JPH0964267A - Lead frame - Google Patents
Lead frameInfo
- Publication number
- JPH0964267A JPH0964267A JP7221889A JP22188995A JPH0964267A JP H0964267 A JPH0964267 A JP H0964267A JP 7221889 A JP7221889 A JP 7221889A JP 22188995 A JP22188995 A JP 22188995A JP H0964267 A JPH0964267 A JP H0964267A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lead frame
- bonding
- wire
- lead
- insulator
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W90/00—Package configurations
- H10W90/701—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts
- H10W90/751—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires
- H10W90/756—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires between a chip and a stacked lead frame, conducting package substrate or heat sink
Landscapes
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】半導体装置用リードフレームにおいて、インナ
リードの変形を防止するとともにボンディングワイヤ長
を短くしボンディング性の向上及び樹脂封止後のワイヤ
変形を防ぎショートの不良率を低減して安定した組立て
を実施する。
【解決手段】本発明のリードフレーム1は、インナリー
ド4の先端部で、かつボンディング面とは反対側の面に
インナリード4を固定する絶縁物2を設けている。これ
により、インナリード4の変形を防ぎ、インナリード4
先端にボンディングが可能になるのでボンディングワイ
ヤ6を短くすることができる。よって、ボンディング工
程における長いボンディングワイヤ6のための変形や樹
脂封止後の樹脂変動によるボンディングワイヤ6同志の
ショートといった不具合を改善することができる。
(57) Abstract: In a lead frame for a semiconductor device, the inner lead is prevented from being deformed, the bonding wire length is shortened to improve the bonding property, and the wire deformation after resin sealing is prevented to reduce the defective rate of short circuit. And perform stable assembly. A lead frame (1) of the present invention is provided with an insulator (2) for fixing an inner lead (4) on a tip end portion of an inner lead (4) and a surface opposite to a bonding surface. This prevents deformation of the inner leads 4 and
Since the tip can be bonded, the bonding wire 6 can be shortened. Therefore, it is possible to improve the defects such as the deformation due to the long bonding wire 6 in the bonding process and the short circuit between the bonding wires 6 due to the resin fluctuation after the resin sealing.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明はリードフレームに関
し、特にワイヤボンディングにて半導体素子の電極パッ
ドに接続されるリードフレームに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a lead frame, and more particularly to a lead frame connected to an electrode pad of a semiconductor device by wire bonding.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来のリードフレームについて、図面を
参照しながら説明する。2. Description of the Related Art A conventional lead frame will be described with reference to the drawings.
【0003】図7に示すリードフレーム1は、まず、エ
ッチング加工又はプレス加工によりインナリード4のパ
ターンを形成し、次に、めっき加工,ダウンセット加工
を行うことにより得られるが、近年のリードフレーム1
の多ピン化,インナリード4の狭ピッチ化に伴い、リー
ドフレーム1の製造工程や半導体装置の組立て工程にお
いて、インナリード4の変形によるショート,上下のば
らつきといった不具合が発生した。そこで、インナリー
ド4の変形を防ぐ手段として、図8に示すような絶縁物
2でインナリード4を固定する手法が用いられた。これ
は、従来のパターン加工,めっき加工の後に、絶縁物
2、特に片面接着剤を施したポリイミドテープが主流で
あるが、インナリード4に貼り付けて得られる。更に効
果的な手法として、図9,図10あるいは図11に示す
ようなインナリード4の先端部を固定する手段があり、
これにより図8のようなインナリード4の中間部を固定
する構造よりもインナリード4の変形を抑えることがで
きる。The lead frame 1 shown in FIG. 7 is obtained by first forming a pattern of the inner leads 4 by etching or pressing, and then performing plating and downset processing. 1
Due to the increase in the number of pins and the narrower pitch of the inner leads 4, defects such as shorts and vertical variations due to deformation of the inner leads 4 have occurred in the manufacturing process of the lead frame 1 and the assembly process of the semiconductor device. Therefore, as a means for preventing the deformation of the inner leads 4, a method of fixing the inner leads 4 with an insulator 2 as shown in FIG. 8 was used. This is obtained by sticking it to the inner lead 4 although the insulating material 2, especially a polyimide tape with a single-sided adhesive is mainly used after the conventional patterning and plating. As a more effective method, there is a means for fixing the tips of the inner leads 4 as shown in FIG. 9, FIG. 10 or FIG.
As a result, the deformation of the inner lead 4 can be suppressed as compared with the structure of fixing the intermediate portion of the inner lead 4 as shown in FIG.
【0004】一方、リードフレーム1の製造方法、特に
エッチング加工において、インナリード4の先端カット
方式がある。これは、インナリード4のピッチの狭ピッ
チ化に伴い通常のエッチングのみの製法ではインナリー
ド4の先端の形状を形成するのが困難であるため、エッ
チング加工時にインナリード4の先端部は全て隣接のイ
ンナリード4と接続し、めっき加工,絶縁物2によるイ
ンナリード4の固定を行った後金型を用いて接続された
インナリード4の先端部を切り離し、本来の形状を形成
する製造方法であるが、この際にも図8のインナリード
4の中間部を固定する構造より、図9および図10に示
すインナリード4の先端部を固定する構造の方が変形を
防ぐ固定の強度,安定性を考慮した場合有利であるとい
える。On the other hand, in the method of manufacturing the lead frame 1, particularly in the etching process, there is a method of cutting the tips of the inner leads 4. This is because it is difficult to form the shape of the tips of the inner leads 4 by a normal manufacturing method only with the narrowing of the pitch of the inner leads 4, so that all the tips of the inner leads 4 are adjacent to each other during the etching process. After the inner lead 4 is connected to the inner lead 4 by plating, the inner lead 4 is fixed with the insulator 2, and the tip of the inner lead 4 is separated by using a mold to form the original shape. However, also in this case, the structure for fixing the tip end portion of the inner lead 4 shown in FIGS. 9 and 10 is stronger than the structure for fixing the intermediate portion of the inner lead 4 in FIG. It can be said that it is advantageous in consideration of sex.
【0005】こうして得られた図9,図10あるいは図
11に示すリードフレーム1を用いて半導体素子をAg
ペーストを介してアイランド3に搭載し、次に、金属細
線(以下、ワイヤという)で半導体素子電極パッドとイ
ンナリード4を電気的に接続する。Using the lead frame 1 thus obtained as shown in FIG. 9, FIG. 10 or FIG.
It is mounted on the island 3 via a paste, and then the semiconductor element electrode pad and the inner lead 4 are electrically connected by a thin metal wire (hereinafter referred to as a wire).
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】近年、半導体素子の小
型化が進むにつれインナリードの狭ピッチ化にも制限が
ある為にワイヤ長は長くなる一方である。図7に示す従
来のリードフレームを用いてワイヤボンディングを行っ
た場合、図12に示すように、半導体素子5が大型の時
はボンディング性には問題はなかったが、図13に示す
ように、半導体素子5が小さくなるにつれてワイヤ6は
長くなり、ワイヤ6が垂れ下がって隣接のインナリード
やアイランド3端部に接触する問題が発生する。In recent years, as the size of semiconductor elements has been reduced, the wire length is becoming longer because the inner lead pitch is also limited. When wire bonding is performed using the conventional lead frame shown in FIG. 7, as shown in FIG. 12, there is no problem in the bondability when the semiconductor element 5 is large, but as shown in FIG. As the semiconductor element 5 becomes smaller, the wire 6 becomes longer, causing a problem that the wire 6 hangs down and comes into contact with the adjacent inner lead or the end of the island 3.
【0007】一方、図9,図10あるいは図11に示す
インナリード4の先端部を絶縁物2で固定した場合にお
いても絶縁処理が施されている為に隣接のインナリード
4やアイランド3の部分との接触不良という問題は改善
されるが、図14あるいは図15に示すように、ワイヤ
6の長さについては、先端に絶縁物2を配置してある
分、その絶縁物2を飛び越して更にインナリード4の奥
側にワイヤボンディングしなければならないので、図1
3の構造の時よりもワイヤ6は長くなってしまう。これ
により、樹脂封止工程の樹脂の流れによるワイヤ6の変
形は増大し、図16に示すように樹脂封止後にワイヤ6
同志の接触不良が発生しやすくなるという問題がある。On the other hand, even when the tip end portion of the inner lead 4 shown in FIG. 9, FIG. 10 or FIG. Although the problem of poor contact with the wire is improved, as shown in FIG. 14 or FIG. 15, the length of the wire 6 has the insulator 2 arranged at the tip, so that the wire jumps over the insulator 2 further. Since wire bonding must be performed on the inner side of the inner lead 4,
The wire 6 becomes longer than in the structure of No. 3. As a result, the deformation of the wire 6 due to the resin flow in the resin sealing step increases, and as shown in FIG.
There is a problem that poor contact between them is likely to occur.
【0008】本発明の目的は、ワイヤとインナリードや
アイランドとの接触不良及び樹脂封止後のワイヤ同志の
接触不良のないリードフレームを提供することにある。An object of the present invention is to provide a lead frame in which there is no poor contact between a wire and an inner lead or an island, and poor contact between wires after resin encapsulation.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】本発明は、半導体素子を
搭載するアイランドと、このアイランドの周囲に配置さ
れ前記半導体素子の電極パッドと金属細線を介して電気
的に接続する複数のインナリードとを有する半導体装置
用リードフレームにおいて、前記インナリードの前記金
属細線がボンディングされる面の反対側の面に前記複数
のインナリードのそれぞれを固定する絶縁物を配置する
か、又は前記インナリードの先端部に形成された段差部
に前記インナリードの表面と同一平面となるように前記
インナリードのそれぞれを固定する絶縁物を充填したこ
とを特徴とする。According to the present invention, there are provided an island on which a semiconductor element is mounted, and a plurality of inner leads which are arranged around the island and are electrically connected to the electrode pads of the semiconductor element via metal wires. In a lead frame for a semiconductor device having the above, an insulator for fixing each of the plurality of inner leads is arranged on a surface of the inner lead opposite to a surface on which the thin metal wire is bonded, or a tip of the inner lead. It is characterized in that the stepped portion formed in the portion is filled with an insulating material for fixing each of the inner leads so as to be flush with the surface of the inner leads.
【0010】[0010]
【発明の実施の形態】次に本発明の実施の形態について
図面を参照して説明する。Embodiments of the present invention will now be described with reference to the drawings.
【0011】図1は本発明の第1の実施の形態の平面
図、図2は図1のリードフレームに半導体素子を搭載し
ワイヤにて接続した断面図、図3は図1のインナリード
のボンディング方法の一例を説明する断面図である。本
発明の第1の実施の形態は、図1に示すように、まず、
図7に示す従来のリードフレーム1と同様にエッチング
加工あるいはプレス加工にてインナリード4を含むパタ
ーン形成を行う。次に、インナリード4のボンディング
領域にめっきを施す。次に、図8あるいは図9,図10
に示す従来のリードフレーム1のボンディングを行う面
と反対側の面にポリイミドテープ等の絶縁物2を貼り付
け、その後、必要あれば、先端カット加工,ダウンセッ
ト加工を行う。FIG. 1 is a plan view of the first embodiment of the present invention, FIG. 2 is a cross-sectional view in which a semiconductor element is mounted on the lead frame of FIG. 1 and is connected by a wire, and FIG. 3 shows the inner lead of FIG. It is sectional drawing explaining an example of a bonding method. In the first embodiment of the present invention, as shown in FIG.
Similar to the conventional lead frame 1 shown in FIG. 7, a pattern including the inner leads 4 is formed by etching or pressing. Next, the bonding area of the inner lead 4 is plated. Next, FIG. 8 or FIG. 9 or FIG.
An insulating material 2 such as a polyimide tape is attached to the surface of the conventional lead frame 1 opposite to the surface to be bonded shown in (1), and thereafter, if necessary, tip cutting processing and down setting processing are performed.
【0012】次に、図2に示すように、このようにして
得られたリードフレーム1のアイランド3にAgペース
トを介して半導体素子5を搭載し、ワイヤ6にてワイヤ
ボンディングを行う。ワイヤボンディング方法の一例
は、図3に示すように、ボンディング装置のヒータプレ
ート7上にリードフレーム1を設置してワイヤボンディ
ングを行うが、ボンディング面と反対側の面に絶縁物2
が貼り付けられているので、インナリード4の最先端に
ボンディングが可能となり、ワイヤ6の長さを短くでき
る。また、最先端部を固定しているので、インナリード
4の変形に対しても従来と同等以上の効果を得ることが
できる。Next, as shown in FIG. 2, the semiconductor element 5 is mounted on the island 3 of the lead frame 1 thus obtained via Ag paste, and wire bonding is performed with the wire 6. As an example of the wire bonding method, as shown in FIG. 3, the lead frame 1 is installed on the heater plate 7 of the bonding device to perform the wire bonding, but the insulator 2 is formed on the surface opposite to the bonding surface.
Since it is attached, it becomes possible to bond to the tip of the inner lead 4 and the length of the wire 6 can be shortened. Further, since the tip end portion is fixed, it is possible to obtain the same or higher effect as the conventional one with respect to the deformation of the inner lead 4.
【0013】図4は図1のインナリードのボンディング
方法の他の例を説明する断面図である。図1のリードフ
レーム1を用いたボンディング方法の他の例は、図4に
示すように、ボンディング装置のヒータプレート7の絶
縁物2と対応する位置にあらかじめ絶縁物2と嵌合する
溝を設けておく。この溝に絶縁物2を嵌合させてインナ
リード4をヒータプレート7上に配置することにより、
インナリード4は絶縁物2を除く全面でヒータプレート
7と密着することができ、ボンディング性が更に向上す
る。FIG. 4 is a sectional view for explaining another example of the inner lead bonding method of FIG. As another example of the bonding method using the lead frame 1 of FIG. 1, as shown in FIG. 4, a groove to be fitted with the insulator 2 is previously provided at a position corresponding to the insulator 2 of the heater plate 7 of the bonding apparatus. Keep it. By fitting the insulator 2 in this groove and disposing the inner lead 4 on the heater plate 7,
The inner lead 4 can be in close contact with the heater plate 7 over the entire surface except the insulator 2, and the bondability is further improved.
【0014】図5は本発明の第2の実施の形態のリード
フレームに半導体素子を搭載しワイヤにて接続した断面
図である。図5に示すように、本発明の第2の実施の形
態のリードフレーム1は、まず、エッチング加工あるい
はプレス加工にてインナリード4を含むパターンを形成
する。次に、インナリード4の先端部の絶縁物2を充填
する部分にハーフエッチングあるいはコイニングを施し
段差部を形成する。次に、この段差部に絶縁物2を充填
し、インナリード4と絶縁物2が同一平面になるように
成形した後、めっき加工あるいはダウンセット加工を行
う。FIG. 5 is a sectional view showing a semiconductor device mounted on a lead frame according to a second embodiment of the present invention and connected by wires. As shown in FIG. 5, in the lead frame 1 according to the second embodiment of the present invention, first, a pattern including the inner leads 4 is formed by etching or pressing. Next, half etching or coining is applied to a portion of the inner lead 4 where the insulator 2 is filled, to form a stepped portion. Next, the step portion is filled with the insulator 2, and the inner lead 4 and the insulator 2 are molded so that they are flush with each other, and then plating or down-setting is performed.
【0015】図6は図5のインナリードのボンディング
方法の一例を説明する断面図である。図6に示すよう
に、このようにして得られたリードフレーム1をボンデ
ィング装置のヒータプレート7上に設置してワイヤボン
ディングを行うが、インナリード4と絶縁物2の表面が
同一平面上にあるので、ヒータプレート7の面と完全に
密着でき、ボンディング性は更に向上できる。FIG. 6 is a sectional view for explaining an example of a method of bonding the inner leads shown in FIG. As shown in FIG. 6, the lead frame 1 thus obtained is placed on the heater plate 7 of the bonding apparatus for wire bonding, but the surfaces of the inner lead 4 and the insulator 2 are on the same plane. Therefore, the surface of the heater plate 7 can be completely adhered, and the bondability can be further improved.
【0016】[0016]
【発明の効果】以上説明したように本発明は、インナリ
ード先端部かつボンディング面と反対側の面に絶縁物に
よるインナリードの固定を行っているので、インナリー
ドの変形を防止し、なおかつ、インナリードの最先端部
の位置にワイヤボンディングを行うことが可能になり飛
躍的にワイヤ長を短くすることができる。これにより、
従来長ワイヤのため発生していたボンディング時のワイ
ヤ垂れ、カール,又樹脂封止後のワイヤの変形や隣接ワ
イヤとの接触といった不具合を改善することができ、ボ
ンディングによる不良率及び樹脂封止後のショートの不
良率を低減(0%)でき、安定した組立てを実施するこ
とができる効果がある。As described above, according to the present invention, since the inner lead is fixed to the tip of the inner lead and the surface opposite to the bonding surface by the insulator, the inner lead is prevented from being deformed, and Wire bonding can be performed at the position of the tip of the inner lead, and the wire length can be dramatically shortened. This allows
Problems such as wire sagging, curling during wire bonding, deformation of the wire after resin encapsulation, and contact with an adjacent wire, which have occurred due to long wires in the past, can be improved. The short-circuit defect rate can be reduced (0%), and stable assembly can be performed.
【図1】本発明の第1の実施の形態の平面図である。FIG. 1 is a plan view of a first embodiment of the present invention.
【図2】図1のリードフレームに半導体素子を搭載しワ
イヤにて接続した断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view in which a semiconductor element is mounted on the lead frame of FIG. 1 and is connected by a wire.
【図3】図1のインナリードのボンディング方法の一例
を説明する断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating an example of a method of bonding the inner leads of FIG.
【図4】図1のインナリードのボンディング方法の他の
例を説明する断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating another example of the inner lead bonding method of FIG.
【図5】本発明の第2の実施の形態のリードフレームに
半導体素子を搭載しワイヤにて接続した断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view in which a semiconductor element is mounted on a lead frame according to a second embodiment of the present invention and connected by wires.
【図6】図5のインナリードのボンディング方法の一例
を説明する断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating an example of a method of bonding the inner leads of FIG.
【図7】従来のリードフレームの第1の例の平面図であ
る。FIG. 7 is a plan view of a first example of a conventional lead frame.
【図8】従来のリードフレームの第2の例の平面図であ
る。FIG. 8 is a plan view of a second example of a conventional lead frame.
【図9】従来のリードフレームの第3の例の平面図であ
る。FIG. 9 is a plan view of a third example of a conventional lead frame.
【図10】図9の絶縁物で固定した部分の部分拡大平面
図である。FIG. 10 is a partially enlarged plan view of a portion fixed with an insulator in FIG.
【図11】従来のリードフレームの第4の例の平面図で
ある。FIG. 11 is a plan view of a fourth example of a conventional lead frame.
【図12】従来のリードフレームに大型の半導体素子を
搭載しワイヤにて接続した断面図である。FIG. 12 is a cross-sectional view in which a large-sized semiconductor element is mounted on a conventional lead frame and connected by wires.
【図13】従来のリードフレームに小型の半導体素子を
搭載した場合のワイヤの垂れの状態を示す断面図であ
る。FIG. 13 is a cross-sectional view showing a hung state of a wire when a small semiconductor element is mounted on a conventional lead frame.
【図14】従来のリードフレームのインナリードの先端
部を絶縁物で固定した場合のワイヤの状態を示す固定部
の断面図である。FIG. 14 is a cross-sectional view of a fixing portion showing a state of a wire when a tip portion of an inner lead of a conventional lead frame is fixed with an insulator.
【図15】従来のリードフレームのインナリードの先端
部を絶縁物で固定した場合のワイヤの状態を示す半導体
素子搭載部の断面図である。FIG. 15 is a cross-sectional view of a semiconductor element mounting portion showing a state of a wire when a tip portion of an inner lead of a conventional lead frame is fixed with an insulator.
【図16】従来のリードフレームのインナリードの先端
部を絶縁物で固定し樹脂封止後のワイヤ同志の接触状態
を示す平面図である。FIG. 16 is a plan view showing a contact state of wires after resin-encapsulation by fixing an end portion of an inner lead of a conventional lead frame with an insulator.
1 リードフレーム 2 絶縁物 3 アイランド 4 インナリード 5 半導体素子 6 ワイヤ 7 ヒータプレート 1 Lead Frame 2 Insulator 3 Island 4 Inner Lead 5 Semiconductor Element 6 Wire 7 Heater Plate
Claims (3)
のアイランドの周囲に配置され前記半導体素子の電極パ
ッドと金属細線を介して電気的に接続する複数のインナ
リードとを有する半導体装置用リードフレームにおい
て、前記インナリードの前記金属細線がボンディングさ
れる面の反対側の面に前記複数のインナリードのそれぞ
れを固定する絶縁物を配置したことを特徴とするリード
フレーム。1. A lead frame for a semiconductor device, comprising: an island on which a semiconductor element is mounted; and a plurality of inner leads arranged around the island and electrically connected to an electrode pad of the semiconductor element via a thin metal wire. A lead frame, wherein an insulator for fixing each of the plurality of inner leads is arranged on a surface of the inner lead opposite to a surface to which the thin metal wire is bonded.
部に配置されていることを特徴とする請求項1記載のリ
ードフレーム。2. The lead frame according to claim 1, wherein the insulator is arranged at the tip of a plurality of inner leads.
成された段差部に前記インナリードの表面と同一平面と
なるように充填されていることを特徴とする請求項1記
載のリードフレーム。3. The lead frame according to claim 1, wherein the insulator is filled in a stepped portion formed at a tip portion of the inner lead so as to be flush with a surface of the inner lead.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7221889A JPH0964267A (en) | 1995-08-30 | 1995-08-30 | Lead frame |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7221889A JPH0964267A (en) | 1995-08-30 | 1995-08-30 | Lead frame |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0964267A true JPH0964267A (en) | 1997-03-07 |
Family
ID=16773770
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7221889A Pending JPH0964267A (en) | 1995-08-30 | 1995-08-30 | Lead frame |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0964267A (en) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02228058A (en) * | 1989-03-01 | 1990-09-11 | Mitsubishi Electric Corp | Semiconductor device |
-
1995
- 1995-08-30 JP JP7221889A patent/JPH0964267A/en active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02228058A (en) * | 1989-03-01 | 1990-09-11 | Mitsubishi Electric Corp | Semiconductor device |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN101114629B (en) | Resin molded semiconductor device and method of manufacturing the same | |
| KR900002908B1 (en) | Resin-sealed simiconductor device | |
| CN1855409B (en) | Method for manufacturing semiconductor device | |
| JP2972096B2 (en) | Resin-sealed semiconductor device | |
| JP2003023134A (en) | Semiconductor device and method of manufacturing the same | |
| JP3866127B2 (en) | Semiconductor device | |
| JP4091050B2 (en) | Manufacturing method of semiconductor device | |
| JPH04352436A (en) | Semiconductor device | |
| JP4066050B2 (en) | Resin-sealed semiconductor device and manufacturing method thereof | |
| JP3424184B2 (en) | Resin-sealed semiconductor device | |
| JPS60210845A (en) | Resin sealed type semiconductor device | |
| JP3959898B2 (en) | Manufacturing method of resin-encapsulated semiconductor device | |
| JPH11145369A (en) | Lead frame, semiconductor device using the same, and method of manufacturing the same | |
| JP2002164496A (en) | Semiconductor device and manufacturing method thereof | |
| JPH0332048A (en) | Semiconductor device | |
| TWI706482B (en) | Method for manufacturing lead frame and lead frame | |
| JP2717728B2 (en) | Lead frame manufacturing method | |
| JP3644555B2 (en) | Lead frame and semiconductor device | |
| JP2002246528A (en) | Method for manufacturing semiconductor device | |
| KR100268925B1 (en) | Lead frame and semiconductor package with such lead frame | |
| JP2001044351A (en) | Semiconductor device and method of manufacturing the same | |
| JP2004200719A (en) | Semiconductor device | |
| KR100201389B1 (en) | Semiconductor package | |
| JPH06326227A (en) | Structure of multilayer lead frame and manufacture thereof | |
| KR100244254B1 (en) | Lead frame and semiconductor package with such lead frame |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19970812 |