JPH097530A - カラー表示装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 色度を変化させることなく、輝度およびコン
トラストの向上を図り、カソードなどのエネルギービー
ム照射手段の電流バランスを良好なものとし、耐久性の
向上を図り、さらに製造が容易で低コストなカラー表示
装置を提供すること。 【構成】 透明パネル１２と、透明パネル１２の内面側
に設けられ、エネルギービームが照射されることによ
り、それぞれ赤色、緑色および青色の光を発する赤色蛍
光体１５Ｒ、緑色蛍光体１５Ｇおよび青色蛍光体１５Ｂ
とを有するカラー表示装置である。青色蛍光体１５こと
透明パネル１２との間にのみ、青色フィルター４Ｂが装
着してあるＣＲＴまたは平面表示装置。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、たとえばカラー陰極線
管（ＣＲＴ）およびカラー平面表示装置などのカラー表
示装置の改良に係り、さらに詳しくは、輝度およびコン
トラストの向上を図ることができるカラー表示装置に関
する。

【０００２】

【従来の技術】従来、高コントラストのカラーＣＲＴと
しては、たとえば内面に蛍光体層を有するパネルガラス
を、光透過率が４０〜４５％程度のダークガラスで構成
したカラーＣＲＴ、あるいは蛍光体粒子の表面にその蛍
光体の発光色と同色の顔料を付着させたいわゆる顔料付
蛍光体を用いてパネル内面に蛍光面を形成したカラーＣ
ＲＴ、あるいは赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）蛍光体と
パネルガラスとの間にそれぞれの発光色にあったカラー
フィルターを設けたカラーＣＲＴなどが知られている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】ところで、ダークガラ
スでパネルガラスを構成したカラーＣＲＴにおいては、
ダークガラスによって外光を吸収するため、コントラス
トを向上させることはできるが、同時に、蛍光面からの
発光もダークガラスのパネルガラスによって吸収される
ので輝度が低下する。

【０００４】また、顔料付蛍光体を用いて蛍光面を構成
したカラーＣＲＴでは、顔料により外光を吸収するため
コントラストの向上が図られる。ところが、この場合、
蛍光体粒子が幾層（たとえば３〜４層）積み重なって蛍
光面が形成されるので、蛍光体粒子からの発光の一部が
顔料に吸収されることになり、輝度が１０〜１５％程度
低下する。

【０００５】さらに、ＲＧＢの各層にカラーフィルター
を設けたカラーＣＲＴでは、輝度、コントラストおよび
色再現範囲ともに大幅な改善が図られることが期待され
ている。しかしながら、産業用映像管の分野において
は、モニタに映し出される色とプリンタから出力される
色とを一致させるなどの、カラーマネジメントの観点か
ら、色再現範囲には制限が加えられ、特定のデバイスの
み突出することは難しい。たとえば、モニタ、プリンタ
およびスキャナなどの整合性を図る必要がある。特に、
赤色フィルターは色度を深くする効果が著しいため、前
述の点から好ましくない。

【０００６】これとは別に、通常白色を出す場合のＲ、
Ｇ、Ｂ用カソードにそれぞれかかる負荷はアンバランス
であり、赤色（Ｒ）用カソードにかかる負荷がいちばん
大きい。ＲＧＢフィルターのそれぞれの透過率が同程度
であれば問題ないが、赤色の透過率が他色に比べ低いと
きは、赤色にカラーフィルターを入れることは、さらに
赤色カソードに負担をかけることになり、カソードのラ
イフを縮めることになる。

【０００７】さらにまた、ＲＧＢの各層にカラーフィル
ターを設けることは、製造工程を煩雑とし、製造コスト
を増大させる。本発明は、このような実状に鑑みてなさ
れ、色度を変化させることなく、輝度およびコントラス
トの向上を図り、カソードなどのエネルギービーム照射
手段の電流バランスを良好なものとし、耐久性の向上を
図り、さらに製造が容易で低コストなカラー表示装置を
提供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明に係るカラー表示装置は、透明パネルと、前
記透明パネルの内面側に設けられ、エネルギービームが
照射されることにより、それぞれ赤色、緑色および青色
の光を発する赤色蛍光体、緑色蛍光体および青色蛍光体
とを有するカラー表示装置であって、前記青色蛍光体と
前記透明パネルとの間にのみ、青色フィルターが装着し
てあることを特徴とする。

【０００９】青色フィルターは、たとえばＣｏＯ・Ａｌ
₂ Ｏ₃ を主成分とする青色顔料などで構成される。本発
明に係るカラー陰極線管は、パネルガラスと、前記パネ
ルガラスに接続されるファンネルガラスと、前記ファン
ネルガラスのネック部内に装着される電子銃と、前記パ
ネルガラスの内面側に設けられ、電子銃からの電子ビー
ムが照射されることにより、それぞれ赤色、緑色および
青色の光を発する赤色蛍光体、緑色蛍光体および青色蛍
光体とを有するカラー陰極線管であって、前記青色蛍光
体と前記パネルガラスとの間にのみ、青色フィルターが
装着してあることを特徴とする。

【００１０】本発明に係るカラー平面表示装置は、透明
パネルと、前記透明パネルの内面側に設けられ、エネル
ギービームが照射されることにより、それぞれ赤色、緑
色および青色の光を発する赤色蛍光体、緑色蛍光体およ
び青色蛍光体とを有するカラー平面表示装置であって、
前記青色蛍光体と前記透明パネルとの間にのみ、青色フ
ィルターが装着してあることを特徴とする。前記エネル
ギービームは、たとえば基板の上に行列状に配置された
複数の電界放出型マイクロカソードから走査して発射さ
れる電子ビームである。または、前記エネルギービーム
は、偏平な陰極線管内に内蔵された電子銃から放出され
る電子ビームであっても良い。

【００１１】

【作用】本発明に係るカラー表示装置では、青色蛍光体
と前記透明パネルとの間にのみ、青色フィルターが装着
してある。このため、何等フィルターが装着されていな
い従来使用のカラー表示装置に比較して、コントラスト
が向上する。しかも、全ての蛍光体にカラーフィルター
を用いたものに比較して、輝度が向上する。さらに、全
ての蛍光体にカラーフィルターを用いたものでは、カラ
ーフィルターを用いないものに比較して、大幅に色度に
変化が生じてしまい、カラーマネジメントの観点から好
ましくないが、本発明では、青色蛍光体と前記透明パネ
ルとの間にのみ、青色フィルターが装着してあるので、
色度の変化も少ない。このため、デバイス間のカラーマ
ネジメントが容易である。

【００１２】さらに、本発明では、青色蛍光体と前記透
明パネルとの間にのみ、青色フィルターが装着してあ
り、赤色蛍光体の部分には、フィルターが装着していな
いことから、赤色用カソードなどのエネルギービーム照
射手段に加わる負荷が少なく、Ｒ，Ｇ，Ｂ用カソードな
どの各エネルギービーム照射手段に加わる負荷のバラン
スが良くなり、結果的に耐久性が向上する。

【００１３】さらにまた、本発明では、青色蛍光体と前
記透明パネルとの間にのみ、青色フィルターを装着する
構成なので、全ての蛍光体に各色のフィルターを装着す
る場合に比較し、その製造工程が容易となり、製造コス
トの低減が図れる。

【００１４】

【実施例】以下、本発明に係るカラー表示装置を、図面
に示す実施例に基づき、詳細に説明する。実施例１ 本実施例は、カラー表示装置としてのカラーＣＲＴに本
発明を適用した実施例である。

【００１５】図１に示すように、本実施例のカラーＣＲ
Ｔ１０は、内面に蛍光面が形成されたパネルガラス１２
と、このパネルガラスに接合され、ネック部内に電子銃
１６が収容されるファンネルガラス１４とを有する。電
子銃１６から発射された電子ビームは、偏向ヨークによ
り偏向されて、パネルガラス１２の内面側に装着された
色選別電極としてのアパーチャグリル２０を通して、蛍
光面に当り発光させる。

【００１６】図２に示すように、パネルガラス１２は、
光透過率が高い（たとえば透過率９０％以上）ガラスで
構成され、その内面に蛍光面が形成してある。光透過率
が高いパネルガラスとしては、高透過率のガラスパネル
の表面に、高透過率のセーフティパネルを貼着したパネ
ルガラスが用いられる。高透過率のパネルガラスとして
は、具体的には、日本電気板硝子社製ティントパネル
（ＥＩＡＪコードＪＰ５２０ＡＧ１１）にクリヤーのセ
ーフティパネル（ＥＩＡＪコードＪＳ５２０ＡＡ０１）
を組み合わせたものを用いることができる。

【００１７】図２に示すように、本実施例では、パネル
ガラス１２の内面に、黒色ストライプ（カーボンストラ
イプ）２が所定間隔で形成してあり、これらのストライ
プ２間に、赤色（Ｒ）蛍光体１５Ｒと、緑色（Ｇ）蛍光
体１５Ｇと、青色蛍光体１５Ｂとが、この順で交互に配
置してある。これら蛍光体１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂは、
アルミニウム膜２２で覆われている。

【００１８】本実施例では、青色蛍光体１５Ｂとパネル
ガラス１２との間にのみ、青色フィルター４Ｂが装着し
てある。その他の蛍光体１５Ｒ，１５Ｇとパネルガラス
１２との間には、カラーフィルターが装着されていな
い。本実施例の青色フィルター４Ｂは、ＣｏＯ・Ａｌ₂
Ｏ₃ で構成され、図３に示すように、蛍光体で発光され
る青色光の波長において、光の透過率が高い。

【００１９】次に、本実施例において、パネルガラスの
内面に蛍光面を作成する方法の一例を示す。まず、非発
光性光吸収性物質としてのカーボンブラックなどで構成
される図２に示す黒色ストライプ２の形成が行なわれ
る。黒色ストライプ２の形成は、まず、パネルガラスを
洗浄し、パネルガラス１２の内面に、感光剤およびポリ
ビニルアルコール（ＰＶＡ）などの水溶性高分子からな
るフォトレジストを塗布、乾燥してレジスト被膜を形成
する。次に、マスクを用いてレジスト被膜の所定部分を
露光により硬化させる。

【００２０】次に、現像によりレジスト被膜の非露光部
分を除去し、乾燥してレジスト被膜のストライプを形成
し、次いでパネルガラス全面にカーボンブラック懸濁液
を塗布、乾燥後、反転液を塗布し、現像、乾燥してカー
ボンブラックから成る黒色ストライプ２を形成する（図
４（Ａ）参照）。

【００２１】次いで、青色蛍光体１５Ｂが装着される黒
色ストライプ２，２間の位置に、青色フィルター４Ｂを
形成する。そのために、まず、図４（Ｂ）に示すよう
に、たとえばＰＶＡ−ＡＤＣ系の感光膜３を全面に形成
する。次に、図４（Ｃ）に示すように、アパーチャグリ
ルを光学マスクとして、ＲおよびＧの位置の感光膜３に
対して紫外線露光を行い、温水で現像し、Ｂの位置を除
いて、他のＲおよびＧの位置に、マスキング用のレジス
ト膜３Ａを残す。

【００２２】次に、第２の感光液、本例では、ＰＶＡ−
ＳＢＱ系感光液に微粒子無機青色顔料を分散して成る懸
濁液（スラリー）を全面塗布し、図５（Ｄ）に示すよう
に、青色フィルター用の塗膜４を形成する。微粒子無機
青色顔料としては、たとえばＣｏＯ・Ａｌ₂ Ｏ₃ を主成
分とする青色顔料（商品名：ダイピロキサイドＴＭブル
ー＃３４１０）を用いることができる。

【００２３】次に、図５（Ｅ）に示すように、パネルガ
ラス１２の内面より、アパーチャグリル２０を光学マス
クとして、青色（Ｂ）の位置の塗膜４に対して紫外線露
光を行う（内面露光６）。さらに、図５（Ｆ）に示すよ
うに、黒色ストライプ２をマスクに、青色の位置能登膜
４に対してパネルガラス１２の外面から紫外線露光する
（外面露光７）。この外面露光７を行うことにより、塗
膜４とパネルガラス１２との接着性が向上する。

【００２４】次いで、未露光部分を温水でリンスする。
次に、過酸化水素水（Ｈ₂ Ｏ₂ １０重量％）で、未露光
ＰＶＡ−ＡＤＣ系のレジスト膜３Ａを分解し、次いで温
水による反転現象を行って、図６（Ｇ）に示すように、
青色フィルターストライプ４Ｂを形成する。次いで、図
６（Ｇ）に示すように、タンニン酸０．１重量％溶液
で、青色フィルターストライプ４Ｂに対して硬膜処理８
を施し、その後、アンモニア水溶液（アンモニア１．０
重量％）で硬膜処理後の中和処理を施し、その後温水で
リンスする。

【００２５】その後は、通常のスラリー法によって、図
２に示す蛍光体１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂとアルミニウム
膜２２とを形成する。具体的には、まず、緑色蛍光体、
感光剤および水溶性高分子からなる緑色蛍光体スラリー
をパネルガラス全面に塗布、乾燥して緑色蛍光体レジス
ト被膜を形成する。次に、マスクを用いて前記レジスト
被膜の所定部分を露光により硬化させ、現像により前記
緑色蛍光体レジスト被膜の非露光部分を除去し、乾燥し
て緑色蛍光体ストライプを形成する。

【００２６】緑色蛍光体としては、例えば母体結晶が硫
化亜鉛であり、銅、アルミニウムなどが付加剤として含
有されるものが用いられる。その後、青色蛍光体を含有
する青色蛍光体ストライプ、赤色蛍光体ストライプを、
緑色蛍光体ストライプの形成と同様にして、緑色蛍光体
ストライプの形成されたホール部分に隣接する別のホー
ル部分にそれぞれ形成していく。

【００２７】赤色蛍光体としては、例えばイットリウム
・オキシ・サルファイドを母体結晶とし、ユーロピウム
を付加剤として含有するものが用いられる。また、青色
蛍光体としては、例えば母体結晶が硫化亜鉛であり、銀
などが付加剤として含有されるものが用いられる。

【００２８】このようにして、赤緑青三色の蛍光体スト
ライプが形成された後で、その上に、中間膜を形成す
る。中間膜は、有機物膜で構成され、蛍光面を平坦化
し、後工程で金属薄膜層としてのアルミニウム薄膜層を
被着し易くする。後工程のプリベーキングおよびフリッ
トシール時のベーキング処理後には、中間膜は、ＰＶＡ
などと共に、アルミニウム膜を通して飛ばされる。

【００２９】その後、金属薄膜層としてのアルミニウム
薄膜層を中間膜の上に被着する。アルミニウム薄膜層を
形成することで、表示画面の輝度を向上させ、イオン化
を防止することができる。その後、プリベイキングを行
い、アパーチャグリルをパネルガラスの内面に装着した
後、パネルガラスのシールエッジ面とファンネルガラス
のシールエッジ面とをフリットシール接合する。プリベ
ーキングは、アパーチャグリルを装着した後でも良い。
このプリベーキングおよびフリットシール時のベーキン
グ処理（熱処理）により、中間膜の成分および蛍光体ス
トライプに含まれる有機成分を、アルミニウム膜を通し
て、蛍光面から除去し、蛍光面の被膜を固定化する。

【００３０】次に、このようにして製造されたカラー陰
極線管の輝度およびコントラストが向上し、色度が従来
のものと変化しなかったことを示す実験結果を示す。下
記の表１に示すように、実施例１として、前記の方法に
より得られたカラーＣＲＴを準備した。また、比較のた
めに、蛍光体とパネルガラスとの間にはカラーフィルタ
ーを設けることなく、高コントラストを得るために、透
明パネルガラスの表面に、光透過率が４０〜４５％程度
のグレイガラスを貼着した以外は実施例１と同様な比較
例１に係るカラーＣＲＴを準備した。

【００３１】

【表１】

【００３２】前記実施例１および比較例１に係るＣＲＴ
の輝度、コントラストおよび色度を測定した結果を下記
の表２に示す。

【００３３】

【表２】

【００３４】なお、輝度は、ミノルタ（株）製カラーア
ナライザＣＡ−１００により測定した。測定条件は、Ｃ
ＲＴをセット（ＧＤＭ１９インチ）に組み込んだ状態
で、９３００Ｋの白色を出して測定した。また、コント
ラストは、ＣＲＴ表面の外光反射輝度をＲ（ＣＲＴ管面
照度３５０ｌｕｘ時）とし、ＣＲＴの輝度をＢとした
時、Ｂ／Ｒとして定義した。色度は、ミノルタ（株）製
カラーアナライザーＣＡ−１００により測定した。測定
条件は、加速電圧２７ｋＶ、カソード電流３００μＡで
あった。

【００３５】前記表２に示すように、比較例１に比較
し、本実施例では、輝度が約２０％、コントラストが約
３％程度向上し、色度は従来仕様のものとほとんど変わ
らないことを確認した。実施例２ 本実施例は、カラー表示装置としての電界放出型マイク
ロカソードを利用したカラー平面表示装置に本発明を適
用した実施例である。

【００３６】図７に示すように、本実施例のカラー平面
表示装置６０は、半導体基板３０の上に行列状に配置さ
れた複数の電界放出型マイクロカソード５０から走査し
て発射される電子ビームが、ガラス基板などの透明パネ
ル３２の内面に形成された蛍光面に照射して発光させる
ことにより、画像表示を行う表示装置である。半導体基
板３０と透明基板３２との間は、高真空に保持される。
透明パネル３２の内面に形成してある蛍光面は、図２に
示す実施例と同様な蛍光面であり、青色蛍光体１５Ｂと
透明パネル３２との間にのみ青色フィルター４Ｂが装着
してある。

【００３７】半導体基板３０の上にマイクロカソード５
０を製造するための方法の一例を次に説明する。本実施
例では、まず、半導体基板３０の上に、絶縁層３１およ
びゲート電極３５を順次成膜する。半導体基板３０とし
ては、たとえば単結晶シリコン基板が用いられる。

【００３８】本実施例では、絶縁層３１は、主絶縁層３
２と水素含有層３３とで構成される。主絶縁層３２は、
たとえばＣＶＤ法により成膜される酸化シリコンで構成
され、水素含有層３３は、主絶縁層３２を成膜するため
のＣＶＤに引き続いて行われるプラズマＣＶＤにより成
膜される水素含有酸化シリコンで構成される。酸化シリ
コン膜で構成される主絶縁層３２は、たとえば以下の条
件でＣＶＤにより成膜される。ＣＶＤ原料ガスとして、
ＳｉＨ₄ とＯ₂ とを用い、ＳｉＨ₄ ／Ｏ₂ の流量比が、
３００／３００SCCM、雰囲気圧力が３００Ｐａ、基板温
度が４００°Ｃ、成膜時間が４分の条件である。主絶縁
層３２の層厚は、たとえば０．８μm である。

【００３９】引き続いてプラズマＣＶＤにより成膜され
る水素含有酸化シリコン膜で構成される水素含有層３３
は、たとえば以下の条件のプラズマＣＶＤで成膜され
る。プラズマＣＶＤ原料ガスとして、ＳｉＨ₄ とＯ₂ と
を用い、ＳｉＨ₄ ／Ｏ₂ の流量比が、４００／３００SC
CM、雰囲気圧力が３００Ｐａ、基板温度が３５０°Ｃ、
成膜時間が１分の条件である。この水素含有層３３の層
厚は、たとえば０．２μm である。

【００４０】ゲート電極３５は、特に限定されないが、
本実施例では、ｎ⁺ の導電型のポリシリコン膜３４とタ
ングステンシリサイド（ＷＳｉ_x ）膜３６との積層膜で
あるポリサイド膜が用いられる。このゲート電極３５
は、たとえばマイクロカソードのグリッドとして機能す
る。なお、半導体基板３０の表面に形成されるエミッタ
電極の形成工程は省略してある。

【００４１】ポリシリコン膜３４の膜厚は、たとえば５
０ｎｍである。タングステンシリサイド膜３６の膜厚
は、たとえば１５０〜３００ｎｍである。ポリシリコン
膜３４およびタングステンシリサイド膜３６は、たとえ
ばＣＶＤにより成膜される。ポリシリコン膜３４は、た
とえば以下の条件で成膜される。ＣＶＤ原料ガスとし
て、ＳｉＨ₄ とＰＨ₃ とを用い、ＳｉＨ₄ ／ＰＨ₃ の流
量比が、５００／０．３SCCM、雰囲気圧力が１００Ｐ
ａ、基板温度が５００°Ｃの条件である。タングステン
シリサイド膜３６は、たとえば以下の条件で成膜され
る。ＣＶＤ原料ガスとして、ＷＦ₆ とＳｉＨ₄ とＨｅと
を用い、ＷＦ₆ ／ＳｉＨ₄ ／Ｈｅの流量比が、３／３０
０／５００SCCM、雰囲気圧力が７０Ｐａ、基板温度が３
６０°Ｃの条件である。

【００４２】次に、このタングステンシリサイド膜３６
の上にレジスト膜を成膜し、このレジスト膜に、フォト
リソグラフィー法により、カソード孔に対応する所定の
パターンで、開口部を形成する。この開口部の内径は、
カソード孔の内径に相当し、たとえば０．８μm 程度で
ある。レジスト膜としては、特に限定されないが、たと
えばノボラック系のｇ線用レジストを用いることができ
る。

【００４３】次に、このレジスト膜が形成された半導体
基板３０を、たとえば一般のプラズマエッチング装置内
に設置し、レジスト膜３８をマスクとして、エッチング
加工を行う。プラズマエッチング装置としては、特に限
定されないが、たとえばマイクロ波電子サイクロトロン
共鳴プラズマ（ＥＣＲ）エッチング装置、誘導コイル型
プラズマ（ＩＣＰ）エッチング装置、ヘリコン波利用プ
ラズマエッチング装置、トランス結合プラズマ（ＴＣ
Ｐ）エッチング装置などを例示することができる。

【００４４】まず、たとえばＥＣＲエッチング装置を用
い、下記の条件で、タングステンシリサイド膜３６およ
びポリシリコン膜３４を連続エッチングする。エッチン
グガスとしては、Ｃｌ₂ とＯ₂ との混合ガスを用い、Ｃ
ｌ₂ ／Ｏ₂ の流量比を７５／５SCCMとする。雰囲気圧力
は、１．０Ｐａである。また、マイクロ波パワーは、９
００Ｗであり、高周波（ＲＦ）パワーは５０Ｗ（２ＭＨ
ｚ）であり、基板温度は、２０°Ｃである。

【００４５】続いて、絶縁層３１をエッチング加工す
る。エッチングに際しては、たとえばＥＣＲ型プラズマ
エッチング装置を用いる。そのエッチング条件を、次に
示す。

【００４６】

【表３】 ガス ：ＣＨＦ₃ /ＣＨ₂ Ｆ₂ ＝４５/ ５SCCM 圧力 ：０．２７Ｐａ μ波出力 ：１２００Ｗ ＲＦバイアス：２２５Ｗ（８００ｋＨｚ） 基板温度 ：２０°C 従来では、このような多層膜の連続エッチングにおい
て、高エネルギー条件の過剰なるオーバーエッチングに
より、レジスト膜３８が後退し、その開口部４０の側壁
も削られ、その下層に位置するタングステンシリサイド
膜３６も一部エッチングされて、テーパ形状が形成され
る。これは、ゲート電極３５および絶縁層３２を同一の
レジスト膜でエッチング加工するために、レジスト膜が
プラズマエッチングに曝される時間が、従来のコンタク
トホール形成用エッチング技術に比較して長くなったた
めと考えられる。しかしながら、本実施例では、絶縁層
３１中に水素含有層３３を有するため、水素リッチな
（数十ｗｔ％）水素含有層３３がエッチングされている
際生じたＨが、ホール４４近傍のＣ／Ｆ比を増大させ堆
積性雰囲気を形成する事により、通常のＳｉＯ₂ エッチ
ング時に見られる様なフロロカーボン系堆積物が側壁保
護膜となってフォトレジストの後退を防止する。したが
って、ゲート電極３５の開口部側壁までもオーバエッチ
ングされることはない。その結果、タングステンシリサ
イド膜３６の肩落ちなども防止することができ、良好な
異方性形状のカソード孔４４を形成することができる。

【００４７】次に、レジスト膜をレジストアッシングに
より除去する。レジストアッシングは、５００SCCMのＯ
₂ を用い、雰囲気圧力３．０Ｐａ、基板温度２００°
Ｃ、高周波（ＲＦ）パワー３００Ｗの条件で行う。この
レジスト膜の除去時と同時またはその後の工程で、側壁
保護膜も除去する。

【００４８】次に、電子ビーム蒸着法などを用いて、タ
ングステンシリサイド膜３６の上に、剥離層を形成す
る。剥離層は、たとえばアルミニウム金属層などで構成
される。その剥離層の層厚は、特に限定されないが、た
とえば５０ｎｍ程度である。電子ビーム蒸着時の基板角
度は、約２０度程度（斜め入射蒸着）が好ましい。雰囲
気圧力は、たとえば１．０Ｐａである。 次に、たとえ
ば電子ビーム蒸着法を用いて、剥離層の上にカソード形
成層を堆積させる。カソード形成層としては、好適には
モリブデン（Ｍｏ）を用いるが、その他の高融点金属、
あるいはその他の金属、化合物などを使用することもで
きる。電子ビーム蒸着時の基板の角度は、約９０度が好
ましい。カソード形成層を約１．０μm の層厚で形成す
ることで、カソード孔４４の底部に位置する基板３０の
表面には、鋭角円錐状のカソード５０が均一な形状およ
び高さで形成される。各カソード５０の形状、特に高さ
は、カソード形成層の各開口部が閉じるまでの時間など
に依存する。本実施例では、タングステンシリサイド膜
３６の開口部の側壁に、テーパや肩落ちがないことか
ら、カソード形成層４８のステップカバレッジも一定と
なり、その各開口部４８ａが閉じるまでの時間も一定で
あり、各カソード５０の形状、特に高さを均一にするこ
とができる。

【００４９】次に、水：フッ酸が約５：１の割合のフッ
酸でウエットエッチング（約３０秒）を行い、アルミニ
ウムなどで構成される剥離層をエッチング除去し、その
上に位置するカソード形成層をリフトオフ除去する。カ
ソード孔４４内には、均一形状および高さのマイクロカ
ソード５０が残る。

【００５０】その後は、基板３０の上に、蛍光面が形成
された透明パネルを真空状態で張り合せて、本実施例の
平面表示装置が形成される。本実施例でも、前記実施例
と同様に、青色フィルターを装着していない従来の平面
表示装置に比較し、輝度およびコントラストが向上し、
色度は従来仕様のものとほとんど変わらない。

【００５１】実施例３ 本実施例は、前記実施例１において、青色フィルタの作
製を以下のようにして作製した以外は、前記実施例１と
同様にして、ＣＲＴを製造した。すなわち、パネルガラ
スの内面にカーボンストライプを形成後、ＰＶＡ−ＡＤ
Ｃ系感光液に微粒子無機青色顔料、例えばＣｏＯ・Ａ１
₂ Ｏ₃ を主成分とする青色顔料（商品名：ダイピロオキ
サイドＴＭブルー＃３４１０）を分散してなるけん懸濁
液（スラリー）を全面塗布し乾燥する。次に色選別マス
クを介して青色蛍光体ストライプの塗られる位置に紫外
線露光する。次に、未露光部分を温水で現像し、図６
（Ｇ）に示す青色カラーフィルター４Ｂを形成する。そ
の後は通常のスラリー法によって、前記実施例１と同様
にして、緑、青、赤色蛍光体とアルミニウム膜を形成す
る。

【００５２】本実施例３でも、前記表２に示すように、
比較例１に比較し、輝度が約２０％、コントラストが約
３％程向上し、色度は従来のものとほとんど変わらなか
った。なお、本発明は、上述した実施例に限定されるも
のではなく、本発明の範囲内で種々に改変することがで
きる。

【００５３】たとえば、本発明は、前記実施例に係るＣ
ＲＴまたは平面表示装置に限らず、偏平ＣＲＴなどのカ
ラー陰極線管、あるいはプラズマディスプレイなどのそ
の他のカラー表示装置にも適用することができる。

【００５４】

【発明の効果】以上説明してきたように、本発明によれ
ば、何等フィルターが装着されていない従来使用のカラ
ー表示装置に比較して、コントラストが向上する。しか
も、全ての蛍光体にカラーフィルターを用いたものに比
較して、輝度が向上する。さらに、全ての蛍光体にカラ
ーフィルターを用いたものでは、カラーフィルターを用
いないものに比較して、大幅に色度に変化が生じてしま
い、カラーマネジメントの観点から好ましくないが、本
発明では、青色蛍光体と前記透明パネルとの間にのみ、
青色フィルターが装着してあるので、色度の変化も少な
い。このため、デバイス間のカラーマネジメントが容易
である。

【００５５】さらに、本発明では、青色蛍光体と前記透
明パネルとの間にのみ、青色フィルターが装着してあ
り、赤色蛍光体の部分には、フィルターが装着していな
いことから、赤色用カソードなどのエネルギービーム照
射手段に加わる負荷が少なく、Ｒ，Ｇ，Ｂ用カソードな
どの各エネルギービーム照射手段に加わる負荷のバラン
スが良くなり、結果的に耐久性が向上する。

【００５６】さらにまた、本発明では、青色蛍光体と前
記透明パネルとの間にのみ、青色フィルターを装着する
構成なので、全ての蛍光体に各色のフィルターを装着す
る場合に比較し、その製造工程が容易となり、製造コス
トの低減が図れる。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は本発明の一実施例に係るカラーＣＲＴの
概略図である。

【図２】図２は図１に示すパネル内面の要部断面図であ
る。

【図３】図３は図２に示す青色フィルターの特性を示す
図である。

【図４】図４（Ａ）〜（Ｃ）は蛍光面の作成方法を示す
工程図である。

【図５】図５（Ｄ）〜（Ｆ）は図４（Ｃ）の続きの工程
を示す工程図である。

【図６】図６（Ｇ），（Ｈ）は図５（Ｆ）の続きの工程
を示す工程図である。

【図７】図７は本発明の他の実施例に係るカラー平面表
示装置の要部断面図である。

【符号の説明】

２… 黒色ストライプ ４Ｂ… 青色フィルター １２… パネルガラス １４… ファンネルガラス １５Ｒ… 赤色蛍光体 １５Ｇ… 緑色蛍光体 １５Ｂ… 青色蛍光体 １６… 電子銃

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 透明パネルと、 前記透明パネルの内面側に設けられ、エネルギービーム
   が照射されることにより、それぞれ赤色、緑色および青
   色の光を発する赤色蛍光体、緑色蛍光体および青色蛍光
   体とを有するカラー表示装置であって、 前記青色蛍光体と前記透明パネルとの間にのみ、青色フ
   ィルターが装着してあるカラー表示装置。
2. 【請求項２】 パネルガラスと、 前記パネルガラスに接続されるファンネルガラスと、 前記ファンネルガラスのネック部内に装着される電子銃
   と、 前記パネルガラスの内面側に設けられ、電子銃からの電
   子ビームが照射されることにより、それぞれ赤色、緑色
   および青色の光を発する赤色蛍光体、緑色蛍光体および
   青色蛍光体とを有するカラー陰極線管であって、 前記青色蛍光体と前記パネルガラスとの間にのみ、青色
   フィルターが装着してあるカラー陰極線管。
3. 【請求項３】 透明パネルと、 前記透明パネルの内面側に設けられ、エネルギービーム
   が照射されることにより、それぞれ赤色、緑色および青
   色の光を発する赤色蛍光体、緑色蛍光体および青色蛍光
   体とを有するカラー平面表示装置であって、 前記青色蛍光体と前記透明パネルとの間にのみ、青色フ
   ィルターが装着してあるカラー平面表示装置。
4. 【請求項４】 前記エネルギービームが、基板の上に行
   列状に配置された複数の電界放出型マイクロカソードか
   ら走査して発射される電子ビームである請求項３に記載
   のカラー平面表示装置。