し、フラックスを除去する。この洗浄
剤として、従来からフロン113或はメチルクロロホル
ムが使用されてきている。これらの溶剤はフラックスに
対する溶解力が大きく、不燃性であることから広範囲に
使用されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、社会的な環境
問題に対する意識の高まりの中で環境破壊性物質の大気
及び水系への排出規制の動きが出てきている。例えば、
フロン系溶剤(特定フロン5種:CFC11、CFC1
2、CFC113、CFC114、CFC115)やメ
チルクロロホルムは、オゾン層破壊物質として、その使
用が制限されつつある。かかる塩素系、フッ素系炭化水
素溶剤に代わるフラックス除去用洗浄剤として、特開平
3−393号公報はN−メチルピロリドンを溶剤とし
て、又、特開平4−68095号公報は、(1)ノニオ
ン系界面活性剤、及び(2)N−メチルピロリドン、2
−ピロリドン、γ−ブチロラクトン、ジメチルスルホキ
シド、スルホラン、炭酸プロピレンの中から選ばれる一
種又は一種以上、を必須成分として含むことを特徴とす
るフラックス洗浄剤を提案する。しかし、このN−メチ
ルピロリジン等の溶剤は引火性があり、又、空気中の酸
素により酸化され易く、着色し易い欠点がある。本発明
は、洗浄剤の貯蔵安定性に優れ、洗浄剤が非危険物とし
て取り扱われないフラックス除去用洗浄剤の提供を目的
とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、 (a)水溶性アミド化合物または水溶性ラクトン化合物 65〜86.89重量% (b)アルカノールアミンまたは式(I)で示す4級低級アルキルアンモニウ ムヒドロキシド 0.01〜15重量%
【0005】
【化2】
【0006】(式中、R1 、R2 、R3 、R4 はそれぞ
れ独立して炭素数が1〜4のアルキル基である。) (c)水 13.1〜20重量% を含有するフラックス除去用洗浄剤を提供するものであ
る。
【0007】
【発明の実施の形態】以下に本発明の方法を詳しく説明
する。(a)水溶性アミド化合物または水溶性ラクトン化合
物: (a)成分の水溶性アミド化合物としては、N,
N′−ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N′−ジ
エチルホルムアミド(DEF)、N,N′−ジメチルア
セトアミド(DMAC)などの鎖状アミド化合物やピロ
リドン化合物などの環状アミド化合物が用いられる。
【0008】上記ピロリドン化合物としては2−ピロリ
ドン、N−アルキル−2−ピロリドン(例えば、N−メ
チル−2−ピロリドン、N−エチル−2−ピロリドン、
N−プロピル−2−ピロリドン)、5−アルキル−2−
ピロリドン(例えば、5−メチル−2−ピロリドン、5
−エチル−2−ピロリドン、5−プロピル−2−ピロリ
ドン)、N−ビニル−2−ピロリドン等が例示される
が、特にN−メチル−2−ピロリドンが有効である。
【0009】又、水溶性ラクトン化合物としては、γ−
ブチロラクトン(GBL)が挙げられる。これら成分
は、単独で用いてもよく、また、2種以上の混合して用
いてもよい。この(a)成分は、フラックスの剥離、溶
解に有効に作用する。この(a)成分の洗浄剤中の含有
量は65〜86.89重量%、好ましくは70〜86.
89重量%である。65重量%未満ではフラックスヘの
浸透作用が小さくなり、部品等に付着しているフラック
スの除去性能が薄れる。又、86.89重量%を越えて
はフラックスへの浸透作用のみが先行し、フラックスの
粘性が増し部品等から除去しづらくなる。
【0010】(b)アルカノールアミンまたは4級低級
アルキルアンモニウムヒドロキシド:(b)成分は、洗
浄剤のフラックスへの浸透性を向上させるもので洗浄剤
中、0.01〜15重量%、好ましくは0.05〜10
重量%の割合で用いられる。0.01重量%未満ではそ
の効果が薄く、15重量%を越えては(a)成分の浸透
効果が小さくなる。(b)成分としてはモノエタノール
アミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、
テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチル
アンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウム
ヒドロキシド、トリエチルメチルアンモニウムヒドロキ
シド、トリブチルエチルアンモニウムヒドロキシド等が
使用できる。
【0011】(c)水 水は洗浄剤の可燃性防止のために洗浄剤中、13.1〜
20重量%の割合で添加される。(d)任意成分 その他必要により、界面活性剤を洗浄剤中、1〜5重量
%配合してもよい。フラックス 除去するフラックスとしては、主として電気、電子、通
信機器などの配線接続や部品の製造のように電気特性を
必要とする製造部門で使用されているはんだ付用樹脂フ
ラックスで、やに入りはんだおよびはんだペースト中の
フラックス、液状フラックス、固形フラックス、ロジン
フラックス等がある。
【0012】洗浄 フラックスの除去は、洗浄槽内に本発明の洗浄剤を仕込
み、常温もしくは常温から60℃程度等に昇温し、フラ
ックスが付着した材料を浸漬もしくはエアーバブリン
グ、超音波、液流、噴流、バレル回転機械力を単独もし
くは組み合わせて処理を行う。もちろん洗浄法として洗
浄剤を含浸したウエス、スポンジ等による拭き取りによ
る方法も可能である。洗浄後は水リンス、乾燥を行い材
料に付着した洗浄剤の除去を行う。拭き取りによる方法
の場合は自然乾燥もしくは水をしみ込ませたウエス、ス
ポンジ等により洗浄剤を除去し、水を自然乾燥もしくは
乾いたウエス、スポンジ等で拭き取り自然乾燥させる。
【0013】
【実施例】以下の実施例1〜7、比較例1〜5は電子部
品(コネクター)に付着したロジンフラックスの除去を
行ったものである。表に示す洗浄剤を使用し、超音波発
振(400W、28kHz)洗浄を行い、電子部品(コ
ネクター)に付着したロジンフラックスの除去程度につ
いて洗浄の状況および洗浄後の観察を行った。尚、洗浄
は5分間実施した。表においてコネクターに付着したロ
ジンフラックスの除去状況および観察結果を以下の記号
で示した。 ○…コネクターに付着したロジンフラックスが完全に除
去されている。 △…コネクターに付着したロジンフラックスが僅かに残
存しているが、実用上問題ないレベル。 ×…コネクターに付着したロジンフラックスが大部分が
残存している。
【0014】
【表1】
【0015】実施例 引火性:洗浄剤の引火性をフリーブランド開放式で評価
した。 結果を表2に示す。
【0016】
【表2】
【0017】
【発明の効果】引火性の危険がなく、フラックスの除去
を短時間に行うことができる洗浄剤である。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (a)水溶性アミド化合物または水溶性ラクトン化合物 65〜86.89重量% (b)アルカノールアミンまたは式(I)で示す4級低級アルキルアンモニウ ムヒドロキシド 0.01〜15重量% (c)水 13.1〜20重量% 【化1】 (式中、R1 、R2 、R3 およびR4 はそれぞれ独立し
    て炭素数が1〜4のアルキル基である。)を含有するフ
    ラックス除去用洗浄剤。
  2. 【請求項2】 (a)成分が、N−メチルピロリドン、
    2−ピロリドン、N,N′−ジメチルホルムアミド、
    N,N′−ジエチルホルムアミド、N,N′−ジメチル
    アセトアミド、ガンマ−ブチロラクトンより選ばれた化
    合物であり、(b)成分がモノエタノールアミン、ジエ
    タノールアミン、トリエタノールアミン、テトラブチル
    アンモニウムヒドロキシドより選ばれた化合物である請
    求項1記載のフラックス除去用洗浄剤。
JP22020695A 1995-08-29 1995-08-29 フラックス除去用洗浄剤 Pending JPH0959683A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN117282709A (zh) * 2023-11-10 2023-12-26 玛塔化研科技(苏州)有限公司 清洗方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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