JPH0963272A - 半導体集積回路 - Google Patents

半導体集積回路

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JPH0963272A
JPH0963272A JP7233393A JP23339395A JPH0963272A JP H0963272 A JPH0963272 A JP H0963272A JP 7233393 A JP7233393 A JP 7233393A JP 23339395 A JP23339395 A JP 23339395A JP H0963272 A JPH0963272 A JP H0963272A
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JP
Japan
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power supply
voltage
circuit
mos transistor
burn
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP7233393A
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English (en)
Inventor
Takeshi Hashimoto
剛 橋本
Yukie Suzuki
幸英 鈴木
Akira Saeki
亮 佐伯
Shunichi Sukegawa
俊一 助川
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Hitachi Ltd
Texas Instruments Japan Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Texas Instruments Japan Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 チャージポンプのような昇圧回路で形成され
る昇圧電圧を動作電源とする回路の負荷の大きな変動に
よって当該動作電源の電圧が不所望に低下しないように
する。 【構成】 ワードドライバ(WD0〜WD7)にバーン
イン用動作電源を供給するため、相互に位相の異なる周
期信号(N1〜N4)に同期して昇圧動作を行う複数個
の昇圧回路(30)と、バーンイン用の電源電圧(VD
D)とワードドライバに共通の動作電源の供給ライン
(WDP)との間に、前記昇圧回路と1対1対応で配置
され、対応される昇圧回路の出力をゲートに受けるNチ
ャンネル型の電源供給用MOSトランジスタ(Q63)
を設ける。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、チャージポンプによる
昇圧技術、さらには、バーンイン用の動作電圧を内部回
路に供給する技術に関し、例えば高集積化のために動作
電圧が低電圧化されたCMOS型のDRAM(ダイナミ
ック・ランダム・アクセス・メモリ)に適用して有効な
技術に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体集積回路には機能試験では見出し
難い、未だ顕在化されていない製造段階での不良を内在
する場合がある。例えば断線されていないものの配線が
異常に細くなっている場合には、エレクトロマイグレー
ションなどによって当該配線は比較的早い時期に断線す
ることが予想され、また、ゲート酸化膜に亀裂などが入
っている場合には早い時期にゲート酸化膜が破壊される
虞がある。そこで、通常よりも高い電源電圧を与えるな
どして半導体集積回路を動作させ、内部回路に対するス
トレスを高めて、未だ顕在化されていない初期動作不良
を起こすような不良を顕在化させるという、バーンイン
(加速試験)を行うことができる。尚、バーンインにつ
いて記載された文献の例としては、諸和59年11月3
0日に株式会社オーム社発行の「LSIハンドブック」
第684頁がある。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、バーン
インに際しては外部電源端子に比較的高い電圧を与えて
も、それに応じた高電圧が印加され難い内部回路が存在
する。例えば、センスアンプの動作電圧が低電圧化され
たDRAMのワードドライバであることが本発明者によ
って見出された。。
【0004】すなわち、本発明者は、DRAMの記憶容
量を増大させるためにメモリセルトランジスタ等のMO
Sトランジスタを小型化し、それによってMOSトラン
ジスタのゲート長の縮小化に伴ってゲート酸化膜が薄膜
化されるので、動作電圧の低電圧化を進めた。特にDR
AMは、ハイレベルの読み出し動作効率を落とさない
(若しくはハイレベルの読み出し動作マージンを比較的
大きくする)ようにしてハイレベルの書込み(メモリセ
ルの蓄積容量に対する充電動作)を行うことが必要であ
り、その場合には、ワード線の選択レベルを上げるか、
メモリセルのデータ入出力端子が結合されたデータ線の
電圧(センスアンプの増幅動作によるデータ線の到達レ
ベル)を下げることが効果的であるが、上述のようにト
ランジスタの高集積化に伴ってMOSトランジスタのゲ
ート酸化膜が薄膜化されている場合にはワード線の電圧
レベルをむやみに上げるとゲート酸化膜が破壊し易くな
ってDRAMの信頼性の点において好ましくない。この
ような事情により、データ線の電圧を下げることが余儀
なくされる。このようにデータ線の電圧を低電圧化する
と、センスアンプの高速動作の妨げになる。即ち、セン
スアンプの動作電源の電圧が低くされると、センスアン
プに流れる電流が少なくなり、メモリセルの電荷情報が
データ線に読出されたとき、相補データ線に形成される
微少電位差を増幅する速度が低下されることになる。
【0005】そこで、センスアンプを低電圧下で高速動
作させる技術として、センスアンプのオーバドライブ技
術を適用した。例えば、センスアンプがCMOSスタテ
ィックラッチ形態で構成されるとき、Pチャンネル型M
OSトランジスタのソースには、センスアンプに共通の
ドライブラインを介して、センスアンプ活性化タイミン
グの最初に外部電源電圧VDDを与え、次いで外部電源
電圧VDDを降圧した電圧VDLを与えて、センスアン
プを高速動作させつつ、その高電位側到達電位を降圧電
圧VDLに収束させる。
【0006】このとき、降圧電圧VDLは安定であるこ
とが必要であるため、例えば、MOSトランジスタのし
きい値電圧を利用して、電源電圧の変動に対して依存性
の小さな基準電圧を基準電圧発生回路で発生し、これを
制御電圧としてオペアンプの非反転入力端子(+)に与
え、当該オペアンプの出力でスイッチ制御されるMOS
トランジスタと高抵抗の直列回路の結合点の電位を前記
オペアンプの反転入力端子(−)に帰還接続し、オペア
ンプの負帰還制御によって前記MOSトランジスタと高
抵抗との結合点に、基準電圧に一致するレベルの降圧電
圧VDLを形成する。そしてワード線選択レベルについ
ても、その安定性を高めるために、前記降圧電圧VDL
を昇圧した電圧を動作電源としてワードドライバを駆動
するようにした。
【0007】しかしながら、上述した技術においてバー
ンインのために電源電圧を通常より高くしても、それに
比例してワード線選択レベルは高くされず、また、許容
範囲の通常の電源電圧を越えたバーンイン用の電源電圧
に対しては基準電圧発生回路、降圧回路、及び昇圧回路
の動作特性がチップ毎に比較的大きくばらつくことが予
想され、バーンインにおいて実際にワード線に印加され
る電圧がチップ毎にばらつき、かつ、それを外部で把握
することも不可能になり、バーンインの信頼性低下、さ
らには被テストデバイスを無駄に破壊する虞のあること
が明らかにされた。
【0008】そこで本発明者は、ワードドライバのよう
な回路に対する動作電源の供給ラインをスイッチMOS
トランジスタを介して電源電圧に接続し、バーンインモ
ードでは前記スイッチMOSトランジスタをオン状態に
制御して外部電源電圧をワードドライバの動作電源に採
用することを検討した。このとき、ラッチアップ対策の
ために前記スイッチMOSトランジスタをエンハンスメ
ントNチャンネル型で構成すると、そのゲート電圧を電
源電圧以上に昇圧してオン状態に制御する必要がある。
例えばゲート制御電圧の昇圧にチャージポンプ回路を採
用する場合、それによる昇圧動作は周期信号のサイクル
に従って間欠的であるから、それによってゲート制御電
圧を形成する場合には、前記スイッチMOSトランジス
タは昇圧サイクルだけオン状態にされる。このため、ワ
ードドライバのような回路における負荷の大きな変動に
対してそのその動作電源の電圧が不所望に低下されない
ようにするため、ゲート制御に際しては、前記スイッチ
MOSトランジスタによる電流供給能力を高くする工夫
をしなければならないことを見出した。この点に関して
は、通常モードにおいてワード線選択レベルを形成する
昇圧回路に対しても同様に考慮されるべきである。ま
た、前記スイッチMOSトランジスタをデプレッション
Nチャンネル型で構成する場合には、通常動作において
当該スイッチMOSトランジスタをカットオフするため
の電圧を形成しなければならない。
【0009】本発明の目的は、CMOS型の半導体集積
回路におけるラッチアップ対策等のためにドライバへの
動作電源供給用のMOSトランジスタをNチャンネル型
で構成し、当該MOSトランジスタのゲート制御電圧を
チャージポンプにて動作電源よりも高いレベルに昇圧す
るとき、上記MOSトランジスタのオン動作期間を長く
して前記動作電源の供給を安定化できるように、前記ゲ
ート制御電圧を形成することにある。
【0010】本発明の別の目的は、チャージポンプのよ
うな昇圧回路で形成される昇圧電圧をゲートに受けてス
イッチ制御されるMOSトランジスタからの電圧を動作
電源とする回路に大きな負荷の変動が生じても当該動作
電源の電圧が不所望に低下しない技術を提供することに
ある。
【0011】本発明のその他の目的は、ワードドライバ
のような回路に対するバーンイン用の動作電源を外部か
ら効率的に供給できる技術を提供することにある。
【0012】本発明の前記並びにその他の目的と新規な
特徴は本明細書の記述及び添付図面から明らかになるで
あろう。
【0013】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば下記
の通りである。
【0014】すなわち、ワードドライバ(WD0〜WD
7)のような回路に例えばバーンイン用の動作電源を供
給するために、相互に位相の異なる周期信号(N1〜N
4)に同期して昇圧動作を行う複数個の昇圧回路(3
0)と、バーンインのために供給される電源電圧(VD
D)とワードドライバに共通の動作電源の供給ライン
(WDP)との間に、前記昇圧回路と1対1対応で配置
され、対応される昇圧回路の出力をゲートに受けるNチ
ャンネル型の電源供給用MOSトランジスタ(Q63)
を設けるものである。
【0015】通常モードにおいてワードドライバのよう
なドライバ(WD0〜WD7)に動作電源を供給する構
成を考慮した態様によれば、複数個のドライバに動作電
源を供給する電源供給回路は、前記複数個のドライバに
共通の電源供給ライン(WDP)と、外部電源電圧が所
定値よりも低い状態(通常モード)において内部電圧
(VDL)を昇圧して形成した昇圧電圧(VPP)を前
記電源供給ラインに与える通常モード用の電源供給ユニ
ット(2)と、外部電源電圧(VDD)が所定値よりも
高い状態(バーンインモード)において前記外部電源電
圧を前記電源供給ラインに与えるバーンインモード用の
電源供給ユニット(3)とを供える。当該バーンイン用
の電源供給ユニットが、上記相互に位相の異なった周期
信号によって別々に昇圧動作を行う複数の昇圧回路の昇
圧出力で複数の電源供給用MOSトランジスタ(Q6
3)を相互に異なったタイミングでオン動作させる構成
を有することになる。
【0016】前記通常モード用の電源供給ユニットに関
しても複数の昇圧回路(20)を位相をずらした周期信
号にて昇圧駆動する構成を採用できる。すなわち、発振
回路(22)の発振出力に基づいて形成された位相の異
なる周期信号に同期して昇圧動作を行う複数個の第1の
昇圧回路(20)と、前記第1の昇圧回路と1対1対応
で前記電源供給ライン(WDP)に配置され、対応され
る第1の昇圧回路の出力をゲートに受けるNチャンネル
型の昇圧電圧供給用MOSトランジスタ(Q62)と、
前記第1の昇圧回路と1対1対応で設けられ、対応され
る第1の昇圧回路の昇圧動作に同期して形成した昇圧電
圧を、対応する前記昇圧電圧供給用MOSトランジスタ
のゲートの供給する第2の昇圧回路(21)とを備えて
構成することができる。
【0017】前駆電源供給用MOSトランジスタ(Q6
3)に代えてデプレション型のNチャンネルMOSトラ
ンジスタ(Q65)を採用し、外部電源電圧が所定値よ
りも高い状態(バーンインモード)において電源電圧に
よってデプレション型NチャンネルMOSトランジスタ
をオン状態に制御し、外部電源電圧が所定値よりも低い
状態(通常モード)において負電圧によってデプレショ
ン型NチャンネルMOSトランジスタをオフ状態に制御
することにより、バーンイン用のレベルの高い電源電圧
を効率的にドライバに供給することができる。CMOS
型の半導体集積回路に設けられている基板バイアス電圧
の発生回路で形成される負電圧を流用することができ
る。
【0018】
【作用】CMOS回路におけるラッチアップ対策等のた
めにドライバへの動作電源供給用のMOSトランジスタ
をNチャンネル型で構成し、当該MOSトランジスタの
ゲート制御電圧を動作電源よりも高いレベルに昇圧する
とき、相互に位相の異なる周期信号のサイクルに同期し
て昇圧動作を行う複数の昇圧回路を採用し、これら昇圧
回路の出力をゲート制御電圧として受ける動作電源供給
用のMOSトランジスタを前記昇圧回路と1対1対応さ
せて設けることにより、いつでも何れかの昇圧回路が昇
圧動作を行っているから、電源供給用MOSトランジス
タによる電源供給動作が間断なく行われ、ドライバに大
きな負荷の変動が何時生じても電源供給ラインの電圧が
不所望に低下される事態が防止される。
【0019】上記MOSトランジスタがバーンイン用の
高圧の電源電圧をワードドライバに供給するための構成
に適用される場合には、通常モードと同様の内部昇圧電
圧でワードドライバにバーンイン用の動作電源を与える
場合に問題視されるところの、バーンインのために電源
電圧を通常より高くしてもそれに比例してワード線選択
レベル(ワードドライバの電源電圧)は高くされず、ま
た、通常の電源電圧を越えたバーンイン用の電源電圧に
対して内部昇圧電圧が比較的大きくばらついてそれを外
部で把握することも不可能になるという事態が回避され
る。
【0020】CMOS回路におけるラッチアップ対策等
のためにドライバへのバーンイン用動作電源供給用のM
OSトランジスタをデプレション型Nチャンネルで構成
することにより、当該MOSトランジスタをオン状態さ
せるゲート制御電圧を動作電源よりも高いレベルに昇圧
することを要せずに、動作電源のレベルがそのままドラ
イバに供給可能にされる。当該MOSトランジスタのオ
フ状態は負のゲート制御電圧によって行うが、CMOS
回路に設けられている基板バイアス電圧発生回路で生成
される負電圧を流用することにより、ドライバに対する
バーンイン用動作電源の供給効率向上に際して、回路規
模の増大が抑えられる。
【0021】
【実施例】図5には本発明の一実施例に係るDRAMの
ブロック図が示される。同図に示されるDRAMは、特
に制限されないが、公知のCMOS半導体集積回路の製
造技術によって、単結晶シリコンのような1個の半導体
基板に形成される。図5には代表的に2個のメモリアレ
イMARY0,MARY1が示される。
【0022】本実施例のDRAMは外部電源電圧VDD
と0Vのような接地電位VSSを外部電源端子より受け
て動作される。外部電源電圧VDDが3.3Vのような
電圧にされている場合DRAMは通常モードとされ、外
部電源電圧VDDが5.0Vのような電圧にされている
場合DRAMはバーンインモードとされる。図5におい
て7は電源電圧判別回路であり、電源電圧VDDを検出
して通常モードとバーンインモードを判定し、通常モー
ドにおいてバーンイン信号BIMDをインアクティブレ
ベル(例えばローレベル)とし、バーンインモードにお
いてバーンイン信号BIMDをアクティブレベル(例え
ばハイレベル)にする。
【0023】本実施例のDRAMは記憶容量増大のため
にメモリアレイMARY0,MARY1におけるMOS
トランジスタは小型化され、それによってそれらMOS
トランジスタのゲート長の縮小化に伴ってゲート酸化膜
が薄膜化されている。このため、メモリアレイMARY
0,MARY1における動作電圧は低電圧化され、例え
ば2.2Vのような降圧電圧VDLを基本的な動作電源
として利用する。降圧電圧VDLは外部電源電圧VDD
を降圧する降圧回路1にて生成される。図において5は
基板バイアス電圧VBBの発生回路である。基板バイア
ス電圧発生回路5についても公知の回路によって構成で
き、例えば、図示は省略するが、コンデンサとダイオー
ド素子によって構成され、正極性の周期的な信号を受け
ることによって負極性の基板バイアス電圧VBBを形成
する。図5においてVDDPは電源電圧VDDの外部入
力端子、VSSPは接地電位VSSの外部入力端子であ
る。
【0024】各メモリアレイMARY0,MARY1は
夫々8個のメモリマットMMAT0〜MMAT7に分割
される。個々のメモリマットMMAT0〜MMAT7
は、選択端子がワード線に、データ入出力端子が相補デ
ータ線に結合された1トランジスタ型のダイナミックメ
モリセルを多数含んでいる。各メモリマット毎にワード
ドライバWD0〜WD7と、ロウアドレスデコーダXD
0〜XD7が設けられる。ロウアドレスデコーダXD0
〜XD7は、その動作が選択されると、内部相補ロウア
ドレス信号AXをデコードしてワード線選択信号を形成
し、内部相補ロウアドレス信号AXに応ずる1本のワー
ド線を選択する。ワードドライバWD0〜WD7はワー
ド線選択信号を受け、制御信号φXにて指示されるワー
ド線駆動タイミングに同期して、ワード線選択信号にて
選択されるべきワード線を選択レベルに駆動する。
【0025】ワードドライバWD0〜WD7が出力する
ワード線選択レベル(ワードドライバの動作電源)は、
前記通常モードにおいては降圧電圧VDLを昇圧回路2
0で昇圧した昇圧電圧VPPとされ、バーンインモード
では通常よりも高くされた電源電圧VDDとされる。ワ
ードドライバの動作電源に関しては後で詳述する。
【0026】SA01,SA23,SA45,SA67
はセンスアンプブロック、CSW01,CSW23,C
SW45,CSW67はカラムスイッチ回路ブロックで
あり、左右1対のメモリマットの間に配置され、隣接す
る左右1対のメモリマットが共有する。センスアンプブ
ロックSA01,SA23,SA45,SA67とカラ
ムスイッチ回路ブロックCSW01,CSW23,CS
W45,CSW67を挟んで配置された左右一対のメモ
リマットにはシェアードデータ線構造が採用され、何れ
か一方のメモリマットの動作が選択されるようになって
いる。夫々のセンスアンプブロックの動作制御及びセン
スアンプブロックを共有するメモリマット間におけるデ
ータ線シェアリングスイッチ回路(図6参照)の制御な
どの、メモリマットの動作選択及び動作制御は、対を成
すメモリマット毎に設けられたマットコントローラMC
NT01,MCNT23,MCNT45,MCNT67
が行う。
【0027】マットコントローラMCNT01,MCN
T23,MCNT45,MCNT67にはマット選択信
号MS、センスアンプ制御信号φSAN,φSAP2,
φSAP1Bが供給される。マット選択信号MSは8個
のメモリマットMMAT0〜MMAT7から何れの1個
を選択するかを指示する3ビットの信号とされる。実際
にはロウアドレスバッファRABに保持されたロウアド
レス信号の上位3ビットの情報に対応される。マットコ
ントローラMCNT01,MCNT23,MCNT4
5,MCNT67はマット選択信号MSをデコードし、
それが指定するメモリマットを動作させるように、セン
スアンプブロックの動作制御やロウアドレスデコーダの
活性化制御を行う。例えば、マット選択信号MSがメモ
リマットMMAT0を指定すると、ロウアドレスデコー
ダXD0が活性化されると共に、センスアンプブロック
SA01がデータ線シェアリングスイッチ回路を介して
メモリマットMMAT0に接続され、メモリマットMM
AT0においてメモリセルの選択動作が可能にされる。
センスアンプ制御信号φSAN,φSAP2,φSAP
1Bについてはその詳細を後述する。
【0028】夫々のカラムスイッチ回路ブロックCSW
nは、カラムアドレスデコーダYDからのカラム選択信
号を受け、それによってメモリマットの中から夫々4組
の相補データ線を選択して相補共通データ線CD0〜C
D3に導通させる。カラムアドレスデコーダYDは、読
み出し動作においてはワード線選択動作が確定した後に
イネーブルレベルにされるタイミング信号φYによって
動作可能にされ、それによって内部相補カラムアドレス
信号AYをデコードしてカラム選択信号を生成する。
【0029】前記ワード線選択動作とカラム選択動作に
より、マット選択信号MS、内部相補ロウアドレス信号
AX、及び内部相補カラムアドレス信号AYにて指定さ
れる4個のメモリセルが相補共通データ線CD0〜CD
3に導通される。メモリアレイMARY1側も特に図示
はしないが上記同様に構成され、メモリアレイMARY
1側には相補共通データ線CD4〜CD7が配置され
る。
【0030】前記相補共通データ線CD0〜CD7は、
特に制限されないが、データ入出力回路DIOに結合さ
れる。データ入出力回路DIOには、メインアンプ、書
込みアンプ、及びデータ入出力バッファを含み、タイミ
ング信号φWがイネーブルレベルにされることにより書
込みのためのデータ入力動作を行い、タイミング信号φ
Rがイネーブルレベルにされることにより読み出しのた
めのデータ出力動作を行う。本実施例のダイナミックR
AMは、8ビット単位でデータの書込み及び読み出しが
行われ、メモリアレイMARY0が下位4ビットを担
い、メモリアレイMARY1が上位4ビットを担ってい
る。
【0031】前記ロウアドレスバッファRABは、外部
アドレス入力端子A0〜Aiから入力されるロウアドレ
ス信号をアドレスマルチプレクサAMXを介して取り込
んで保持する。この取り込動作は、タイミング発生回路
TGから供給されるタイミング信号φXLのハイレベル
によって指示される。
【0032】アドレスマルチプレクサAMXは、特に制
限されないが、ダイナミックRAMが通常の動作モード
とされるときにタイミング発生回路TGからディスエー
ブルレベルのタイミング信号φREFが供給されること
によって、外部端子A0〜Aiを介して供給されるロウ
アドレス信号をロウアドレスバッファRABに伝達す
る。また、ダイナミックRAMがCBR(CAS brfore R
AS)リフレッシュサイクルとされるときに上記タイミン
グ信号φREFがイネーブルレベルにされると、リフレ
ッシュアドレスカウンタRFCから供給されるリフレッ
シュアドレス信号を選択し、これをロウアドレスバッフ
ァRABに伝達する。
【0033】リフレッシュアドレスカウンタRFCは、
特に制限されないが、ダイナミックRAMがCBRリフ
レッシュモードとされるとき、タイミング発生回路TG
から所定サイクル毎に供給されるタイミング信号φRC
に同期して計数動作を行ってリフレッシュアドレスを生
成する。
【0034】前記カラムアドレスバッファCABは、前
記外部アドレス入力端子A0〜Aiを介して供給される
カラムアドレス信号を、タイミング発生回路TGから供
給される制御信号φYLがイネーブルにされるタイミン
グに同期して取り込んで保持する。
【0035】前記タイミング発生回路TGは、外部から
のアクセス制御信号として、ロウアドレスストローブ信
号RAS*(記号*はこれが付された信号がローイネー
ブルの信号であることを意味する)、カラムアドレスス
トローブCAS*、ライトイネーブル信号WE*、及び
出力イネーブル信号OE*が供給され、これらのレベル
並びに変化タイミングに基づいて、ダイナミックRAM
の動作モードを判定すると共に、上記各種のタイミング
信号を形成し、ダイナミックRAMの内部動作を制御す
る。ロウアドレスストローブ信号RAS*はそのローレ
ベルによってチップ選択を指示し、且つロウアドレス信
号が有効であることを通知する。これに従ってタイミン
グコントローラTGは、ロウアドレス信号の取り込み、
そしてワード線選択動作やメモリマット選択のための前
記制御信号を順次生成する。カラムアドレスストローブ
CAS*はカラムアドレス信号が有効であることを通知
する信号とされる。それがイネーブルレベルにされる
と、タイミングコントローラTGはカラムアドレス信号
の取り込みそしてカラム選択動作のための前記制御信号
を順次生成する。ライトイネーブル信号WE*はそのイ
ネーブルレベルによってDRAMに書込み動作を指示
し、出力イネーブル信号OE*はそのイネーブルレベル
によってDRAMに読み出し動作を指示する。CBRリ
フレッシュモードはロウアドレスストローブ信号RAS
*がイネーブルにされる前にカラムアドレスストローブ
CAS*がイネーブルレベルにされることによって指定
される。
【0036】図6には前記メモリマットMMAT0,M
MAT1、センスアンプブロックSA01、及びカラム
スイッチ回路ブロックCSW01の部分的な回路図が示
される。特に同図には、一つのカラム選択信号YS00
を受ける回路部分が代表的に示されている。尚、本明細
書においてチャンネル(バックゲート)部に矢印が付さ
れているMOSトランジスタはPチャンネル型であっ
て、矢印の付されていないNチャンネル型のMOSトラ
ンジスタと区別されている。
【0037】図6において代表的に示されたWL0〜W
Liはワード線であり、DL0,DL0B及びDL1,
DL1Bは相補データ線であり、MCはダイナミックメ
モリセルである。前記ダイナミックメモリセルMCは、
データ線に接続された選択MOSトランジスタQ1と蓄
積容量SCとの直列回路がプレート電位PL(VDL/
2)に接続されて成る。Q27〜Q34はデータ線シェ
アリングスイッチ回路を構成する一部のシェアリングス
イッチMOSトランジスタである。メモリマットMMA
T0との間に配置された代表的に示されたシェアリング
スイッチMOSトランジスタQ27〜Q30は制御信号
φSHRLにてスイッチ制御され、メモリマットMMA
T1との間に配置された代表的に示されたシェアリング
スイッチMOSトランジスタQ31〜Q34は制御信号
φSHRRにてスイッチ制御される。例えばマット選択
信号MSがメモリマットMMAT0を選択するとき、前
記マットコントローラMCNT01が制御信号φSHR
Lをハイレベルに制御する。マット選択信号MSがメモ
リマットMMAT1を選択するときは、前記マットコン
トローラMCNT01が制御信号φSHRRをハイレベ
ルに制御する。マット選択信号MSにて選択されないメ
モリマットに関するシェアリングスイッチMOSトラン
ジスタは当該メモリマットに対応されるマットコントロ
ーラにてオフ状態に制御される。
【0038】Nチャンネル型MOSトランジスタQ9,
Q10とPチャンネル型MOSトランジスタQ13,Q
14とによって構成されるスタティックラッチ形態の差
動増幅回路は一つのセンスアンプ6であり、センスアン
プ6は相補データ線毎に設けられている。センスアンプ
6の動作電源はドライブラインSDN,SDPを介して
供給される。ドライブラインSDN,SDPは各センス
アンプ6に共通とされる。ドライブラインSDN,SD
Pへの動作電源の供給制御については後述する。また、
夫々の相補データ線には上記センスアンプ6の他に、ダ
イナミックRAMが待機時に、相補データ線をイコライ
ズするMOSトランジスタQ21を備える。MOSトラ
ンジスタQ21は、制御信号φPCSBによってスイッ
チ制御される。さらに、相補データ線のイコライズと共
に相補データ線にプリチャージ電位を供給するためのM
OSトランジスタQ17,Q18が設けられている。プ
リチャージ電位は降圧電圧VDLの半分のレベルとさ
れ、配線HVCを介して供給される。MOSトランジス
タQ17,Q18は制御信号φPCBによってスイッチ
制御される。前記制御信号φPCB,φPCSBはタイ
ミングコントローラTGから出力される。プリチャージ
電圧VDL/2はプリチャージ電圧形成回路4にて形成
され、例えば降圧電圧VDLを受ける抵抗分圧回路等に
よって構成される。
【0039】図6においてQ23,Q24は相補データ
線DL0,DL0Bと相補共通データ線CD0(cd
0,cd0B)との間に設けられたカラムスイッチであ
り、Q25,Q26は相補データ線DL1,DL1Bと
相補共通データ線CD1(cd1,cd1B)との間に
設けられたカラムスイッチである。同様のカラムスイッ
チは各相補データ線に設けられ、4対の相補データ線を
一組として4対の相補共通データ線CD0(cd0,c
d0B),CD1(cd1,cd1B),CD2(cd
2,cd2B),CD3(cd3,cd3B)に共通接
続される。
【0040】図7はセンスアンプ6のドライブラインS
DN,SDPに動作電源を供給する回路構成が示され
る。
【0041】本実施例のDRAMは、前述のように、
3.3Vのような外部電源電圧VDDを外部電源端子よ
り受けるが、記憶容量増大のためにメモリアレイMAR
Y0,MARY1におけるMOSトランジスタは小型化
され、それによってそれらMOSトランジスタのゲート
長の縮小化に伴ってゲート酸化膜が薄膜化されているの
で、メモリアレイMARY0,MARY1における動作
電圧は低電圧化され、例えば2.2Vのような降圧電圧
VDLを基本的な動作電源とする。このとき、ドライブ
ラインSDPに降圧電圧VDLだけを供給したのでは、
センスアンプ6の動作速度が遅くなってしまうので、ド
ライブラインSDPにはセンスアンプ活性化タイミング
の最初に外部電源電圧VDDを与え、次いで降圧電圧V
DLを与えてセンスアンプを動作させるという、センス
アンプのオーバドライブ技術が適用されている。
【0042】ドライブラインSDNはNチャンネル型M
OSトランジスタQ9とQ10の共通ドレインに結合さ
れ、ドライブラインSDPはPチャンネル型MOSトラ
ンジスタQ13とQ14の共通ドレインに結合される。
同図には代表的に1列分のセンスアンプ6が示されてい
るが、図に代表的に示されているドライブラインSD
N,SDPは本実施例のDRAMに含まれる全てのセン
スアンプ6のためのドライブラインSDN,SDPを総
称している。ドライブラインSDNには、制御信号φS
ANにてスイッチ制御されるNチャンネル型MOSトラ
ンジスタQ40を介して接地電位VSSが供給される。
ドライブラインSDPには、制御信号φSAP1Bにて
スイッチ制御されるPチャンネル型MOSトランジスタ
Q41を介して外部電源電圧VDDが供給され、また、
制御信号φSAP2にてスイッチ制御されるNチャンネ
ル型MOSトランジスタQ42を介して降圧電圧VDL
が供給される。制御信号φSAN,φSAP1B,φS
AP2は前記タイミングコントローラTGから出力され
る。
【0043】センスアンプ6の活性化期間において、先
ず、制御信号φSAP1Bがローレベル(接地電位VS
Sのレベル)に変化されてMOSトランジスタQ41を
介してドライブラインSDPに電源電圧VDDが供給さ
れる。これにより、センスアンプ6のPチャンネル型M
OSトランジスタQ13,Q14に供給される電流は比
較的大きいため、メモリセルの選択動作によって相補デ
ータ線DL0,DL0Bに現れる微少電位差は速やかに
増幅される。次いで、制御信号φSAP1Bがハイレベ
ル(電源電圧VDDのレベル)に反転されると共に制御
信号φSAP2がハイレベル(昇圧電圧VPPのレベ
ル)にされることにより、MOSトランジスタQ42を
介してドライブラインSDPに降圧電圧VDLが供給さ
れる。制御信号φSANは制御信号φSAEBのローレ
ベル期間に同期してハイレベルにされる。これにより、
センスアンプ6によって駆動される相補データ線の到達
レベルは、一方が接地電位VSS、他方が降圧電圧VD
Lに規定される。これにより、動作電圧が低電圧化され
た状況においてもセンスアンプ6を高速動作させること
ができる。
【0044】前記降圧電圧VDLを形成する降圧回路1
は、図7に例示されるように、外部電源電圧VDDに結
合されるPチャンネル型のMOSトランジスタQ50と
接地電位VSSに結合される高抵抗R1との直列接続点
を出力端子Noutとして備え、当該出力端子Nout
が反転入力端子(−)に帰還され、非反転入力端子
(+)に基準電圧VLRが供給されて、前記MOSトラ
ンジスタQ50をスイッチ制御するオペアンプAMP1
を備えて構成される。前記オペアンプAMP1は、出力
端子Noutの電位が基準電位VLRよりも低くされる
とMOSトランジスタQ50のコンダクタンスを大きく
(オン抵抗を小さく)し、出力端子Noutの電位が基
準電位VLRよりも高くされるとMOSトランジスタQ
50のコンダクタンスを小さく(オン抵抗を大きく)し
て、出力端子Noutの電圧を基準電圧VLRに保つよ
うに負帰還制御を行う。このようにして出力端子Nou
tに形成された電圧が降圧電圧VDLとされる。特にM
OSトランジスタQ50と抵抗R1と直列回路に流れる
貫通電流を最小限に抑えるために抵抗R1の値は非常に
大きな値にされている。前記負帰還制御において、高抵
抗R1を介して出力端子Noutに流れる電流は実質的
に無視し得る程少なくされている。
【0045】基準電圧VLRは基準電圧発生回路8によ
って形成される制御電圧であり、例えば2.2Vとされ
る。降圧電圧VDLは安定であることが必要であるか
ら、基準電圧発生回路8は、MOSトランジスタのしき
い値電圧を利用して、少なくとも通常の電源電圧の許容
範囲内における電源電圧の変動に対して依存性のない基
準電圧を発生する。このような基準電圧発生回路は公知
であるので図示を省略する。
【0046】図3にはワードドライバWD0〜WD7の
動作電源を生成する一実施例回路が示される。WDNは
ワードドライバWD0〜WD7に接地電位VSSを供給
する電源供給ライン、WDPはワードドライバWD0〜
WD7に高電位側動作電源をを供給する電源供給ライン
である。2はワードドライバWD0〜WD7に対する通
常モード用の電源供給ユニット、3はバーンインモード
用の電源供給ユニットであり、ワードドライバWD0〜
WD7の高電位側動作電源を生成する。
【0047】前記電源供給ユニット2は、降圧電圧VD
Lを昇圧して昇圧電圧VPPを形成する昇圧回路20、
夫々の昇圧回路20の出力と電源供給ラインWDPとの
間に配置されたNチャンネル型のMOSトランジスタQ
62、降圧電圧VDLを昇圧して前記MOSトランジス
タQ62のゲート制御電圧VPG1を生成する昇圧回路
21、及び昇圧回路20,21に周期的に変化される信
号を与える発振回路22を備える。昇圧回路20,21
及びMOSトランジスタQ62は対を成して複数組(図
には代表的に2組)設けられている。昇圧回路20,2
1はバーンイン信号BIMDにて通常モードが指定され
たとき昇圧動作可能にされる。前記昇圧電圧VPPが例
えば4.0Vとされるとき、ゲート制御電圧VPG1
は、昇圧電圧VPPに対してMOSトランジスタQ62
のしきい値電圧以上レベルの高い電圧とされる。昇圧回
路20,21は、一方の電極に周期的に変化される信号
を受けることによって他方の電極に間欠的に昇圧電圧を
生成するチャージポンプ回路によって構成され、双方の
昇圧回路20,21の昇圧期間は同期化され、電源供給
ラインWDPに一旦供給された昇圧電圧VPPが昇圧回
路20の非昇圧期間に逆流しないようにされている。
【0048】前記電源供給ユニット3は、外部電源電圧
VDDと電源供給ラインWDPとの間に配置されたNチ
ャンネル型MOSトランジスタQ63、電源電圧VDD
を昇圧してゲート制御電圧VPG2を形成する昇圧回路
30、及び昇圧回路30に周期的な信号を与える発振回
路32を備える。昇圧回路30及びMOSトランジスタ
Q63は対を成して複数組(図には代表的に2組)設け
られている。昇圧回路30はバーンイン信号BIMDに
てバーンインモードが指定されたとき昇圧動作可能にさ
れる。バーンインモードにおいて電源電圧VDDが例え
ば5.0Vとされるとき、ゲート制御電圧VPG2は、
電源電圧VDDに対してMOSトランジスタQ63のし
きい値電圧以上レベルの高い電圧とされる。昇圧回路3
0は、一方の電極に周期的に変化される信号を受けるこ
とによって他方の電極に間欠的に昇圧電圧を生成するチ
ャージポンプ回路によって構成される。
【0049】図1にはバーンインモード用の電源供給ユ
ニット3の詳細な一例が示される。図1において昇圧回
路30は、2入力ナンドゲート300、偶数個のCMO
Sインバータ301〜304、及びポンピング用の容量
素子305の直列回路を備え、前記容量素子305の他
方の電極はMOSトランジスタQ63のゲートに接続さ
れ、またMOSトランジスタQ63のゲートと電源電圧
VDDとの間にはNチャンネル型MOSトランジスタQ
64が配置されている。前記ナンドゲート300の一方
の入力にはバーンイン信号BIMDが供給され、またM
OSトランジスタQ64のゲートにはCMOSインバー
タ306を介してバーンイン信号BIMDの反転信号が
供給される。図1に代表的に示された4個の昇圧回路3
0のナンドゲート300の他方の入力には相互に位相の
ずれた周期信号N1〜N4が別々に供給される。
【0050】電源電圧VDDが通常の電源電圧例えば
3.3Vにされた通常モードにおいて、バーンイン信号
BIMDはローレベルにされる。これにより、電源供給
ラインWDPには通常モード用の電源供給ユニット2か
ら4.0Vのような昇圧電圧VPPが供給されている。
各昇圧回路30はMOSトランジスタQ63のゲート電
位を、電源電圧VDDに対してMOSトランジスタQ6
4のしきい値電圧だけ低いレベル(例えば2.2V)に
固定する。MOSトランジスタQ63とQ64のしきい
値電圧は同等とされる。したがって通常モードにおいて
MOSトランジスタQ63はカットオフ状態にされる。
【0051】電源電圧VDDが通常の電源電圧よりもレ
ベルの高い例えば5.0Vにされたバーンインモードに
おいて、バーンイン信号BIMDはハイレベルにされ
る。バーンインモードにおいて通常モード用の電源供給
ユニット2はMOSトランジスタQ62をカットオフ状
態に制御する。バーンイン信号BIMDがハイレベルに
されると、昇圧回路30において、MOSトランジスタ
Q64がオフ状態にされ、またナンドゲート300を介
して容量素子305の一方の電極に周期的に変化される
信号を受けることによって、容量素子305の他方の電
極に間欠的に昇圧電圧が生成される。間欠的な昇圧期間
(インバータ304のハイレベル出力期間)においてM
OSトランジスタQ63のゲート制御電圧VPG2は電
源電圧に対してMOSトランジスタQ63のしきい値電
圧以上のレベルにされ、電源電圧VDDを電源供給ライ
ンWDPに供給する。
【0052】ここで、前記周期信号N1〜N4の位相は
相互にずらされているので、4個の昇圧回路30が同時
に非昇圧期間とされることはなく、いつでも何れかの昇
圧回路30が昇圧動作を行っているから、ワードドライ
バWD0〜WD7に大きな負荷の変動が何時生じても電
源供給ラインの電圧が不所望に低下される事態が防止さ
れる。仮に、前記周期信号N1〜N4の位相が相互に同
じであれば、4個の昇圧回路30が同時に非昇圧期間と
されるタイミングが存在することになり、ワードドライ
バWD0〜WD7に急激な負荷の変動が生ずると、電源
供給ラインWDPの電圧が不所望に低下されることにな
る。
【0053】図1において307は、インバータ301
の出力と接地電位VSSとの間に配置された遅延容量素
子である。容量素子307はインバータ301の出力の
立ち上がり変化速度を遅延させ、インバータ304のハ
イレベル出力期間を相対的に長くして、昇圧回路30に
おける昇圧動作期間を長くさせるように作用する。
【0054】図2にはバーンインモード用の電源供給ユ
ニット3の別の詳細な回路例が示される。図2において
昇圧回路30は2個設けられ、周期信号N1,N2は相
互に位相反転された信号とされる。個々の昇圧回路30
は図1と同じである。この例においても、いつでも何れ
かの昇圧回路30が昇圧動作を行っているから、ワード
ドライバWD0〜WD7に大きな負荷の変動が何時生じ
ても電源供給ラインWDPの電圧が不所望に低下される
事態が防止される。
【0055】特に図示はしないが、通常モード用の電源
供給ユニット2においても昇圧回路20,21を図1と
同様の論理構成にて形成することができる。そして同様
に、複数個の昇圧回路20に供給すべき周期信号の位相
をずらし、複数個の昇圧回路21に対してもそれと同様
に位相をずらした周期信号を与えることにより、通常動
作においてワードドライバWD0〜WD7に大きな負荷
の変動が何時生じても電源供給ラインWDPの電圧が不
所望に低下される事態を防止することができる。
【0056】図4にはバーンインモード用電源供給ユニ
ット3の別の例が示される。この例においては、上記M
OSトランジスタQ63に代えて、デプレション型のN
チャンネルMOSトランジスタQ65を採用し、バーン
インモードでは電源電圧VDDによってそのMOSトラ
ンジスタQ65をオン状態に制御し、通常モードでは基
板バイアス電圧VBBによってそのMOSトランジスタ
Q65をオフ状態に制御するものである。
【0057】図4において9は、前記MOSトランジス
タQ65をスイッチ制御する信号振幅を、基板バイアス
電圧VBBと電源電圧VDDとの範囲とするためのレベ
ル変換回路である。このレベル変換回路7は、前記バー
ンイン信号BIMDを入力し、入力信号の信号振幅を拡
大して出力に伝達する回路であり、Pチャンネル型MO
SトランジスタQ70とNチャネル型MOSトランジス
タQ71,Q72との直列回路と、Pチャンネル型MO
SトランジスタQ73とNチャネル型MOSトランジス
タQ74,Q75との直列回路とが、電源電圧VDDと
基板バイアス電圧VBBとの間に並列配置されている。
MOSトランジスタQ70,Q71のゲートにはバーン
イン信号BIMDが供給され、MOSトランジスタQ7
3,Q74のゲートにはバーンイン信号BIMDがCM
OSインバータ10で反転されて供給される。MOSト
ランジスタQ70とQ71の結合点はMOSトランジス
タQ75のゲートに、MOSトランジスタQ73とQ7
4の結合点はMOSトランジスタQ72のゲートに結合
される。バーンイン信号BIMDの信号振幅は接地電位
VSSと電源電圧VDDとの電位差とされ、バーンイン
信号BIMDが接地電位のレベル(通常モード)にされ
ているときは、MOSトランジスタQ70のオン状態、
MOSトランジスタ73のオフ状態、MOSトランジス
タQ74,Q75のオン状態によって、MOSトランジ
スタQ65のゲートは基板バイアス電圧VBBのレベル
にされる。バーンイン信号BIMDが接地電位VSSの
レベル(バーンインモード)にされると、MOSトラン
ジスタQ70のオフ状態、MOSトランジスタ71のオ
ン状態、MOSトランジスタQ73,Q72のオン状
態、MOSトランジスタQ75のオフ状態によって、M
OSトランジスタQ65のゲートは電源電圧VDDのレ
ベルにされる。
【0058】図4の構成により、バーンインモードにお
いて電源供給ラインWDPにはバーンイン用の電源電圧
VDDを定常的に且つ昇圧回路を用いることなく供給す
ることができる。MOSトランジスタQ65をオフ状態
に制御する負電圧として基板バイアス電圧発生回路5の
出力電圧VBBを利用することにより、回路規模の増大
を極力押えることができる。
【0059】上記実施例によれば以下の作用効果を得
る。〔1〕CMOS回路におけるラッチアップ対策等の
ためにワードドライバWD0〜WD7への動作電源供給
用のMOSトランジスタQ63(Q62)をNチャンネ
ル型で構成し、当該MOSトランジスタのゲート制御電
圧を動作電源よりも高いレベルに昇圧するとき、相互に
位相の異なる周期信号N1〜N4のサイクルに同期して
昇圧動作を行う複数の昇圧回路30(21)を採用し、
これら昇圧回路30(21)の出力をゲート制御電圧と
して受ける動作電源供給用のMOSトランジスタQ63
(Q62)を前記昇圧回路30(21)と1対1対応さ
せて設けることにより、いつでも何れかの昇圧回路30
(21)が昇圧動作を行っているから、MOSトランジ
スタQ63(Q62)による動作電源供給動作が間断な
く行われ、ワードドライバWD0〜WD7に大きな負荷
の変動が何時生じても電源供給ラインWDPの電圧が不
所望に低下される事態を防止することができる。
【0060】〔2〕上記により、外部電源電圧VDD
を,ワードドライバWD0〜WD7に対するバーンイン
用の動作電源として効率的に供給できる。
【0061】〔3〕上記により、通常モードと同様の内
部昇圧電圧でワードドライバにバーンイン用の動作電源
を与える場合に問題視されるところの、バーンインのた
めに電源電圧を通常より高くしてもそれに比例してワー
ド線選択レベルは高くされず、また、通常の電源電圧を
越えたバーンイン用の電源電圧に対して内部昇圧電圧が
比較的大きくばらついてそれを外部で把握することも不
可能になるという事態を回避することができる。したが
って、バーンインの信頼性低下、さらには被テストデバ
イスを無駄に破壊する虞を未然に防止することができ
る。
【0062】〔3〕CMOS回路におけるラッチアップ
対策等のためにドライバへのバーンイン用動作電源供給
用のMOSトランジスタQ65をデプレション型Nチャ
ンネルで構成することにより、当該MOSトランジスタ
Q65をオン状態させるゲート制御電圧を動作電源より
も高いレベルに昇圧することを要せずに、バーンイン用
の高圧の電源電圧VDDのレベルをそのままワードドラ
イバWD0〜WD7に供給することができる。当該MO
SトランジスタQ65のオフ状態は負のゲート制御電圧
によって行うが、CMOS回路に設けられている基板バ
イアス電圧発生回路5で生成される負電圧VBBを流用
することにより、ワードドライバに対するバーンイン用
動作電源の供給効率向上に際して、回路規模の増大を抑
えることができる。
【0063】以上本発明者によってなされた発明を実施
例に基づいて具体的に説明したが、本発明はそれに限定
されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲におい
て種々変更可能であることは言うまでもない。例えば、
MOSトランジスタQ64のドレインを電源電圧に代え
て降圧電圧に接続してもよい。また、インバータ304
の動作電源を降圧電圧VDLと接地電位VSSにしても
よい。また、上記実施例ではセンスアンプをオーバドラ
イブする場合について説明したが、センスアンプに対す
る駆動形式はオーバドライブに限定されない。また、D
RAMのメモリマット構成、マット選択の論理構成、デ
ータの並列入出力ビット数等は上記実施例に限定されず
適宜変更可能である。また、昇圧回路の論理構成は図1
の昇圧回路に限定されず適宜変更可能である。
【0064】以上の説明では主として本発明者によって
なされた発明をその背景となった利用分野であるDRA
Mに適用した場合について説明したが、本発明はそれに
限定されるものではなく、周期信号に同期動作されるシ
ンクロナスDRAM、擬似スタティックRAM、さらに
はマイクロコンピュータ等のデータ処理LSI、その他
半導体集積回路に広く適用することができる。
【0065】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば下記
の通りである。
【0066】CMOS回路におけるラッチアップ対策等
のためにドライバへの動作電源供給用のMOSトランジ
スタをNチャンネル型で構成し、当該MOSトランジス
タのゲート制御電圧を動作電源よりも高いレベルに昇圧
するとき、相互に位相の異なる周期信号のサイクルに同
期して昇圧動作を行う複数の昇圧回路を採用し、これら
昇圧回路の出力をゲート制御電圧として受ける動作電源
供給用のMOSトランジスタを前記昇圧回路と1対1対
応させて設けることにより、いつでも何れかの昇圧回路
が昇圧動作を行っているから、ドライバに大きな負荷の
変動が何時生じても、電源供給ラインの電圧が不所望に
低下される事態を防止することができる。すなわち、C
MOS型の半導体集積回路におけるラッチアップ対策等
のためにドライバへの動作電源供給用のMOSトランジ
スタをNチャンネル型で構成し、当該MOSトランジス
タのゲート制御電圧をチャージポンプにて動作電源より
も高いレベルに昇圧するとき、上記MOSトランジスタ
のオン動作期間を長くして前記動作電源の供給を安定化
できるように、前記ゲート制御電圧を形成することがで
きる。
【0067】上記により、ワードドライバのような回路
に対するバーンイン用の動作電源を外部から効率的に供
給できる。
【0068】上記MOSトランジスタがバーンイン用の
高圧の電源電圧をワードドライバに供給するための構成
に適用される場合には、通常モードと同様の内部昇圧電
圧でワードドライバにバーンイン用の動作電源を与える
場合に問題視されるところの、バーンインのために電源
電圧を通常より高くしてもそれに比例してワード線選択
レベルは高くされず、また、通常の電源電圧を越えたバ
ーンイン用の電源電圧に対して内部昇圧電圧が比較的大
きくばらついてそれを外部で把握することも不可能にな
り、バーンインの信頼性低下、さらには被テストデバイ
スを無駄に破壊する虞のあるとういことを防止できる。
【0069】CMOS回路におけるラッチアップ対策等
のためにドライバへのバーンイン用動作電源供給用のM
OSトランジスタをデプレション型Nチャンネルで構成
することにより、当該MOSトランジスタをオン状態さ
せるゲート制御電圧を動作電源よりも高いレベルに昇圧
することを要せずに、動作電源のレベルがそのままドラ
イバに供給可能にされる。当該MOSトランジスタのオ
フ状態は負のゲート制御電圧によって行うが、CMOS
回路に設けられている基板バイアス電圧発生回路で生成
される負電圧を流用することにより、回路規模の増大を
抑えて、ドライバに対するバーンイン用動作電源の供給
効率を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】バーンインモード用の電源供給ユニットの一実
施例説明図である。
【図2】バーンインモード用の電源供給ユニットの別の
実施例説明図である。
【図3】ワードドライバの動作電源を生成する全体的な
一実施例回路図である。
【図4】バーンインモード用電源供給ユニットの更に別
の実施例回路図である。
【図5】本発明の一実施例に係るDRAMの全体的なブ
ロック図である。
【図6】本実施例DRAMのメモリマット、センスアン
プブロック、及びカラムスイッチ回路ブロックの部分的
な回路図である。
【図7】センスアンプのドライブラインSDN,SDP
に動作電源を供給する回路の一例説明図である。
【符号の説明】
MARY0,MARY1 メモリアレイ MMAT0〜MMAT7 メモリマット SA01,SA23,SA45,SA67 センスアン
プブロック WD0〜WD7 ワードドライバ XD0〜XD7 ロウアドレスデコーダ YD カラムアドレスデコーダ TG タイミングコントローラ DL0,DL0B、DL1,DL1B 相補データ線 WLi、WL(i−1) ワード線 MC ダイナミックメモリセル VDL 降圧電圧 VDD 外部電源電圧 VSS 接地電圧 VPP 昇圧電圧 VBB 基板バイアス電圧 1 降圧回路 2 ワードドライバに対する通常モード用電源供給ユニ
ット 20 昇圧回路 Q62 MOSトランジスタ VPG1 Q62のゲート制御電圧 21 昇圧回路 22 発振回路 3 ワードドライバに対するバーンインモード用電源供
給ユニット Q63 MOSトランジスタ VPG2 Q63のゲート制御電圧 30 昇圧回路 32 発振回路 Q64 MOSトランジスタ 305 ポンピング容量素子 N1〜N4 周期信号 6 センスアンプ Q65 デプレション型のNチャンネルMOSトランジ
スタ 5 基板バイアス電圧発生回路
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 鈴木 幸英 東京都青梅市今井2326番地 株式会社日立 製作所デバイス開発センタ内 (72)発明者 佐伯 亮 東京都青梅市今井2326番地 株式会社日立 製作所デバイス開発センタ内 (72)発明者 助川 俊一 茨城県稲敷郡美浦村木原2350 日本テキサ ス・インスツルメンツ株式会社内

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数個のドライバに動作電源を供給する
    電源供給ユニットを備えたCMOS型の半導体集積回路
    であって、 前記電源供給ユニットは、発振回路と、前記発振回路の
    発振出力に基づいて形成された周期信号に同期して昇圧
    動作を行う昇圧回路と、前記ドライバに共通の動作電源
    の供給ラインに、前記昇圧回路と対応して配置され、対
    応される昇圧回路の出力をゲートに受ける電源供給用の
    Nチャンネル型MOSトランジスタとを備えて成るもの
    であることを特徴とする半導体集積回路。
  2. 【請求項2】 制御信号の論理値に従って駆動信号を出
    力する複数個のドライバに動作電源を供給する電源供給
    回路を備え、 前記電源供給回路は、前記複数個のドライバに共通の電
    源供給ラインと、外部電源電圧が所定値よりも低い状態
    において内部電圧を昇圧して形成した昇圧電圧を前記電
    源供給ラインに与える通常モード用の電源供給ユニット
    と、外部電源電圧が所定値よりも高い状態において前記
    外部電源電圧を前記電源供給ラインに与えるバーンイン
    モード用の電源供給ユニットとを供え、 前記バーンインモード用の電源供給ユニットは、発振回
    路と、発振回路の出力に基づいて形成された位相の異な
    る周期信号に同期して昇圧動作を行う複数個の昇圧回路
    と、前記外部電源電圧と電源供給ラインとの間に、前記
    昇圧回路と1対1対応で配置され、対応される昇圧回路
    の出力をゲートに受けるNチャンネル型の電源供給用M
    OSトランジスタとを備えて成るものであることを特徴
    とする半導体集積回路。
  3. 【請求項3】 前記昇圧回路は、外部電源電圧が所定値
    よりも低い状態においてオフ状態にされ、前記外部電源
    電圧が所定値よりも高い状態においてオン状態にされ
    る、前記外部電源電圧又は降圧電圧と前記電源供給用M
    OSトランジスタのゲートとの間に配置されたNチャン
    ネル型MOSトランジスタと、前記電源供給用MOSト
    ランジスタのゲートに一方の電極が結合された容量素子
    と、外部電源電圧が所定値よりも高い状態において前記
    発振回路の出力に同期して変化される周期信号を前記容
    量素子の他方の電極に向けて出力し、外部電源電圧が所
    定値よりも低い状態において一定の電圧信号を前記容量
    素子の他方の電極に向けて出力する制御ゲートとを備え
    て成るものであることを特徴とする請求項2記載の半導
    体集積回路。
  4. 【請求項4】 前記通常モード用の電源供給ユニット
    は、発振回路と、前記発振回路の発振出力に基づいて形
    成された位相の異なる周期信号に同期して昇圧動作を行
    う複数個の第1の昇圧回路と、前記第1の昇圧回路と1
    対1対応で前記電源供給ラインに配置され、対応される
    第1の昇圧回路の出力をゲートに受けるNチャンネル型
    の昇圧電圧供給用MOSトランジスタと、前記第1の昇
    圧回路と1対1対応で設けられ、対応される第1の昇圧
    回路の昇圧動作に同期して形成した昇圧電圧を、対応す
    る前記昇圧電圧供給用MOSトランジスタのゲートに供
    給する第2の昇圧回路とを備えて成るものであることを
    特徴とする請求項2記載の半導体集積回路。
  5. 【請求項5】 制御信号の論理値に従って駆動信号を出
    力する複数個のドライバに動作電源を供給する電源供給
    回路を備え、 前記電源供給回路は、前記複数個のドライバに共通の電
    源供給ラインと、外部電源電圧が所定値よりも低い状態
    において内部電圧を昇圧して形成した昇圧電圧を前記電
    源供給ラインに与える通常モード用の電源供給ユニット
    と、外部電源電圧が所定値よりも高い状態において前記
    外部電源電圧を前記電源供給ラインに与えるバーンイン
    モード用の電源供給ユニットとを供え、 前記バーンインモード用の電源供給ユニットは、外部電
    源電圧が所定値よりも高い状態において電源電圧によっ
    てオン状態にされ、外部電源電圧が所定値よりも低い状
    態において負電圧によってオフ状態にされるデプレショ
    ン型のMOSトランジスタを前記外部電源電圧と電源供
    給ラインとの間に備えて成るものであることを特徴とす
    る半導体集積回路。
  6. 【請求項6】 基板バイアス電圧の発生回路を供え、前
    記負電圧は前記基板バイアス電圧であることを特徴とす
    る請求項5記載の半導体集積回路。
  7. 【請求項7】 前記ドライバは、メモリセルの選択端子
    が結合されたワード線を選択レベルに駆動するためのワ
    ードドライバであることを特徴とする請求項2乃至6の
    何れか1項記載の半導体集積回路。
  8. 【請求項8】 外部から供給される電源電圧を降圧して
    内部電圧としての降圧電圧を形成する降圧回路と、選択
    端子がワード線に結合された複数個のメモリセルと、前
    記メモリセルのデータ入出力端子に接続される相補信号
    線と、相補信号線の電位差を増幅する差動増幅回路と、
    前記差動増幅回路の高電位側のドライブラインに前記電
    源電圧を供給する第1のスイッチングMOSトランジス
    タと、前記ドライブラインに前記降圧電圧を供給する第
    2のスイッチングMOSトランジスタと、前記差動増幅
    回路の活性化期間において最初前記第1のスイッチング
    MOSトランジスタを介して電源電圧をドライブライン
    に供給させ、次いで第2のスイッチングMOSトランジ
    スタを介して降圧電圧をドライブラインに供給させるス
    イッチング制御信号の発生手段とを供えて成るものであ
    ることを特徴とする請求項7記載の半導体集積回路。
JP7233393A 1995-08-18 1995-08-18 半導体集積回路 Withdrawn JPH0963272A (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6724679B2 (en) 2001-10-26 2004-04-20 Renesas Technology Corp. Semiconductor memory device allowing high density structure or high performance

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