JPH0969437A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JPH0969437A JPH0969437A JP22526495A JP22526495A JPH0969437A JP H0969437 A JPH0969437 A JP H0969437A JP 22526495 A JP22526495 A JP 22526495A JP 22526495 A JP22526495 A JP 22526495A JP H0969437 A JPH0969437 A JP H0969437A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic layer
- magnetic
- nitrogen
- oxygen
- layer
- Prior art date
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- Pending
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 磁気記録媒体、特に鉄、窒素及び酸素を含む
磁性層を有する磁気記録媒体の耐食性及び耐久性を向上
させる。 【解決手段】 支持体上に、鉄、窒素及び酸素を含む磁
性層であって、該磁性層中の窒素濃度が該磁性層の表面
付近から磁性層の深さ方向へと漸次減少し、且つ前記磁
性層中の最大窒素濃度が45原子%以下であり、更に該磁
性層における鉄(Fe)、窒素(N) 及び酸素(O) の割合が、
原子比でFe:N:O=55〜90:5〜40:5〜30であるFe−
N−O系磁性層を形成する。
磁性層を有する磁気記録媒体の耐食性及び耐久性を向上
させる。 【解決手段】 支持体上に、鉄、窒素及び酸素を含む磁
性層であって、該磁性層中の窒素濃度が該磁性層の表面
付近から磁性層の深さ方向へと漸次減少し、且つ前記磁
性層中の最大窒素濃度が45原子%以下であり、更に該磁
性層における鉄(Fe)、窒素(N) 及び酸素(O) の割合が、
原子比でFe:N:O=55〜90:5〜40:5〜30であるFe−
N−O系磁性層を形成する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録媒体に関
する。より詳しくは、鉄、窒素及び酸素を含む磁性層を
有する金属薄膜型の磁気記録媒体に関する。
する。より詳しくは、鉄、窒素及び酸素を含む磁性層を
有する金属薄膜型の磁気記録媒体に関する。
【0002】
【従来の技術】磁気記録媒体、例えば磁気テープには、
非磁性支持体であるフィルム上に磁性粉をバインダーに
分散させた磁性塗料を塗布してなる従来からある塗布型
テープと、フィルム上に真空中で磁性金属を蒸着する真
空蒸着法等を用いてバインダーを全く含まない金属薄膜
の磁性層を非磁性支持体上に付着させる金属薄膜型テー
プとがある。そして、近年の磁気記録は高密度記録化の
方向にあり、金属薄膜型テープは、磁性層にバインダー
を含まないことから磁性材料の密度を高められるため、
高密度記録に有望であるとされている。
非磁性支持体であるフィルム上に磁性粉をバインダーに
分散させた磁性塗料を塗布してなる従来からある塗布型
テープと、フィルム上に真空中で磁性金属を蒸着する真
空蒸着法等を用いてバインダーを全く含まない金属薄膜
の磁性層を非磁性支持体上に付着させる金属薄膜型テー
プとがある。そして、近年の磁気記録は高密度記録化の
方向にあり、金属薄膜型テープは、磁性層にバインダー
を含まないことから磁性材料の密度を高められるため、
高密度記録に有望であるとされている。
【0003】ところで、真空蒸着法等によって非磁性支
持体上に形成する磁性層用の磁性材料としては、従来で
は、Co系、Co−Ni系、Co−Cr系の強磁性合金が用いられ
ている。しかしながら、Co、Ni、Crは共に価格が高い上
に公害問題も有している。この点、Fe(金属鉄)は、価
格が安く公害の安全性においても問題はないが、高記録
密度に不可欠な保磁力が低く、また、耐蝕性が低いとい
う欠点があり、Co−Ni系、Co−Cr系及びFeに代わる磁性
層用材料が望まれている。加えて、記録密度を上げるた
め、テープとヘッドの接触相対速度は速くなる傾向があ
る。しかしながら現状では、磁性層については十分満足
のゆく耐久性が得られていない。
持体上に形成する磁性層用の磁性材料としては、従来で
は、Co系、Co−Ni系、Co−Cr系の強磁性合金が用いられ
ている。しかしながら、Co、Ni、Crは共に価格が高い上
に公害問題も有している。この点、Fe(金属鉄)は、価
格が安く公害の安全性においても問題はないが、高記録
密度に不可欠な保磁力が低く、また、耐蝕性が低いとい
う欠点があり、Co−Ni系、Co−Cr系及びFeに代わる磁性
層用材料が望まれている。加えて、記録密度を上げるた
め、テープとヘッドの接触相対速度は速くなる傾向があ
る。しかしながら現状では、磁性層については十分満足
のゆく耐久性が得られていない。
【0004】このような状況から、ベースを低価格で環
境汚染の心配のないFeとし、高い保磁力と耐食性を有す
る磁性層を形成するために、Feの蒸着中に酸素、窒素、
二酸化炭素等のガスやこれらの混合ガスをイオン化して
照射する、いわゆるイオンアシストによる蒸着法によ
り、Fe−N系、Fe−C系、Fe−N−O系、Fe−C−N−O 系等
の磁性膜を形成することが試みられている。
境汚染の心配のないFeとし、高い保磁力と耐食性を有す
る磁性層を形成するために、Feの蒸着中に酸素、窒素、
二酸化炭素等のガスやこれらの混合ガスをイオン化して
照射する、いわゆるイオンアシストによる蒸着法によ
り、Fe−N系、Fe−C系、Fe−N−O系、Fe−C−N−O 系等
の磁性膜を形成することが試みられている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特にFe
−N−O系の磁性層では磁性層中の各元素の存在状態(濃
度)によっては必ずしも耐食性が充分とはいえない場合
があり、どのような割合でこれら三つの元素を磁性層中
に存在させるかは充分に検討されていないのが現状であ
る。従って、本発明の目的は、Fe−N−O系の磁性層にお
いて、特に三つの元素、特に窒素の存在量に着目して、
より耐食性ならびに耐久性の高い磁性層を有する磁気記
録媒体を提供することにある。
−N−O系の磁性層では磁性層中の各元素の存在状態(濃
度)によっては必ずしも耐食性が充分とはいえない場合
があり、どのような割合でこれら三つの元素を磁性層中
に存在させるかは充分に検討されていないのが現状であ
る。従って、本発明の目的は、Fe−N−O系の磁性層にお
いて、特に三つの元素、特に窒素の存在量に着目して、
より耐食性ならびに耐久性の高い磁性層を有する磁気記
録媒体を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記のよ
うな状況に鑑み、より耐食性、耐久性の高いFe−N−O
系の磁性層を得るために鋭意研究した結果、これらの三
成分の割合を特定範囲とし、且つ磁性層中の窒素濃度が
磁性層の深さ方向で徐々に減少するような構成とするこ
とにより、前記の目的を達成できることを見出し、本発
明を完成するに至った。
うな状況に鑑み、より耐食性、耐久性の高いFe−N−O
系の磁性層を得るために鋭意研究した結果、これらの三
成分の割合を特定範囲とし、且つ磁性層中の窒素濃度が
磁性層の深さ方向で徐々に減少するような構成とするこ
とにより、前記の目的を達成できることを見出し、本発
明を完成するに至った。
【0007】すなわち本発明は、支持体と、該支持体上
に形成された鉄、窒素及び酸素を含む磁性層を少なくと
も一層有する磁気記録媒体であって、鉄、窒素及び酸素
を含む前記磁性層中の窒素濃度が該磁性層の表面から該
磁性層の深さ方向へと漸次減少しており、且つ、鉄、窒
素及び酸素を含む前記磁性層中の最大窒素濃度が45原
子%以下であり、更に、鉄、窒素及び酸素を含む前記磁
性層における鉄(Fe)、窒素(N) 及び酸素(O) の割合が、
原子比でFe:N:O=55〜90:5〜40:5〜30であること
を特徴とする磁気記録媒体を提供するものである。ここ
で磁性層の深さ方向とは、磁性層表面から支持体へ垂直
に向かう方向をいう。
に形成された鉄、窒素及び酸素を含む磁性層を少なくと
も一層有する磁気記録媒体であって、鉄、窒素及び酸素
を含む前記磁性層中の窒素濃度が該磁性層の表面から該
磁性層の深さ方向へと漸次減少しており、且つ、鉄、窒
素及び酸素を含む前記磁性層中の最大窒素濃度が45原
子%以下であり、更に、鉄、窒素及び酸素を含む前記磁
性層における鉄(Fe)、窒素(N) 及び酸素(O) の割合が、
原子比でFe:N:O=55〜90:5〜40:5〜30であること
を特徴とする磁気記録媒体を提供するものである。ここ
で磁性層の深さ方向とは、磁性層表面から支持体へ垂直
に向かう方向をいう。
【0008】本発明の磁気記録媒体は鉄、窒素及び酸素
を含む特定の磁性層(以下、Fe−N−O 系磁性層とい
う)を少なくとも一層有することであり、このFe−N−O
系磁性層の特徴は、 Fe−N−O系磁性層中の窒素濃度が、表面から支持体に
近づくにつれて漸次減少していること Fe−N−O系磁性層中の最大窒素濃度が45原子%以下で
あること Fe−N−O系磁性層中の鉄、窒素及び酸素の割合が特定
範囲にあること であり、これらの要件が全て満たされない場合は、耐食
性及び耐久性に優れ、且つ良好な磁気特性を示す磁気記
録媒体を得ることはできない。
を含む特定の磁性層(以下、Fe−N−O 系磁性層とい
う)を少なくとも一層有することであり、このFe−N−O
系磁性層の特徴は、 Fe−N−O系磁性層中の窒素濃度が、表面から支持体に
近づくにつれて漸次減少していること Fe−N−O系磁性層中の最大窒素濃度が45原子%以下で
あること Fe−N−O系磁性層中の鉄、窒素及び酸素の割合が特定
範囲にあること であり、これらの要件が全て満たされない場合は、耐食
性及び耐久性に優れ、且つ良好な磁気特性を示す磁気記
録媒体を得ることはできない。
【0009】本発明の磁気記録媒体において、Fe−N−O
系磁性層は、鉄を蒸着させながら窒素イオンと酸素イオ
ンとを供給する、いわゆるイオンアシスト蒸着法により
形成される。磁性層を形成するイオンアシスト蒸着法は
従来知られている方法により行なうことができる。ただ
し本発明ではFe−N−O系磁性層中の窒素濃度を磁性層の
深さ方向で漸次減少させる必要があり、このためには窒
素イオンの供給量を調節する必要がある。具体的には、
イオンガンの中心(窒化スピードの一番速いところ)
を、蒸着領域の成膜初期の部分に合わせることにより、
成膜初期に窒素を多量に取り込ませ、漸次窒素濃度を減
少させる。
系磁性層は、鉄を蒸着させながら窒素イオンと酸素イオ
ンとを供給する、いわゆるイオンアシスト蒸着法により
形成される。磁性層を形成するイオンアシスト蒸着法は
従来知られている方法により行なうことができる。ただ
し本発明ではFe−N−O系磁性層中の窒素濃度を磁性層の
深さ方向で漸次減少させる必要があり、このためには窒
素イオンの供給量を調節する必要がある。具体的には、
イオンガンの中心(窒化スピードの一番速いところ)
を、蒸着領域の成膜初期の部分に合わせることにより、
成膜初期に窒素を多量に取り込ませ、漸次窒素濃度を減
少させる。
【0010】本発明の磁気記録媒体では、Fe−N−O系磁
性層中の最大窒素濃度は45原子%以下、好ましくは10〜
30原子%である。最大窒素濃度が45原子%を超えると磁
気特性が著しく低下する。
性層中の最大窒素濃度は45原子%以下、好ましくは10〜
30原子%である。最大窒素濃度が45原子%を超えると磁
気特性が著しく低下する。
【0011】また、本発明の磁気記録媒体では、Fe−N
−O系磁性層全体における鉄(Fe)、窒素(N) 及び酸素(O)
の割合は、原子比でFe:N:O=55〜90:5〜40:5〜3
0とする必要がある。この範囲を外れると磁気特性が非
常に低下する。また、満足できる十分な耐食性ならびに
耐久性を得ることができない。
−O系磁性層全体における鉄(Fe)、窒素(N) 及び酸素(O)
の割合は、原子比でFe:N:O=55〜90:5〜40:5〜3
0とする必要がある。この範囲を外れると磁気特性が非
常に低下する。また、満足できる十分な耐食性ならびに
耐久性を得ることができない。
【0012】また、Fe−N−O系磁性層中の窒素濃度の変
化(減少)は直線的(一次関数的)であることが望まし
く、特に磁性層の深さ方向で、表面から 500〜5000Åの
範囲で漸次減少していることが望ましい。ただし、窒素
濃度は全体として漸次減少していれば、数%程度の幅で
変動していてもよい。また、Fe−N−O系磁性層中の最大
窒素濃度 Nmax と最低窒素濃度 Nmin の差(Nmax)−(N
min)は5〜30原子%程度であることが望ましい。なお、
磁性層中の元素濃度は、オージェ電子分光法により測定
できる。ただし、磁気記録媒体の表層部や支持体と磁性
層との界面付近は、異物の混入(コンタミネーショ
ン)、潤滑剤、保護層及び支持体等の影響により、オー
ジェプロファイルの形状を正確に求めることは困難であ
り、本発明において、これらの部分の元素濃度の変化は
排除される。
化(減少)は直線的(一次関数的)であることが望まし
く、特に磁性層の深さ方向で、表面から 500〜5000Åの
範囲で漸次減少していることが望ましい。ただし、窒素
濃度は全体として漸次減少していれば、数%程度の幅で
変動していてもよい。また、Fe−N−O系磁性層中の最大
窒素濃度 Nmax と最低窒素濃度 Nmin の差(Nmax)−(N
min)は5〜30原子%程度であることが望ましい。なお、
磁性層中の元素濃度は、オージェ電子分光法により測定
できる。ただし、磁気記録媒体の表層部や支持体と磁性
層との界面付近は、異物の混入(コンタミネーショ
ン)、潤滑剤、保護層及び支持体等の影響により、オー
ジェプロファイルの形状を正確に求めることは困難であ
り、本発明において、これらの部分の元素濃度の変化は
排除される。
【0013】本発明においては、支持体上に形成される
磁性層は多層構造であってもよいが、その場合、少なく
とも最表層(最も支持体から遠い層)は、前記した本発
明の特徴を有するFe−N−O系磁性層、即ち、磁性層中の
窒素濃度が磁性層の深さ方向で漸次減少しており、且つ
鉄、窒素、酸素の割合が上記の範囲にある磁性層とする
必要がある。複数のFe−N−O系磁性層を形成する場合
は、最表層がかかる本発明のFe−N−O系磁性層であれば
よく、下層のFe−N−O系磁性層においては窒素濃度の変
化の状況は問わない。また、下層に形成する磁性層は、
Fe−N−O系磁性層ではなく、別の金属材料、例えばCo、
Co−Ni等からなっても良い。本発明において、磁性層の
厚さは限定されないが、例えば本発明のFe−N−O系磁性
層が単層の場合は1000〜3000Å、多層の場合は本発明の
Fe−N−O系磁性層(最表層)が500〜2000Å、その他の
磁性層が500〜2000Åである。
磁性層は多層構造であってもよいが、その場合、少なく
とも最表層(最も支持体から遠い層)は、前記した本発
明の特徴を有するFe−N−O系磁性層、即ち、磁性層中の
窒素濃度が磁性層の深さ方向で漸次減少しており、且つ
鉄、窒素、酸素の割合が上記の範囲にある磁性層とする
必要がある。複数のFe−N−O系磁性層を形成する場合
は、最表層がかかる本発明のFe−N−O系磁性層であれば
よく、下層のFe−N−O系磁性層においては窒素濃度の変
化の状況は問わない。また、下層に形成する磁性層は、
Fe−N−O系磁性層ではなく、別の金属材料、例えばCo、
Co−Ni等からなっても良い。本発明において、磁性層の
厚さは限定されないが、例えば本発明のFe−N−O系磁性
層が単層の場合は1000〜3000Å、多層の場合は本発明の
Fe−N−O系磁性層(最表層)が500〜2000Å、その他の
磁性層が500〜2000Åである。
【0014】本発明の磁気記録媒体では、Fe−N−O系磁
性層中の窒素濃度が表面で高くなっているため、耐食性
が向上する。また、窒素濃度は磁性層の下層に向かうに
つれて(支持体に近づくにつれて)単調に減少してお
り、窒素濃度の極端な変化がないため、磁気特性の変化
(拡散)が少なくなり、良好な磁気特性を示す。
性層中の窒素濃度が表面で高くなっているため、耐食性
が向上する。また、窒素濃度は磁性層の下層に向かうに
つれて(支持体に近づくにつれて)単調に減少してお
り、窒素濃度の極端な変化がないため、磁気特性の変化
(拡散)が少なくなり、良好な磁気特性を示す。
【0015】また、本発明の磁気記録媒体の支持体の材
料としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレ
ンナフタレートのようなポリエステル;ポリエチレン、
ポリプロピレン等のポリオレフィン; セルローストリア
セテート、セルロースジアセテート等のセルロース誘導
体;ポリカーボネート;ポリ塩化ビニル;ポリイミド;
芳香族ポリアミド等のプラスチック等が使用される。こ
れらの基材の厚さは3〜50μm程度である。
料としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレ
ンナフタレートのようなポリエステル;ポリエチレン、
ポリプロピレン等のポリオレフィン; セルローストリア
セテート、セルロースジアセテート等のセルロース誘導
体;ポリカーボネート;ポリ塩化ビニル;ポリイミド;
芳香族ポリアミド等のプラスチック等が使用される。こ
れらの基材の厚さは3〜50μm程度である。
【0016】また、磁性層上には、厚さ10〜200 Å程度
の保護層、特にダイヤモンドライクカーボン、グラファ
イト等の炭素薄膜、酸化珪素、炭化珪素等の含珪素薄膜
等からなる保護層を設けることが望ましい。また、かか
る保護層上には、厚さ2〜50Å程度の潤滑層、特にパー
フルオロポリエーテル等のフッ素系潤滑剤からなる潤滑
層を形成するのが好ましく、磁性層が形成される面と反
対の面には、更にカーボンブラックを主成分とする厚さ
0.1〜1.0 μm程度のバックコート層等を設けてもよ
い。これらの層を形成する原料は従来公知のものが適宜
使用できる。また、バックコート層は、Al−Cu合金等の
金属を蒸着させて形成してもよい。
の保護層、特にダイヤモンドライクカーボン、グラファ
イト等の炭素薄膜、酸化珪素、炭化珪素等の含珪素薄膜
等からなる保護層を設けることが望ましい。また、かか
る保護層上には、厚さ2〜50Å程度の潤滑層、特にパー
フルオロポリエーテル等のフッ素系潤滑剤からなる潤滑
層を形成するのが好ましく、磁性層が形成される面と反
対の面には、更にカーボンブラックを主成分とする厚さ
0.1〜1.0 μm程度のバックコート層等を設けてもよ
い。これらの層を形成する原料は従来公知のものが適宜
使用できる。また、バックコート層は、Al−Cu合金等の
金属を蒸着させて形成してもよい。
【0017】
【発明の実施の形態】図1に本発明の磁気記録媒体の製
造に使用する斜め蒸着のための真空蒸着装置の一例を示
す。図1において、真空容器1内は、ターボポンプ2と
ロータリポンプ3とで真空状態が維持されている。前記
真空容器1内には、巻出しロール4と巻取りロール5と
が設けられ、巻出しロール4から巻出されて巻取りロー
ル5に巻取られる間で、PET (ポリエチレンテレフタレ
ート)、ポリイミドあるいはアラミド等で製造される支
持体としてのフィルム6は、内部に冷却水が流れる平板
状の冷却板7に沿って走行して移動する。前記冷却板7
には、冷却水供給管8から冷却水が供給されて図示しな
い排水管から排水されるようになっており、冷却水が外
部の冷却水タンクから循環供給される。また、前記冷却
板7の下方には、MgO 製のルツボ9が置かれ、この中に
例えば純度 99.95%のFeを入れ、このルツボ9内のFe面
に対して斜め上方の電子ビーム銃10から電子ビームを照
射する。これにより、Feを加熱気化させるようになって
いる。このFeの蒸着の際に、ルツボ9からのFeの蒸気流
のフィルム6に対する入射角αが所望の範囲になるよう
に冷却板7の傾斜を設定する。このような斜め蒸着法を
採用することにより、磁性層の磁気異方性によって磁気
特性が向上する。Feの蒸着時には、フィルム6の蒸着面
に対して垂直方向にイオン銃11を配置し、該イオン銃11
に窒素ガスを供給し窒素イオンを生成して、フィルム6
にFeを蒸着させつつ、また酸素ガス導入管13から酸素ガ
スを通気しながら酸化反応を起こさせてFe−N−O系磁性
層を形成する。イオン銃11は窒素イオンの照射方向を変
えることができる。また、イオン銃11に窒素ガスと酸素
ガスの混合ガスを供給し窒素イオンと酸素イオンを生成
して、フィルムの蒸着面に窒素イオンと酸素イオンを照
射する方法も可能である。図中12は、そのフィルム6へ
の蒸着範囲を規制するための遮蔽板である。
造に使用する斜め蒸着のための真空蒸着装置の一例を示
す。図1において、真空容器1内は、ターボポンプ2と
ロータリポンプ3とで真空状態が維持されている。前記
真空容器1内には、巻出しロール4と巻取りロール5と
が設けられ、巻出しロール4から巻出されて巻取りロー
ル5に巻取られる間で、PET (ポリエチレンテレフタレ
ート)、ポリイミドあるいはアラミド等で製造される支
持体としてのフィルム6は、内部に冷却水が流れる平板
状の冷却板7に沿って走行して移動する。前記冷却板7
には、冷却水供給管8から冷却水が供給されて図示しな
い排水管から排水されるようになっており、冷却水が外
部の冷却水タンクから循環供給される。また、前記冷却
板7の下方には、MgO 製のルツボ9が置かれ、この中に
例えば純度 99.95%のFeを入れ、このルツボ9内のFe面
に対して斜め上方の電子ビーム銃10から電子ビームを照
射する。これにより、Feを加熱気化させるようになって
いる。このFeの蒸着の際に、ルツボ9からのFeの蒸気流
のフィルム6に対する入射角αが所望の範囲になるよう
に冷却板7の傾斜を設定する。このような斜め蒸着法を
採用することにより、磁性層の磁気異方性によって磁気
特性が向上する。Feの蒸着時には、フィルム6の蒸着面
に対して垂直方向にイオン銃11を配置し、該イオン銃11
に窒素ガスを供給し窒素イオンを生成して、フィルム6
にFeを蒸着させつつ、また酸素ガス導入管13から酸素ガ
スを通気しながら酸化反応を起こさせてFe−N−O系磁性
層を形成する。イオン銃11は窒素イオンの照射方向を変
えることができる。また、イオン銃11に窒素ガスと酸素
ガスの混合ガスを供給し窒素イオンと酸素イオンを生成
して、フィルムの蒸着面に窒素イオンと酸素イオンを照
射する方法も可能である。図中12は、そのフィルム6へ
の蒸着範囲を規制するための遮蔽板である。
【0018】
【実施例】以下実施例にて本発明を説明するが、本発明
はこれらの実施例に限定されるものではない。
はこれらの実施例に限定されるものではない。
【0019】実施例1 (1) 磁気記録媒体の製造 PET フィルム上に、Fe−N−O系の磁性層を形成し、更に
潤滑剤及びバックコート層を形成し、磁気フィルムを製
造した。各層の形成条件等は以下の通りである。図1に
示すイオンアシスト斜め蒸着装置に厚さ 6.5μmのPET
フィルム6を装着し、フィルム6を冷却板7上に走行さ
せた。走行速度は1.0 m/分であった。そして、酸化マ
グネシウム製のルツボ9に純度99.95 %程度の鉄を入
れ、出力5kWで電子銃10を作動させて鉄を蒸発させ、PE
T フィルム6に鉄粒子を蒸着(入射角α=70°)させる
と共に、窒素ガスをマイクロ波 ECR(Electron Cyclotor
n Resonance)型イオンガン11に供給し、PET フィルム6
の鉄蒸着面に向けて窒素イオンを照射し、また酸素ガス
導入管13より酸素ガスを通気させ酸化させた。これによ
りFe−N−O系の磁性層を形成した。次いでPET フィルム
の磁性層面とは反対の面に、平均粒径40nmのカーボンブ
ラックをウレタンプレポリマーと塩化ビニル系樹脂との
バインダー樹脂中に分散させてなるバックコート用の塗
料をダイコーティング方式により、乾燥膜厚0.5 μmと
なるように塗布し、乾燥してバックコート層を形成し
た。その後、磁性層上にパーフルオロポリエーテル(FOM
BLIN Z DOL、モンテカチーニ社製)をフッ素系不活性液
体(フロリナート FC-77、住友スリーエム株式会社製)
に0.05重量%となるように希釈、分散させた塗料をダイ
コーティング方式により、乾燥膜厚が20Åとなるように
磁性層上に塗布し、105 ℃で乾燥させて潤滑層を形成し
た。上記により得られた磁気記録媒体の磁性層は、磁性
層全体のFe:N:O原子比が70:20:10であり、窒素の最
大濃度は40原子%であった。なお、該磁性層中の元素の
分布をオージェ電子分光法により分析した結果を図2に
示す。この時のオージェ電子分光法の測定条件は、電子
銃条件は加速電圧は10kV、エミッション電流は10mA、倍
率は2000倍であり、エッチング条件はエッチング用ガス
はアルゴンガスであり、加速電圧は3kV、イオン電流30
0nA であり、この条件下で30秒間毎にエッチングして分
析を行なった。オージェ電子分光分析の結果、該磁性層
中の窒素濃度は磁性層の表面付近で最大で、深さ方向に
従って徐々に減少していることがわかる。なお、オージ
ェプロファイルのスタート部の炭素原子は、潤滑剤及び
ダイヤモンドライクカーボン保護層の影響である。
潤滑剤及びバックコート層を形成し、磁気フィルムを製
造した。各層の形成条件等は以下の通りである。図1に
示すイオンアシスト斜め蒸着装置に厚さ 6.5μmのPET
フィルム6を装着し、フィルム6を冷却板7上に走行さ
せた。走行速度は1.0 m/分であった。そして、酸化マ
グネシウム製のルツボ9に純度99.95 %程度の鉄を入
れ、出力5kWで電子銃10を作動させて鉄を蒸発させ、PE
T フィルム6に鉄粒子を蒸着(入射角α=70°)させる
と共に、窒素ガスをマイクロ波 ECR(Electron Cyclotor
n Resonance)型イオンガン11に供給し、PET フィルム6
の鉄蒸着面に向けて窒素イオンを照射し、また酸素ガス
導入管13より酸素ガスを通気させ酸化させた。これによ
りFe−N−O系の磁性層を形成した。次いでPET フィルム
の磁性層面とは反対の面に、平均粒径40nmのカーボンブ
ラックをウレタンプレポリマーと塩化ビニル系樹脂との
バインダー樹脂中に分散させてなるバックコート用の塗
料をダイコーティング方式により、乾燥膜厚0.5 μmと
なるように塗布し、乾燥してバックコート層を形成し
た。その後、磁性層上にパーフルオロポリエーテル(FOM
BLIN Z DOL、モンテカチーニ社製)をフッ素系不活性液
体(フロリナート FC-77、住友スリーエム株式会社製)
に0.05重量%となるように希釈、分散させた塗料をダイ
コーティング方式により、乾燥膜厚が20Åとなるように
磁性層上に塗布し、105 ℃で乾燥させて潤滑層を形成し
た。上記により得られた磁気記録媒体の磁性層は、磁性
層全体のFe:N:O原子比が70:20:10であり、窒素の最
大濃度は40原子%であった。なお、該磁性層中の元素の
分布をオージェ電子分光法により分析した結果を図2に
示す。この時のオージェ電子分光法の測定条件は、電子
銃条件は加速電圧は10kV、エミッション電流は10mA、倍
率は2000倍であり、エッチング条件はエッチング用ガス
はアルゴンガスであり、加速電圧は3kV、イオン電流30
0nA であり、この条件下で30秒間毎にエッチングして分
析を行なった。オージェ電子分光分析の結果、該磁性層
中の窒素濃度は磁性層の表面付近で最大で、深さ方向に
従って徐々に減少していることがわかる。なお、オージ
ェプロファイルのスタート部の炭素原子は、潤滑剤及び
ダイヤモンドライクカーボン保護層の影響である。
【0020】(2) 性能評価 上記により磁性層、潤滑層及びバックコート層が形成さ
れたPET フィルムについて、保磁力(Hc)、飽和磁束密度
(Bs)、Br/Bsを測定した。また、耐食性の評価として、
60℃、90%RHの条件下で1週間又は4週間保存した後の
飽和磁束密度の減少率ΔBsを測定した。また、耐久性
は、市販のハイバンド8mmVTR を改造し、7MHz で正弦
波信号を入力し、5時間のスチル後の再生出力をスペク
トルアナライザーを用いて測定し、出力の低下を測定し
た。出力の単位はdBで表した。これらの結果を表1に示
す。
れたPET フィルムについて、保磁力(Hc)、飽和磁束密度
(Bs)、Br/Bsを測定した。また、耐食性の評価として、
60℃、90%RHの条件下で1週間又は4週間保存した後の
飽和磁束密度の減少率ΔBsを測定した。また、耐久性
は、市販のハイバンド8mmVTR を改造し、7MHz で正弦
波信号を入力し、5時間のスチル後の再生出力をスペク
トルアナライザーを用いて測定し、出力の低下を測定し
た。出力の単位はdBで表した。これらの結果を表1に示
す。
【0021】実施例2 実施例1における磁性層の成膜条件(窒素ガスと酸素ガ
スの流量を変えた)を変えて、Fe:N:O原子比が80:1
0:10で、窒素の最大濃度が15原子%の磁性層を形成
し、その他は実施例1と同様にして磁気フィルムを製造
し、実施例1と同様の評価を行なった。その結果を表1
に示す。なお、該磁性層中の元素の分布を実施例1と同
様の条件でのオージェ電子分光法により分析した結果を
図3に示す。オージェ電子分光分析の結果、該磁性層中
の窒素濃度も磁性層の表面付近で最大で、深さ方向に従
って徐々に減少していることがわかる。
スの流量を変えた)を変えて、Fe:N:O原子比が80:1
0:10で、窒素の最大濃度が15原子%の磁性層を形成
し、その他は実施例1と同様にして磁気フィルムを製造
し、実施例1と同様の評価を行なった。その結果を表1
に示す。なお、該磁性層中の元素の分布を実施例1と同
様の条件でのオージェ電子分光法により分析した結果を
図3に示す。オージェ電子分光分析の結果、該磁性層中
の窒素濃度も磁性層の表面付近で最大で、深さ方向に従
って徐々に減少していることがわかる。
【0022】実施例3 厚さ6.5 μmのPET フィルムを図4に示す装置にセット
し、該フィルム上に蒸着によりコバルトからなる磁性層
を形成した。図4において、41は冷却キャンロール、42
a は巻取ロール、42b は巻出ロール、43はフィルム、44
はルツボ、45はコバルト、46は遮蔽板、47は酸素ガス導
入管、48は電子ビーム銃、49は真空チャンバである。蒸
着時の入射角は60°、電子ビーム銃のパワーは15kW、酸
素ガスの通気量は80SCCMとし、コバルト系磁性層の厚さ
は800 Åとし、フィルムの走行速度は2.0 m/分とし
た。このコバルト系磁性層上に、実施例1と同様のFe−
N:O系の磁性層、潤滑剤及びバックコート層を形成して
磁気フィルムを製造し、実施例1と同様の評価を行なっ
た。その結果を表1に示す。
し、該フィルム上に蒸着によりコバルトからなる磁性層
を形成した。図4において、41は冷却キャンロール、42
a は巻取ロール、42b は巻出ロール、43はフィルム、44
はルツボ、45はコバルト、46は遮蔽板、47は酸素ガス導
入管、48は電子ビーム銃、49は真空チャンバである。蒸
着時の入射角は60°、電子ビーム銃のパワーは15kW、酸
素ガスの通気量は80SCCMとし、コバルト系磁性層の厚さ
は800 Åとし、フィルムの走行速度は2.0 m/分とし
た。このコバルト系磁性層上に、実施例1と同様のFe−
N:O系の磁性層、潤滑剤及びバックコート層を形成して
磁気フィルムを製造し、実施例1と同様の評価を行なっ
た。その結果を表1に示す。
【0023】実施例4 実施例1における磁性層の成膜条件を代えて、Fe:N:O
原子比が55:40:5で、窒素の最大濃度が45原子%の磁
性層を形成し、その他は実施例1と同様にして磁気フィ
ルムを製造し、実施例1と同様の評価を行なった。その
結果を表1に示す。
原子比が55:40:5で、窒素の最大濃度が45原子%の磁
性層を形成し、その他は実施例1と同様にして磁気フィ
ルムを製造し、実施例1と同様の評価を行なった。その
結果を表1に示す。
【0024】実施例5 実施例1における磁性層の成膜条件を代えて、Fe:N:O
原子比が60:10:30で、窒素の最大濃度が20原子%の磁
性層を形成し、その他は実施例1と同様にして磁気フィ
ルムを製造し、実施例1と同様の評価を行なった。その
結果を表1に示す。
原子比が60:10:30で、窒素の最大濃度が20原子%の磁
性層を形成し、その他は実施例1と同様にして磁気フィ
ルムを製造し、実施例1と同様の評価を行なった。その
結果を表1に示す。
【0025】比較例1 実施例1における磁性層の成膜条件を代えて、Fe:N:O
原子比が65:20:15で、窒素の最大濃度が40原子%の磁
性層を形成し、その他は実施例1と同様にして磁気フィ
ルムを製造し、実施例1と同様の評価を行なった。その
結果を表1に示す。なお、該磁性層中の元素の分布を実
施例1と同様の条件でのオージェ電子分光法により分析
した結果を図5に示す。オージェ電子分光分析の結果、
該磁性層中の窒素濃度は磁性層中で増減していることが
わかる。
原子比が65:20:15で、窒素の最大濃度が40原子%の磁
性層を形成し、その他は実施例1と同様にして磁気フィ
ルムを製造し、実施例1と同様の評価を行なった。その
結果を表1に示す。なお、該磁性層中の元素の分布を実
施例1と同様の条件でのオージェ電子分光法により分析
した結果を図5に示す。オージェ電子分光分析の結果、
該磁性層中の窒素濃度は磁性層中で増減していることが
わかる。
【0026】比較例2 実施例1における磁性層の成膜条件を代えて、Fe:N:O
原子比が35:45:20で、窒素の最大濃度が50原子%の磁
性層を形成し、その他は実施例1と同様にして磁気フィ
ルムを製造し、実施例1と同様の評価を行なった。その
結果を表1に示す。
原子比が35:45:20で、窒素の最大濃度が50原子%の磁
性層を形成し、その他は実施例1と同様にして磁気フィ
ルムを製造し、実施例1と同様の評価を行なった。その
結果を表1に示す。
【0027】比較例3 実施例1における磁性層の成膜条件を代えて、Fe:N:O
原子比が70:20:10で、窒素の最大濃度が40原子%の磁
性層を形成し、その他は実施例1と同様にして磁気フィ
ルムを製造し、実施例1と同様の評価を行なった。その
結果を表1に示す。なお、該磁性層中の元素の分布を実
施例1と同様の条件でのオージェ電子分光法により分析
した結果を図6に示す。オージェ電子分光分析の結果、
該磁性層中の窒素濃度は支持体近傍で増加していること
がわかる。
原子比が70:20:10で、窒素の最大濃度が40原子%の磁
性層を形成し、その他は実施例1と同様にして磁気フィ
ルムを製造し、実施例1と同様の評価を行なった。その
結果を表1に示す。なお、該磁性層中の元素の分布を実
施例1と同様の条件でのオージェ電子分光法により分析
した結果を図6に示す。オージェ電子分光分析の結果、
該磁性層中の窒素濃度は支持体近傍で増加していること
がわかる。
【0028】
【表1】
【0029】
【発明の効果】本発明によれば、鉄−窒素−酸素系の磁
性層を有する磁気記録媒体の耐食性ならびに耐久性が著
しく向上する。
性層を有する磁気記録媒体の耐食性ならびに耐久性が著
しく向上する。
【図1】本発明の磁気記録媒体を製造する装置の概略図
【図2】実施例1で形成した磁性層のオージェ電子分光
分析のチャート
分析のチャート
【図3】実施例2で形成した磁性層のオージェ電子分光
分析のチャート
分析のチャート
【図4】実施例3で用いた蒸着装置の概略図
【図5】比較例1で形成した磁性層のオージェ電子分光
分析のチャート
分析のチャート
【図6】比較例3で形成した磁性層のオージェ電子分光
分析のチャート
分析のチャート
1 真空容器 6 支持体 10 電子ビーム銃 11 イオン銃 13 酸素ガス導入管
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 石川 准子 栃木県芳賀郡市貝町赤羽2606 花王株式会 社研究所内
Claims (3)
- 【請求項1】 支持体と、該支持体上に形成された鉄、
窒素及び酸素を含む磁性層を少なくとも一層有する磁気
記録媒体であって、 鉄、窒素及び酸素を含む前記磁性層中の窒素濃度が該磁
性層の表面から該磁性層の深さ方向へと漸次減少してお
り、 且つ、鉄、窒素及び酸素を含む前記磁性層中の最大窒素
濃度が45原子%以下であり、 更に、鉄、窒素及び酸素を含む前記磁性層における鉄(F
e)、窒素(N) 及び酸素(O) の割合が、原子比でFe:N:O
=55〜90:5〜40:5〜30であることを特徴とする磁気
記録媒体。 - 【請求項2】 鉄、窒素及び酸素を含む前記磁性層中の
窒素濃度の減少が直線的である請求項1記載の磁気記録
媒体。 - 【請求項3】 鉄、窒素及び酸素を含む前記磁性層が、
前記支持体から最も遠い磁性層として形成されている請
求項1又は2記載の磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22526495A JPH0969437A (ja) | 1995-09-01 | 1995-09-01 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22526495A JPH0969437A (ja) | 1995-09-01 | 1995-09-01 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0969437A true JPH0969437A (ja) | 1997-03-11 |
Family
ID=16826599
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22526495A Pending JPH0969437A (ja) | 1995-09-01 | 1995-09-01 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0969437A (ja) |
-
1995
- 1995-09-01 JP JP22526495A patent/JPH0969437A/ja active Pending
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