JPH097126A

JPH097126A - 磁気ヘッド及びこの磁気ヘッドを用いた磁気ディスク装置

Info

Publication number: JPH097126A
Application number: JP15473895A
Authority: JP
Inventors: Kiyonari Itou; 研也伊藤
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1995-06-21
Filing date: 1995-06-21
Publication date: 1997-01-10

Abstract

(57)【要約】【目的】高線記録密度化に適した磁気ヘッドを得る。【構成】基体１上に形成された下部磁極２と上部磁極４
とが、端部において非磁性層３を所定のギャップ長を介
して対向するように設ける。上部磁極４と非磁性層３と
の間に、平面スパイラルコイル５を層間絶縁膜２７を介
して設ける。上部磁極４は、非磁性層３に面する方から
順に高抵抗率軟磁性体６、低抵抗率軟磁性体７を積層し
た積層構造の磁極を用いる。【効果】ギャップ付近の磁界が、磁極のトレーリングエ
ッジ及びリーディングエッジに相当する部分の磁界に比
べて遅れることなく反転し、媒体に急峻な磁化反転を形
成することが可能となり、高磁化反転密度化を達成でき
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は磁気ヘッド及びこの磁気
ヘッドを用いた磁気ディスク装置に係り、特に高線記録
密度化と高速転送化に適した薄膜構成の磁気ヘッド及び
この磁気ヘッドを用いた磁気ディスク装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、この種の記録用の磁気ヘッドとし
ては、図７に示すような電磁誘導型薄膜磁気ヘッドが知
られている。図７は磁気ヘッドの従来例を示す要部斜視
図である。同図において、参照符号４０は磁気ヘッドを
示し、この磁気ヘッド４０は例えば酸化Ａｌと炭化Ｔｉ
を主成分とする焼結体から成る基体１上に下部磁極２と
これを覆うように非磁性層３が設けられると共に、非磁
性層３上のコイル５と層間絶縁膜２７を介して上部磁極
４が設けられ、上部磁極４と下部磁極２とは端部におい
て所定のギャップ長となるように非磁性層３を挟んで対
向して構成されている。尚、図中でコイル５は切断して
示してあるが、実際は連続した平面スパイラルコイルを
構成している。更に、下部磁極２と上部磁極４は図示し
ない部分で接続されている。コイル５を挟む上部磁極４
と下部磁極２が、記録ヘッドとして働く。また、これら
は再生ヘッドとして動作することも可能である。下部磁
極２および上部磁極４の磁極材料には、例えば、抵抗率
ρが１６μΩ−ｃｍのＮｉ₁₈Ｆｅ₈₂合金を用いている。
なお、上記のような構成の磁気ヘッド４０に関しては、
例えば、電子情報通信学会誌、Ｖｏｌ．７７Ｎｏ．４
ｐｐ．１１８７−１１９３（１９９４年１１月）など
に開示されている。

【０００３】このような構成の従来の磁気ヘッドを用い
て高線記録密度化を達成するためには、媒体に急峻な磁
化反転を形成する必要があり、このためには記録電流の
極性が反転した時に記録ヘッド磁界を時間的に急峻に反
転させることが必要である。これに関して、図８（ａ）
に示すように例えば２０ｎｓの時点で電流の極性を急峻
に反転させた場合、記録ヘッド磁界分布の長手方向の変
化は図８（ｂ）に模式的に２ｎｓ刻みで示したように一
定の遅れ時間ｄを有して磁極付近で一様に磁界の極性も
反転すると考えられていたが、実測したところ必ずしも
そうはなっていなかった。尚、図８（ｂ）において参照
符号４３は磁気ディスクなどの磁気記録媒体を示してい
て、磁気ヘッド４０と磁気記録媒体４３が静止した状態
での磁界分布図である。

【０００４】例えば、図９は従来の磁気ヘッド４０につ
いて記録電流の極性が１０ｎｓの時点で反転した時の記
録ヘッド磁界分布の長手方向成分を、一定の遅れ時間ｄ
₀後に磁界が反転し始める状態から時間間隔２ｎｓ刻み
で実測した結果であり、時刻１０＋ｄ₀から２８＋ｄ
₀（ｎｓ）にかけての磁界分布は、ヘッド磁界の極性が
図における下向きから上向きへと変化する過程を示して
いる。磁気ヘッド４０のギャップ付近の磁界が、磁極の
トレーリングエッジ及びリーディングエッジに相当する
部分の磁界より遅れて反転していることがわかる。これ
は、電流の極性が反転した直後には、渦電流損失の影響
により、磁束が磁極の表面を流れやすくなるためである
と推察される。

【０００５】この場合、記録電流の極性が反転した直後
に磁気ヘッド４０のトレーリングエッジ付近にあった図
９に示した磁気記録媒体４３の対向する長手方向約５μ
ｍの部分では、記録電流の極性が反転する直前までの磁
化と逆極性の弱い磁界を受けるため、磁化が弱められ
る。しかも、磁気ヘッド４０のギャップ付近にあった磁
気記録媒体４３の対向する部分では、まだ磁界の極性が
完全には反転しておらず、ギャップ付近の磁界が完全に
反転するまでにはある程度の時間（図９の場合は、１８
ｎｓ）を要する。この間、磁気記録媒体４３は磁界強度
が中途半端な磁気ヘッド４０によるヘッド磁界を受ける
ため、飽和磁化できない。この結果、急峻な記録磁化反
転が形成されにくくなり、高密度記録化が困難になると
いう問題点がある。さらに、このような渦電流損失の影
響は記録周波数が高くなるほど顕著になるため、高速転
送化も困難になるという問題点がある。

【０００６】これに対し、特開昭５９−１７８６０９号
公報に、磁極端部に切り欠けを設ける手段や、あるいは
磁極全体を抵抗率の高い材料で構成する手段が開示され
ているが、これらの手段は高周波領域での渦電流損失の
影響により図９に示したようなギャップ付近の磁界が磁
極端部の磁界より遅れて反転する現象が著しく悪化する
ことを防ぐだけで、ギャップ付近の磁界が磁極端部の磁
界より遅れて反転する現象を根本的に抑制することは困
難である。

【０００７】

【本発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、前
記従来技術の問題点を解消し、記録ヘッドのギャップ付
近におけるヘッド磁界が磁極のトレーリングエッジ及び
リーディングエッジ付近の磁界より遅れて反転すること
を抑制し、高線記録密度化に適した磁気ヘッドを提供す
ることにある。また、この磁気ヘッドを用いて高速転送
化且つ高記録密度化が可能な磁気ディスク装置を提供す
ることにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明に係る磁気ヘッドは、非磁性基板上に形成さ
れた第１の軟磁性薄膜コアと、該第１の軟磁性薄膜コア
上に形成された第１の非磁性体と、該第１の非磁性体上
に形成された第２の軟磁性薄膜コアとを少なくとも有す
る磁気ヘッドにおいて、前記第２の軟磁性薄膜コアは抵
抗率が異なる複数の軟磁性体を積層した積層膜から成る
ことを特徴とするものである。すなわち、図１に示した
実施例で言えば、基体１上に順に形成された下部磁極２
と、非磁性層３と、上部磁極４とを少なくとも有する磁
気ヘッドにおいて、上部磁極４が高抵抗率軟磁性体６と
低抵抗率軟磁性体７の異なる抵抗率を有する積層膜から
構成されることを特徴とするものである。

【０００９】或いは、本発明に係る磁気ヘッドは、非磁
性基板上に形成された第１の軟磁性薄膜コアと、該第１
の軟磁性薄膜コア上に形成された第１の非磁性体と、該
第１の非磁性体上に形成された第２の軟磁性薄膜コアを
少なくとも有する磁気ヘッドにおいて、前記第２の軟磁
性薄膜コアは、抵抗率が異なる複数の軟磁性体と非磁性
体との積層膜であって、非磁性体が各軟磁性体間にそれ
ぞれ積層された構成とすることができる。

【００１０】また、本発明に係る磁気ヘッドは、非磁性
基板上に形成された第３の軟磁性薄膜コアと、該第３の
軟磁性薄膜コア上に形成された第３の非磁性体と、該第
３の非磁性体上に形成された外部磁界検出用構造物と、
前記外部磁界検出用構造物上に形成された第２の非磁性
体と、該第２の非磁性体上に形成された第１の軟磁性薄
膜コアとからなる再生ヘッド、並びに、前記第１の軟磁
性薄膜コアと、該第１の軟磁性薄膜コア上に形成された
第１の非磁性体と、該第１の非磁性体上に形成された第
２の軟磁性薄膜コアとからなる記録ヘッド、により構成
される記録再生分離型の磁気ヘッドにおいて、前記第２
の軟磁性薄膜コアは、抵抗率が異なる複数の軟磁性体を
積層した積層膜から成ることを特徴とするものである。
すなわち、図１５に示した実施例で言えば、基体１上に
順に形成された下部シールド層２８と、非磁性層２９
と、外部磁界検出用構造物である磁気抵抗センサ３０及
び導体層３１と、非磁性層３２と、上部シールド層３３
とからなる再生ヘッド、並びに、上部シールド層３３
と、非磁性層３と、上部磁極４とからなる記録ヘッド、
により構成される記録再生分離型の磁気ヘッドにおい
て、上部磁極４が高抵抗率軟磁性体６と低抵抗率軟磁性
体７の異なる抵抗率を有する積層膜から構成されること
を特徴とするものである。

【００１１】また、本発明に係る磁気ヘッドは、上記記
録再生分離型の磁気ヘッドにおいて、第２の軟磁性薄膜
コアを、抵抗率が異なる複数の軟磁性体と非磁性体との
積層膜であって、非磁性体が各軟磁性体間にそれぞれ積
層された構成とすることもできる。また、前記第２の軟
磁性薄膜コアを構成する複数の軟磁性体のうち、最も抵
抗率の高い部分の軟磁性体が、最も抵抗率の低い部分の
軟磁性体の少なくとも３倍の抵抗率を有すれば好適であ
る。

【００１２】或いは、前記第２の軟磁性薄膜コアを構成
する複数の軟磁性体のうち、前記第１の非磁性体に隣接
する方の軟磁性体の抵抗率を、第２の軟磁性薄膜コアに
おける他の軟磁性体部分の抵抗率よりも高く設定しても
よい。

【００１３】また、前記第２の軟磁性薄膜コアを構成す
る複数の軟磁性体のうち、前記第１の非磁性体に隣接す
る部分の軟磁性体及び前記第１の非磁性体から最も離れ
た部分の軟磁性体の抵抗率を、第２の軟磁性薄膜コアに
おける他の軟磁性体部分の抵抗率よりも低く設定するこ
ともできる。また、前記第２の軟磁性薄膜コアの内部
に、第２の軟磁性薄膜コアにおける他の軟磁性体部分よ
りも抵抗率の高い材料の軟磁性体を設けることもでき
る。

【００１４】更に、前記第１の軟磁性薄膜コアが、抵抗
率の異なる複数の軟磁性体を積層した積層膜から構成す
れば好適である。或いは、前記第１の軟磁性薄膜コアを
構成する複数の軟磁性体のうち、第１の非磁性体に隣接
する方の軟磁性体の抵抗率を、第１の軟磁性薄膜コアに
おける他の軟磁性体部分の抵抗率よりも高く設定しても
よい。

【００１５】また、前記第１の軟磁性薄膜コアを構成す
る複数の軟磁性体のうち、第１の非磁性体に隣接する部
分の軟磁性体及び前記非磁性基板に隣接する部分の軟磁
性体の抵抗率を、第１の軟磁性薄膜コアにおける他の軟
磁性体部分の抵抗率よりも低く設定することもできる。

【００１６】また更に、前記第１の軟磁性薄膜コアの内
部に、第１の軟磁性薄膜コアにおける他の軟磁性体部分
よりも抵抗率の高い材料、すなわち図６に示した実施例
で言えば、下部磁極２の内部に低抵抗率の軟磁性体２４
よりも抵抗率の高い軟磁性体２３を設けてもよい。

【００１７】本発明に係る磁気ディスク装置は、少なく
とも１つの磁気記録媒体と、該磁気記録媒体を回転駆動
するための磁気記録媒体駆動部と、少なくとも１つの磁
気記録媒体に記録／再生する磁気ヘッドと、該磁気ヘッ
ドを磁気記録媒体上の径方向に駆動するための磁気ヘッ
ド駆動部と、磁気ヘッドへの記録信号及び磁気ヘッドか
らの再生信号を処理すると共に磁気記録媒体駆動部及び
磁気ヘッド駆動部の制御信号を処理する信号処理系とを
有する磁気ディスク装置において、磁気ヘッドとして前
述した上部磁極が少なくとも抵抗率のことなる積層膜か
らなるいずれかの磁気ヘッドを用いることを特徴とする
ものである。

【００１８】

【作用】所定のギャップ長を介して対向する上部磁極お
よび下部磁極を有する磁気記録ヘッドの、少なくとも上
部磁極を抵抗率の異なる複数の軟磁性体で構成すること
により、記録電流の極性が反転した時に、ギャップ付近
の磁界が磁極端部（磁極のトレーリングエッジ及びリー
ディングエッジ）付近の磁界に比べて遅れずに、あるい
は先に反転するため、磁気記録媒体に急峻な磁化反転を
形成することが可能となる。以下に、ギャップ付近の磁
界と磁極端部付近の磁界の磁化反転について図１０〜図
１３を用いて説明する。

【００１９】記録電流の極性が図１０（ａ）に示すよう
に例えば２０ｎｓの時点で変化した場合におけるヘッド
磁界分布の変化を、磁界の位相遅れの仕方によって３種
類に大別して同図（ｂ），（ｃ），（ｄ）にそれぞれ模
式的に示す。ここで、図１０（ｂ）は磁界分布がリーデ
ィングエッジ付近からギャップ付近及びトレーリングエ
ッジ付近まで一様な位相で変化する場合の磁界分布の変
化を模式的に示す図であり、同図（ｃ）は図９の測定結
果で示したように記録ヘッドのギャップ付近における磁
界の位相が記録ヘッド磁極端部（リーディングエッジ及
びトレーリングエッジ）付近の磁界の位相より遅れる場
合の磁界分布の変化を模式的に示す図であり、同図
（ｄ）は記録ヘッド磁極端部付近の磁界の位相が記録ヘ
ッドのギャップ付近における磁界の位相より遅れる場合
の磁界分布の変化を模式的に示す図である。尚、同図に
おいて、ｄ，ｄ’，ｄ”は、それぞれ記録電流が変化し
てからヘッド磁界が変化し始めるまでの一定の遅れ時間
であり、同図は磁気ヘッドと磁気記録媒体４３とが静止
した状態でのヘッド磁界分布の変化を時間間隔２ｎｓ刻
みで示した図である。

【００２０】図１０（ｂ），（ｃ），（ｄ）に示した磁
界分布の変化をそれぞれ有するヘッドで記録が行なわれ
た場合の、磁気記録媒体４３の記録磁化過程について考
察する。

【００２１】まず、図１０（ｂ）で示した様な磁界分布
の変化を有する記録ヘッドで磁気記録媒体４３に記録を
行う過程における、ヘッド磁界及び媒体磁化分布の変化
を模式的に図１１の（ａ）〜（ｇ）に示す。尚、図１１
と後述の図１２及び図１３において磁気記録媒体４３は
予め直流消去されており、この磁気記録媒体４３上を所
要の浮上量を有して記録ヘッドが磁界を発しながら図中
左から右へと相対的に移動し、その途中で磁界の極性が
反転して磁気記録媒体４３の磁化を反転させる場合を想
定している。磁界および磁化の分布は、予め直流消去さ
れた磁気記録媒体４３の磁化と逆極性の向きを正（＋）
の向きとして表示する。図１１（ａ）〜（ｃ）では、ヘ
ッド磁界が予め直流消去された磁気記録媒体４３の磁化
と同極性であるため、図中太線で示すように磁気記録媒
体４３の磁化はほとんど変化しない。図１１（ｄ）から
ヘッド磁界の極性が反転し、図１１（ｅ）〜（ｆ）にか
けて磁界強度が大きくなるにつれて磁気記録媒体４３の
磁化も正の向きへと反転する。その後は正の向きの磁化
が引き続き形成され、記録ヘッドが通過した後には図１
１（ｇ）に示すような残留磁化パターンが形成される。

【００２２】次に、図１０（ｃ）で示した様な磁界分布
の変化を有する記録ヘッドで磁気記録媒体４３に記録を
行う過程における、ヘッド磁界及び媒体磁化分布の変化
を模式的に図１２の（ａ）〜（ｇ）に示す。図１０
（ｃ）で示した様な磁界分布の変化を有する記録ヘッド
では、図１２（ｂ）に示すようにギャップ付近よりも磁
極端部付近で先にヘッド磁界の極性が反転し始めるた
め、磁極端部付近のヘッド磁界の極性が反転し始めた時
点で磁極端部付近にあった磁気記録媒体部分は、図１２
の（ｃ）〜（ｇ）に示すように磁極端部付近の弱い反転
磁界で磁化が弱められてから残留磁化に到達する。この
ため図１２（ｇ）中に、点線Ｇで示した図１１（ｇ）の
残留磁化状態と比べて分かるように、磁気記録媒体４３
上で磁化の反転に要する部分の長さ（磁化反転長）が長
くなる。

【００２３】次に、図１０（ｄ）で示した様な磁界分布
の変化を有する記録ヘッドで磁気記録媒体４３に記録を
行う過程における、ヘッド磁界及び媒体磁化分布の変化
を模式的に図１３の（ａ）〜（ｇ）に示す。前述の図１
０（ｂ），（ｃ）の様な特性の記録ヘッドに対して、図
１０（ｄ）で示した様な磁界分布の変化を有する記録ヘ
ッドでは、図１３の（ｂ）に示すように磁極端部付近よ
りもギャップ付近で先にヘッド磁界の極性が反転し始め
るため、ギャップ付近で磁界の極性が反転する前に磁極
端部付近で磁気記録媒体の磁化が弱められることがな
い。その結果、図１３（ｃ）〜（ｆ）に示したように磁
化反転が進み、図１３（ｇ）に示したような残留磁化状
態に到達する。図１３（ｆ），（ｇ）に、それぞれ図１
１（ｆ），（ｇ）の対応する磁化反転状態を点線Ｆ，Ｇ
で示したように、磁気記録媒体４３上で磁化反転長が図
１１の場合よりも短くなることが分かる。

【００２４】ここで、従来例では、図９に示した測定結
果のように、記録ヘッドのギャップ付近における磁界の
位相が、記録ヘッド磁極端部付近の磁界の位相より遅れ
る傾向にあることから、従来例の磁気記録ヘッド４０は
図１０（ｃ）に示した磁界分布の変化を有し、図１２に
示した記録磁化過程に相当すると考えられる。なお、従
来例の磁気ヘッド４０でも、抵抗率の高い材料を磁極に
用いるなどした場合には、位相遅れが軽減され、図１０
（ｂ）に示したような磁界分布の変化、及び図１１に示
したような記録磁化過程に近い状態になることも考えら
れるが、磁極材料の抵抗率が均一であるので、記録ヘッ
ド磁極端部付近における磁界の位相が、記録ヘッドのギ
ャップ付近の磁界の位相より遅れるような磁界分布の変
化を達成することはできない。

【００２５】これに対し、本発明の磁気ヘッドは、前述
した対向する上部磁極および下部磁極を有する磁気記録
ヘッドの、少なくとも上部磁極を抵抗率の異なる複数の
軟磁性体で構成としたことにより、記録ヘッドの磁極端
部よりもギャップ付近の方が磁界の位相遅れを生じにく
い状態となるため、図１０（ｄ）に示した磁界分布の変
化を有し、図１３に示した記録磁化過程に相当する磁化
反転長の短い記録磁化状態を実現することができる。磁
化反転長を短くできると、単位長さ当たりに、より多く
の情報を記録できるので、高線記録密度化を達成でき
る。

【００２６】また、軟磁性薄膜コアに部分的に抵抗率の
高い材料を用いているため、記録周波数を高くして高記
録密度化及び高速転送化を図っても、低周波記録を行っ
た場合と同等の記録を実現、すなわち同じ程度の高いレ
ベルの再生出力を得ることができる。従って、本発明の
磁気ヘッドを用いることにより、高線記録密度化及び高
速転送化された磁気ディスク装置を得ることができる。

【００２７】

【実施例】次に、本発明に係る磁気ヘッド及びこの磁気
ヘッドを用いた磁気ディスク装置の実施例につき、添付
図面を参照しながら以下詳細に説明する。

【００２８】＜実施例１＞図１は本発明に係る磁気ヘッ
ドの一実施例を模式的に示す要部斜視図であり、基体上
に形成された記録用の電磁誘導型磁気ヘッドである。同
図において参照符号５０は磁気ヘッドを示し、この磁気
ヘッド５０はスライダ用の基体１上に下部磁極２と、こ
れを覆うように設けられた非磁性層３と、非磁性層３上
のコイル５および層間絶縁膜２７を介して設けられた上
部磁極４とからなり、上部磁極４と下部磁極２とは端部
において所定のギャップ長となるように非磁性層３を挟
んで対向して構成されている。コイル５を挟む上部磁極
４と下部磁極２が、記録ヘッド及び再生ヘッドとして働
く。尚、図中でコイル５は切断して示してあるが実際は
連続した平面スパイラルコイルを構成し、上部磁極４と
下部磁極２は図示しない部分で接続されて磁束を導く磁
気コアを構成している。

【００２９】本実施例と図７に示した従来例の構成で相
違する点は、上部磁極４が従来例のような単層ではな
く、抵抗率の異なる軟磁性体６と７の２層構造から構成
されている点である。すなわち、上部磁極４を抵抗率の
異なる複数の軟磁性体を積層した積層膜で構成し、この
うち下部磁極２に面している部分の軟磁性体６に上部磁
極４における他の部分の軟磁性体７よりも抵抗率の高い
材料を用いる点である。なお、磁極用材料としては、Ｃ
ｏＮｉＦｅ、ＮｉＦｅ、ＦｅＡｌＳｉ、ＦｅＴａＮ、Ｆ
ｅＴａＣＡｌなどの多結晶軟磁性薄膜、ＣｏＴａＺｒな
どのアモルファス軟磁性薄膜、ＦｅＳｉ／ＳｉＯ₂、Ｆ
ｅＴａＮ／ＳｉＯ₂などの人工格子膜のいずれでもよ
い。

【００３０】このような磁気ヘッド５０は、例えば次の
ようにして作製する。まず、基体１として酸化Ａｌと炭
化Ｔｉを主成分とする厚さ２ｍｍの焼結体を用い、基体
１上に下部磁極２となるＮｉＦｅ合金膜をスパッタ法に
より２μｍの厚さ堆積して、周知の光学露光法によりホ
トレジストパターンを形成し、次いで同パターンをマス
クにイオンミリング法等のドライプロセス（以下、単に
ホトエッチングと称する）により上部磁極４と対向する
端部における幅すなわちトラック幅が４μｍとなるよう
に加工する。次いで、非磁性層３としてＡｌ₂Ｏ₃膜をス
パッタあるいはＣＶＤ法により下部磁極２の端部上の厚
さすなわちギャップ長が０．４μｍとなるように全面に
堆積する。

【００３１】次に、Ｃｕを用いてメッキ法あるいは蒸着
法により３μｍの厚さの平面スパイラルコイル５を形成
後、層間絶縁膜２７となるＡｌ₂Ｏ₃膜をスパッタ法によ
り３．５μｍ程度堆積する。そして、ホトエッチングに
より下部磁極２の端部と対向する部分及び上部磁極４と
接続する部分（不図示）の層間絶縁膜２７を除去する。

【００３２】更に、上部磁極４となる抵抗率の異なる複
数の軟磁性体層を形成するために、非磁性層３に面して
いる方から順に、抵抗率５０μΩ−ｃｍのＮｉ₄₂Ｆｅ₅₈
合金膜６、及び抵抗率１６μΩ−ｃｍのＮｉ₁₈Ｆｅ₈₂合
金膜７を、スパッタ法によりそれぞれ１．５μｍの厚さ
に堆積する。次いで、ホトエッチングにより上部磁極４
を、対向する下部磁極２の端部上で幅４μｍとなるよう
に加工すれば図１の構造の磁気ヘッドが得られる。尚、
本実施例のように上部磁極４を構成する抵抗率が異なる
複数の軟磁性体層は、高抵抗率の軟磁性体６が軟磁性体
７の抵抗率の少なくとも３倍の抵抗率を有することが好
ましい。

【００３３】ここで、本実施例の磁気ヘッド５０を搭載
した磁気ディスク装置の一例について、図２１を用いて
説明する。図２１は磁気ディスク装置の概略構成図であ
り、（ａ）は平面図、（ｂ）は平面図中にＡ−Ａ’線で
示した部分の断面図である。図２１において参照符号４
３は磁気記録媒体を示し、例えばＣｏ系スパッタ媒体の
磁気ディスク、４４は磁気記録媒体を回転駆動する磁気
記録媒体駆動部、４６は磁気ヘッドを磁気記録媒体上で
径方向に移動するためのいわゆるロータリアクチュエー
タとよばれる磁気ヘッド駆動部、４７は磁気ヘッドの記
録／再生信号を処理する記録再生信号処理系および磁気
ヘッドや磁気記録媒体の駆動を制御する制御信号処理系
からなる信号処理部、５０は磁気記録媒体上に信号を記
録再生するための本実施例の磁気ヘッドである。複数枚
の磁気記録媒体４３が磁気記録媒体駆動部４４に装着さ
れ、各磁気記録媒体４３の表裏面にそれぞれ磁気ヘッド
５０が設けられている。

【００３４】この磁気ディスク装置における再生波形信
号処理には位相弁別方式を用い、磁気ヘッド５０の位置
決めにはサーボトラック位置決め方式を用いており、Ｃ
ｏ系スパッタ媒体を用いた磁気記録媒体４３の磁気特性
は、残留磁化と磁性膜厚の積が７０ガウスミクロンメー
タ、周方向保磁力が３０００エルステッド、磁気記録媒
体駆動部４４の回転数は７２００ｒｐｍである。

【００３５】このように構成される図１の磁気ヘッド５
０を備えた磁気ディスク装置を用いて、磁気記録媒体４
３に信号を記録した場合における再生出力の磁化反転密
度及び記録周波数依存性の測定結果の特性線ａを図１４
に示す。上部磁極４と下部磁極２に低抵抗率１６μΩ−
ｃｍのＮｉ₁₈Ｆｅ₈₂合金を用いた従来の磁気ヘッドの特
性線ｃ、及び渦電流損失の影響を小さくするために磁極
全体を高抵抗率の材料で構成する場合すなわち両磁極
２，４に高抵抗率５０μΩ−ｃｍのＮｉ₄₂Ｆｅ₅₈合金を
用いて従来の対策を施した磁気ヘッドで記録した場合の
特性線ｂについても併せて示す。従来構造で低抵抗率の
軟磁性体だけで磁極を構成した場合の特性線ｃに対して
従来の対策を施した場合の特性線ｂは改善が見られる
が、本実施例の構造の磁気ヘッド５０で記録した方の特
性線ａは更に高磁化反転密度及び高記録周波数領域で高
い再生出力が得られていることが分かる。すなわち、本
実施例の磁気ヘッドは高線記録密度化、高速転送化に適
していることが分かる。

【００３６】また、本実施例による磁気ヘッド５０の下
部磁極２を再生ヘッドの上部シールド層と兼用する構造
の図１５に示すような記録再生分離型ヘッドの場合につ
いて説明する。図１５は、本実施例の磁気ヘッド５０を
記録ヘッドに用い、再生ヘッドとしてＭＲ（magneto re
sistive)ヘッドを用いた記録再生分離型ヘッドの一例を
示す要部斜視図である。ＭＲヘッドは、ヘッドを通過す
る磁束量を抵抗変化として検出するので、読み出し電圧
が記録媒体の速度に依存せず再生感度が高いという利点
があるため、小型化及び高密度化に適した再生ヘッドで
ある。なお、図１５において、構成を分かりやすくする
ためにコイル５及び導体層３１上の非磁性層３２から上
部磁極４の下の非磁性層２７は一部切断して示してあ
る。また、図１に示した磁気ヘッド５０と同一の部分に
ついては、同一の参照符号を付して説明する。

【００３７】図１５において参照符号６０は記録再生分
離型ヘッドを示し、この記録再生分離型ヘッド６０は基
体１上に再生ヘッド部を、その上に記録ヘッド部を形成
している。再生ヘッド部は、酸化Ａｌと炭化Ｔｉを主成
分とする焼結体からなる基板１と、基板１上にスパッタ
法により順次堆積されたＮｉＦｅ合金膜からなる厚さ２
μｍの下部シールド層２８及びＡｌ₂Ｏ₃膜からなる０．
２μｍの非磁性層２９と、厚さ７０ｎｍの磁気抵抗セン
サ部３０と、導体層３１と、更に全面を覆うように順次
堆積されたＡｌ₂Ｏ₃膜からなる０．３μｍの非磁性層３
２及びＮｉＦｅ合金膜からなる厚さ２μｍの上部シール
ド層３３とから構成される。ここで、図１６に磁気抵抗
センサ部３０の拡大図を示す。磁気抵抗センサ部３０
は、単磁区化するためのＮｉＯからなる反強磁性磁区制
御層３４と、ＮｉＦｅ膜からなる磁気抵抗性導電層３５
と、５ｎｍ厚さのＡｌ₂Ｏ₃からなる非磁性層３６と、Ｎ
ｉＦｅＮｂ膜からなる軟磁性層３７とから構成され、こ
の軟磁性層３７上に所定間隔をおいて０．１μｍ厚さの
Ｃｕ膜からなる導体層３１，３１が設けられている。

【００３８】記録ヘッド部は、図１に示した下部磁極２
として働く上部シールド層３３と、上部シールド層３３
上に堆積された厚さ０．４μｍ（記録ヘッドのギャップ
長に相当する）のＡｌ₂Ｏ₃膜からなる非磁性層３と、平
面スパイラルコイル５と、層間絶縁膜２７と、高抵抗率
軟磁性体６及び低抵抗率軟磁性体７の２層構造の上部磁
極４とから構成される。尚、上部磁極４と上部シールド
層３３とは、図示しない部分で接続され、磁束を導く磁
気コアを構成している。すなわち、記録再生分離型ヘッ
ド６０の記録ヘッド部の構成は、下部磁極として図１の
ようにパターニングせずに堆積層のまま用いられ、この
下部磁極が再生ヘッド部による再生時には上部シールド
層として働く構造となっている点が図１の磁気記録ヘッ
ド５０と相違するが、前記磁気ディスク装置の磁気ヘッ
ドにこの記録再生分離型ヘッド６０を適用して図１４に
示した高磁化反転密度及び高記録周波数領域での図１の
磁気ヘッド５０と同様の効果が得られた。

【００３９】また、渦電流損失の影響をさらに抑えて高
周波化を図るために、図１の磁気ヘッド５０の上部磁極
４に対して、上部磁極４を構成する各軟磁性体６，７間
に厚さ２０ｎｍのＡｌ₂Ｏ₃膜からなる非磁性層を設けた
構成とした場合の磁気ヘッド（不図示）でも、図１の磁
気ヘッド５０とほぼ同様の磁化反転密度で、同じ再生出
力が得られた。

【００４０】＜実施例２＞図２は、本発明に係る磁気ヘ
ッドの別の実施例を模式的に示す要部斜視図である。
尚、図１に示した実施例１と同一の構成部分について
は、説明の便宜上、同一の参照符号を付してその詳細な
説明は省略する。すなわち、本実施例の磁気ヘッド５１
では、上部磁極４が抵抗率の異なる３層の軟磁性体８，
９，１０から構成され、かつ、下部磁極２に面している
部分の軟磁性体８及び下部磁極２から最も離れている部
分の軟磁性体１０に上部磁極４における他の部分の軟磁
性体９よりも抵抗率の低い材料を用いている点が実施例
１の構造と相違する。

【００４１】このような磁気ヘッド５１は、例えば次の
ようにして作製する。ここで、酸化Ａｌと炭化Ｔｉを主
成分とする厚さ２ｍｍの焼結体からなるスライダ用の基
体１上に、ＮｉＦｅ合金膜の厚さ２μｍでトラック幅４
μｍの下部磁極２、Ａｌ₂Ｏ₃膜の非磁性層３、厚さ３μ
ｍのＣｕからなる平面スパイラルコイル５、およびＡｌ
₂Ｏ₃膜の層間絶縁膜２７を順次形成し加工する工程は、
前述した実施例１の図１と同様である。

【００４２】次いで、上部磁極４となる軟磁性体８，
９，１０をスパッタ法を用いて堆積する。このとき、非
磁性層３に面している方から順に、抵抗率１６μΩ−ｃ
ｍのＮｉ₁₈Ｆｅ₈₂合金からなる軟磁性体８を厚さ０．５
μｍ、抵抗率５０μΩ−ｃｍのＮｉ₄₂Ｆｅ₅₈合金からな
る軟磁性体９を厚さ１．５μｍ、及び抵抗率１６μΩ−
ｃｍのＮｉ₁₈Ｆｅ₈₂合金からなる軟磁性体１０を厚さ１
μｍ積層する。次に、ホトエッチングにより、３層から
なる上部磁極４を、下部磁極２の端部上で幅４μｍとな
るように加工すれば、図２の構造の磁気ヘッドが得られ
る。尚、本実施例でも高抵抗率の軟磁性体９は、低抵抗
率の軟磁性体８，１０の少なくとも３倍の抵抗率を有す
ることが渦電流損失の影響を回避する上で好ましい。

【００４３】本実施例の磁気ヘッド５１を前述した図２
１に示す磁気ディスク装置において、磁気ヘッド５０の
代りとして用いた場合、信号を記録した磁気記録媒体４
３に対する再生出力の磁化反転密度及び記録周波数依存
性の測定結果は、図１４に示した実施例１と同等の再生
出力特性が得られた。従って、本実施例の構造を有する
磁気ヘッド５１も高線記録密度化に適していることが分
かる。

【００４４】また、本実施例による磁気ヘッド５１の下
部磁極２を再生ヘッドの上部シールド層と兼用する図１
７に示すような記録再生分離型ヘッド６１でも、同様の
効果が得られた。なお、図１５に示した記録再生分離型
ヘッド６０と同一の部分については、説明の便宜上、同
一の参照符号を付してその詳細な説明は省略する。すな
わち、この記録再生分離型ヘッド６１は、記録部を構成
する上部磁極４が非磁性層３に面する方から順に低抵抗
率軟磁性体８、高抵抗率軟磁性体９、及び低抵抗率軟磁
性体１０を積層した積層膜から構成されている点が、図
１５の記録再生分離型ヘッド６０と相違する点である。

【００４５】また、渦電流損失の影響をさらに抑えて高
周波化を図るために、図２の磁気ヘッド５１の上部磁極
４に対して、上部磁極４を構成する軟磁性体８，９間と
軟磁性体９，１０間にそれぞれ厚さ２０ｎｍのＡｌ₂Ｏ₃
膜からなる非磁性層を設けた構成とした場合の磁気ヘッ
ド（不図示）でも、図２の磁気ヘッド５１とほぼ同様の
磁化反転密度で、同じ再生出力が得られた。

【００４６】＜実施例３＞図３は、本発明に係る磁気ヘ
ッドのまた別の実施例を模式的に示す要部斜視図であ
る。尚、図１に示した実施例１と同一の構成部分につい
ては、説明の便宜上、同一の参照符号を付してその詳細
な説明は省略する。すなわち、本実施例の磁気ヘッド５
２では、上部磁極４が軟磁性体１２の内部に抵抗率の異
なる軟磁性体１１を有する構造からなり、この軟磁性体
１１の抵抗率が上部磁極４における他の部分の軟磁性体
１２の抵抗率よりも高い材料を用いている点が実施例１
の構造と相違する。

【００４７】このような構造の磁気ヘッドは、例えば次
のようにして作製できる。ここで、酸化Ａｌと炭化Ｔｉ
を主成分とする厚さ２ｍｍの焼結体からなる基体１上
に、ＮｉＦｅ合金膜の厚さ２μｍでトラック幅４μｍの
下部磁極２、Ａｌ₂Ｏ₃膜の非磁性層３、厚さ３μｍのＣ
ｕからなる平面スパイラルコイル、およびＡｌ₂Ｏ₃膜の
層間絶縁膜２７を順次形成し加工する工程は、前述した
実施例１の図１と同様である。

【００４８】次いで、非磁性層３に面している方から順
に、上部磁極４となる抵抗率１６μΩ−ｃｍのＮｉ₁₈Ｆ
ｅ₈₂合金からなる軟磁性体１２を０．５μｍ、抵抗率５
０μΩ−ｃｍのＮｉ₄₂Ｆｅ₅₈合金からなる軟磁性体１１
を１．５μｍスパッタ法により堆積し、ホトエッチング
により軟磁性体１１を下部磁極２の端部上で幅３．４μ
ｍとなるように加工した後、抵抗率１６μΩ−ｃｍのＮ
ｉ₁₈Ｆｅ₈₂合金からなる軟磁性体１２を再度スパッタ法
により１．０μｍ堆積し、ホトエッチングにより、この
軟磁性体１２の積層膜を下部磁極２の端部上で幅４．０
μｍとなるように加工すれば、高抵抗率の軟磁性体１１
が低抵抗率の軟磁性体１２で囲まれた図３の構造の磁気
ヘッド５２が得られる。尚、本実施例でも高抵抗率の軟
磁性体１１は、低抵抗率の軟磁性体１２の少なくとも３
倍の抵抗率を有することが渦電流損失の影響を回避する
上で好ましい。

【００４９】本実施例の磁気ヘッド５２を前述した図２
１に示す磁気ディスク装置において、磁気ヘッド５０の
代りとして用いた場合、信号を記録した磁気記録媒体４
３に対する再生出力の磁化反転密度及び記録周波数依存
性の測定結果は、図１４に示した実施例１と同等の再生
出力特性が得られた。従って、本実施例の構造を有する
磁気ヘッド５２も高線記録密度化に適していることが分
かる。

【００５０】また、本実施例による磁気ヘッド５２の下
部磁極２を再生ヘッドの上部シールド層と兼用する図１
８に示すような記録再生分離型ヘッド６２でも、同様の
効果が得られた。なお、図１５に示した記録再生分離型
ヘッド６０と同一の部分については、説明の便宜上、同
一の参照符号を付してその詳細な説明は省略する。すな
わち、この記録再生分離型ヘッド６２は、記録部を構成
する上部磁極４が低抵抗率軟磁性体１２の内部に高抵抗
率軟磁性体１１を有する構造となっている点が、図１５
の記録再生分離型ヘッド６０と相違する点である。

【００５１】また、渦電流損失の影響をさらに抑えて高
周波化を図るために、図３の磁気ヘッド５２の上部磁極
４に対して、上部磁極４を構成する軟磁性体１１，１２
間に厚さ２０ｎｍのＡｌ₂Ｏ₃膜からなる非磁性層を設け
た構成とした場合の磁気ヘッド（不図示）でも、図３の
磁気ヘッド５２とほぼ同様の磁化反転密度で、同じ再生
出力が得られた。

【００５２】＜実施例４＞図４は、本発明に係る磁気ヘ
ッドの更に別の実施例を模式的に示す要部斜視図であ
る。尚、図１に示した実施例１と同一の構成部分につい
ては、説明の便宜上、同一の参照符号を付してその詳細
な説明は省略する。すなわち、本実施例の磁気ヘッド５
３では、下部磁極２が抵抗率の異なる複数の軟磁性体１
３，１４の積層膜からなり、かつ、上部磁極４に面して
いる部分の軟磁性体１４が下部磁極２における他の部分
の軟磁性体１３よりも抵抗率の高い材料を用いている点
が実施例１の構造と相違する。

【００５３】このような構造の磁気ヘッドは、例えば次
のようにして作製できる。まず、酸化Ａｌと炭化Ｔｉを
主成分とする厚さ２ｍｍの焼結体からなるスライダ用の
基体１上に、基体１に面している方から順に抵抗率１６
μΩ−ｃｍのＮｉ₁₈Ｆｅ₈₂合金からなる低抵抗率軟磁性
体１３を厚さ１μｍ、抵抗率５０μΩ−ｃｍのＮｉ₄₂Ｆ
ｅ₅₈合金からなる高抵抗率軟磁性体１４を厚さ１μｍ、
スパッタ法を用いて積層し、ホトエッチングにより上部
磁極４と対向する端部における幅が４μｍとなるように
加工する。次いで、非磁性層３としてＡｌ₂Ｏ₃膜をスパ
ッタあるいはＣＶＤ法により下部磁極２の端部上の厚さ
が０．４μｍとなるように全面に堆積後、３μｍ厚さの
Ｃｕからなる平面スパイラルコイル５、Ａｌ₂Ｏ₃からな
る層間絶縁膜２７、Ｎｉ₄₂Ｆｅ₅₈合金からなる５０μΩ
−ｃｍの軟磁性体６とＮｉ₁₈Ｆｅ₈₂合金からなる１６μ
Ω−ｃｍの軟磁性体７との２層膜で構成する上部磁極４
を前述した実施例１と同様に形成し、加工すればよい。
尚、本実施例でも高抵抗率の軟磁性体６，１４は、低抵
抗率の軟磁性体７，１３の少なくとも３倍の抵抗率を有
することが渦電流損失の影響を回避する上で好ましい。

【００５４】本実施例の磁気ヘッド５３を前述した図２
１に示す磁気ディスク装置において、磁気ヘッド５０の
代りとして用いた場合、信号を記録した磁気記録媒体４
３に対する再生出力の磁化反転密度及び記録周波数依存
性の測定結果は、図１４に示した実施例１と同等の再生
出力特性が得られた。従って、本実施例の構造を有する
磁気ヘッド５３も高線記録密度化に適していることが分
かる。

【００５５】また、本実施例による磁気ヘッド５３の下
部磁極２を再生ヘッドの上部シールド層と兼用する図１
９に示すような記録再生分離型ヘッド６３でも、同様の
効果が得られた。なお、図１５に示した記録再生分離型
ヘッド６０と同一の部分については、説明の便宜上、同
一の参照符号を付してその詳細な説明は省略する。すな
わち、この記録再生分離型ヘッド６３は、記録部を構成
する上部磁極４が非磁性層３に面する方から順に高抵抗
率軟磁性体６、低抵抗率軟磁性体７を積層した２層膜か
ら構成されている点、及び上部シールド層３３と兼用す
る下部磁極が非磁性層３に面する方から順に高抵抗率軟
磁性体１４と低抵抗率軟磁性体１３の２層構造からなる
点が、図１５の記録再生分離型ヘッド６０と相違する点
である。

【００５６】また、渦電流損失の影響をさらに抑えて高
周波化を図るために、図４の磁気ヘッド５３の上部磁極
４に対して、上部磁極４を構成する軟磁性体６，７間に
厚さ２０ｎｍのＡｌ₂Ｏ₃膜からなる非磁性層を設けた構
成とした場合の磁気ヘッド（不図示）でも、図４の磁気
ヘッド５３とほぼ同様の磁化反転密度で、同じ再生出力
が得られた。

【００５７】＜実施例５＞図５は、本発明に係る磁気ヘ
ッドのまた別の実施例を模式的に示す要部斜視図であ
る。尚、図２に示した実施例２と同一の構成部分につい
ては、説明の便宜上、同一の参照符号を付してその詳細
な説明は省略する。すなわち、本実施例の磁気ヘッド５
４では、下部磁極２が抵抗率の異なる複数の軟磁性体１
７，１８，１９から構成され、かつ、上部磁極４に面し
ている部分の軟磁性体１９及び基体１に面している部分
の軟磁性体１７に、下部磁極２における他の部分の軟磁
性体１８よりも抵抗率の低い材料を用いている点が実施
例２の図２の構造と相違する。

【００５８】このような構造の磁気ヘッドは、例えば次
のようにして作製できる。まず、酸化Ａｌと炭化Ｔｉを
主成分とする厚さ２ｍｍの焼結体からなるスライダ用の
基体１上に、基体１に面している方から順に抵抗率１６
μΩ−ｃｍのＮｉ₁₈Ｆｅ₈₂合金からなる軟磁性体１７を
厚さ１μｍ、抵抗率５０μΩ−ｃｍのＮｉ₄₂Ｆｅ₅₈合金
からなる軟磁性体１８を厚さ０．５μｍ、及び抵抗率１
６μΩ−ｃｍのＮｉ₁₈Ｆｅ₈₂合金からなる軟磁性体１９
を０．５μｍ、スパッタ法を用いて積層し、ホトエッチ
ングにより上部磁極４と対向する端部における幅が４μ
ｍとなるように加工する。

【００５９】次いで、非磁性層３としてＡｌ₂Ｏ₃膜をス
パッタあるいはＣＶＤ法により下部磁極２の端部上の厚
さが０．４μｍとなるように全面に堆積後、３μｍ厚さ
のＣｕからなる平面スパイラルコイル５、Ａｌ₂Ｏ₃から
なる層間絶縁膜２７、抵抗率の異なる軟磁性体８，９，
１０からなる上部磁極４を、前述した実施例２と同様に
形成し、加工すればよい。尚、本実施例でも高抵抗率の
軟磁性体９，１８は、低抵抗率の軟磁性体８，１０，１
７，１９の少なくとも３倍の抵抗率を有することが渦電
流損失の影響を回避する上で好ましい。

【００６０】本実施例の磁気ヘッド５４を前述した図２
１に示す磁気ディスク装置において、磁気ヘッド５０の
代りとして用いた場合、信号を記録した磁気記録媒体４
３に対する再生出力の磁化反転密度及び記録周波数依存
性の測定結果は、図１４に示した実施例１と同等の再生
出力特性が得られた。従って、本実施例の構造を有する
磁気ヘッド５４も高線記録密度化に適していることが分
かる。

【００６１】また、本実施例による磁気ヘッド５４の下
部磁極２を再生ヘッドの上部シールド層と兼用する図２
０に示すような記録再生分離型ヘッド６４でも、同様の
効果が得られた。なお、図１５に示した記録再生分離型
ヘッド６０と同一の部分については、説明の便宜上、同
一の参照符号を付してその詳細な説明は省略する。すな
わち、この記録再生分離型ヘッド６４は、記録部を構成
する上部磁極４が非磁性層３に面する方から順に低抵抗
率軟磁性体８、高抵抗率軟磁性体９、低抵抗率軟磁性体
１０を積層した３層膜から構成されている点、及び上部
シールド層と兼用する下部磁極が非磁性層３に面する方
から順に低抵抗率軟磁性体１９、高抵抗率軟磁性体１
８、低抵抗率軟磁性体１７を積層した３層構造からなる
点が、図１５の記録再生分離型ヘッド６０と相違する点
である。

【００６２】また、渦電流損失の影響をさらに抑えて高
周波化を図るために、図５の磁気ヘッド５４の上部磁極
４に対して、上部磁極４を構成する軟磁性体８，９間及
び９，１０間にそれぞれ厚さ２０ｎｍのＡｌ₂Ｏ₃膜から
なる非磁性層を設けた構成とした場合の磁気ヘッド（不
図示）でも、図５の磁気ヘッド５４とほぼ同様の磁化反
転密度で、同じ再生出力が得られた。

【００６３】＜実施例６＞図６は、本発明に係る磁気ヘ
ッドのまた別の実施例を模式的に示す要部斜視図であ
る。尚、図３に示した実施例３と同一の構成部分につい
ては、説明の便宜上、同一の参照符号を付してその詳細
な説明は省略する。すなわち、本実施例の磁気ヘッド５
５では、下部磁極２が軟磁性体２４の内部に抵抗率の異
なる軟磁性体２３を有する構造からなり、この軟磁性体
２３の抵抗率が下部磁極２における他の部分の軟磁性体
２４の抵抗率よりも高い材料を用いている点が実施例３
の構造と相違する。

【００６４】このような構造の磁気ヘッドは、例えば次
のようにして作製できる。まず、酸化Ａｌと炭化Ｔｉを
主成分とする厚さ２ｍｍの焼結体からなるスライダ用の
基体１上に、基板１に面している方から順に、抵抗率１
６μΩ−ｃｍのＮｉ₁₈Ｆｅ₈₂合金からなる軟磁性体２４
を１μｍ、抵抗率５０μΩ−ｃｍのＮｉ₄₂Ｆｅ₅₈合金か
らなる軟磁性体２３を０．５μｍ、スパッタ法により堆
積し、ホトエッチングにより軟磁性体２３を下部磁極２
の端部で幅３．４μｍとなるように加工した後、抵抗率
１６μΩ−ｃｍのＮｉ₁₈Ｆｅ₈₂合金からなる軟磁性体２
４を再度スパッタ法により０．５μｍ堆積し、ホトエッ
チングにより、この軟磁性体２４の積層膜を下部磁極２
の端部で幅４．０μｍとなるように加工すれば、高抵抗
率の軟磁性体２３が低抵抗率の軟磁性体２４で囲まれた
図６の構造の下部磁極２が形成される。

【００６５】次に、非磁性層３としてＡｌ₂Ｏ₃膜をスパ
ッタあるいはＣＶＤ法により下部磁極２の端部上の厚さ
が０．４μｍとなるように全面に堆積後、３μｍ厚さの
Ｃｕからなる平面スパイラルコイル５、Ａｌ₂Ｏ₃からな
る層間絶縁膜２７、抵抗率の異なる軟磁性体１１，１２
からなる上部磁極４を、前述した実施例３の図３と同様
に形成し、加工すればよい。尚、本実施例でも高抵抗率
の軟磁性体１１，２３は、低抵抗率の軟磁性体１２，２
４の少なくとも３倍の抵抗率を有することが渦電流損失
の影響を回避する上で好ましい。

【００６６】本実施例の磁気ヘッド５５を前述した図２
１に示す磁気ディスク装置において、磁気ヘッド５０の
代りとして用いた場合、信号を記録した磁気記録媒体４
３に対する再生出力の磁化反転密度及び記録周波数依存
性の測定結果は、図１４に示した実施例１と同等の再生
出力特性が得られた。従って、本実施例の構造を有する
磁気ヘッド５５も高線記録密度化に適していることが分
かる。

【００６７】また、渦電流損失の影響をさらに抑えて高
周波化を図るために、図６の磁気ヘッド５５の上部磁極
４に対して、上部磁極４を構成する軟磁性体１１，１２
間に厚さ２０ｎｍのＡｌ₂Ｏ₃膜からなる非磁性層を設け
た構成とした場合の磁気ヘッド（不図示）でも、図６の
磁気ヘッド５５とほぼ同様の磁化反転密度で、同じ再生
出力が得られた。

【００６８】以上、本発明の好適な実施例について説明
したが、本発明は前記実施例に限定されることなく、本
発明の精神を逸脱しない範囲内において種々の設計変更
をなし得ることは勿論である。

【００６９】

【発明の効果】前述した実施例から明らかなように、本
発明によれば、磁気ヘッドを構成する記録磁極を、異な
る抵抗率を有する軟磁性体の積層構造あるいは、異なる
抵抗率の軟磁性体を内部に有する構造としたことによ
り、電流の極性が反転した際に、磁極端部（リーディン
グエッジ及びトレーリングエッジ）の磁界がギャップ付
近の磁界より遅れて反転することを抑制できるため、従
来より急峻な記録磁化反転を形成できる。よって、この
磁気ヘッドを用いることにより、記録密度を向上した磁
気ディスク装置を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る磁気ヘッドの一実施例を示す要部
斜視図である。

【図２】本発明に係る磁気ヘッドの別の実施例を示す要
部斜視図である。

【図３】本発明に係る磁気ヘッドのまた別の実施例を示
す要部斜視図である。

【図４】本発明に係る磁気ヘッドの更に別の実施例を示
す要部斜視図である。

【図５】本発明に係る磁気ヘッドのまた別の実施例を示
す要部斜視図である。

【図６】本発明に係る磁気ヘッドの別の実施例を示す要
部斜視図である。

【図７】従来の電磁誘導型磁気ヘッドの構成例を示す要
部斜視図である。

【図８】（ａ）は記録電流波形、（ｂ）は記録磁気ヘッ
ドのリーディングエッジ付近からトレーリングエッジ付
近まで一様な位相で磁界が変化する場合のヘッド磁界分
布を模式的に示す説明図である。

【図９】記録磁気ヘッドの従来例における２次元磁界分
布の動的変化の測定結果を示す説明図である。

【図１０】（ａ）は記録電流波形、（ｂ）はリーディン
グエッジ付近からトレーリングエッジ付近まで一様な位
相で磁界が変化する場合のヘッド磁界、（ｃ）はギャッ
プ付近の磁界の位相が、磁極端部付近の磁界の位相より
遅れる場合のヘッド磁界、（ｄ）は磁極端部付近の磁界
の位相が、ギャップ付近の磁界の位相より遅れる場合の
ヘッド磁界、をそれぞれ模式的に示す説明図である。

【図１１】リーディングエッジ付近からトレーリングエ
ッジ付近まで一様な位相で磁界が変化する記録ヘッドで
記録を行った場合の磁気記録過程を模式的に示す説明図
である。

【図１２】ギャップ付近の磁界の位相が、磁極端部付近
の磁界の位相より遅れる記録ヘッドで記録を行った場合
の磁気記録過程を模式的に示す説明図である。

【図１３】磁極端部付近の磁界の位相が、ギャップ付近
の磁界の位相より遅れる記録ヘッドで記録を行った場合
の磁気記録過程を模式的に示す説明図である。

【図１４】図１に示した本発明に係る磁気ヘッドの再生
出力の磁化反転密度及び記録周波数依存性を従来例と比
較して示す特性線図である。

【図１５】本発明に係る記録再生分離型ヘッドの一実施
例を示す要部斜視図である。

【図１６】図１５に示した磁気抵抗センサ部の構造を模
式的に示す拡大図である。

【図１７】本発明に係る記録再生分離型ヘッドの別の実
施例を示す要部斜視図である。

【図１８】本発明に係る記録再生分離型ヘッドの別の実
施例を示す要部斜視図である。

【図１９】本発明に係る記録再生分離型ヘッドの別の実
施例を示す要部斜視図である。

【図２０】本発明に係る記録再生分離型ヘッドの別の実
施例を示す要部斜視図である。

【図２１】本発明に係る磁気ヘッドを備えた磁気ディス
ク装置の一実施例を示す概略構成図であり、（ａ）は平
面図、（ｂ）は平面図中にＡ−Ａ’線で示した部分の断
面図である。

【符号の説明】

１…基体、２…下部磁極、３…非磁性層、４…上部磁極、５…平面スパイラルコイル、６，９…高抵抗率軟磁性体、７，８…低抵抗率軟磁性体、１０，１２，１３…低抵抗率軟磁性体、１１，１４，１５…高抵抗率軟磁性体、１６，１７，１９…低抵抗率軟磁性体、１８，２１，２３…高抵抗率軟磁性体、２２，２４，２６…低抵抗率軟磁性体、２５…高抵抗率軟磁性体、３０…磁気抵抗センサ、５０，５１，５２…磁気ヘッド、５３，５４，５５…磁気ヘッド、６０，６１，６２…記録再生分離型ヘッド、６３，６４…記録再生分離型ヘッド。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】非磁性基板上に形成された第１の軟磁性薄
膜コアと、該第１の軟磁性薄膜コア上に形成された第１
の非磁性体と、該第１の非磁性体上に形成された第２の
軟磁性薄膜コアとを少なくとも有する磁気ヘッドにおい
て、前記第２の軟磁性薄膜コアは抵抗率が異なる複数の
軟磁性体を積層した積層膜から成ることを特徴とする磁
気ヘッド。
【請求項２】非磁性基板上に形成された第１の軟磁性薄
膜コアと、該第１の軟磁性薄膜コア上に形成された第１
の非磁性体と、該第１の非磁性体上に形成された第２の
軟磁性薄膜コアを少なくとも有する磁気ヘッドにおい
て、前記第２の軟磁性薄膜コアは、抵抗率が異なる複数
の軟磁性体と非磁性体との積層膜であって、非磁性体が
各軟磁性体間にそれぞれ積層されて成ることを特徴とす
る磁気ヘッド。
【請求項３】非磁性基板上に形成された第３の軟磁性薄
膜コアと、該第３の軟磁性薄膜コア上に形成された第３
の非磁性体と、該第３の非磁性体上に形成された外部磁
界検出用構造物と前記外部磁界検出用構造物上に形成さ
れた第２の非磁性体と、該第２の非磁性体上に形成され
た第１の軟磁性薄膜コアとからなる再生ヘッド、並び
に、前記第１の軟磁性薄膜コアと、該第１の軟磁性薄膜
コア上に形成された第１の非磁性体と、該第１の非磁性
体上に形成された第２の軟磁性薄膜コアとからなる記録
ヘッド、により構成される記録再生分離型の磁気ヘッド
において、前記第２の軟磁性薄膜コアは、抵抗率が異なる複数の軟
磁性体を積層した積層膜から成ることを特徴とする磁気
ヘッド。
【請求項４】非磁性基板上に形成された第３の軟磁性薄
膜コアと、該第３の軟磁性薄膜コア上に形成された第３
の非磁性体と、該第３の非磁性体上に形成された外部磁
界検出用構造物と前記外部磁界検出用構造物上に形成さ
れた第２の非磁性体と、該第２の非磁性体上に形成され
た第１の軟磁性薄膜コアとからなる再生ヘッド、並び
に、前記第１の軟磁性薄膜コアと、該第１の軟磁性薄膜
コア上に形成された第１の非磁性体と、該第１の非磁性
体上に形成された第２の軟磁性薄膜コアとからなる記録
ヘッド、により構成される記録再生分離型の磁気ヘッド
において、前記第２の軟磁性薄膜コアは、抵抗率が異なる複数の軟
磁性体と非磁性体との積層膜であって、非磁性体が各軟
磁性体間にそれぞれ積層されて成ることを特徴とする磁
気ヘッド。
【請求項５】前記外部磁界検出用構造物は、少なくとも
磁気抵抗効果膜を用いた外部磁界検出素子を有して成る
請求項３または請求項４に記載の磁気ヘッド。
【請求項６】前記第２の軟磁性薄膜コアを構成する複数
の軟磁性体のうち、最も抵抗率の高い部分の軟磁性体
が、最も抵抗率の低い部分の軟磁性体の少なくとも３倍
の抵抗率を有して成る請求項１〜５のいずれか１項に記
載の磁気ヘッド。
【請求項７】前記第２の軟磁性薄膜コアを構成する複数
の軟磁性体のうち、前記第１の非磁性体に隣接する方の
軟磁性体の抵抗率を、第２の軟磁性薄膜コアにおける他
の軟磁性体部分の抵抗率よりも高く設定して成る請求項
１〜５のいずれか１項に記載の磁気ヘッド。
【請求項８】前記第２の軟磁性薄膜コアを構成する複数
の軟磁性体のうち、前記第１の非磁性体に隣接する部分
の軟磁性体及び前記第１の非磁性体から最も離れた部分
の軟磁性体の抵抗率を、前記第２の軟磁性薄膜コアにお
ける他の軟磁性体部分の抵抗率よりも低く設定して成る
請求項１〜５のいずれか１項に記載の磁気ヘッド。
【請求項９】前記第２の軟磁性薄膜コアの内部に、前記
第２の軟磁性薄膜コアにおける他の軟磁性体部分よりも
抵抗率の高い材料の軟磁性体を設けて成る請求項１〜６
のいずれか１項に記載の磁気ヘッド。
【請求項１０】前記第１の軟磁性薄膜コアが、抵抗率の
異なる複数の軟磁性体を積層した積層膜から成る請求項
１〜９のいずれか１項に記載の磁気ヘッド。
【請求項１１】前記第１の軟磁性薄膜コアを構成する複
数の軟磁性体のうち、前記第１の非磁性体に隣接する方
の軟磁性体の抵抗率を、前記第１の軟磁性薄膜コアにお
ける他の軟磁性体部分の抵抗率よりも高く設定して成る
請求項１０記載の磁気ヘッド。
【請求項１２】前記第１の軟磁性薄膜コアを構成する複
数の軟磁性体のうち、前記第１の非磁性体に隣接する部
分の軟磁性体及び前記非磁性基板に隣接する部分の軟磁
性体の抵抗率を、前記第１の軟磁性薄膜コアにおける他
の軟磁性体部分の抵抗率よりも低く設定して成る請求項
１０記載の磁気ヘッド。
【請求項１３】前記第１の軟磁性薄膜コアの内部に、前
記第１の軟磁性薄膜コアにおける他の軟磁性体部分より
も抵抗率の高い材料を設けて成る請求項１，２，６〜９
のいずれか１項に記載の磁気ヘッド。
【請求項１４】少なくとも１つの磁気記録媒体と、該磁
気記録媒体を回転駆動するための磁気記録媒体駆動部
と、少なくとも１つの磁気記録媒体に記録／再生する磁
気ヘッドと、該磁気ヘッドを磁気記録媒体上の径方向に
駆動するための磁気ヘッド駆動部と、磁気ヘッドへの記
録信号及び磁気ヘッドからの再生信号を処理すると共に
磁気記録媒体駆動部及び磁気ヘッド駆動部の制御信号を
処理する信号処理系とを有する磁気ディスク装置におい
て、前記磁気ヘッドとして請求項１〜１３のいずれか１
項に記載の磁気ヘッドを用いることを特徴とする磁気デ
ィスク装置。