JPH0968812A - 露光装置及びエラーショット判別方法 - Google Patents
露光装置及びエラーショット判別方法Info
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- JPH0968812A JPH0968812A JP7243980A JP24398095A JPH0968812A JP H0968812 A JPH0968812 A JP H0968812A JP 7243980 A JP7243980 A JP 7243980A JP 24398095 A JP24398095 A JP 24398095A JP H0968812 A JPH0968812 A JP H0968812A
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- error shot
- relative positional
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70358—Scanning exposure, i.e. relative movement of patterned beam and workpiece during imaging
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/709—Vibration, e.g. vibration detection, compensation, suppression or isolation
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- Public Health (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 露光装置において、エラーショットの判別を
より正確に行なえるようにする。 【解決手段】 原版のパターンを基板１０３上に転写す
る露光装置において、原版とウエハとの相対位置ずれを
示す情報を得る手段１０４，１０６，１０８と、相対位
置ずれ情報に基づいてエラーショットの判別を行う判別
手段１１３とを具備する。
より正確に行なえるようにする。 【解決手段】 原版のパターンを基板１０３上に転写す
る露光装置において、原版とウエハとの相対位置ずれを
示す情報を得る手段１０４，１０６，１０８と、相対位
置ずれ情報に基づいてエラーショットの判別を行う判別
手段１１３とを具備する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、露光装置及びそれに適
用し得るエラーショットの判別方法に関し、詳しくは高
精度に位置決めするＸＹステージの位置決め状態等を評
価し、エラーショットの正確な判別およびラフレイヤの
露光処理におけるスループットを向上させたものに関す
る。
用し得るエラーショットの判別方法に関し、詳しくは高
精度に位置決めするＸＹステージの位置決め状態等を評
価し、エラーショットの正確な判別およびラフレイヤの
露光処理におけるスループットを向上させたものに関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来、レチクルもしくはマスク（原版）
のパターンをＸＹステージ上のウエハに転写する露光装
置において、ＸＹステージの制御回路は、通常、露光中
に指令位置と計測位置との偏差をサンプリングし、偏差
が一定のトレランス量を越えた場合にその露光に係るシ
ョットはエラーショットであると判別している。
のパターンをＸＹステージ上のウエハに転写する露光装
置において、ＸＹステージの制御回路は、通常、露光中
に指令位置と計測位置との偏差をサンプリングし、偏差
が一定のトレランス量を越えた場合にその露光に係るシ
ョットはエラーショットであると判別している。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来技術によれば、露光時間が長いとき、短いと
き、レイヤがクリティカルなとき、ラフなときなど露光
条件が変わったときに、仕様を満足する露光ができたか
どうかを正しく判別することができないという問題があ
る。
うな従来技術によれば、露光時間が長いとき、短いと
き、レイヤがクリティカルなとき、ラフなときなど露光
条件が変わったときに、仕様を満足する露光ができたか
どうかを正しく判別することができないという問題があ
る。
【０００４】本発明の目的は、このような従来技術の問
題点に鑑み、露光装置において、エラーショットの判別
をより正確に行なえるようにすることにある。
題点に鑑み、露光装置において、エラーショットの判別
をより正確に行なえるようにすることにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段および作用】この目的を達
成するため本発明では、原版のパターンを基板上に転写
する露光装置において、原版とウエハとの相対位置ずれ
を示す情報を得、この相対位置ずれ情報に基づいてエラ
ーショットの判別を行うようにしている。
成するため本発明では、原版のパターンを基板上に転写
する露光装置において、原版とウエハとの相対位置ずれ
を示す情報を得、この相対位置ずれ情報に基づいてエラ
ーショットの判別を行うようにしている。
【０００６】より具体的には、露光期間中において前記
相対位置ずれ情報を所定間隔でサンプリングして記憶し
ておき、これを統計的に処理することによりエラーショ
ット判別を行う。この統計的処理は、前記位置ずれ情報
の平均値及び標準偏差の算出を含み、この平均値および
標準偏差が原版と基板間の所定の重ね合せ精度および転
写像の所定の解像度をそれぞれ満足するか否かによりエ
ラーショット判別を行う。位置ずれ情報の平均値は、原
版と基板の重ね合せ誤差を示し、位置ずれ情報の標準偏
差は転写像の解像度に対応する。したがって、これら平
均値および標準偏差に基づけば、正確なエラーショット
の判別が行われる。
相対位置ずれ情報を所定間隔でサンプリングして記憶し
ておき、これを統計的に処理することによりエラーショ
ット判別を行う。この統計的処理は、前記位置ずれ情報
の平均値及び標準偏差の算出を含み、この平均値および
標準偏差が原版と基板間の所定の重ね合せ精度および転
写像の所定の解像度をそれぞれ満足するか否かによりエ
ラーショット判別を行う。位置ずれ情報の平均値は、原
版と基板の重ね合せ誤差を示し、位置ずれ情報の標準偏
差は転写像の解像度に対応する。したがって、これら平
均値および標準偏差に基づけば、正確なエラーショット
の判別が行われる。
【０００７】また、前記所定の重ね合せ精度および解像
度を、露光レイヤに応じて、各露光レイヤで要求される
仕様に沿って変化させることにより、ラフレイヤの場合
は重ね合せ精度および解像度の範囲により余裕をもたせ
ることができる。したがってラフレイヤの場合は、その
露光期間において露光中の外乱となり得る駆動、例えば
搬送系を駆動させることができ、その分露光処理のスル
ープットが向上する。
度を、露光レイヤに応じて、各露光レイヤで要求される
仕様に沿って変化させることにより、ラフレイヤの場合
は重ね合せ精度および解像度の範囲により余裕をもたせ
ることができる。したがってラフレイヤの場合は、その
露光期間において露光中の外乱となり得る駆動、例えば
搬送系を駆動させることができ、その分露光処理のスル
ープットが向上する。
【０００８】
【実施例】以下、図面を用いて本発明の実施例を説明す
る。 ［実施例１］図１は、本発明の第１の実施例に係るＸＹ
ステージおよびＸＹステージ制御回路を示すブロック図
である。同図において、１０１はＸＹステージ、１０２
はＸＹステージ１０２上に設けられ、ウエハ１０３を保
持するウエハチャックである。１０５はＸＹステージ１
０１のＸ軸およびＹ軸駆動用のモータ、１０７はモータ
１０５を駆動するドライバであり、これらがＸＹステー
ジ１０２の駆動系を構成する。また、１０４はＸＹステ
ージ１０１に固定されたミラー、１０６はレーザ測長器
であり、これらがＸＹステージ１０２位置の測定系を構
成する。レーザ測長器１０６より出射されたレーザ光１
０８が、ＸＹステージ１０１に固定されたミラー１０４
で反射され、再びレーザ測長器１０６に入射することに
より、ＸＹステージ１０１の位置が検出される。１１０
はＣＰＵ、１１２は制御用プログラムが格納されたＲＯ
Ｍ、１１３は制御用プログラムを展開したり、位置デー
タを蓄えたりするＲＡＭ、１１４はインターフェース
部、１１５はパルスジェネレータ、１１１はこれらを接
続するバスであり、これらによりＸＹステージ制御回路
が構成される。モータ１０５に対する指令は、ＣＰＵ１
１０がバス１１１を通じてパルスジェネレータ１１５に
駆動量を設定し、これがドライバ１０７に伝達されるこ
とにより付与される。レーザ測長器１０６からの位置デ
ータはインターフェース部１１４からバス１１１を通じ
てＣＰＵ１１０またはＲＡＭ１１３に送られる。
る。 ［実施例１］図１は、本発明の第１の実施例に係るＸＹ
ステージおよびＸＹステージ制御回路を示すブロック図
である。同図において、１０１はＸＹステージ、１０２
はＸＹステージ１０２上に設けられ、ウエハ１０３を保
持するウエハチャックである。１０５はＸＹステージ１
０１のＸ軸およびＹ軸駆動用のモータ、１０７はモータ
１０５を駆動するドライバであり、これらがＸＹステー
ジ１０２の駆動系を構成する。また、１０４はＸＹステ
ージ１０１に固定されたミラー、１０６はレーザ測長器
であり、これらがＸＹステージ１０２位置の測定系を構
成する。レーザ測長器１０６より出射されたレーザ光１
０８が、ＸＹステージ１０１に固定されたミラー１０４
で反射され、再びレーザ測長器１０６に入射することに
より、ＸＹステージ１０１の位置が検出される。１１０
はＣＰＵ、１１２は制御用プログラムが格納されたＲＯ
Ｍ、１１３は制御用プログラムを展開したり、位置デー
タを蓄えたりするＲＡＭ、１１４はインターフェース
部、１１５はパルスジェネレータ、１１１はこれらを接
続するバスであり、これらによりＸＹステージ制御回路
が構成される。モータ１０５に対する指令は、ＣＰＵ１
１０がバス１１１を通じてパルスジェネレータ１１５に
駆動量を設定し、これがドライバ１０７に伝達されるこ
とにより付与される。レーザ測長器１０６からの位置デ
ータはインターフェース部１１４からバス１１１を通じ
てＣＰＵ１１０またはＲＡＭ１１３に送られる。
【０００９】図２（ａ）は、ＸＹステージ１０１がステ
ップ状の指令値に対してどのように応答するかを示す図
である。同図に示すように、指令値２０１がステップ状
に変化しているのに対し、検出位置２０２は立ち上がり
で遅れ、オーバシュートした後、収束し、図２（ａ）中
の時間Ｔにおいて露光される。収束した後も高周波の振
動はなくならない。
ップ状の指令値に対してどのように応答するかを示す図
である。同図に示すように、指令値２０１がステップ状
に変化しているのに対し、検出位置２０２は立ち上がり
で遅れ、オーバシュートした後、収束し、図２（ａ）中
の時間Ｔにおいて露光される。収束した後も高周波の振
動はなくならない。
【００１０】図２（ｂ）は、図２（ａ）の露光時間Ｔの
部分を拡大した図であり、検出された位置２０２が徐々
に収束している場合と、途中で外乱振動が加わっている
場合を示している。このような振動は、露光性能の解像
度や重ね合せ精度に悪影響を与えてしまう。
部分を拡大した図であり、検出された位置２０２が徐々
に収束している場合と、途中で外乱振動が加わっている
場合を示している。このような振動は、露光性能の解像
度や重ね合せ精度に悪影響を与えてしまう。
【００１１】以下、この悪影響について具体的に説明す
る。
る。
【００１２】図３は、図２（ｂ）における位置変動を位
置に対する存在確率で示した図である。Ｘ軸についての
指令値ｘr に対して、平均値ｘm がずれている。平均値
ｘmは、数１式のように表される。
置に対する存在確率で示した図である。Ｘ軸についての
指令値ｘr に対して、平均値ｘm がずれている。平均値
ｘmは、数１式のように表される。
【００１３】
【数１】 ここで、ｘr とｘm の差ｘe （＝ｘr −ｘm ）は、その
まま重ね合せ誤差になってしまう。総合重ね合せ精度は
０．２５μｍＬ＆Ｓ（それぞれ０．２５μｍ幅のライン
およびスペースからなるパターン）では６０ｎｍ、０．
１５μｍＬ＆Ｓでは４０ｎｍであり、そのうちＸＹステ
ージ１０１の位置決め精度は例えば０．２５μｍＬ＆Ｓ
では１０ｎｍ、０．１５μｍＬ＆Ｓでは６ｎｍである。
また、バラツキを示す標準偏差σx は、解像度を低下さ
せる。標準偏差σx は、数２式のように表される。
まま重ね合せ誤差になってしまう。総合重ね合せ精度は
０．２５μｍＬ＆Ｓ（それぞれ０．２５μｍ幅のライン
およびスペースからなるパターン）では６０ｎｍ、０．
１５μｍＬ＆Ｓでは４０ｎｍであり、そのうちＸＹステ
ージ１０１の位置決め精度は例えば０．２５μｍＬ＆Ｓ
では１０ｎｍ、０．１５μｍＬ＆Ｓでは６ｎｍである。
また、バラツキを示す標準偏差σx は、解像度を低下さ
せる。標準偏差σx は、数２式のように表される。
【００１４】
【数２】 同様に、Ｙ軸や他の軸に関しても同じ処理が行なわれ
る。
る。
【００１５】また、露光時間Ｔ中で光源の強度の変化が
大きい場合は、光量に応じて重み付けをしなければなら
ない。強度の関数をＩ（ｔ）とすると、数１式および数
２式は数３式のように表されなければならない。
大きい場合は、光量に応じて重み付けをしなければなら
ない。強度の関数をＩ（ｔ）とすると、数１式および数
２式は数３式のように表されなければならない。
【００１６】
【数３】 また、一般に解像度を示す値としてＭＴＦが用いられ
る。図４は、空間周波数が大きくなるにつれて、またσ
が大きくなるにつれてＭＴＦが低下していることを示し
ている。σは一般の軸（例えば、Ｘ軸やＹ軸）の標準偏
差である。空間周波数をｕとしたとき、ＭＴＦは近似的
に数４式のように表すことができる。
る。図４は、空間周波数が大きくなるにつれて、またσ
が大きくなるにつれてＭＴＦが低下していることを示し
ている。σは一般の軸（例えば、Ｘ軸やＹ軸）の標準偏
差である。空間周波数をｕとしたとき、ＭＴＦは近似的
に数４式のように表すことができる。
【００１７】
【数４】 ＭＴＦが０．８以上で解像できるとすると、０．２５μ
ｍＬ＆Ｓでは空間周波数ｕが２本／μｍとなるので図４
より、σ＝５０ｎｍの振動まで許容することができる。
同様に、０．１５μｍＬ＆Ｓでは、空間周波数ｕが３．
３本／μｍとなるのでσ＝３０ｎｍの振動まで許容する
ことができる。
ｍＬ＆Ｓでは空間周波数ｕが２本／μｍとなるので図４
より、σ＝５０ｎｍの振動まで許容することができる。
同様に、０．１５μｍＬ＆Ｓでは、空間周波数ｕが３．
３本／μｍとなるのでσ＝３０ｎｍの振動まで許容する
ことができる。
【００１８】露光仕様をまとめると表１のようになる。
【００１９】
【表１】 本実施例では、この仕様に基づいて露光終了後直ちにエ
ラーショットではないかどうかを判別するために、露光
時間中、ＸＹステージ１０１の位置情報を蓄える。具体
的には、振動の主要な周波数成分の２倍以上のレートで
サンプリングする。数１式および数２式もしくは数３式
の演算を行ない、表１の露光仕様を満足しているかどう
かでエラーショット判別ができる。また、表１の露光仕
様は、クリティカルレイヤにおける値であり、ラフレイ
ヤではこれより余裕があるので、露光中に外乱となりう
る他の駆動部、例えば搬送系を駆動することで、スルー
プットを向上することができる。また、露光時間が長い
場合は駆動部の動作時間を増やすことも可能である。
ラーショットではないかどうかを判別するために、露光
時間中、ＸＹステージ１０１の位置情報を蓄える。具体
的には、振動の主要な周波数成分の２倍以上のレートで
サンプリングする。数１式および数２式もしくは数３式
の演算を行ない、表１の露光仕様を満足しているかどう
かでエラーショット判別ができる。また、表１の露光仕
様は、クリティカルレイヤにおける値であり、ラフレイ
ヤではこれより余裕があるので、露光中に外乱となりう
る他の駆動部、例えば搬送系を駆動することで、スルー
プットを向上することができる。また、露光時間が長い
場合は駆動部の動作時間を増やすことも可能である。
【００２０】このように露光時間中の振動を定量的に評
価することで、エラーショット判別のみならず、ラフレ
イヤにおいては余裕が定量的に見積もれるので、外乱と
なりうる駆動でも所定の範囲内で実行することにより、
スループットを向上することができる。
価することで、エラーショット判別のみならず、ラフレ
イヤにおいては余裕が定量的に見積もれるので、外乱と
なりうる駆動でも所定の範囲内で実行することにより、
スループットを向上することができる。
【００２１】［実施例２］図５は、本発明の第２の実施
例に係るリアルタイムＡＡを有する露光装置とその制御
回路のブロック図である。同図において、５０１は露光
光源、５０２はレチクル、５０３はレンズ光学系、５０
４はレチクル５０２とウエハ１０３の位置ずれをリアル
タイムで検出するピックアップである。ピックアップ５
０４からの検出信号はＡＡユニット５１０で位置ずれ情
報に変換され、バス１１１を通して、ＣＰＵ１１０もし
くはＲＡＭ１１３に送られる。
例に係るリアルタイムＡＡを有する露光装置とその制御
回路のブロック図である。同図において、５０１は露光
光源、５０２はレチクル、５０３はレンズ光学系、５０
４はレチクル５０２とウエハ１０３の位置ずれをリアル
タイムで検出するピックアップである。ピックアップ５
０４からの検出信号はＡＡユニット５１０で位置ずれ情
報に変換され、バス１１１を通して、ＣＰＵ１１０もし
くはＲＡＭ１１３に送られる。
【００２２】図６は、このようなリアルタイムＡＡによ
り得られた位置ずれ検出結果を示す図であり、露光時間
Ｔ中における指令値６０１に対する位置ずれ量６０２の
変化の様子を示している。このデータをもとに実施例１
と同様に各軸の平均値と標準偏差を求めることで、エラ
ーショット判別を行なう。本実施例では、レチクル５０
２とウエハ１０３の相対位置を検出しているため、実施
例１よりも正確にエラーショット判別を行うことができ
る。
り得られた位置ずれ検出結果を示す図であり、露光時間
Ｔ中における指令値６０１に対する位置ずれ量６０２の
変化の様子を示している。このデータをもとに実施例１
と同様に各軸の平均値と標準偏差を求めることで、エラ
ーショット判別を行なう。本実施例では、レチクル５０
２とウエハ１０３の相対位置を検出しているため、実施
例１よりも正確にエラーショット判別を行うことができ
る。
【００２３】［実施例３］図７は、本発明の第３の実施
例に係るスキャン露光装置の構成を示す。スキャン露光
装置は、レチクルステージ７０１とウエハステージ１０
１を同期して駆動させることで小さな口径のレンズでも
広い露光画角を確保できるシステムである。しかし、レ
チクルステージ７０１とウエハステージ１０１を高精度
に同期駆動させないと画角内で倍率や露光量が不均一に
なってしまう。そこで、高精度に駆動させるため、レー
ザ測長器１０６を用いてレチクルステージ７０１および
ウエハステージ１０１の位置を検出してずれ量をフィー
ドバックしながら、モータ１０５によってそれらのステ
ージを駆動している。
例に係るスキャン露光装置の構成を示す。スキャン露光
装置は、レチクルステージ７０１とウエハステージ１０
１を同期して駆動させることで小さな口径のレンズでも
広い露光画角を確保できるシステムである。しかし、レ
チクルステージ７０１とウエハステージ１０１を高精度
に同期駆動させないと画角内で倍率や露光量が不均一に
なってしまう。そこで、高精度に駆動させるため、レー
ザ測長器１０６を用いてレチクルステージ７０１および
ウエハステージ１０１の位置を検出してずれ量をフィー
ドバックしながら、モータ１０５によってそれらのステ
ージを駆動している。
【００２４】図８は、レーザ測長器１０６もしくは、リ
アルタイムＡＡにより露光時間中のレチクルステージ７
０１とウエハステージ１０１の指令値８０１に対する同
期ずれ量８０２を示した図である。スキャン露光装置で
はスキャン軸の位置合わせが特に難しいので、実施例１
と同様に各軸の平均値と標準偏差を求めることで、エラ
ーショット判別を行うことは、極めて有効である。
アルタイムＡＡにより露光時間中のレチクルステージ７
０１とウエハステージ１０１の指令値８０１に対する同
期ずれ量８０２を示した図である。スキャン露光装置で
はスキャン軸の位置合わせが特に難しいので、実施例１
と同様に各軸の平均値と標準偏差を求めることで、エラ
ーショット判別を行うことは、極めて有効である。
【００２５】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、露
光装置において、原版と基板との相対位置ずれ情報に基
づいてエラーショット判別を行うようにし、さらには、
この相対位置ずれ情報を露光時間中にサンプリングし、
その露光が終了した後に相対位置ずれ情報の平均値と標
準偏差を求め、これらが所定の重ね合せ精度および解像
度を満足するか否かによりエラーショット判別を行なう
ようにしたため、正確なエラーショット判別処理を行な
うことができる。また、ラフレイヤにおいては、前記重
ね合せ精度および解像度の余裕を定量的に見積もること
ができるため、外乱となりうる搬送系等の駆動でも所定
の範囲内であれば実行することができる。このため、ス
ループットを向上させることもできる。
光装置において、原版と基板との相対位置ずれ情報に基
づいてエラーショット判別を行うようにし、さらには、
この相対位置ずれ情報を露光時間中にサンプリングし、
その露光が終了した後に相対位置ずれ情報の平均値と標
準偏差を求め、これらが所定の重ね合せ精度および解像
度を満足するか否かによりエラーショット判別を行なう
ようにしたため、正確なエラーショット判別処理を行な
うことができる。また、ラフレイヤにおいては、前記重
ね合せ精度および解像度の余裕を定量的に見積もること
ができるため、外乱となりうる搬送系等の駆動でも所定
の範囲内であれば実行することができる。このため、ス
ループットを向上させることもできる。
【図１】 本発明の第１の実施例に係るＸＹステージお
よびＸＹステージ制御回路の構成を示す図である。
よびＸＹステージ制御回路の構成を示す図である。
【図２】 ＸＹステージの指令値に対する応答性を示す
図である。
図である。
【図３】 ＸＹステージの位置における存在確率を示す
図である。
図である。
【図４】 空間周波数とＭＴＦの関係を示す図である。
【図５】 本発明の第２の実施例に係るリアルタイムＡ
Ａを有する露光装置とその制御回路の構成を示す図であ
る。
Ａを有する露光装置とその制御回路の構成を示す図であ
る。
【図６】 露光時間中のレチクルとウエハの位置ずれを
示す図である。
示す図である。
【図７】 本発明の第３の実施例に係るスキャン露光装
置の概要図である。
置の概要図である。
【図８】 露光時間中のレチクルステージとウエハステ
ージの同期誤差を示す図である。
ージの同期誤差を示す図である。
１０１：ＸＹステージ、１０２：ウエハチャック、１０
３：ウエハ、１０４：ミラー、１０５：モータ、１０
６：レーザ測長器、１０７：ドライバ、１０８：レーザ
光、１１０：ＣＰＵ、１１１：バス、１１２：ＲＯＭ、
１１３：ＲＡＭ、１１４：インターフェース部、１１
５：パルスジェネレータ、２０１：指令値、２０２：検
出位置、５０１：露光光源、５０２：レチクル、５０
３：レンズ光学系、５０４：ピックアップ、５１０：Ａ
Ａユニット、６０１：指令値、６０２：位置ずれ量、７
０１：レチクルステージ、８０１：指令値、８０２：同
期ずれ量。
３：ウエハ、１０４：ミラー、１０５：モータ、１０
６：レーザ測長器、１０７：ドライバ、１０８：レーザ
光、１１０：ＣＰＵ、１１１：バス、１１２：ＲＯＭ、
１１３：ＲＡＭ、１１４：インターフェース部、１１
５：パルスジェネレータ、２０１：指令値、２０２：検
出位置、５０１：露光光源、５０２：レチクル、５０
３：レンズ光学系、５０４：ピックアップ、５１０：Ａ
Ａユニット、６０１：指令値、６０２：位置ずれ量、７
０１：レチクルステージ、８０１：指令値、８０２：同
期ずれ量。
Claims (8)
- 【請求項１】 原版のパターンを基板上に転写する露光
装置において、前記原版と前記ウエハとの相対位置ずれ
を示す情報を得る手段と、前記相対位置ずれ情報に基づ
いてエラーショットの判別を行う判別手段とを具備する
ことを特徴とする露光装置。 - 【請求項２】 前記判別手段は、露光期間中において前
記相対位置ずれ情報を所定間隔でサンプリングして記憶
する記憶手段を備え、前記判別手段は、これによって記
憶された前記相対位置ずれ情報を統計的に処理すること
により前記エラーショット判別を行うものであることを
特徴とする請求項１記載の露光装置。 - 【請求項３】 前記統計的処理は、前記位置ずれ情報の
平均値及び標準偏差の算出を含み、前記判別手段は、こ
の平均値および標準偏差が前記原版と基板間の所定の重
ね合せ精度および転写像の所定の解像度をそれぞれ満足
するか否かにより前記エラーショット判別を行うもので
あることを特徴とする請求項２記載の露光装置。 - 【請求項４】 前記判別手段は前記所定の重ね合せ精度
および解像度を、露光レイヤに応じて変えるものでるこ
とを特徴とする請求項３記載の露光装置。 - 【請求項５】 原版のパターンを基板上に転写する露光
装置において、前記原版と前記ウエハとの相対位置ずれ
を示す情報を得、この相対位置ずれ情報に基づいてエラ
ーショットの判別を行うことを特徴とするエラーショッ
ト判別方法。 - 【請求項６】 前記エラーショットの判別は、露光期間
中において前記相対位置ずれ情報を所定間隔でサンプリ
ングして記憶しておき、露光終了後、記憶された前記相
対位置ずれ情報を統計的に処理することにより行うこと
を特徴とする請求項５記載のエラーショット判別方法。 - 【請求項７】 前記統計的処理においては、前記位置ず
れ情報の平均値及び標準偏差を算出し、前記エラーショ
ットの判別は、この平均値および標準偏差が前記原版と
基板間の所定の重ね合せ精度および転写像の所定の解像
度をそれぞれ満足するか否かにより行うことを特徴とす
る請求項６記載のエラーショット判別方法。 - 【請求項８】 前記所定の重ね合せ精度および解像度
を、露光レイヤに応じて変えることを特徴とする請求項
７記載のエラーショット判別方法。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24398095A JP3501564B2 (ja) | 1995-08-30 | 1995-08-30 | 走査型露光装置及びエラーショット判別方法 |
| US08/702,326 US5760878A (en) | 1995-08-30 | 1996-08-23 | Exposure apparatus and alignment discrimination method |
| DE69618301T DE69618301T2 (de) | 1995-08-30 | 1996-08-29 | Belichtungsvorrichtung und Verfahren zur Bewertung einer Ausrichtung |
| EP00200725A EP1016931B1 (en) | 1995-08-30 | 1996-08-29 | Exposure apparatus and method using a discrimination of the positioning of a stage |
| EP96306266A EP0762216B1 (en) | 1995-08-30 | 1996-08-29 | Exposure apparatus and alignment evaluation method |
| DE69637133T DE69637133D1 (de) | 1995-08-30 | 1996-08-29 | Belichtungsapparat und -verfahren unter Verwendung einer Bewertung der Positionierung einer Trägerplatte |
| KR1019960036633A KR100232906B1 (ko) | 1995-08-30 | 1996-08-30 | 노광장치 및 얼라인먼트판별방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24398095A JP3501564B2 (ja) | 1995-08-30 | 1995-08-30 | 走査型露光装置及びエラーショット判別方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0968812A true JPH0968812A (ja) | 1997-03-11 |
| JP3501564B2 JP3501564B2 (ja) | 2004-03-02 |
Family
ID=17111920
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24398095A Expired - Fee Related JP3501564B2 (ja) | 1995-08-30 | 1995-08-30 | 走査型露光装置及びエラーショット判別方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3501564B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09186073A (ja) * | 1996-01-04 | 1997-07-15 | Canon Inc | 露光装置および方法 |
-
1995
- 1995-08-30 JP JP24398095A patent/JP3501564B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09186073A (ja) * | 1996-01-04 | 1997-07-15 | Canon Inc | 露光装置および方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3501564B2 (ja) | 2004-03-02 |
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