JPH0971590A - 光学活性アミノアルコール類、その製造方法、それを用いた不斉還元剤、該不斉還元剤を用いる光学活性アルコール類の製造方法 - Google Patents
光学活性アミノアルコール類、その製造方法、それを用いた不斉還元剤、該不斉還元剤を用いる光学活性アルコール類の製造方法Info
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- JPH0971590A JPH0971590A JP22922695A JP22922695A JPH0971590A JP H0971590 A JPH0971590 A JP H0971590A JP 22922695 A JP22922695 A JP 22922695A JP 22922695 A JP22922695 A JP 22922695A JP H0971590 A JPH0971590 A JP H0971590A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 新規な光学活性アミノアルコール類を提供す
る。 【解決手段】 式〔Ｉ〕 （式中、Ｒ1,Ｒ2 は低級アルキル基又はフェニル基を、
＊は不斉炭素を表す。)で示される光学活性アミノアル
コール類。
る。 【解決手段】 式〔Ｉ〕 （式中、Ｒ1,Ｒ2 は低級アルキル基又はフェニル基を、
＊は不斉炭素を表す。)で示される光学活性アミノアル
コール類。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、式〔Ｉ〕 （式中、Ｒ1,Ｒ2 は低級アルキル基又はフェニル基を、
＊は不斉炭素を表す。)で示される光学活性アミノアル
コール類、その製造方法、それを用いる不斉還元剤及び
該不斉還元剤を用いる光学活性アルコール類の製造方法
に関するものである。
＊は不斉炭素を表す。)で示される光学活性アミノアル
コール類、その製造方法、それを用いる不斉還元剤及び
該不斉還元剤を用いる光学活性アルコール類の製造方法
に関するものである。
【０００２】
【従来の技術、発明が解決しようとする課題】光学活性
アミノアルコール類は、不斉還元剤の不斉配位子等とし
て使用されている。 例えば光学活性2-アミノ-3- メチ
ル-1,1- ジフェニルブタン-1- オールはホウ素系不斉還
元剤の不斉配位子として知られており、ボラン類と、ケ
トンに対して1.25モル倍の該光学活性アミノアルコール
とから得られた不斉還元剤が、アセトフェノンを還元し
て94％eeの光学活性フェネチルアルコールを与えること
も知られている（J.Chem.Soc.,CHEM.COMUN.,496(198
3))。しかしながら、得られる光学活性アルコールの光
学純度の点で必ずしも十分満足し得るものではなく、よ
り光学純度の高い還元生成物を与える不斉配位子が望ま
れていた。
アミノアルコール類は、不斉還元剤の不斉配位子等とし
て使用されている。 例えば光学活性2-アミノ-3- メチ
ル-1,1- ジフェニルブタン-1- オールはホウ素系不斉還
元剤の不斉配位子として知られており、ボラン類と、ケ
トンに対して1.25モル倍の該光学活性アミノアルコール
とから得られた不斉還元剤が、アセトフェノンを還元し
て94％eeの光学活性フェネチルアルコールを与えること
も知られている（J.Chem.Soc.,CHEM.COMUN.,496(198
3))。しかしながら、得られる光学活性アルコールの光
学純度の点で必ずしも十分満足し得るものではなく、よ
り光学純度の高い還元生成物を与える不斉配位子が望ま
れていた。
【０００３】
【課題を解決するための手段】このような状況下に本発
明者等は、より光学純度の高い光学活性アルコールを与
える不斉配位子を見出すべく鋭意検討を重ねた結果、3-
位にt-ブチルシロキシ基という嵩高い置換基を有する特
定の光学活性アミノアルコール類が、これを不斉還元剤
の配位子とした場合、より光学純度の高い還元生成物を
与えることを見出すとともに、配位子としての使用量を
削減し得ることを見出し本発明を完成した。
明者等は、より光学純度の高い光学活性アルコールを与
える不斉配位子を見出すべく鋭意検討を重ねた結果、3-
位にt-ブチルシロキシ基という嵩高い置換基を有する特
定の光学活性アミノアルコール類が、これを不斉還元剤
の配位子とした場合、より光学純度の高い還元生成物を
与えることを見出すとともに、配位子としての使用量を
削減し得ることを見出し本発明を完成した。
【０００４】すなわち本発明は、式〔Ｉ〕 （式中、Ｒ1,Ｒ2 は低級アルキル基又はフェニル基を、
＊は不斉炭素を表す。)で示される光学活性アミノアル
コール類、その製造方法、それを用いた不斉還元剤及び
該不斉還元剤を用いる光学活性アルコール類の製造方法
を提供するものである。
＊は不斉炭素を表す。)で示される光学活性アミノアル
コール類、その製造方法、それを用いた不斉還元剤及び
該不斉還元剤を用いる光学活性アルコール類の製造方法
を提供するものである。
【０００５】
【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。本発明の光学活性アミノアルコール類は、式
〔Ｉ〕で示されるものであるが、置換基Ｒ1 、Ｒ2 とし
ては、それぞれ例えば水素原子、メチル、エチル、プロ
ピル、ブチル等の低級アルキル基、フェニル基などが挙
げられる。また代表化合物としては、例えば光学活性な
2-アミノ-3-(t-ブチルジメチルシロキシ)-1,1-ジフェニ
ルブタノール、2-アミノ-3-(t-ブチルジエチルシロキ
シ)-1,1-ジフェニルブタノール、2-アミノ-3-(t-ブチル
ジ-i- プロピルシロキシ)-1,1-ジフェニルブタノール、
2-アミノ-3-(t-ブチルジフェニル)-1,1-ジフェニルブタ
ノール等が挙げられる。
する。本発明の光学活性アミノアルコール類は、式
〔Ｉ〕で示されるものであるが、置換基Ｒ1 、Ｒ2 とし
ては、それぞれ例えば水素原子、メチル、エチル、プロ
ピル、ブチル等の低級アルキル基、フェニル基などが挙
げられる。また代表化合物としては、例えば光学活性な
2-アミノ-3-(t-ブチルジメチルシロキシ)-1,1-ジフェニ
ルブタノール、2-アミノ-3-(t-ブチルジエチルシロキ
シ)-1,1-ジフェニルブタノール、2-アミノ-3-(t-ブチル
ジ-i- プロピルシロキシ)-1,1-ジフェニルブタノール、
2-アミノ-3-(t-ブチルジフェニル)-1,1-ジフェニルブタ
ノール等が挙げられる。
【０００６】本発明の光学活性アミノアルコール類
〔Ｉ〕は、光学活性トレオニンを出発原料として容易に
製造し得る。例えば、光学活性トレオニンにベンジルオ
キシカルボニルハライドを作用させて、アミノ基を保護
した後、ジアゾメタンを作用させてカルボン酸をエステ
ル化し、次いでt-ブチルシリルハライド類を作用させて
ヒドロキシ基にt-ブチルシリル基を導入し、次いでフェ
ニルマグネシウムハライドを作用させてエステル基をジ
フェニル化し、しかる後にアミノ基の脱保護することに
より、良好な収率で光学活性アミノアルコール類〔Ｉ〕
を製造し得る。
〔Ｉ〕は、光学活性トレオニンを出発原料として容易に
製造し得る。例えば、光学活性トレオニンにベンジルオ
キシカルボニルハライドを作用させて、アミノ基を保護
した後、ジアゾメタンを作用させてカルボン酸をエステ
ル化し、次いでt-ブチルシリルハライド類を作用させて
ヒドロキシ基にt-ブチルシリル基を導入し、次いでフェ
ニルマグネシウムハライドを作用させてエステル基をジ
フェニル化し、しかる後にアミノ基の脱保護することに
より、良好な収率で光学活性アミノアルコール類〔Ｉ〕
を製造し得る。
【０００７】本発明の光学活性アミノアルコール類
〔Ｉ〕とボラン類から得られる不斉還元剤は、ケトン類
を還元して光学純度の高い光学活性アルコールを与える
が、ボラン類としては、例えばジボラン、テトラボラ
ン、ヘキサボラン、テトラヒドロフランボラン錯体、ジ
メチルスルフィドボラン錯体、アルキルボラン、カテコ
ールボラン錯体、チオキサンボラン錯体等が挙げられ
る。ボラン類は、光学活性アミノアルコール類〔Ｉ〕に
対して、ホウ素換算で通常0.8 〜2 モル倍程度、好まし
くは1 〜1.5 モル倍程度である。又ケトン類に対して
は、ホウ素換算で通常0.3 〜２モル倍程度、好ましくは
0.5 〜1.5 モル倍程度使用される。
〔Ｉ〕とボラン類から得られる不斉還元剤は、ケトン類
を還元して光学純度の高い光学活性アルコールを与える
が、ボラン類としては、例えばジボラン、テトラボラ
ン、ヘキサボラン、テトラヒドロフランボラン錯体、ジ
メチルスルフィドボラン錯体、アルキルボラン、カテコ
ールボラン錯体、チオキサンボラン錯体等が挙げられ
る。ボラン類は、光学活性アミノアルコール類〔Ｉ〕に
対して、ホウ素換算で通常0.8 〜2 モル倍程度、好まし
くは1 〜1.5 モル倍程度である。又ケトン類に対して
は、ホウ素換算で通常0.3 〜２モル倍程度、好ましくは
0.5 〜1.5 モル倍程度使用される。
【０００８】光学活性アミノアルコール類〔Ｉ〕とボラ
ン類を反応させて不斉還元剤を製造するにあたっては、
通常溶媒中で実施される。かかる溶媒としては，例えば
テトラヒドロフラン、1,3-ジオキサン、1,4-ジオキサ
ン、1,3-ジオキソラン、チオキサン、エチレングコール
ジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエー
テル、メチル-t- ブチルエーテル等のエーテル類、ベン
ゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン等の芳香族
類、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン等の炭化水素
類、メチレンクロリド、エチレンクロリド、四塩化炭素
等のハロゲン化炭化水素類、これらの混合物などが挙げ
られる。溶媒は、光学活性アミノアルコール類〔Ｉ〕に
対して、通常0.5 〜50重量倍程度である。反応温度は、
通常-20 〜80℃、好ましくは０〜60℃、反応時間は反応
温度にもよるが、通常10分〜３時間程度である。
ン類を反応させて不斉還元剤を製造するにあたっては、
通常溶媒中で実施される。かかる溶媒としては，例えば
テトラヒドロフラン、1,3-ジオキサン、1,4-ジオキサ
ン、1,3-ジオキソラン、チオキサン、エチレングコール
ジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエー
テル、メチル-t- ブチルエーテル等のエーテル類、ベン
ゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン等の芳香族
類、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン等の炭化水素
類、メチレンクロリド、エチレンクロリド、四塩化炭素
等のハロゲン化炭化水素類、これらの混合物などが挙げ
られる。溶媒は、光学活性アミノアルコール類〔Ｉ〕に
対して、通常0.5 〜50重量倍程度である。反応温度は、
通常-20 〜80℃、好ましくは０〜60℃、反応時間は反応
温度にもよるが、通常10分〜３時間程度である。
【０００９】かくして不斉還元剤が得られるが、ケトン
類を還元して光学活性アルコール類を製造するに当たっ
ては不斉還元剤を単離して用いても良いが、通常はその
まま用いられる。 その使用量は、ケトン類に対して、
光学活性アミノアルコール類〔Ｉ〕換算で通常0.01〜1
モル倍程度、好ましくは0.02〜0.6 モル倍程度である。
またケトン類としては、例えば式〔II〕 （式中、Ｒ3,Ｒ4,Ｒ5 は水素原子、ハロゲン原子、低級
アルキル基もしくは低級アルコキシ基を表し、Ｘは水素
原子、ハロゲン原子もしくは低級アルキル基を表すか又
はフェニル基のO-位と結合したメチレン基もしくはジメ
チレン基を表す。）で示されるケトン類が挙げられる。
類を還元して光学活性アルコール類を製造するに当たっ
ては不斉還元剤を単離して用いても良いが、通常はその
まま用いられる。 その使用量は、ケトン類に対して、
光学活性アミノアルコール類〔Ｉ〕換算で通常0.01〜1
モル倍程度、好ましくは0.02〜0.6 モル倍程度である。
またケトン類としては、例えば式〔II〕 （式中、Ｒ3,Ｒ4,Ｒ5 は水素原子、ハロゲン原子、低級
アルキル基もしくは低級アルコキシ基を表し、Ｘは水素
原子、ハロゲン原子もしくは低級アルキル基を表すか又
はフェニル基のO-位と結合したメチレン基もしくはジメ
チレン基を表す。）で示されるケトン類が挙げられる。
【００１０】また又光学活性アルコール類としては式
〔III 〕 （式中、Ｒ3,Ｒ4,Ｒ5,Ｘは前記と同じ意味を、＊は不斉
炭素を表す。）で示される光学活性アルコール類が挙げ
られる。ここで、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 としては、例えば水
素原子、フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子、メチ
ル、エチル、n-プロピル、i-プロピル、n-ブチル、i-ブ
チル、sec-ブチル、t-ブチル等の低級アルキル基、メト
キシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ等の低級アルコ
キシ基が挙げられる。またＸとしては、例えば水素原子
の他に、上記と同様のハロゲン原子、低級アルキル基等
が挙げられるが、フェニル基のO-位と結合したメチレン
基、ジメチレン基であることもできる。
〔III 〕 （式中、Ｒ3,Ｒ4,Ｒ5,Ｘは前記と同じ意味を、＊は不斉
炭素を表す。）で示される光学活性アルコール類が挙げ
られる。ここで、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 としては、例えば水
素原子、フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子、メチ
ル、エチル、n-プロピル、i-プロピル、n-ブチル、i-ブ
チル、sec-ブチル、t-ブチル等の低級アルキル基、メト
キシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ等の低級アルコ
キシ基が挙げられる。またＸとしては、例えば水素原子
の他に、上記と同様のハロゲン原子、低級アルキル基等
が挙げられるが、フェニル基のO-位と結合したメチレン
基、ジメチレン基であることもできる。
【００１１】ケトン類〔Ｉ〕の代表例としては、例えば
アセトフェノン、プロピオフェノン、2-クロロアセトフ
ェノン、2-ブロモアセトフェノン、2-ブロモ-3'-クロロ
アセトフェノン、2-ブロモ-3'-メチルアセトフェノン、
2-ブロモ-3'-メトキシアセトフェノン、2-ブロモ-3'-フ
ルオロアセトフェノン、2-ブロモ-2',4'- ジクロロアセ
トフェノン、α- テトラロン、α- インダノン等が挙げ
られる。
アセトフェノン、プロピオフェノン、2-クロロアセトフ
ェノン、2-ブロモアセトフェノン、2-ブロモ-3'-クロロ
アセトフェノン、2-ブロモ-3'-メチルアセトフェノン、
2-ブロモ-3'-メトキシアセトフェノン、2-ブロモ-3'-フ
ルオロアセトフェノン、2-ブロモ-2',4'- ジクロロアセ
トフェノン、α- テトラロン、α- インダノン等が挙げ
られる。
【００１２】還元反応は、通常、不斉還元剤と溶媒の混
合物にケトン類もしくはこれと溶媒との混合物を加え
る、又はケトン類と溶媒との混合物に不斉還元剤と溶媒
の混合物を加えることにより実施される。ここで、ケト
ン類の溶媒としては、例えば不斉還元剤調製工程で示し
たと同様の溶媒が挙げられる。ケトン類を溶媒との溶液
として使用する場合、溶媒の使用量はケトン類に対し
て、通常0.1 〜20重量倍程度、好ましくは１〜15重量倍
程度である。反応温度は、通常-76 〜100 ℃程度、好ま
しくは10〜80℃程度である。反応時間は、反応温度、還
元剤調製時に用いたボラン類、光学活性アミノアルコー
ル類〔Ｉ〕等の使用量等にもよるが、通常1 〜10時間程
度である。
合物にケトン類もしくはこれと溶媒との混合物を加え
る、又はケトン類と溶媒との混合物に不斉還元剤と溶媒
の混合物を加えることにより実施される。ここで、ケト
ン類の溶媒としては、例えば不斉還元剤調製工程で示し
たと同様の溶媒が挙げられる。ケトン類を溶媒との溶液
として使用する場合、溶媒の使用量はケトン類に対し
て、通常0.1 〜20重量倍程度、好ましくは１〜15重量倍
程度である。反応温度は、通常-76 〜100 ℃程度、好ま
しくは10〜80℃程度である。反応時間は、反応温度、還
元剤調製時に用いたボラン類、光学活性アミノアルコー
ル類〔Ｉ〕等の使用量等にもよるが、通常1 〜10時間程
度である。
【００１３】かくして光学活性アルコール類が生成する
が、これを単離するにあたっては、例えば反応マスに塩
酸などの酸を加えて還元剤を分解した後、必要に応じて
溶媒を留去し、トルエン等の抽出溶媒と塩酸などの酸の
水溶液を加えて光学活性アミノアルコール類〔Ｉ〕と酸
との塩を分離除去した後、分液した有機層の溶媒を留去
することにより、容易に単離し得る。また分離除去した
光学活性アミノアルコール類〔Ｉ〕と酸との塩を、塩基
性にした後、トルエン等の抽出溶媒で抽出、溶媒留去す
ることにより、光学活性アミノアルコール類〔Ｉ〕を回
収し得る。単離した光学活性アルコール類は、蒸留、各
種クロマトグラフィー等の精製手段に付すことにより更
に精製することもできる。
が、これを単離するにあたっては、例えば反応マスに塩
酸などの酸を加えて還元剤を分解した後、必要に応じて
溶媒を留去し、トルエン等の抽出溶媒と塩酸などの酸の
水溶液を加えて光学活性アミノアルコール類〔Ｉ〕と酸
との塩を分離除去した後、分液した有機層の溶媒を留去
することにより、容易に単離し得る。また分離除去した
光学活性アミノアルコール類〔Ｉ〕と酸との塩を、塩基
性にした後、トルエン等の抽出溶媒で抽出、溶媒留去す
ることにより、光学活性アミノアルコール類〔Ｉ〕を回
収し得る。単離した光学活性アルコール類は、蒸留、各
種クロマトグラフィー等の精製手段に付すことにより更
に精製することもできる。
【００１４】
【発明の効果】本発明の光学活性アミノアルコール類
〔Ｉ〕は不斉還元剤の配位子として有用であり、3-位に
t-ブチルシロキシ基という嵩高い置換基を有することに
より、これを配位子とした不斉還元剤は、ケトン類を還
元して光学純度の高い光学活性アルコールを与える。加
えて光学活性アミノアルコール類〔Ｉ〕はトレオニンか
ら容易に製造し得、又配位子としての使用量も削減し得
るので、本発明の光学活性アミノアルコール類〔Ｉ〕は
工業的に有利である。
〔Ｉ〕は不斉還元剤の配位子として有用であり、3-位に
t-ブチルシロキシ基という嵩高い置換基を有することに
より、これを配位子とした不斉還元剤は、ケトン類を還
元して光学純度の高い光学活性アルコールを与える。加
えて光学活性アミノアルコール類〔Ｉ〕はトレオニンか
ら容易に製造し得、又配位子としての使用量も削減し得
るので、本発明の光学活性アミノアルコール類〔Ｉ〕は
工業的に有利である。
【００１５】
【実施例】以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説
明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるもの
でないことは言うまでもない。
明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるもの
でないことは言うまでもない。
【００１６】実施例１ [(2S,3R)-2-アミノ-3-(t-ブチルジメチルシロキシ)-1,1
-ジフェニルブタノールの製造例] （1)(2S,3R)-2-( ベンジルオキシカルボニルアミノ)-3-
ヒドロキシ酪酸メチルの製造 攪拌下、L-トレオニン1.8g(15mmol)、1,4-ジオキサン30
ml、水15mlからなる溶液に、1N -苛性ソーダ水溶液15ml
を加えた。次いで０℃に冷却してクロル蟻酸ベンジルエ
ステル2.4ml(17mmol) を加えた後、室温下で５時間攪拌
を続けた。次いで、反応マスを減圧濃縮し、酸性硫酸カ
リウム水溶液で酸性とした後、酢酸エチル30mlで３回抽
出した。 抽出液を減圧留去することにより粗結晶を得
た。これを50mlのテトラヒドロフランに溶解して、ジア
ゾメタンでエステル化した後、シリカゲルを用いたカラ
ムクロマトグラフィー（溶出溶媒 n-ヘキサン／酢酸エ
チル＝３／１）で精製することにより、(2S,3R)-2-( ベ
ンジルオキシカルボニルアミノ)-3-ヒドロキシ酪酸メチ
ル2.5gを得た。 [ α ]23 D -16.0(c 0.36,CHCl3)1 H NMR(270MHz,CDCl3) 1.24(d,J=6.6Hz,3H),2.13(brs,1H),3.76(s,3H),4.15-4.
37(m,2H),5.13(s,2H),5.99(brs,1H),7.35(s,5H)
-ジフェニルブタノールの製造例] （1)(2S,3R)-2-( ベンジルオキシカルボニルアミノ)-3-
ヒドロキシ酪酸メチルの製造 攪拌下、L-トレオニン1.8g(15mmol)、1,4-ジオキサン30
ml、水15mlからなる溶液に、1N -苛性ソーダ水溶液15ml
を加えた。次いで０℃に冷却してクロル蟻酸ベンジルエ
ステル2.4ml(17mmol) を加えた後、室温下で５時間攪拌
を続けた。次いで、反応マスを減圧濃縮し、酸性硫酸カ
リウム水溶液で酸性とした後、酢酸エチル30mlで３回抽
出した。 抽出液を減圧留去することにより粗結晶を得
た。これを50mlのテトラヒドロフランに溶解して、ジア
ゾメタンでエステル化した後、シリカゲルを用いたカラ
ムクロマトグラフィー（溶出溶媒 n-ヘキサン／酢酸エ
チル＝３／１）で精製することにより、(2S,3R)-2-( ベ
ンジルオキシカルボニルアミノ)-3-ヒドロキシ酪酸メチ
ル2.5gを得た。 [ α ]23 D -16.0(c 0.36,CHCl3)1 H NMR(270MHz,CDCl3) 1.24(d,J=6.6Hz,3H),2.13(brs,1H),3.76(s,3H),4.15-4.
37(m,2H),5.13(s,2H),5.99(brs,1H),7.35(s,5H)
【００１７】(2)(2S,3R)-2-(ベンジルオキシカルボニル
アミノ)-3-(t- ブチルジメチルシロキシ) 酪酸メチル ０℃、攪拌下に、(2S,3R)-2-( ベンジルオキシカルボニ
ルアミノ)-3-ヒドロキシ酪酸メチル1g(3.8mmol) とジメ
チルホルムアミド10mlからなる溶液にイミダゾール0.54
6(8mmol)とt-ブチルジメチルクロロシラン1.4g(9.6mmo
l) を加えた後、室温下で24時間攪拌した。次いで、こ
れに飽和食塩水20mlを加えた後、酢酸エチル10mlで30回
抽出し、抽出液を濃縮することにより油状物を得た。こ
れをシリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィー（溶
出溶媒 n-ヘキサン／酢酸エチル＝６／１）で精製する
ことにより、(2S,3R)-2-( ベンジルオキシカルボニルア
ミノ)-3-(t- ブチルジメチルシロキシ) 酪酸メチル1.4g
を得た( 収率98％) 。 [ α ]23 D -14.0(c 0.76,CHCl3)1 H NMR(270MHz,CDCl3) -0.05(s,3H),0.00(s,3H),0.8(s,9H),1.17(d,J=6.27Hz,3
H),3.69(s,3H),4.18-4.25(m,1H),4.36-4.45(m,1H),5.11
(s,2H),5.45(brs,1H),7.35(s,5H)
アミノ)-3-(t- ブチルジメチルシロキシ) 酪酸メチル ０℃、攪拌下に、(2S,3R)-2-( ベンジルオキシカルボニ
ルアミノ)-3-ヒドロキシ酪酸メチル1g(3.8mmol) とジメ
チルホルムアミド10mlからなる溶液にイミダゾール0.54
6(8mmol)とt-ブチルジメチルクロロシラン1.4g(9.6mmo
l) を加えた後、室温下で24時間攪拌した。次いで、こ
れに飽和食塩水20mlを加えた後、酢酸エチル10mlで30回
抽出し、抽出液を濃縮することにより油状物を得た。こ
れをシリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィー（溶
出溶媒 n-ヘキサン／酢酸エチル＝６／１）で精製する
ことにより、(2S,3R)-2-( ベンジルオキシカルボニルア
ミノ)-3-(t- ブチルジメチルシロキシ) 酪酸メチル1.4g
を得た( 収率98％) 。 [ α ]23 D -14.0(c 0.76,CHCl3)1 H NMR(270MHz,CDCl3) -0.05(s,3H),0.00(s,3H),0.8(s,9H),1.17(d,J=6.27Hz,3
H),3.69(s,3H),4.18-4.25(m,1H),4.36-4.45(m,1H),5.11
(s,2H),5.45(brs,1H),7.35(s,5H)
【００１８】(3)(2S,3R)-2-(ベンジルオキシカルボニル
アミノ)-3-(t- ブチルジメチルシロキシ)-1,1-ジフェニ
ルブタノールの製造 ０℃、攪拌下に、(2S,3R)-2-( ベンジルオキシカルボニ
ルアミノ)-3-(t- ブチルジメチルシロキシ) 酪酸メチル
1.3g(3.4mmol) とテトラヒドロフラン10mlからなる溶液
に、0.44N-フェニルマグネシウムブロミドのテトラヒド
ロフラン溶液27ml(12mmol)を加えた後、室温下で４時間
攪拌した。次いで、これに飽和塩化アンモニウム水溶液
を加え、酢酸チル10mlで３回抽出した後、抽出液を飽和
食塩水で洗浄、濃縮することにより油状物を得た。これ
をシリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィー（溶出
溶媒 n-ヘキサン／酢酸エチル＝９／１）で精製するこ
とにより、(2S,3R)-2-( ベンジルオキシカルボニルアミ
ノ)-3-(t- ブチルジメチルシロキシ)-1,1-ジフェニルブ
タノール1.6gを得た( 収率93％) 。 [ α ]23 D -40.0(c 0.24,CHCl3)1 H NMR(270MHz,CDCl3) -0.01(s,3H),0.01(s,3H),0.89(s,9H),1.23(d,J=6.27Hz,
3H),4.20-4.28(m,1H),4.64(unresolved d,J=9.89Hz,1
H),4.95(d,J=12.54Hz,1H),5.09(d,J=12.54Hz,1H),5.57
(unresolved d,J=9.89Hz,1H),7.06-7.62(m,15H)
アミノ)-3-(t- ブチルジメチルシロキシ)-1,1-ジフェニ
ルブタノールの製造 ０℃、攪拌下に、(2S,3R)-2-( ベンジルオキシカルボニ
ルアミノ)-3-(t- ブチルジメチルシロキシ) 酪酸メチル
1.3g(3.4mmol) とテトラヒドロフラン10mlからなる溶液
に、0.44N-フェニルマグネシウムブロミドのテトラヒド
ロフラン溶液27ml(12mmol)を加えた後、室温下で４時間
攪拌した。次いで、これに飽和塩化アンモニウム水溶液
を加え、酢酸チル10mlで３回抽出した後、抽出液を飽和
食塩水で洗浄、濃縮することにより油状物を得た。これ
をシリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィー（溶出
溶媒 n-ヘキサン／酢酸エチル＝９／１）で精製するこ
とにより、(2S,3R)-2-( ベンジルオキシカルボニルアミ
ノ)-3-(t- ブチルジメチルシロキシ)-1,1-ジフェニルブ
タノール1.6gを得た( 収率93％) 。 [ α ]23 D -40.0(c 0.24,CHCl3)1 H NMR(270MHz,CDCl3) -0.01(s,3H),0.01(s,3H),0.89(s,9H),1.23(d,J=6.27Hz,
3H),4.20-4.28(m,1H),4.64(unresolved d,J=9.89Hz,1
H),4.95(d,J=12.54Hz,1H),5.09(d,J=12.54Hz,1H),5.57
(unresolved d,J=9.89Hz,1H),7.06-7.62(m,15H)
【００１９】(4)(2S,3R)-2- アミノ-3-(t-ブチルジメチ
ルシロキシ)-1,1-ジフェニルブタノールの製造 室温、攪拌下に(2S,3R)-2-( ベンジルオキシカルボニル
アミノ)-3-(t- ブチルジメチルシロキシ)-1,1-ジフェニ
ルブタノール1.5g(3mmol) とメタノール6ml からなる溶
液に、5 ％Pd- 炭素1.2gとメタノール4ml からなる懸濁
液を加えて水素大気圧下に6 時間攪拌を続けた。次い
で、反応マスをセライト濾過した後、濾液を減圧濃縮し
て油状物を得た。これをシリカゲルを用いたカラムクロ
マトグラフィー（溶出溶媒 n-ヘキサン／酢酸エチル＝
４／１）で精製することにより、(2S,3R)-2-アミノ-3-
(t-ブチルジメチルシロキシ)-1,1-ジフェニルブタノー
ル1.0gを得た( 収率91％) 。 [ α ]23 D -37.0(c 1.06,CHCl3)1 H NMR(270MHz,CDCl3) 0.00(s,3H),0.01(s,3H),0.99(s,9H),1.24(d,J=6.60Hz,3
H),1.63(brs,1H),3.63(d,J=1.65Hz,1H),4.19(dd,J=1.65
Hz and 6.60Hz,1H),4.49(brs,1H),7.20-7.42(m,6H),7.6
5-7.72(m,4H)
ルシロキシ)-1,1-ジフェニルブタノールの製造 室温、攪拌下に(2S,3R)-2-( ベンジルオキシカルボニル
アミノ)-3-(t- ブチルジメチルシロキシ)-1,1-ジフェニ
ルブタノール1.5g(3mmol) とメタノール6ml からなる溶
液に、5 ％Pd- 炭素1.2gとメタノール4ml からなる懸濁
液を加えて水素大気圧下に6 時間攪拌を続けた。次い
で、反応マスをセライト濾過した後、濾液を減圧濃縮し
て油状物を得た。これをシリカゲルを用いたカラムクロ
マトグラフィー（溶出溶媒 n-ヘキサン／酢酸エチル＝
４／１）で精製することにより、(2S,3R)-2-アミノ-3-
(t-ブチルジメチルシロキシ)-1,1-ジフェニルブタノー
ル1.0gを得た( 収率91％) 。 [ α ]23 D -37.0(c 1.06,CHCl3)1 H NMR(270MHz,CDCl3) 0.00(s,3H),0.01(s,3H),0.99(s,9H),1.24(d,J=6.60Hz,3
H),1.63(brs,1H),3.63(d,J=1.65Hz,1H),4.19(dd,J=1.65
Hz and 6.60Hz,1H),4.49(brs,1H),7.20-7.42(m,6H),7.6
5-7.72(m,4H)
【００２０】実施例２ 室温（23℃) 、窒素雰囲気、攪拌下に、(2S,3R)-2-アミ
ノ-3-(t-ブチルジメチルシロキシ)-1,1-ジフェニルブタ
ノール44mg(0.118mmol) 、テトラヒドロフラン0.12mlか
らなる溶液に、1Mボランテトラヒドロボラン錯体0.237m
l を５分間かけて加え、１時間攪拌を続けた。次いで、
室温下にアセトフェノン 14.2mg(0.118mmol)とテトラヒ
ドロフラン1.2ml からなる溶液を90分間かけて加え、20
分間攪拌を続けた後、2N塩酸3ml を加えた。水層をジエ
チルエーテル抽出、これを無水硫酸ナトリウムで乾燥、
減圧濃縮した後、シリカゲルを用いたカラムクロマトグ
ラフィー（溶出溶媒 n-ヘキサン／酢酸エチル＝６／
１）で精製することにより、(R)-1-フェニルエタノール
13.1mgg を得た( 収率93％) 。得られた(R)-1-フェニル
エタノールを光学活性カラムを用いた高速液体クロマト
グラフィーにより分析したところ、光学純度は97％eeで
あった。
ノ-3-(t-ブチルジメチルシロキシ)-1,1-ジフェニルブタ
ノール44mg(0.118mmol) 、テトラヒドロフラン0.12mlか
らなる溶液に、1Mボランテトラヒドロボラン錯体0.237m
l を５分間かけて加え、１時間攪拌を続けた。次いで、
室温下にアセトフェノン 14.2mg(0.118mmol)とテトラヒ
ドロフラン1.2ml からなる溶液を90分間かけて加え、20
分間攪拌を続けた後、2N塩酸3ml を加えた。水層をジエ
チルエーテル抽出、これを無水硫酸ナトリウムで乾燥、
減圧濃縮した後、シリカゲルを用いたカラムクロマトグ
ラフィー（溶出溶媒 n-ヘキサン／酢酸エチル＝６／
１）で精製することにより、(R)-1-フェニルエタノール
13.1mgg を得た( 収率93％) 。得られた(R)-1-フェニル
エタノールを光学活性カラムを用いた高速液体クロマト
グラフィーにより分析したところ、光学純度は97％eeで
あった。
【００２１】実施例３〜５ 実施例２において、反応温度を表１に示す温度で実施す
る以外は実施例２に準拠して実施した。結果を表１に示
した。 表 １ 実施例 温度（℃） 収率（％） 光学収率（％ee） ２ ２３ ９３ ９７ ３ ３５ ６８ ９７ ４ ４０ ５１ ９７ ５ ５０ ９０ ９１
る以外は実施例２に準拠して実施した。結果を表１に示
した。 表 １ 実施例 温度（℃） 収率（％） 光学収率（％ee） ２ ２３ ９３ ９７ ３ ３５ ６８ ９７ ４ ４０ ５１ ９７ ５ ５０ ９０ ９１
【００２２】実施例６〜９ 実施例２において、配位子である(2S,3R)-2-アミノ-3-
(t-ブチルジメチルシロキシ)-1,1-ジフェニルブタノー
ルの使用量を表２に示す量で実施する以外は実施例２に
準拠して実施した。結果を表２に示した。 表 ２ 実施例 配位子使用量(mol%) 収率（％） 光学収率（％ee） ２ １００ ９３ ９７ ６ １０ ９３ ９５ ７ ５ ７７ ９３ ８ ２．５ ９４ ９０ ９ １．０ ８９ ７８
(t-ブチルジメチルシロキシ)-1,1-ジフェニルブタノー
ルの使用量を表２に示す量で実施する以外は実施例２に
準拠して実施した。結果を表２に示した。 表 ２ 実施例 配位子使用量(mol%) 収率（％） 光学収率（％ee） ２ １００ ９３ ９７ ６ １０ ９３ ９５ ７ ５ ７７ ９３ ８ ２．５ ９４ ９０ ９ １．０ ８９ ７８
【００２３】実施例10〜13 実施例２において、配位子である(2S,3R)-2-アミノ-3-
(t-ブチルジメチルシロキシ)-1,1-ジフェニルブタノー
ルの使用量とケトンの種類を変化させる以外は実施例２
に準拠して実施した。結果を表３に示した。 表 ３ ( ケトン類 YPhC=O ) 実施例 Y 配位子使用量(mol%) 収率（％）光学収率（％ee） 10 C2H5 ５ ７８ ８３[R] 11 CH2Cl ５ ９０ ９３[S] 12 CH2Cl １０ ８７ ９６[S] 13 CH2Br ５ ８８ ９６[S]
(t-ブチルジメチルシロキシ)-1,1-ジフェニルブタノー
ルの使用量とケトンの種類を変化させる以外は実施例２
に準拠して実施した。結果を表３に示した。 表 ３ ( ケトン類 YPhC=O ) 実施例 Y 配位子使用量(mol%) 収率（％）光学収率（％ee） 10 C2H5 ５ ７８ ８３[R] 11 CH2Cl ５ ９０ ９３[S] 12 CH2Cl １０ ８７ ９６[S] 13 CH2Br ５ ８８ ９６[S]
【００２４】実施例14 実施例10において、プロピオフェノンの代わりにα- テ
トラロンを用いる以外は実施例10に準拠して実施した。
(R)-α- テトラロールの収率は96％であり、光学収率は
90％eeであった。
トラロンを用いる以外は実施例10に準拠して実施した。
(R)-α- テトラロールの収率は96％であり、光学収率は
90％eeであった。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 41/26 Ｃ０７Ｃ 41/26 43/23 7419−4Ｈ 43/23 Ａ // Ｃ０７Ｍ 7:00
Claims (4)
- 【請求項１】式〔Ｉ〕 （式中、Ｒ1,Ｒ2 は低級アルキル基又はフェニル基を、
＊は不斉炭素を表す。)で示される光学活性アミノアル
コール類。 - 【請求項２】光学活性トレオニンにベンジルオキシカル
ボニルハライドを作用させて、アミノ基を保護した後、
カルボン酸をエステル化し、次いでt-ブチルシリルハラ
イド類を作用させてヒドロキシ基にt-ブチルシリル基を
導入し、次いでエステル基をフェニルマグネシウムハラ
イドを作用させてジフェニル化し、次いでアミノ基の脱
保護することを特徴とする請求項１記載の光学活性アミ
ノアルコール類〔Ｉ〕の製造方法。 - 【請求項３】請求項１記載の光学活性アミノアルコール
類〔Ｉ〕とボラン類から得られる不斉還元剤。 - 【請求項４】式〔II〕 （式中、Ｒ3,Ｒ4,Ｒ5 は水素原子、ハロゲン原子、低級
アルキル基もしくは低級アルコキシ基を表し、Ｘは水素
原子、ハロゲン原子もしくは低級アルキル基を表すか又
はフェニル基のO-位と結合したメチレン基もしくはジメ
チレン基を表す。）で示されるケトン類を、請求項１記
載の光学活性アミノアルコール類〔Ｉ〕とボラン類から
得られる不斉還元剤で還元することを特徴とする式〔II
I 〕 （式中、Ｒ3,Ｒ4,Ｒ5,Ｘは前記と同じ意味を、＊は不斉
炭素を表す。）で示される光学活性アルコール類の製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22922695A JPH0971590A (ja) | 1995-09-06 | 1995-09-06 | 光学活性アミノアルコール類、その製造方法、それを用いた不斉還元剤、該不斉還元剤を用いる光学活性アルコール類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22922695A JPH0971590A (ja) | 1995-09-06 | 1995-09-06 | 光学活性アミノアルコール類、その製造方法、それを用いた不斉還元剤、該不斉還元剤を用いる光学活性アルコール類の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0971590A true JPH0971590A (ja) | 1997-03-18 |
Family
ID=16888818
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22922695A Withdrawn JPH0971590A (ja) | 1995-09-06 | 1995-09-06 | 光学活性アミノアルコール類、その製造方法、それを用いた不斉還元剤、該不斉還元剤を用いる光学活性アルコール類の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0971590A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6696540B2 (en) | 2001-11-28 | 2004-02-24 | Hoya Corporation | Episulfide compound, method for producing the same and optical product comprising the same |
-
1995
- 1995-09-06 JP JP22922695A patent/JPH0971590A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6696540B2 (en) | 2001-11-28 | 2004-02-24 | Hoya Corporation | Episulfide compound, method for producing the same and optical product comprising the same |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20050106 |