JPH0964458A - 半導体レーザ - Google Patents
半導体レーザInfo
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- JPH0964458A JPH0964458A JP7217276A JP21727695A JPH0964458A JP H0964458 A JPH0964458 A JP H0964458A JP 7217276 A JP7217276 A JP 7217276A JP 21727695 A JP21727695 A JP 21727695A JP H0964458 A JPH0964458 A JP H0964458A
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/10—Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region
- H01S5/11—Comprising a photonic bandgap structure
Landscapes
- Semiconductor Lasers (AREA)
Abstract
することができ、少ない電力で高い光出力を得ることの
できる半導体レーザを提供する。 【解決手段】 光の波長オーダーの屈折率周期構造を有
するホトニック結晶1内には、半導体からなり光の増幅
作用を有する活性部2と、所定方向の光学モードにのみ
発光エネルギーをカップリングさせる位相シフト部3が
配設されている。
Description
種装置の光源として利用可能な半導体レーザに関する。
半導体レーザの開発が盛んに行われている。この半導体
レーザは、スペクトルの純粋さと高効率および変調が簡
単にできて取り扱いやすい等の特徴を有し、光集積回路
やその他の光源として利用可能である。
軸を光出力、横軸を注入電流とした図6に示すように、
注入電流がある閾値を越えると、図7に示すように所定
方向に向けてレーザ光が射出され、閾値以下では、図7
に示すように、不特定な方向に自然放出光が放射され
る。
の半導体レーザでは、自然放出光によって、エネルギー
のロスが生じ、また、所定方向の光出力を得るために
は、閾値以上の注入電流を必要とするため、例えば、大
規模な光集積回路等において多数の光源を必要とする場
合等は、動作のための電力が増大するという問題があっ
た。
されたもので、従来に比べて、注入エネルギーのロスを
低減することができ、少ない電力で高い光出力を得るこ
とのできる半導体レーザを提供しようとするものであ
る。
光の波長オーダーの屈折率周期構造を有するホトニック
結晶内に、半導体からなり光の増幅作用を有する活性部
と、所定方向の光学モードにのみ発光エネルギーをカッ
プリングさせる位相シフト部とを配設したことを特徴と
する。
導体レーザにおいて、前記ホトニック結晶が、高屈折率
媒質と低屈折率媒質が、3次元的に規則正しく配列され
た繰り返し構造を有することを特徴とする。
の半導体レーザにおいて、前記位相シフト部が、前記ホ
トニック結晶の略中央部に、平面状に配設されているこ
とを特徴とする。
の半導体レーザにおいて、前記活性部が、前記位相シフ
ト部の略中央に配設されていることを特徴とする。 上
記構成の本願発明の半導体レーザでは、全方向に光が反
射して外部に放出されない構造であるホトニック結晶の
中に、活性部と位相シフト部を設けることにより、活性
部からの自然放出光も、レーザ光と同様に、位相シフト
部によって特定される所定の方向に放射させることがで
きる。これによって、注入エネルギーのロスを低減する
ことができるとともに、実質的に閾値を低くすることが
でき、少ない電力で高い光出力を得ることができる。
て図面を参照して説明する。
の実施の形態を示すもので、上部には全体の断面構造を
示し、下部にはその一部の断面構造を拡大して示してあ
る。同図において1は、光の波長オーダーの屈折率周期
構造を有するホトニック結晶であり、このホトニック結
晶1内には、半導体からなり光の増幅作用を有する活性
部2と、所定方向の光学モードにのみ発光エネルギーを
カップリングさせる位相シフト部3が配設されている。
(n1 =3.6)等の高屈折媒質1aと、例えば、空気
(n2 =1)またはガラス等の低屈折媒質1bからな
り、これらを3次元的に、光の波長オーダー(例えば、
1/2波長)の一定の周期構造を有するようN層配列し
て構成されている。
部3は、ホトニック結晶1の略中央部に一平面状に形成
されており、λ共振器を構成するようにその光学的な幅
が光の波長と略同一となるよう設定されている。そし
て、この位相シフト部3の略中央に平面状に活性部2が
配設されている。この活性部2は、例えばInGaAs
等の半導体から構成されている。
トニック結晶のバンドギャップと規格化周波数との関係
を示す。同図に示すように、ホトニック結晶において
は、特定の周波数の光が全く外部に放出されない構造と
なっている。
簡略化し、高屈折媒質(GaAs)中に、低屈折媒質
(空気またはガラス)のロッドを、配設した3角周期構
造の2次元結晶の間にλ共振器を配設し、その中央に発
光波長1.0μmの発光層を配設した構造について解析
した結果のモード密度の模式図(TEモード)を示す。
なお、同図に斜線で示す領域は、外部に光がカップリン
グする度合いを示すモード密度が高い領域を示し、ホト
ニックバンドギャップとして示された斜線のない領域は
モード密度が低い領域すなわち外部に光が放出されない
領域を示している。そして、共振器として作用する位相
シフト部が設けられていることにより、ホトニックバン
ドギャップの中に発振モードが強く現れる。
することによって、縦軸を光出力、横軸を注入電流とし
た図4に示すように、注入電流が極少ない領域において
も、図5に示すように、本発明の半導体レーザ(ホトニ
ック結晶構造レーザ)では、レーザ光と同様に所定方向
に自然放出光を放射させることができる。
てしまう注入エネルギーのロスを低減することができる
とともに、実質的に閾値を低くすることができ、少ない
電力で高い光出力を得ることができる。
を、ホトニック結晶1の略中央部に一平面状に配設した
場合について説明したが、位相シフト部3の位置、形
状、数は、この例に限定されるものではなく、偏心させ
て配設したり、曲面的な形状としたり、複数設けるなど
の変形が可能である。
ついても種々の変形が可能であり、同様に、活性部2の
材質、構造等についても種々の変形が可能である。
ーザによれば、従来に比べて、注入エネルギーのロスを
低減することができ、少ない電力で高い光出力を得るこ
とができる。
数との関係を示す図。
的に示す図。
との関係を示す図。
明するための図。
示す図。
の図。
Claims (4)
- 【請求項1】 光の波長オーダーの屈折率周期構造を有
するホトニック結晶内に、半導体からなり光の増幅作用
を有する活性部と、所定方向の光学モードにのみ発光エ
ネルギーをカップリングさせる位相シフト部とを配設し
たことを特徴とする半導体レーザ。 - 【請求項2】 請求項1記載の半導体レーザにおいて、 前記ホトニック結晶は、高屈折率媒質と低屈折率媒質
が、3次元的に規則正しく配列された繰り返し構造を有
することを特徴とする半導体レーザ。 - 【請求項3】 請求項1〜2記載の半導体レーザにおい
て、 前記位相シフト部は、前記ホトニック結晶の略中央部
に、平面状に配設されていることを特徴とする半導体レ
ーザ。 - 【請求項4】 請求項1〜3記載の半導体レーザにおい
て、 前記活性部は、前記位相シフト部の略中央に配設されて
いることを特徴とする半導体レーザ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21727695A JP3785503B2 (ja) | 1995-08-25 | 1995-08-25 | 半導体レーザ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21727695A JP3785503B2 (ja) | 1995-08-25 | 1995-08-25 | 半導体レーザ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0964458A true JPH0964458A (ja) | 1997-03-07 |
| JP3785503B2 JP3785503B2 (ja) | 2006-06-14 |
Family
ID=16701608
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21727695A Expired - Fee Related JP3785503B2 (ja) | 1995-08-25 | 1995-08-25 | 半導体レーザ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3785503B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999042892A1 (en) * | 1998-02-19 | 1999-08-26 | Massachusetts Institute Of Technology | Photonic crystal omnidirectional reflector |
| US6650672B2 (en) * | 2000-03-13 | 2003-11-18 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Semiconductor laser element having excellent light confinement effect and method for producing the semiconductor laser element |
| JP2004119671A (ja) * | 2002-09-26 | 2004-04-15 | Mitsubishi Electric Corp | 光アクティブデバイス |
-
1995
- 1995-08-25 JP JP21727695A patent/JP3785503B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999042892A1 (en) * | 1998-02-19 | 1999-08-26 | Massachusetts Institute Of Technology | Photonic crystal omnidirectional reflector |
| US6903873B1 (en) | 1998-02-19 | 2005-06-07 | Omniguide Communications | High omnidirectional reflector |
| US6650672B2 (en) * | 2000-03-13 | 2003-11-18 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Semiconductor laser element having excellent light confinement effect and method for producing the semiconductor laser element |
| JP2004119671A (ja) * | 2002-09-26 | 2004-04-15 | Mitsubishi Electric Corp | 光アクティブデバイス |
| US7181120B2 (en) | 2002-09-26 | 2007-02-20 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Optical active device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3785503B2 (ja) | 2006-06-14 |
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