JPH0977867A - ポリアスパラギン酸誘導体及びそれを含有する毛髪処理剤組成物 - Google Patents
ポリアスパラギン酸誘導体及びそれを含有する毛髪処理剤組成物Info
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Landscapes
- Cosmetics (AREA)
- Polyamides (AREA)
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】毛髪に対する優れた保湿性、コンディショニン
グ効果を有し、自然な仕上がりを与えると共に、パーマ
時の毛髪の損傷を低減させる毛髪処理剤を提供するこ
と。 【解決手段】下記単位構造(A)、(B)及び(C)か
らなるポリアスパラギン酸誘導体およびそれを含有する
毛髪処理剤組成物。 【化1】 (式中、R1 は水素原子または炭素数1〜4のアルキル
基を表し、pは1〜4の整数を表す。) 【化2】 [式中、R2 は水素原子または炭素数1〜4のアルキル
基を表し、Yは 【化3】 (式中、R3 〜R4 は炭素数1〜4のアルキル基を表
し、Zは有機酸または無機酸に由来するアニオンを表
す。)を表し、qは2〜6の整数を表す。] 【化4】 (式中、Mは水素原子、アルカリ金属、有機アミンまた
は塩基性アミノ酸を表す。)
グ効果を有し、自然な仕上がりを与えると共に、パーマ
時の毛髪の損傷を低減させる毛髪処理剤を提供するこ
と。 【解決手段】下記単位構造(A)、(B)及び(C)か
らなるポリアスパラギン酸誘導体およびそれを含有する
毛髪処理剤組成物。 【化1】 (式中、R1 は水素原子または炭素数1〜4のアルキル
基を表し、pは1〜4の整数を表す。) 【化2】 [式中、R2 は水素原子または炭素数1〜4のアルキル
基を表し、Yは 【化3】 (式中、R3 〜R4 は炭素数1〜4のアルキル基を表
し、Zは有機酸または無機酸に由来するアニオンを表
す。)を表し、qは2〜6の整数を表す。] 【化4】 (式中、Mは水素原子、アルカリ金属、有機アミンまた
は塩基性アミノ酸を表す。)
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は新規ポリアスパラギ
ン酸誘導体及びそれを含有する毛髪処理剤組成物に関
し、詳しくは、毛髪に対する優れた保湿性、コンディシ
ョニング効果を有し、自然な仕上がりを与えると共に、
パーマ時の毛髪の損傷を低減し、さらにアルコール等の
溶剤に容易に溶解するため取り扱いが簡便である新規ポ
リアスパラギン酸誘導体及びそれを含有する毛髪処理剤
組成物に関する。
ン酸誘導体及びそれを含有する毛髪処理剤組成物に関
し、詳しくは、毛髪に対する優れた保湿性、コンディシ
ョニング効果を有し、自然な仕上がりを与えると共に、
パーマ時の毛髪の損傷を低減し、さらにアルコール等の
溶剤に容易に溶解するため取り扱いが簡便である新規ポ
リアスパラギン酸誘導体及びそれを含有する毛髪処理剤
組成物に関する。
【0002】
【従来の技術】シャンプー、リンス、ヘアコンディショ
ナー等の毛髪処理剤組成物には、コンディショニング効
果を期待して各種ポリマーが用いられている。しかしな
がら、従来用いられているポリマーは、例えばカチオン
化セルロースのように毛髪に不自然な風合いを与え、仕
上がり感が十分に満足できるものでなかったり、アルコ
ール等の溶剤に溶解性が悪いため取り扱い性が劣ったり
することがあった。
ナー等の毛髪処理剤組成物には、コンディショニング効
果を期待して各種ポリマーが用いられている。しかしな
がら、従来用いられているポリマーは、例えばカチオン
化セルロースのように毛髪に不自然な風合いを与え、仕
上がり感が十分に満足できるものでなかったり、アルコ
ール等の溶剤に溶解性が悪いため取り扱い性が劣ったり
することがあった。
【0003】特開平6−248072号公報には、α−
ポリアミノ酸誘導体を含む毛髪処理剤組成物が開示され
ており、毛髪に対し優れた残留性、滑らかさを付与でき
るものとしている。しかしながら、このポリアミノ酸誘
導体はアルコールに対する溶解性が低いため取り扱いが
難しく、配合量も限られてしまうという問題があった。
米国特許第4363797号には、ポリアスパラギン酸
誘導体として、メルカプト基を有するポリアスパラギン
酸誘導体よりなる化粧料組成物が、毛髪に対し優れたセ
ット性を付与することができることが開示されている。
しかしながら毛髪強度の改善効果については十分に満足
できるものではなかった。
ポリアミノ酸誘導体を含む毛髪処理剤組成物が開示され
ており、毛髪に対し優れた残留性、滑らかさを付与でき
るものとしている。しかしながら、このポリアミノ酸誘
導体はアルコールに対する溶解性が低いため取り扱いが
難しく、配合量も限られてしまうという問題があった。
米国特許第4363797号には、ポリアスパラギン酸
誘導体として、メルカプト基を有するポリアスパラギン
酸誘導体よりなる化粧料組成物が、毛髪に対し優れたセ
ット性を付与することができることが開示されている。
しかしながら毛髪強度の改善効果については十分に満足
できるものではなかった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、毛髪
に対する優れた保湿性、コンディショニング効果を有
し、自然な仕上がりを与えると共に、パーマ時の毛髪の
損傷を低減させる毛髪処理剤を提供することである。
に対する優れた保湿性、コンディショニング効果を有
し、自然な仕上がりを与えると共に、パーマ時の毛髪の
損傷を低減させる毛髪処理剤を提供することである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するため鋭意検討した結果、チオール基及びアミ
ノ基を有するポリアスパラギン酸誘導体が毛髪処理剤と
して優れた性能を有していることを見出し、この知見に
基づき本発明を完成した。
を解決するため鋭意検討した結果、チオール基及びアミ
ノ基を有するポリアスパラギン酸誘導体が毛髪処理剤と
して優れた性能を有していることを見出し、この知見に
基づき本発明を完成した。
【0006】すなわち本発明は、下記単位構造(A)、
(B)及び(C)からなるポリアスパラギン酸誘導体及
びそれを含有する毛髪処理剤組成物に関するものであ
る。
(B)及び(C)からなるポリアスパラギン酸誘導体及
びそれを含有する毛髪処理剤組成物に関するものであ
る。
【化5】 (式中、R1 は水素原子または炭素数1〜4のアルキル
基を表し、pは1〜4の整数を表す。)
基を表し、pは1〜4の整数を表す。)
【化6】 [式中、R2 は水素原子または炭素数1〜4のアルキル
基を表し、Yは
基を表し、Yは
【化7】 (式中、R3 〜R4 は炭素数1〜4のアルキル基を表
し、Zは有機酸または無機酸に由来するアニオンを表
す。)を表し、qは2〜6の整数を表す。]
し、Zは有機酸または無機酸に由来するアニオンを表
す。)を表し、qは2〜6の整数を表す。]
【化8】 (式中、Mは水素原子、アルカリ金属、有機アミンまた
は塩基性アミノ酸を表す。)
は塩基性アミノ酸を表す。)
【0007】
【発明の実施の形態】本発明のポリアスパラギン酸誘導
体における単位構造(A)、(B)及び(C)の割合
は、それぞれ1〜40%、1〜40%、20〜98%で
あり、コンディショニング効果の点から、好ましくはそ
れぞれ5〜25%、5〜25%、50〜90%である。
平均重合度は5〜500、好ましくは10〜300であ
る。
体における単位構造(A)、(B)及び(C)の割合
は、それぞれ1〜40%、1〜40%、20〜98%で
あり、コンディショニング効果の点から、好ましくはそ
れぞれ5〜25%、5〜25%、50〜90%である。
平均重合度は5〜500、好ましくは10〜300であ
る。
【0008】本発明のポリアスパラギン酸誘導体は、ア
スパラギン酸を直接または流動パラフィンのような不活
性溶媒中で180〜260℃程度に加熱して得られるポ
リスクシンイミドをジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキシド等の溶媒中でアミノチオール及びジアミンと
反応させ、ついでアルカリ等により加水分解することに
より容易に得ることができる。このような方法で得られ
るポリアスパラギン酸誘導体は、主鎖にα結合及びβ結
合がランダムに存在するためアルコール等の溶剤に容易
に溶解し、毛髪処理剤組成物の製造時に取り扱いが簡便
であるという特徴を有している。
スパラギン酸を直接または流動パラフィンのような不活
性溶媒中で180〜260℃程度に加熱して得られるポ
リスクシンイミドをジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキシド等の溶媒中でアミノチオール及びジアミンと
反応させ、ついでアルカリ等により加水分解することに
より容易に得ることができる。このような方法で得られ
るポリアスパラギン酸誘導体は、主鎖にα結合及びβ結
合がランダムに存在するためアルコール等の溶剤に容易
に溶解し、毛髪処理剤組成物の製造時に取り扱いが簡便
であるという特徴を有している。
【0009】用いられるアミノチオールとしては、シス
テアミン、N−アルキルシステアミン、3−アミノプロ
パンチオール、4−アミノブタンチオール等があげら
れ、ジアミンとしては、N,N−ジメチルエチレンジア
ミン、N,N,N−トリメチルエチレンジアミン、N,
N−ジメチル−N´−メチルエチレンジアミン、N,N
−ジメチル−N´−エチルエチレンジアミン、N,N−
ジエチル−N´−メチルエチレンジアミン、N,N,N
´−トリエチルエチレンジアミン、3−ジメチルアミノ
プロピルアミン、N,N−ジブチル−1,3−プロパン
ジアミン、N,N−ジメチルアミノブチルアミン、N,
N−ジエチルアミノブチルアミン、N,N−ジメチルア
ミノアミルアミン、N,N−ジエチルアミノアミルアミ
ン、N,N−ジメチル−1,6−ヘキサンジアミン、
N,N−ジイソブチル−1,6−ヘキサンジアミン等が
あげられる。
テアミン、N−アルキルシステアミン、3−アミノプロ
パンチオール、4−アミノブタンチオール等があげら
れ、ジアミンとしては、N,N−ジメチルエチレンジア
ミン、N,N,N−トリメチルエチレンジアミン、N,
N−ジメチル−N´−メチルエチレンジアミン、N,N
−ジメチル−N´−エチルエチレンジアミン、N,N−
ジエチル−N´−メチルエチレンジアミン、N,N,N
´−トリエチルエチレンジアミン、3−ジメチルアミノ
プロピルアミン、N,N−ジブチル−1,3−プロパン
ジアミン、N,N−ジメチルアミノブチルアミン、N,
N−ジエチルアミノブチルアミン、N,N−ジメチルア
ミノアミルアミン、N,N−ジエチルアミノアミルアミ
ン、N,N−ジメチル−1,6−ヘキサンジアミン、
N,N−ジイソブチル−1,6−ヘキサンジアミン等が
あげられる。
【0010】本発明のポリアスパラギン酸誘導体は、ポ
リスクシンイミドと反応させるアミノチオール及びジア
ミンの種類、量及び比率を調整することにより、様々な
性質のものを得ることができるが、アミノチオールとし
てはシステアミン、3−アミノプロパンチオール及びN
−ブチルシステアミンが好ましく、ジアミンとしは3−
ジメチルアミノプロピルアミン、N,N−ジメチルエチ
レンジアミン、N,N−ジエチルエチレンジアミン及び
N,N−ジメチル−1,6−ヘキサンジアミンが好まし
い。
リスクシンイミドと反応させるアミノチオール及びジア
ミンの種類、量及び比率を調整することにより、様々な
性質のものを得ることができるが、アミノチオールとし
てはシステアミン、3−アミノプロパンチオール及びN
−ブチルシステアミンが好ましく、ジアミンとしは3−
ジメチルアミノプロピルアミン、N,N−ジメチルエチ
レンジアミン、N,N−ジエチルエチレンジアミン及び
N,N−ジメチル−1,6−ヘキサンジアミンが好まし
い。
【0011】本発明のポリアスパラギン酸誘導体の毛髪
処理剤組成物への配合量は、一般に組成物の全重量に対
して0.05〜10重量%、好ましくは0.1〜5重量%
である。
処理剤組成物への配合量は、一般に組成物の全重量に対
して0.05〜10重量%、好ましくは0.1〜5重量%
である。
【0012】本発明の毛髪処理剤組成物には、上記必須
成分のほかに、その他の常用成分を本発明の毛髪処理剤
組成物に本発明の効果を阻害しない範囲で添加すること
ができる。
成分のほかに、その他の常用成分を本発明の毛髪処理剤
組成物に本発明の効果を阻害しない範囲で添加すること
ができる。
【0013】アニオン界面活性剤としては、例えばアル
キル硫酸エステル塩、アルキルエーテル硫酸塩、脂肪酸
石鹸、エーテルカルボン酸及びその塩、アルカンスルホ
ン酸塩、α−オレフィンスルホン酸塩、高級脂肪酸エス
テルのスルホン酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、モ
ノアルキルスルホコハク酸塩、ポリオキシエチレンモノ
アルキルスルホコハク酸塩、高級脂肪酸アミドのスルホ
ン酸塩、グリセリン脂肪酸エステルの硫酸エステル塩、
アルキルエーテルリン酸エステル塩、高級脂肪酸アルカ
ノールアミドの硫酸エステル塩、アシル化アミノ酸塩等
が挙げらる。
キル硫酸エステル塩、アルキルエーテル硫酸塩、脂肪酸
石鹸、エーテルカルボン酸及びその塩、アルカンスルホ
ン酸塩、α−オレフィンスルホン酸塩、高級脂肪酸エス
テルのスルホン酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、モ
ノアルキルスルホコハク酸塩、ポリオキシエチレンモノ
アルキルスルホコハク酸塩、高級脂肪酸アミドのスルホ
ン酸塩、グリセリン脂肪酸エステルの硫酸エステル塩、
アルキルエーテルリン酸エステル塩、高級脂肪酸アルカ
ノールアミドの硫酸エステル塩、アシル化アミノ酸塩等
が挙げらる。
【0014】両性界面活性剤としては、例えばイミダゾ
リン型、アミドアミノ酸塩、カルボベタイン型、アルキ
ルベタイン型、アルキルアミドベタイン型、アルキルス
ルホベタイン型等が挙げられる。
リン型、アミドアミノ酸塩、カルボベタイン型、アルキ
ルベタイン型、アルキルアミドベタイン型、アルキルス
ルホベタイン型等が挙げられる。
【0015】またノニオン界面活性剤としては、例えば
モノグリセライド、ソルビタン脂肪酸エステル、シュ糖
脂肪酸エステル、ポリグリセリン脂肪酸エステル、アル
カノールアミド、アミンオキサイド、ポリオキシエチレ
ンアルキルエーテル、ポリエチレングリコール脂肪酸エ
ステル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロ
ックポリマー、ポリオキシエチレングリセリンモノ脂肪
酸エステル、ポリオキシエチレンプロピレングリコール
モノ脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ
油、ポリオキシエチレン脂肪酸アミド、ポリオキシエチ
レンアルキルアミン、アルキルサッカライド等が挙げら
れる。
モノグリセライド、ソルビタン脂肪酸エステル、シュ糖
脂肪酸エステル、ポリグリセリン脂肪酸エステル、アル
カノールアミド、アミンオキサイド、ポリオキシエチレ
ンアルキルエーテル、ポリエチレングリコール脂肪酸エ
ステル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロ
ックポリマー、ポリオキシエチレングリセリンモノ脂肪
酸エステル、ポリオキシエチレンプロピレングリコール
モノ脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ
油、ポリオキシエチレン脂肪酸アミド、ポリオキシエチ
レンアルキルアミン、アルキルサッカライド等が挙げら
れる。
【0016】カチオン界面活性剤としては、例えばアル
キルトリメチルアンモニウムクロライド、ジアルキルジ
メチルアンモニウムクロライド、ジポリオキシエチレン
オレイルメチルアンモニウムクロライド、ジポリオキシ
エチレンステアリルオレイルメチルアンモニウムクロラ
イド、ポリオキシエチレンジオレイルメチルアンモニウ
ムクロライド、アルキルジメチルベンジルアンモニウム
クロライド、N−ヤシ油脂肪酸アシル−L−アルギニン
エチル塩、ピリジニウム塩型、イミダゾリン塩型、アル
キルアミドグアニジン塩、アルキルグアニジン塩等が挙
げられる。
キルトリメチルアンモニウムクロライド、ジアルキルジ
メチルアンモニウムクロライド、ジポリオキシエチレン
オレイルメチルアンモニウムクロライド、ジポリオキシ
エチレンステアリルオレイルメチルアンモニウムクロラ
イド、ポリオキシエチレンジオレイルメチルアンモニウ
ムクロライド、アルキルジメチルベンジルアンモニウム
クロライド、N−ヤシ油脂肪酸アシル−L−アルギニン
エチル塩、ピリジニウム塩型、イミダゾリン塩型、アル
キルアミドグアニジン塩、アルキルグアニジン塩等が挙
げられる。
【0017】さらに、上記界面活性剤以外に、エチレン
グリコール、プロピレングリコール、1,3−ブチレン
グリコール、グリセリン、ソルビトール等の保湿剤、グ
リセリルモノステアレート、ソルビタンモノパルミテー
ト、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエ
チレンステアリン酸エステル、ポリオキシエチレンソル
ビタンモノラウレート、ジグリセリンモノステアリン酸
エステル等の乳化剤、流動パラフィン、ワセリン、固形
パラフィン、スクワラン、オレフィンオリゴマー等の炭
化水素、セチルアルコール、ステアリルアルコール等の
高級アルコール、イソプロピルミリステート、イソプロ
ピルパルミテート、ステアリルステアレート、ミリスチ
ン酸オクチルドデシル、オレイン酸オクチルドデシル、
2−エチルヘキサン酸トリグリセリド等のエステル、感
触向上剤、過脂剤、生薬等の薬剤、メチルセルロース、
ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセル
ロース、カチオン化セルロース等のセルロース誘導体、
天然高分子、ポリオキシエチレングリコールジステアリ
ン酸エステル、エタノール、パラベン誘導体等の防腐
剤、パール化剤、抗炎症剤、紫外線吸収剤、pH調整
剤、香料、色素等を必要に応じて配合することができ
る。
グリコール、プロピレングリコール、1,3−ブチレン
グリコール、グリセリン、ソルビトール等の保湿剤、グ
リセリルモノステアレート、ソルビタンモノパルミテー
ト、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエ
チレンステアリン酸エステル、ポリオキシエチレンソル
ビタンモノラウレート、ジグリセリンモノステアリン酸
エステル等の乳化剤、流動パラフィン、ワセリン、固形
パラフィン、スクワラン、オレフィンオリゴマー等の炭
化水素、セチルアルコール、ステアリルアルコール等の
高級アルコール、イソプロピルミリステート、イソプロ
ピルパルミテート、ステアリルステアレート、ミリスチ
ン酸オクチルドデシル、オレイン酸オクチルドデシル、
2−エチルヘキサン酸トリグリセリド等のエステル、感
触向上剤、過脂剤、生薬等の薬剤、メチルセルロース、
ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセル
ロース、カチオン化セルロース等のセルロース誘導体、
天然高分子、ポリオキシエチレングリコールジステアリ
ン酸エステル、エタノール、パラベン誘導体等の防腐
剤、パール化剤、抗炎症剤、紫外線吸収剤、pH調整
剤、香料、色素等を必要に応じて配合することができ
る。
【0018】本発明の毛髪処理剤組成物はシャンプー、
リンス、ヘアクリーム、ヘアローション、セットローシ
ョン、ヘアスプレー、ヘアブラッシング剤、パーマ液等
として用いることができ、その剤型は特に制限されず、
液体状、ペースト状、ゲル状、固体状、泡状、粉末状等
任意の剤型とすることができる。
リンス、ヘアクリーム、ヘアローション、セットローシ
ョン、ヘアスプレー、ヘアブラッシング剤、パーマ液等
として用いることができ、その剤型は特に制限されず、
液体状、ペースト状、ゲル状、固体状、泡状、粉末状等
任意の剤型とすることができる。
【0019】
【実施例】次に実施例により本発明をさらに詳しく説明
するが、本発明はこれによってなんら限定されるもので
はない。尚、本実施例中の配合量は重量%で表した。
するが、本発明はこれによってなんら限定されるもので
はない。尚、本実施例中の配合量は重量%で表した。
【0020】参考例 1Lの三口フラスコにL−アスパラギン酸266gを入
れ、オイルバスで反応温度220℃、6時間加熱撹拌し
た。この時窒素ガスを吹き込むことにより、反応により
発生する水蒸気を系外に除去した。冷却後、193gの
ポリスクシンイミドを得た。このポリスクシンイミド5
mgと2,5−ジヒドロキシ安息香酸50mgをジメチ
ルホルムアミド(DMF)1ml、アセトン1ml及び
純水1mlの混合液に溶解し、レーザーイオン化飛行時
間型質量分析装置(正イオン/リニア)により分子量を
測定したところ、800〜3000であった。
れ、オイルバスで反応温度220℃、6時間加熱撹拌し
た。この時窒素ガスを吹き込むことにより、反応により
発生する水蒸気を系外に除去した。冷却後、193gの
ポリスクシンイミドを得た。このポリスクシンイミド5
mgと2,5−ジヒドロキシ安息香酸50mgをジメチ
ルホルムアミド(DMF)1ml、アセトン1ml及び
純水1mlの混合液に溶解し、レーザーイオン化飛行時
間型質量分析装置(正イオン/リニア)により分子量を
測定したところ、800〜3000であった。
【0021】製造例1 撹拌装置、温度計を備え付けた1Lの三口フラスコを窒
素置換した後、参考例で得られたポリスクシンイミド1
5g(154.6mmol)及びDMF100mlを加
え均一に溶解した。これに10重量%のシステアミンを
含むDMF溶液10ml(13.0mmol)及び15
重量%の3−ジメチルアミノプロピルアミンを含むDM
F溶液10ml(14.7mmol)を同時に滴下し、
室温で4時間撹拌した。続いて、反応溶液にメタノール
200mlを加え、沈殿物を濾過し減圧乾燥を行った。
さらに、乾燥した反応物を0.5%水酸化ナトリウム水
溶液80mlに加え、室温で1時間撹拌することによ
り、ポリアスパラギン酸誘導体の水溶液を得た。
素置換した後、参考例で得られたポリスクシンイミド1
5g(154.6mmol)及びDMF100mlを加
え均一に溶解した。これに10重量%のシステアミンを
含むDMF溶液10ml(13.0mmol)及び15
重量%の3−ジメチルアミノプロピルアミンを含むDM
F溶液10ml(14.7mmol)を同時に滴下し、
室温で4時間撹拌した。続いて、反応溶液にメタノール
200mlを加え、沈殿物を濾過し減圧乾燥を行った。
さらに、乾燥した反応物を0.5%水酸化ナトリウム水
溶液80mlに加え、室温で1時間撹拌することによ
り、ポリアスパラギン酸誘導体の水溶液を得た。
【0022】製造例2 水酸化ナトリウム水溶液をトリエタノールアミン水溶液
に代えたほかは製造例1と同様にしてポリアスパラギン
酸誘導体の水溶液を得た。
に代えたほかは製造例1と同様にしてポリアスパラギン
酸誘導体の水溶液を得た。
【0023】製造例3 システアミンを3−アミノプロパンチオール(11.0
mmol)に代えたほかは製造例1と同様にしてポリア
スパラギン酸誘導体の水溶液を得た。
mmol)に代えたほかは製造例1と同様にしてポリア
スパラギン酸誘導体の水溶液を得た。
【0024】製造例4 システアミンをN−ブチルシステアミンに代え、N−ブ
チルシステアミンDMF溶液(9.0mmol)及び3
−ジメチルアミノプロピルアミンDMF溶液(17.6
mmol)の添加量を12mlとたほかは製造例1と同
様にしてポリアスパラギン酸誘導体の水溶液を得た。
チルシステアミンDMF溶液(9.0mmol)及び3
−ジメチルアミノプロピルアミンDMF溶液(17.6
mmol)の添加量を12mlとたほかは製造例1と同
様にしてポリアスパラギン酸誘導体の水溶液を得た。
【0025】製造例5 3−ジメチルアミノプロピルアミンをN,N−ジメチル
エチレンジアミン(17.0mmol)に代えたほかは
製造例1と同様にしてポリアスパラギン酸誘導体の水溶
液を得た。
エチレンジアミン(17.0mmol)に代えたほかは
製造例1と同様にしてポリアスパラギン酸誘導体の水溶
液を得た。
【0026】製造例6 3−ジメチルアミノプロピルアミンをN,N−ジエチル
アミノアミルアミン(9.5mmol)に代え、システ
アミンの添加量を15ml(19.4mmol)とした
ほかは製造例1と同様にしてポリアスパラギン酸誘導体
の水溶液を得た。
アミノアミルアミン(9.5mmol)に代え、システ
アミンの添加量を15ml(19.4mmol)とした
ほかは製造例1と同様にしてポリアスパラギン酸誘導体
の水溶液を得た。
【0027】製造例7 3−ジメチルアミノプロピルアミンをN,N−ジメチル
−1,6−ヘキサンジアミン(10.4mmol)に代
えたほかは製造例1と同様にしてポリアスパラギン酸誘
導体の水溶液を得た。
−1,6−ヘキサンジアミン(10.4mmol)に代
えたほかは製造例1と同様にしてポリアスパラギン酸誘
導体の水溶液を得た。
【0028】比較例1 撹拌装置、温度計を備え付けた1Lの三口フラスコを窒
素置換した後、ポリスクシンイミド15g(154.6
mmol)及びDMF100mlを加え均一に溶解し
た。さらに、10重量%のシステアミンを含むDMF溶
液10ml(13.0mmol)を滴下し、室温で4時
間撹拌した。続いて、反応溶液にメタノール200ml
を加え、沈殿物を濾過し減圧乾燥を行った。さらに、乾
燥した反応物を0.5%水酸化ナトリウム水溶液100
mlに加え、室温で1時間撹拌することにより、ポリア
スパラギン酸誘導体の水溶液を得た。
素置換した後、ポリスクシンイミド15g(154.6
mmol)及びDMF100mlを加え均一に溶解し
た。さらに、10重量%のシステアミンを含むDMF溶
液10ml(13.0mmol)を滴下し、室温で4時
間撹拌した。続いて、反応溶液にメタノール200ml
を加え、沈殿物を濾過し減圧乾燥を行った。さらに、乾
燥した反応物を0.5%水酸化ナトリウム水溶液100
mlに加え、室温で1時間撹拌することにより、ポリア
スパラギン酸誘導体の水溶液を得た。
【0029】比較例2 撹拌装置、温度計を備え付けた1Lの三口フラスコを窒
素置換した後、ポリスクシンイミド15g(154.6
mmol)及びDMF100mlを加え均一に溶解し
た。さらに、15重量%の3−ジメチルアミノプロピル
アミンを含むDMF溶液10ml(14.7mmol)
を滴下し、室温で4時間撹拌した。続いて、反応溶液に
メタノール200mlを加え、沈殿物を濾過し減圧乾燥
を行った。さらに、乾燥した反応物を0.5%水酸化ナ
トリウム水溶液100mlに加え、室温で1時間撹拌す
ることにより、ポリアスパラギン酸誘導体の水溶液を得
た。
素置換した後、ポリスクシンイミド15g(154.6
mmol)及びDMF100mlを加え均一に溶解し
た。さらに、15重量%の3−ジメチルアミノプロピル
アミンを含むDMF溶液10ml(14.7mmol)
を滴下し、室温で4時間撹拌した。続いて、反応溶液に
メタノール200mlを加え、沈殿物を濾過し減圧乾燥
を行った。さらに、乾燥した反応物を0.5%水酸化ナ
トリウム水溶液100mlに加え、室温で1時間撹拌す
ることにより、ポリアスパラギン酸誘導体の水溶液を得
た。
【0030】比較例3 撹拌装置、温度計を備え付けた1Lの三口フラスコを窒
素置換した後、ポリ−γ−メチル−L−グルタメート2
0g及びDMF100mlを加え均一に溶解した。さら
に、10重量%のシステアミンを含むDMF溶液10m
lを滴下し、室温で4時間撹拌した。続いて、反応溶液
にメタノール200mlを加え、沈殿物を濾過し減圧乾
燥を行った。さらに、乾燥した反応物を0.5%水酸化
ナトリウム水溶液100mlに加え、室温で1時間撹拌
することにより、ポリグルタミン酸誘導体の水溶液を得
た。
素置換した後、ポリ−γ−メチル−L−グルタメート2
0g及びDMF100mlを加え均一に溶解した。さら
に、10重量%のシステアミンを含むDMF溶液10m
lを滴下し、室温で4時間撹拌した。続いて、反応溶液
にメタノール200mlを加え、沈殿物を濾過し減圧乾
燥を行った。さらに、乾燥した反応物を0.5%水酸化
ナトリウム水溶液100mlに加え、室温で1時間撹拌
することにより、ポリグルタミン酸誘導体の水溶液を得
た。
【0031】試験例1 表1に示すパーマ液第1液を調製し、ヘアーピースを用
いてパーマ処理を行なった。第2液には6%臭素酸ナト
リウム水溶液を用いた。処理後、毛髪強度、ウェーブの
持続性及びパーマ液の形態安定性についての官能評価を
下記基準により評価を行った。 ◎:非常に優れる ○:優れる △:普通〜やや良い ×:劣る
いてパーマ処理を行なった。第2液には6%臭素酸ナト
リウム水溶液を用いた。処理後、毛髪強度、ウェーブの
持続性及びパーマ液の形態安定性についての官能評価を
下記基準により評価を行った。 ◎:非常に優れる ○:優れる △:普通〜やや良い ×:劣る
【0032】
【表1】
【0033】配合例1〜6 表2〜7に示す毛髪処理剤組成物を製造した。これらは
毛髪にしっとり感、色つやを与え、その効果を持続する
特徴を持っていた。
毛髪にしっとり感、色つやを与え、その効果を持続する
特徴を持っていた。
【0034】
【表2】
【0035】
【表3】
【0036】
【表4】
【0037】
【表5】
【0038】
【表6】
【0039】
【表7】
【0040】
【発明の効果】本発明のポリアスパラギン酸誘導体は、
毛髪に対する優れた保湿性、コンディショニング効果を
有し、自然な仕上がりを与えると共に、パーマ時の毛髪
の損傷を低減するものである。また主鎖にα結合及びβ
結合がランダムに存在するためアルコール等の溶剤に容
易に溶解し、毛髪処理剤組成物の製造時に取り扱いが簡
便であるという特徴を有している。そして、このような
ポリアスパラギン酸誘導体を含有する本発明の毛髪処理
剤組成物は、保湿性が非常に高く毛髪に適度の吸水性を
付与し、べとつくことなくしっとり感を付与し、風合
い、櫛通り性等を改善する。また、枝毛等の傷んだ毛髪
の改善に効果を示す高いヘアケア性を有する。さらに、
毛髪に自然な光沢を与え、しかも、優れた毛髪への残留
性が期待され、特にダメージヘアの毛髪強度を上げる効
果が高い。
毛髪に対する優れた保湿性、コンディショニング効果を
有し、自然な仕上がりを与えると共に、パーマ時の毛髪
の損傷を低減するものである。また主鎖にα結合及びβ
結合がランダムに存在するためアルコール等の溶剤に容
易に溶解し、毛髪処理剤組成物の製造時に取り扱いが簡
便であるという特徴を有している。そして、このような
ポリアスパラギン酸誘導体を含有する本発明の毛髪処理
剤組成物は、保湿性が非常に高く毛髪に適度の吸水性を
付与し、べとつくことなくしっとり感を付与し、風合
い、櫛通り性等を改善する。また、枝毛等の傷んだ毛髪
の改善に効果を示す高いヘアケア性を有する。さらに、
毛髪に自然な光沢を与え、しかも、優れた毛髪への残留
性が期待され、特にダメージヘアの毛髪強度を上げる効
果が高い。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 川崎 由明 神奈川県川崎市川崎区鈴木町1−1 味の 素株式会社中央研究所内
Claims (4)
- 【請求項1】下記単位構造(A)、(B)及び(C)か
らなるポリアスパラギン酸誘導体。 【化1】 (式中、R1 は水素原子または炭素数1〜4のアルキル
基を表し、pは1〜4の整数を表す。) 【化2】 [式中、R2 は水素原子または炭素数1〜4のアルキル
基を表し、Yは 【化3】 (式中、R3 〜R4 は炭素数1〜4のアルキル基を表
し、Zは有機酸または無機酸に由来するアニオンを表
す。)を表し、qは2〜6の整数を表す。] 【化4】 (式中、Mは水素原子、アルカリ金属、有機アミンまた
は塩基性アミノ酸を表す。) - 【請求項2】単位構造(A)、(B)及び(C)の割合
が、それぞれ5〜25%、5〜25%、50〜90%で
ある請求項1記載のポリアスパラギン酸誘導体。 - 【請求項3】平均重合度が5〜500である請求項1ま
たは2記載のポリアスパラギン酸誘導体。 - 【請求項4】請求項1〜3記載のポリアスパラギン酸誘
導体を含有する毛髪処理剤組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23850395A JPH0977867A (ja) | 1995-09-18 | 1995-09-18 | ポリアスパラギン酸誘導体及びそれを含有する毛髪処理剤組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23850395A JPH0977867A (ja) | 1995-09-18 | 1995-09-18 | ポリアスパラギン酸誘導体及びそれを含有する毛髪処理剤組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0977867A true JPH0977867A (ja) | 1997-03-25 |
Family
ID=17031224
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23850395A Pending JPH0977867A (ja) | 1995-09-18 | 1995-09-18 | ポリアスパラギン酸誘導体及びそれを含有する毛髪処理剤組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0977867A (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09136817A (ja) * | 1995-11-15 | 1997-05-27 | Ajinomoto Co Inc | 毛髪化粧料 |
| JPH09208434A (ja) * | 1996-01-30 | 1997-08-12 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 毛髪処理剤組成物 |
| JPH107533A (ja) * | 1996-06-20 | 1998-01-13 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | 毛髪処理剤組成物 |
| JPH1025344A (ja) * | 1995-10-05 | 1998-01-27 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | 重合体、その製造方法、毛髪処理剤組成物及び香粧品組成物 |
| JP2000191464A (ja) * | 1998-12-29 | 2000-07-11 | Sunstar Inc | ヘアスプレイ組成物 |
| JP2000191468A (ja) * | 1998-12-29 | 2000-07-11 | Sunstar Inc | ヘアスプレイ組成物 |
| JP2005330216A (ja) * | 2004-05-19 | 2005-12-02 | Arimino Kagaku Kk | 水性化粧料 |
| JP2017039920A (ja) * | 2015-08-17 | 2017-02-23 | 三洋化成工業株式会社 | ポリアスパラギン酸誘導体及びそれを含有する洗浄剤組成物 |
| JP2018507298A (ja) * | 2015-02-17 | 2018-03-15 | フイルメニツヒ ソシエテ アノニムFirmenich Sa | 賦香性成分の放出制御のためのポリ(アスパラギン酸)から誘導されるコポリマー |
| WO2019172362A1 (ja) * | 2018-03-07 | 2019-09-12 | 公益財団法人川崎市産業振興財団 | 刺激応答性ポリマー |
-
1995
- 1995-09-18 JP JP23850395A patent/JPH0977867A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1025344A (ja) * | 1995-10-05 | 1998-01-27 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | 重合体、その製造方法、毛髪処理剤組成物及び香粧品組成物 |
| JPH09136817A (ja) * | 1995-11-15 | 1997-05-27 | Ajinomoto Co Inc | 毛髪化粧料 |
| JPH09208434A (ja) * | 1996-01-30 | 1997-08-12 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 毛髪処理剤組成物 |
| JPH107533A (ja) * | 1996-06-20 | 1998-01-13 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | 毛髪処理剤組成物 |
| JP2000191464A (ja) * | 1998-12-29 | 2000-07-11 | Sunstar Inc | ヘアスプレイ組成物 |
| JP2000191468A (ja) * | 1998-12-29 | 2000-07-11 | Sunstar Inc | ヘアスプレイ組成物 |
| JP2005330216A (ja) * | 2004-05-19 | 2005-12-02 | Arimino Kagaku Kk | 水性化粧料 |
| JP2018507298A (ja) * | 2015-02-17 | 2018-03-15 | フイルメニツヒ ソシエテ アノニムFirmenich Sa | 賦香性成分の放出制御のためのポリ(アスパラギン酸)から誘導されるコポリマー |
| JP2017039920A (ja) * | 2015-08-17 | 2017-02-23 | 三洋化成工業株式会社 | ポリアスパラギン酸誘導体及びそれを含有する洗浄剤組成物 |
| WO2019172362A1 (ja) * | 2018-03-07 | 2019-09-12 | 公益財団法人川崎市産業振興財団 | 刺激応答性ポリマー |
| JPWO2019172362A1 (ja) * | 2018-03-07 | 2021-03-11 | 公益財団法人川崎市産業振興財団 | 刺激応答性ポリマー |
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