JPH0970532A - チタニア系触媒の製造方法 - Google Patents
チタニア系触媒の製造方法Info
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Abstract
TiO2 又は、TiO2 - SiO2 だけで、触媒活性を
増大できるチタニア系触媒の製造方法において、さら
に、触媒活性を増大させることのできるチタニア系触媒
の製造方法を提供すること。 【解決手段】 チタニア系触媒の製造方法。(1−x)
TiO2 ・xSiO 2 (x=0〜0.5)のモル比とな
るように、チタンアルコキシド及びシリコンアルコキシ
ドを混合した加水分解ゾルをゲル化後、熱処理温度35
0〜1200℃で焼成し、さらに、アルカリまたは酸で
化学処理をした後、200〜600℃の温度で再熱処理
をする。
Description
し、さらに、詳しくは、光触媒活性に優れたチタニア系
触媒を容易に製造できる方法に関する。
て広く知られ、さまざまな光触媒反応が検討されてい
る。
近接する、(2) 触媒の内部で光照射によって励起された
電子・ホールが触媒表面にある反応分子を還元あるいは
酸化させることによって、化学反応を促進させると考え
られる。
は、触媒の比表面積の増大(触媒活性点の増大)につな
がる、触媒粉末の微細化、ないしは、多結晶であっても
結晶粒径(単一結晶の)の小径化が、即ち、結晶微細化
が有効な一手段として期待できる。そして、結晶微細化
の方法として、ゾルゲル法、気相法等が公知である。
業 第66巻」に投稿された研究論文「白金およびルテ
ニウムを担持したTiO2 −SiO2 触媒の調製と光触
媒活性」に、ゾルゲル法でチタニア系触媒粉末を調製す
る際に、シリカ(SiO2 )をドープ(添加)すると結
晶粒径が小さくなることが報告されている。
触媒助剤として白金とルテニウムを担持させて光触媒活
性を増大させることを前提とし、TiO2 −SiO2
は、触媒活性をほとんど期待しない担体としての役割を
担っていると推定される。
化物水溶液の形にして行うため、面倒であり、かつ、コ
スト高となり易い。
触媒活性が得難いことが、本発明者らが試験検討した結
果、分かった。
媒等を担持させなくても、TiO2又は、TiO2 −S
iO2 だけで、触媒活性を増大させることができるチタ
ニア系触媒の製造方法を、特願平7−67893号(本
願出願時未公開)及び、学会発表(日本セラミックス協
会年会、1995年4月2日)において、下記構成の方
法を、先に提案した。
0〜0.5)のモル比となるように、チタンアルコキシ
ド及びシリコンアルコキシドを混合した加水分解ゾルを
ゲル化後、該ゲル化物を350〜1200℃で焼成して
チタニア系触媒を製造する方法であって、焼成後のチタ
ニア系触媒を、酸またはアルカリで表面処理(化学処
理)することを特徴とする。」
いて得られるチタニア系触媒の活性をさらに増大させた
い要望が出てきている。
属助触媒等を担持させなくてもTiO2 又は、TiO2
−SiO2 だけで、触媒活性を増大できるチタニア系触
媒の製造方法において、さらに、触媒活性を増大させる
ことのできるチタニア系触媒の製造方法を提供すること
を目的とする。
を解決すべく、上記化学処理条件等を変えれば、TiO
2 結晶に何らかの影響を及ぼす可能性があることに着目
し、鋭意開発に努力をした結果、下記構成のチタニア系
触媒の製造方法に想到した。
〜0.5)のモル比となるように、チタンアルコキシド
及びシリコンアルコキシドを混合した加水分解ゾルをゲ
ル化後、熱処理温度350〜1200℃で焼成し、さら
に、アルカリまたは酸で化学処理をした後、200〜1
200℃の温度で再熱処理することを特徴とする。
製造方法を、図5に基づいて説明をする。
法は、所定比でチタンアルコキシド及びシリコンアルコ
キシドを混合した加水分解ゾル(コロイド溶液)をゲル
化後、該ゲル化物を焼成(結晶化)して製造すること
を、第一の前提的構成とする。
性式(1−x)TiO2 ・xSiO 2 でx=0〜0.
5、望ましくは、x=0.02〜0.25の範囲とす
る。
ドープ(添加)することにより、前述の如く、結晶粒径
が小さくなり望ましい。そしてその範囲は、x=0.0
2〜0.25とする。xが0.02未満では、シリカの
添加効果(結晶微細化:比表面積の増大化)を得難く、
シリカ添加量が過多となると、結晶の微細化が余り促進
されない上に、相対的にチタニアの比率が低下して、却
って、触媒活性が低下する。(シリカ添加量と比表面積
の関係を示すグラフ図である図1参照。) また、焼成条件は、シリカの比率により異なるが、通
常、350〜1200℃×0.3〜2h、望ましくは、
450〜600℃×0.5〜1.5hであることが望ま
しい。温度が相対的に低い方が、結晶微細化(比表面積
の増大化)が図れて望ましい(焼成温度と触媒活性の関
係を示すグラフ図である図2参照)。しかし、低過ぎる
と、焼成が困難となるとともに焼成時間が相対的に長く
なり、生産性が低下する。
ア−シリカ複合微粒子結晶)は、例えば、特開平5−5
8649号公報に記載の方法によって調製する。
したものではなく、所定比率となる様にシリコンアルコ
キシドとチタンアルコキシドの加水分解ゾル溶液をゲル
化後、焼成、さらには必要により粉砕を行って調製す
る。
ンアルコキシド及びシリコンアルコキシドを混合した
後、同時に加水分解する方法、あるいは一方を一部加水
分解した(以下、予備加水分解という)後、他方を添加
し、さらに加水分解する(以下、最終加水分解という)
方法などがある。後者の方法は、用いるシリコンアルコ
キシドとチタンアルコキシドの加水分解速度が大きく異
なり、加水分解時に沈殿を生じやすい場合に特に用いら
れる。
Ti(OR)4 (但し、Rはアルキル基またはアルコキ
シアルキル基)で表示される化合物、または上記一般式
中の1つあるいは2つのアルコキシド基(OR)がカル
ボキシル基あるいはβ−ジカルボニル基で置換された化
合物あるいはそれらの混合物が好ましい。
ると、Ti(O-isoC3H7)4、Ti(O-nC4H9) 4、Ti(O-CH2CH(C2H5)
C4H9)4、Ti(O-C17H35)4、Ti(O-isoC3H7)2[CO(CH3)CHCOC
H3]2、Ti(O-nC4H9)2[OC2H4N(C2H4OH)2]2、Ti(OH)2[OCH(CH
3)COOH]2、Ti(OCH2CH(C2H5)CH(OH)C3H7)4、Ti(O-nC4H9)
2(OCOC17H35)等の化合物である。
るが、工業的に入手しやすいものとして例えば、一般式
Si(OR1 )4 (但し、R1 はアルキル基またはアル
コキシアルキル基)で表示される化合物、または上記一
般式中の1つあるいは2つのアルコキシド基(OR1 )
がカルボキシル基あるいはβ−ジカルボニル基で置換さ
れた化合物、または、それらを部分的に加水分解して得
られる低縮合物あるいはそれらの混合物が特に限定され
ずに使用される。上記アルキル基としては、メチル基、
エチル基、イソプロピル基、ブチル基等の低級アルキル
基を、及び、アルコキシアルキル基としては、メトキシ
メチル基、エトキシメチル基、メトキシエチル基、エト
キシエチル基、メトキシプロピル基等を好適に挙げるこ
とができる。これらのシリコンアルコキシドは市販品を
そのまま、または蒸留精製して用いればよい。
ールなどの溶媒、酸あるいは塩基性触媒の存在下で、攪
拌しながら行われる。このとき水浴中あるいは湯浴中で
加水分解を行うのが望ましい。触媒とアルコールなどの
溶媒は、必ずしも必要ではないが、触媒は加水分解、重
縮合の速度を速める効果、アルコールなどの溶媒は沈殿
物の発生を抑制し、より均一なゾル溶液を調製するとい
う効果がある。
まか、あるいは水またはアルコールなどの溶媒に溶解さ
せた状態のもの(以下、それぞれ酸性触媒、塩基性触媒
という)を用いる。そのときの濃度については特に限定
しないが、濃度が濃い場合は加水分解、重縮合速度が速
くなる傾向がある。但し、濃度の濃い塩基性触媒を用い
ると、ゾル溶液中で沈殿物が生成する場合があるため、
塩基性触媒の濃度は1N(水溶液での濃度換算)以下が
望ましい。
限定されないが、濃度の濃い触媒を用いる必要がある場
合には、焼結後に触媒結晶粒中にほとんど残留しないよ
うな元素から構成される触媒がよい。具体的には、酸性
触媒としては、塩酸などのハロゲン化水素、硝酸、硫
酸、亜硫酸、硫化水素、過塩素酸、過酸化水素、炭酸、
蟻酸や酢酸などのカルボン酸、構造式RCOOHのRを
他元素または置換基によって置換した置換カルボン酸、
ベンゼンスルホン酸などのスルホン酸など、塩基性触媒
としては、アンモニア水などのアンモニア性塩基、エチ
ルアミンやアニリンなどのアミン類などがあげられる。
触媒をアルカリまたは酸で化学処理する。その際の条件
は、常温・常圧(大気圧)下の条件でも良いが、水熱合
成的反応が発生する高温・加圧下の条件で行うことが、
反応が促進される等の見地から望ましい。
・カリウムの水溶液等を、酸としてはフッ酸等を好適に
使用可能である。
加圧下とは、例えば、水酸化ナトリウムで化学処理(表
面処理)をする場合、耐圧密閉容器内で、温度70〜1
50℃×1〜100h、望ましくは、100〜120℃
×2〜120hの条件下で行う。
の表面に残存しているアモルファスシリカ(触媒活性に
悪影響を与えると考えられる)が除去される。化学処理
が高温・加圧・高濃度下で行われる場合は、水熱合成的
反応が誘起されTiO2 表面に結晶が成長して、比表面
積が格段に増大するものと推定される(各種アルカリ濃
度におけるアルカリ処理温度と比表面積の関係を示すグ
ラフ図である図3参照)。
して、アルカリで化学処理した場合、水洗後、希塩酸等
の無機酸で中和処理しておくことが望ましい。この、中
和処理方法は、通常、浸漬・噴霧等の方法で行う。
は、さらに、200〜1200℃×10〜400分、望
ましくは、300〜600℃×60〜160分の温度で
再加熱処理を行う。この再加熱処理により、TiO2 の
結晶性が向上して、触媒活性が向上する。即ち、化学処
理(表面処理)したとき、TiO2 の表面層に、Ti−
OHあるいはTi−Oという結合が形成されていると考
えられ、これを熱処理すると、Ti−O−Tiの結合が
形成され、相対的に触媒反応に寄与するTiO2量が増
えるため、触媒活性が向上するものと推定される。
−O−Ti結合が形成されず、1200℃を越えると、
結晶が成長し、比表面積が減少するため触媒活性が低下
するおそれがある。
(光活性)として使用してもよいが、通常、粉砕して使
用する。粉砕方法としては、通常、ボール・ロッドミ
ル、マイクロナイザー等の微粉砕機・超微粉砕機を使用
して行う。
法は、上記のような構成により、下記のような作用・効
果を奏する。
タニア系焼成体を、アルカリ又は酸で、水熱合成的反応
を誘起するような条件化学処理するとともに、再加熱処
理することにより、後述の実施例で支持される如く、光
触媒特性が格段に増大する。これは、化学処理によりチ
タニア系焼成体に残存しているチタニア・シリカアモル
ファスが除去され、また、再加熱処理により、TiO2
表面の各結晶の触媒活性が増大するように改質されるも
のと推定される。
さらには、焼成温度を可及的に低くすることにより、や
はり、光触媒特性が増大する。単一結晶の粒径が小さく
なって(相対的に比表面積が増大する)、触媒活性面が
増大するためと推定される。
造方法は、貴金属助触媒を担持させずに、光触媒活性を
容易に増大させる先行方法において、光触媒活性をさら
に増大させることが可能となる。
試験例について説明をする。
成が、(1−x)TiO2 ・xSiO2 (x=0、0.
05、0.1)となるように、市販のイソブトキシシラ
ン及びテトラエトキシシランを、エタノール及び水で溶
解させたゾル溶液に、希塩酸を加水分解触媒として加え
て、加水分解後、放置してゲル化させた。(図5の工程
図参照) 各ゲル化物を、500・600・700℃の温度で、そ
れぞれ、2時間づつ熱処理を行って焼成し、該焼成体
を、めのう乳鉢で粉砕して微粉末状(粒径<320メッ
シュ)のチタニア系触媒を調製した 各チタニア系触媒について、比表面積をBET法に基づ
いて測定した。その結果を、図1に示すが、シリカの添
加量の増大に従って、比表面積が増大することが分か
る。また、焼成温度(結晶化温度)が高くなるに従っ
て、比表面積が小さくなることが分かる。
シリカ添加量が0.05モル%で、結晶化温度が500
・600・700℃で得た各触媒について、触媒活性を
光コルベ法により測定した。その結果を、図2に示す
が、結晶化温度が低い方が(比表面積が大きい方が)高
いことが分かる。
理温度と比表面積との関係:シリカ添加量20モル%と
し、焼成温度600℃て調製したものを、20%、40
%、68%の各水酸化ナトリウム濃度において、20
℃、60℃、110℃の各温度で、それぞれ20hアル
カリ処理を行って(再加熱処理せず)、各チタニア系触
媒を調製した。
ET法に基づいて測定した。その結果を、図3に示す
が、アルカリ処理条件である、濃度及び温度の上昇に従
って、比表面積が増大することが分かる。
し、HClaq(0.1N)で酸洗浄して完了した。以
下、同様である。
の関係:シリカ添加量20モル%とし、焼成温度600
℃て調製したものの、非処理品、常温・常圧アルカ
リ処理品、高温・加圧アルカリ処理品(40%NaO
H×110℃×20h、高温・加圧アルカリ処理品を
再加熱処理したもの、について、それぞれ光コルベ法に
より触媒活性を測定した。その結果を、図4に示すが、
再加熱処理しないものは、常温・常圧アルカリ処理品
と触媒活性がほとんど変わらないが(非処理品に比し
て触媒活性は増大する。)、再加熱処理したものは、
格段に触媒活性増大することが分かる。
図
示すグラフ図
関係を示すグラフ図
Claims (5)
- 【請求項1】 (1−x)TiO2 ・xSiO2 (x=
0〜0.5)のモル比となるように、チタンアルコキシ
ド及びシリコンアルコキシドを混合した加水分解ゾルを
ゲル化後、熱処理温度350〜1200℃で焼成し、さ
らに、 アルカリまたは酸で化学処理をしたのち、200〜12
00℃の温度で再熱処理することを特徴とするチタニア
系触媒の製造方法。 - 【請求項2】 請求項1において、x=0.02〜0.
25であることを特徴とするチタニア系触媒の製造方
法。 - 【請求項3】 請求項1又は2において、前記熱処理温
度が450〜600℃であることを特徴とするチタニア
系触媒の製造方法。 - 【請求項4】 請求項1〜3のいずれかにおいて、前記
化学処理がアルカリ処理であって、水酸化ナトリウム濃
度20%以上、温度20〜150℃の条件下で行うこと
を特徴とするチタニア系触媒の製造方法。 - 【請求項5】 請求項1〜4のいずれかにおいて、前記
再熱処理温度が300〜600℃であることを特徴とす
るチタニア系触媒の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22896695A JP4184451B2 (ja) | 1995-09-06 | 1995-09-06 | チタニア系触媒の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22896695A JP4184451B2 (ja) | 1995-09-06 | 1995-09-06 | チタニア系触媒の製造方法 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0970532A true JPH0970532A (ja) | 1997-03-18 |
| JP4184451B2 JP4184451B2 (ja) | 2008-11-19 |
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ID=16884663
Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP22896695A Expired - Fee Related JP4184451B2 (ja) | 1995-09-06 | 1995-09-06 | チタニア系触媒の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4184451B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6027775A (en) * | 1996-09-30 | 2000-02-22 | Chubu Electric Power Co., Inc. | Crystalline titania and process for producing the same |
| JP2008126127A (ja) * | 2006-11-20 | 2008-06-05 | Noritake Co Ltd | セラミック多孔質膜を備える多孔質材の再生産方法 |
| JP2010088964A (ja) * | 2008-10-03 | 2010-04-22 | Saga Prefecture | チタン酸化物粒子の製造方法 |
| JP2013505820A (ja) * | 2009-09-25 | 2013-02-21 | エクス−マルセイユ ユニヴェルシテ | 超多孔性光触媒材料、その製造方法およびその使用 |
-
1995
- 1995-09-06 JP JP22896695A patent/JP4184451B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6027775A (en) * | 1996-09-30 | 2000-02-22 | Chubu Electric Power Co., Inc. | Crystalline titania and process for producing the same |
| US6537517B1 (en) | 1996-09-30 | 2003-03-25 | Chuba Electric Power Co., Ltd. | Crystalline titania having nanotube crystal shape and process for producing the same |
| JP2008126127A (ja) * | 2006-11-20 | 2008-06-05 | Noritake Co Ltd | セラミック多孔質膜を備える多孔質材の再生産方法 |
| JP2010088964A (ja) * | 2008-10-03 | 2010-04-22 | Saga Prefecture | チタン酸化物粒子の製造方法 |
| JP2013505820A (ja) * | 2009-09-25 | 2013-02-21 | エクス−マルセイユ ユニヴェルシテ | 超多孔性光触媒材料、その製造方法およびその使用 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4184451B2 (ja) | 2008-11-19 |
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