JPH0468095A - フラックス洗浄剤 - Google Patents
フラックス洗浄剤Info
- Publication number
- JPH0468095A JPH0468095A JP17950590A JP17950590A JPH0468095A JP H0468095 A JPH0468095 A JP H0468095A JP 17950590 A JP17950590 A JP 17950590A JP 17950590 A JP17950590 A JP 17950590A JP H0468095 A JPH0468095 A JP H0468095A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- flux
- cleaning
- polyoxyethylene
- tank
- butyrolactone
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Detergent Compositions (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ハンダ接合時にハンダと基材との接合力を強
める為に塗布されるフラックスをハンダ接合後に除去す
る為のフラックス洗浄剤に関するものである。
める為に塗布されるフラックスをハンダ接合後に除去す
る為のフラックス洗浄剤に関するものである。
従来、電気・電子産業分野では、プリント回路又はプリ
ント配線板製造工程において、ハンダと基材とを強固に
固着させる為に予めフラックスを塗布している。このフ
ラックスは、プリント回路又はプリント配線板に残存す
ると導電不良或は腐食の原因となる為、通常、ハンダ付
は終了後には有機系洗浄材によって、洗浄除去されてい
る。この洗浄剤として、従来からフロン１１３或はメチ
ルクロロホルムが使用されてきている。これらの溶剤は
フラックスに対する溶解力が大きく、不燃性であること
から広範囲に使用されている。
ント配線板製造工程において、ハンダと基材とを強固に
固着させる為に予めフラックスを塗布している。このフ
ラックスは、プリント回路又はプリント配線板に残存す
ると導電不良或は腐食の原因となる為、通常、ハンダ付
は終了後には有機系洗浄材によって、洗浄除去されてい
る。この洗浄剤として、従来からフロン１１３或はメチ
ルクロロホルムが使用されてきている。これらの溶剤は
フラックスに対する溶解力が大きく、不燃性であること
から広範囲に使用されている。
しかし、社会的な環境問題に対する意識の高まりの中で
環境破壊性物質の大気及び水系への排出規制の動きが出
てきている。例えば、フロン系溶剤（特定フロン５種：
ＣＦＣＩＩ、ＣＦＣｌ２、ＣＦＣＩＩ３、ＣＦＣＩＩ
４ 、ＣＦＣＩＩ５）やメチルクロロホルムは、オゾン
層破壊物質として、その使用が制限されつつある。
環境破壊性物質の大気及び水系への排出規制の動きが出
てきている。例えば、フロン系溶剤（特定フロン５種：
ＣＦＣＩＩ、ＣＦＣｌ２、ＣＦＣＩＩ３、ＣＦＣＩＩ
４ 、ＣＦＣＩＩ５）やメチルクロロホルムは、オゾン
層破壊物質として、その使用が制限されつつある。
かかる状況において、フロン１１３或はメチルクロロホ
ルムを使用している産業界では、−日も早く、これら溶
剤に代わるフラックス洗浄剤が求められているのが実状
である。
ルムを使用している産業界では、−日も早く、これら溶
剤に代わるフラックス洗浄剤が求められているのが実状
である。
本発明者らは、フラックス洗浄剤に用いられるフロン１
１３或はメチルクロロホルムに代わる洗浄剤の研究を重
ねた結果、ノニオン系界面活性剤、及びＮ−メチルピロ
リドン、２−ピロリドン、γブチロラクトン、ジメチル
スルホキシドの中から選ばれる一種又一種以上を必須成
分として含む組成物が、従来のフラックス洗浄剤（フロ
ン１１３及びメチルクロロホルム）に匹敵する程の高い
洗浄性能及び仕上がり性の良さを示す洗浄剤であること
を見出し、この知見に基づいて本発明をなすに至った。
１３或はメチルクロロホルムに代わる洗浄剤の研究を重
ねた結果、ノニオン系界面活性剤、及びＮ−メチルピロ
リドン、２−ピロリドン、γブチロラクトン、ジメチル
スルホキシドの中から選ばれる一種又一種以上を必須成
分として含む組成物が、従来のフラックス洗浄剤（フロ
ン１１３及びメチルクロロホルム）に匹敵する程の高い
洗浄性能及び仕上がり性の良さを示す洗浄剤であること
を見出し、この知見に基づいて本発明をなすに至った。
すなわち、本発明は、
（１）ノニオン系界面活性剤、及び
（２）Ｎ−メチルピロリドン、２−ピロリドン、γ−ブ
チロラクトン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、炭
酸プロピレンの中から選ばれる一種 又は一種以上、 を必須成分として含むことを特徴とするフラックス洗浄
剤である。
チロラクトン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、炭
酸プロピレンの中から選ばれる一種 又は一種以上、 を必須成分として含むことを特徴とするフラックス洗浄
剤である。
本発明に用いるノニオン系界面活性剤の濃度は、１〜３
０重量％の範囲にあることが好ましい。
０重量％の範囲にあることが好ましい。
本発明に用いるノニオン界面活性剤としては、例えば、
ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチ
レンセチルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエ
ーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリ
オキシエチレンアルキルエーテル；ポリオキシエチレン
ノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンオクチル
フェニルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルフェ
ニルエーテル；ポリオキシエチレンポリオキシプロピレ
ンブロックポリマー、ポリオキシソルビタン脂肪酸エス
テル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシ
エチレンアルキルアミン、ポリオキシエチレン脂肪酸ア
ミド等のポリオキシエチレン誘導体；ソルビタン脂肪酸
エステル、グリセリン脂肪酸エステル等が挙げられる。
ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチ
レンセチルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエ
ーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリ
オキシエチレンアルキルエーテル；ポリオキシエチレン
ノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンオクチル
フェニルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルフェ
ニルエーテル；ポリオキシエチレンポリオキシプロピレ
ンブロックポリマー、ポリオキシソルビタン脂肪酸エス
テル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシ
エチレンアルキルアミン、ポリオキシエチレン脂肪酸ア
ミド等のポリオキシエチレン誘導体；ソルビタン脂肪酸
エステル、グリセリン脂肪酸エステル等が挙げられる。
これらはそれぞれ単独で用いることが可能であるが、好
ましくは二種類以上の組み合わせが用いられる。
ましくは二種類以上の組み合わせが用いられる。
より好ましくはポリオキシエチレンアルキルエーテル或
はポリオキシエチレン脂肪酸エステル等のポリオキシエ
チレン系のノニオン系界面活性剤が一種類以上含まれる
組み合わせが用いられる。
はポリオキシエチレン脂肪酸エステル等のポリオキシエ
チレン系のノニオン系界面活性剤が一種類以上含まれる
組み合わせが用いられる。
ポリオキシエチレン系のノニオン系界面活性剤における
エチレンオキサイド部分の付加モル数は３〜４０か好ま
しく、より好ましくは１０〜２０である。
エチレンオキサイド部分の付加モル数は３〜４０か好ま
しく、より好ましくは１０〜２０である。
本発明に用いるＮ−メチルピロリドン、２−ピロリドン
、γ−ブチロラクトンジメチルスルホキシト、スルホラ
ン、炭酸プロピレンの中から選ばれる一種又は一種以上
の物質の濃度は、５０〜９９重量％の範囲にあることが
好ましい。
、γ−ブチロラクトンジメチルスルホキシト、スルホラ
ン、炭酸プロピレンの中から選ばれる一種又は一種以上
の物質の濃度は、５０〜９９重量％の範囲にあることが
好ましい。
本発明における必須成分の組み合わせは、被洗物の材質
及び形態、汚れの種類等に応じて、任意に変えることが
可能である。必須成分の内、どちらか一方でも欠けると
、フラックス洗浄性能或は水リンス性が悪くなることに
よる仕上がりの悪化が起こる。又、必須成分２種類の組
み合わせによって初めて環境に対して安全で、しかも労
働衛生上も問題がなく、従来のフロン系及び塩素系のフ
ラックス洗浄能力に匹敵する実用的な洗浄剤が得られる
ものである。更に、本発明の組成物に液の安定性の保持
や被洗物に対する安定性を向上させる為に或は溶解力向
上の為に種々の安定剤及び添加剤を加えることが可能で
ある。安定剤及び添加剤としては例えば、炭化水素類、
アルコール類、エーテル類、エステル類、アセタール類
、ケトン類、脂肪酸類、ニトロアルカン類、アミン類、
アミド類、グリコール類、アミノエタノール類、ベンゾ
トリアゾール類等が挙げられる。
及び形態、汚れの種類等に応じて、任意に変えることが
可能である。必須成分の内、どちらか一方でも欠けると
、フラックス洗浄性能或は水リンス性が悪くなることに
よる仕上がりの悪化が起こる。又、必須成分２種類の組
み合わせによって初めて環境に対して安全で、しかも労
働衛生上も問題がなく、従来のフロン系及び塩素系のフ
ラックス洗浄能力に匹敵する実用的な洗浄剤が得られる
ものである。更に、本発明の組成物に液の安定性の保持
や被洗物に対する安定性を向上させる為に或は溶解力向
上の為に種々の安定剤及び添加剤を加えることが可能で
ある。安定剤及び添加剤としては例えば、炭化水素類、
アルコール類、エーテル類、エステル類、アセタール類
、ケトン類、脂肪酸類、ニトロアルカン類、アミン類、
アミド類、グリコール類、アミノエタノール類、ベンゾ
トリアゾール類等が挙げられる。
更に本発明の組成物にアニオン系界面活性剤やカチオン
系界面活性剤を必要に応じて添加することも可能である
。
系界面活性剤を必要に応じて添加することも可能である
。
〔実施例〕
以下、本発明を実施例及び比較例によって具体的に説明
する。実施例及び比較例における洗浄方法は次の通りで
ある。
する。実施例及び比較例における洗浄方法は次の通りで
ある。
一実施例における洗浄方法（第１図）−■ 本発明の組
成物を仕込んだ超音波被洗浄機〔ヤマト科学■製、商品
名： ＢＲＡＮＳＯＮＩＣ２２０） ２槽（第一槽、
第二槽）と水リンス槽２槽（第三槽、第四槽）を用意し
、洗浄槽の温度を４０°Ｃとした。
成物を仕込んだ超音波被洗浄機〔ヤマト科学■製、商品
名： ＢＲＡＮＳＯＮＩＣ２２０） ２槽（第一槽、
第二槽）と水リンス槽２槽（第三槽、第四槽）を用意し
、洗浄槽の温度を４０°Ｃとした。
尚、水リンス槽の温度は室温とした。
■ 被洗物（ガラスエポキシ製プリント基板）に各種フ
ラックス（タムラ製作所製、商品名：フラックスＦ−２
３０Ｖ及びＭＨ−３２０Ｖ）を塗布し、溶融ハンダ槽（
２６０℃）で５秒間ハンダ付は作業を行った。
ラックス（タムラ製作所製、商品名：フラックスＦ−２
３０Ｖ及びＭＨ−３２０Ｖ）を塗布し、溶融ハンダ槽（
２６０℃）で５秒間ハンダ付は作業を行った。
■ 被洗物を第一槽に１分間、続いて第二槽に１分間浸
漬して、超音波洗浄を行った。
漬して、超音波洗浄を行った。
■ 次に被洗物を第三槽と第四槽に各１分間、順番に浸
し、それぞれ被洗物を軽く揺動させて水リンスを行った
。
し、それぞれ被洗物を軽く揺動させて水リンスを行った
。
■ 最後に１１０℃に設定された乾燥機で被洗物を乾燥
させた（乾燥時間５分間）。
させた（乾燥時間５分間）。
■ オメガメーターにより、プリント基板上のイオン分
残査を測定した。
残査を測定した。
一比較例における洗浄方法（第２図）
（揮発性溶剤を用いた場合）
■ 冷却管を備えた容量１０００−の硬質ガラス型洗浄
器３台（第一槽、第二槽、第三槽）を用意し、各種に比
較溶剤３００７ｒＬｌをいれ、第一槽を沸騰槽（比較溶
剤の沸点の温度）、第二槽を冷浴槽（室温）、第三槽を
蒸気槽（比較溶剤の沸点の温度）とした。
器３台（第一槽、第二槽、第三槽）を用意し、各種に比
較溶剤３００７ｒＬｌをいれ、第一槽を沸騰槽（比較溶
剤の沸点の温度）、第二槽を冷浴槽（室温）、第三槽を
蒸気槽（比較溶剤の沸点の温度）とした。
■ 前記の被洗物を各種に順番に１分間浸漬した（但し
、第三槽では被洗物を蒸気層へ入れたたけ）。
、第三槽では被洗物を蒸気層へ入れたたけ）。
■ その後、オメガメーターにより、プリント基板上の
イオン分残査を測定した。
イオン分残査を測定した。
尚、比較例で高沸系溶剤を用いる場合は“実施例にける
洗浄方法”に準じた。
洗浄方法”に準じた。
実施例１〜７
第１表に示す組成物について洗浄実験を行った。
その結果を第４表に示す。
比較例１． ２
第２表に示す溶剤について洗浄実験を行った。
その結果を第４表に示す。
比較例３〜５
第３表に示す溶剤について洗浄実験を行った。
その結果を第４表に示す。
本発明のフラックス洗浄剤は、従来のフロン系及び塩素
系溶剤に匹敵する洗浄性能及び仕上がり性の良さを有し
、しかも、オゾンを破壊することなく、更に生物分解性
が高い為に、排水中に混入した場合でも、通常の微生物
処理等により容易に分解させることか可能である。従っ
て排水によって、水系環境を汚染させる心配もない。ま
た、低毒性及び高引火点である為、非常に安全な洗浄溶
剤である。
系溶剤に匹敵する洗浄性能及び仕上がり性の良さを有し
、しかも、オゾンを破壊することなく、更に生物分解性
が高い為に、排水中に混入した場合でも、通常の微生物
処理等により容易に分解させることか可能である。従っ
て排水によって、水系環境を汚染させる心配もない。ま
た、低毒性及び高引火点である為、非常に安全な洗浄溶
剤である。
従って、本発明のフラックス洗浄剤は、実用上、従来の
フロン系及び塩素系溶剤を代替する優れたフラックス洗
浄剤である。
フロン系及び塩素系溶剤を代替する優れたフラックス洗
浄剤である。
第１図は実施例の洗浄剤を用いた被洗物の洗浄方法の概
略図、第２図は比較例の揮発性溶剤を用いた被洗物の洗
浄方法の概略図である。 特許出願人 旭化成工業株式会社
略図、第２図は比較例の揮発性溶剤を用いた被洗物の洗
浄方法の概略図である。 特許出願人 旭化成工業株式会社
Claims (2)
- １．（１）ノニオン系界面活性剤、及び
- （２）Ｎ−メチルピロリドン、２−ピロリドン、γ−ブ
チロラクトン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、炭
酸プロピレンの中から選ばれる一種又は一種以上、 を必須成分として含むことを特徴とするフラックス洗浄
剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17950590A JPH0468095A (ja) | 1990-07-09 | 1990-07-09 | フラックス洗浄剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17950590A JPH0468095A (ja) | 1990-07-09 | 1990-07-09 | フラックス洗浄剤 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0468095A true JPH0468095A (ja) | 1992-03-03 |
Family
ID=16066988
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17950590A Pending JPH0468095A (ja) | 1990-07-09 | 1990-07-09 | フラックス洗浄剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0468095A (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05186798A (ja) * | 1992-01-16 | 1993-07-27 | Raku:Kk | 水溶性樹脂溶解剤 |
| WO1994017143A1 (en) * | 1993-01-19 | 1994-08-04 | Unichema Chemie B.V. | Cleaning composition |
| US5399203A (en) * | 1992-04-20 | 1995-03-21 | Mitsubishi Kasei Corporation | Method for cleaning oil-deposited material |
| JPH07331292A (ja) * | 1994-06-15 | 1995-12-19 | Tonen Corp | 洗浄液組成物 |
| FR2735408A1 (fr) * | 1995-06-19 | 1996-12-20 | Sony Corp | Fondant de soudure employant des preformes de brasage |
| JP2002114993A (ja) * | 2000-10-10 | 2002-04-16 | Tokyo Electron Ltd | 洗浄剤及び洗浄方法 |
| JP2006176700A (ja) * | 2004-12-24 | 2006-07-06 | Tokuyama Corp | 洗浄剤組成物 |
| WO2009072352A1 (ja) * | 2007-12-05 | 2009-06-11 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | 洗浄液及び洗浄方法 |
| US7638472B2 (en) * | 2004-04-13 | 2009-12-29 | Essilor International Compagnie Generale D'optique | Composition for cleaning soiled items, namely optical items, and method for cleaning said items |
| JP2013023534A (ja) * | 2011-07-19 | 2013-02-04 | Mitsubishi Materials Corp | はんだ粉末用洗浄剤及びはんだ粉末の製造方法 |
-
1990
- 1990-07-09 JP JP17950590A patent/JPH0468095A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPH05186798A (ja) * | 1992-01-16 | 1993-07-27 | Raku:Kk | 水溶性樹脂溶解剤 |
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| US5691290A (en) * | 1993-01-19 | 1997-11-25 | Unichema Chemie B.V. | Cleaning composition |
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| JP2013023534A (ja) * | 2011-07-19 | 2013-02-04 | Mitsubishi Materials Corp | はんだ粉末用洗浄剤及びはんだ粉末の製造方法 |
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