JPH0978565A - 地盤改良工法 - Google Patents

地盤改良工法

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JPH0978565A
JPH0978565A JP23499495A JP23499495A JPH0978565A JP H0978565 A JPH0978565 A JP H0978565A JP 23499495 A JP23499495 A JP 23499495A JP 23499495 A JP23499495 A JP 23499495A JP H0978565 A JPH0978565 A JP H0978565A
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JP
Japan
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injection
drain
range
injected
ground
Prior art date
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Pending
Application number
JP23499495A
Other languages
English (en)
Inventor
Osamu Matsuo
修 松尾
Junichi Koseki
潤一 古関
Masao Shimoda
正雄 下田
Soichi Fujii
壮一 藤井
Toshirou Shinetsu
寿郎 新越
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Minister for Public Works for State of New South Wales
Onoda Chemico Co Ltd
Onoda Chemical Industry Co Ltd
National Research and Development Agency Public Works Research Institute
Original Assignee
Minister for Public Works for State of New South Wales
Onoda Chemico Co Ltd
Onoda Chemical Industry Co Ltd
Public Works Research Institute Ministry of Construction
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Filing date
Publication date
Application filed by Minister for Public Works for State of New South Wales, Onoda Chemico Co Ltd, Onoda Chemical Industry Co Ltd, Public Works Research Institute Ministry of Construction filed Critical Minister for Public Works for State of New South Wales
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Pending legal-status Critical Current

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  • Consolidation Of Soil By Introduction Of Solidifying Substances Into Soil (AREA)
  • Investigation Of Foundation Soil And Reinforcement Of Foundation Soil By Compacting Or Drainage (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】この発明は軟弱地盤改良工法のうち、液状化対
策として有効な注入工法の改良改善に関するものであ
る。すなわち、砂地盤等の液状化を起こし易い地盤にお
いて、当該地盤全体に注入材を浸透させ、液状化対策と
して有効な地盤改良工法を提供することを目的とするも
のである。 【解決手段】改良予定範囲に注入材を注入するにあた
り、注入すべき予定範囲の所定位置に注入材の注入口を
設置し、該注入口より注入される注入材の注入範囲の前
面にドレーン部を設置し、所定の場所に所定量の注入材
を注入する地盤改良工法である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は軟弱地盤改良工法
のうち、液状化対策として有効な注入工法の改良改善に
関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、軟弱地盤改良工法として、高分子
系、水ガラス系、セメント系等の薬液を改良予定地盤内
に注入パイプを用いて注入する工法、高圧ジェットによ
り薬液を噴射注入する工法、または、噴射ノズルを地中
で回転させて土粒子と薬液を混ぜて柱をつくり地盤を改
良する工法等が用いられている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記各工法のうち、注
入工法に用いられる注入材は、溶液型と懸濁液型とがあ
り、前者の溶液型は浸透性を有するが、耐久性にとぼし
い。また、後者の懸濁液型は耐久性を有するが、浸透性
にとぼしい。
【0004】現在は、水ガラスを中心とした溶液型注入
材が主流であり、耐久性にとぼしいという欠点を有する
ため、仮設工事のみに使用されており耐久性を必要とす
るところには採用さていない。
【0005】また、注入された注入材は浸透性のよい層
に集中的に逸脱したり、地下水で希釈されたり、改良予
定地盤の状態に左右されるため、注入材が所定の場所に
注入されない問題が生じる。
【0006】
【課題を解決するための手段】この発明は砂地盤等の液
状化を起こし易い地盤において、当該地盤全体に注入材
を浸透させ、液状化対策として有効な地盤改良工法を提
供することを目的とするものである。
【0007】この発明は、改良予定範囲に注入材を注入
するにあたり、注入すべき予定範囲の所定位置に注入材
の注入口を設置し、該注入口より注入される注入材の注
入範囲の前面にドレーン部を設置し、所定の場所に所定
量の注入材を注入する地盤改良工法としたことである。
【0008】また、改良予定範囲に注入材を注入するに
あたり、注入すべき予定範囲の所定位置に注入材の注入
口を設置し、該注入口より注入される注入材の注入範囲
を囲繞するようにドレーン部を設置し、所定の場所に所
定量の注入材を注入する地盤改良工法としたことであ
る。
【0009】また、ドレーン部をサンドパイルあるいは
有孔パイプまたは網パイプ等の有孔筒体に玉砂利、砕石
または砂を充填した円柱体状のドレーンに形成するか、
トレンチに玉砂利、砕石または砂等の充填物を充填した
壁状のドレーンに形成し、また、必要に応じてドレーン
部に水中ポンプ等の排水装置を設置したことである。
【0010】また、注入材を平均粒径4μm、最大粒径
10μm、残分3%以下、ブレーン比表面積7500〜
10000cm2 /gの超微粒子セメントとしたことで
あり、さらに改良予定範囲への注入材の注入を、ステッ
プダウン方式あるいはステップアップ方式により複数回
にわたり行う地盤改良工法としたことである。
【0011】
【作用】改良予定地盤の所定位置に設置した注入口から
注入材として平均粒径4μm,最大粒径10μm,残分
3%以下,ブレーン比表面積 7500 〜 10000cm2 /g
の超微粒子セメントを注入すると、当該超微粒子セメン
トの注入材は浸透性、耐久性に優れているので、改良予
定地盤全体に注入材が浸透される。
【0012】上部よりステップダウン方式で注入材の注
入を行えば、初めに注入した注入材により改良予定範囲
の上部がカバーロックされたかたちとなり、それより下
部の注入材の注入時には、水平方向への浸透距離が延
び、水平方向の改良範囲を広げることとなる。
【0013】注入口より注入される注入材の注入範囲の
前面、あるいは注入範囲を囲繞するようにドレーン部を
設置し、また、必要に応じて、過剰水吸出装置例えば水
中ポンプを前記ドレーン部に設置したので、注入材の過
剰水あるいは地下水をドレーン部から外部に流出させる
ことができるから、規定量の注入材を注入できる。
【0014】
【発明の実施の形態】この発明の実施の形態の一例を図
により説明する。図1は注入材注入口とドレーン部の設
置方法の平面図であり、注入範囲1の所定位置に注入材
の注入口2を設置し、該注入口より注入される注入材の
注入範囲1の前面にドレーン部3を設置し、前記注入口
2より所定量の注入材をドレーン部3方向に向けて注入
する工法であり、また、前記ドレーン部3を有孔パイプ
または網パイプ等の有孔筒体に玉砂利、砕石または砂等
の充填物5を充填したドレーン壁体3aに構成する。な
お、ドレーン部をトレンチに玉砂利、砕石または砂等の
充填物5を充填したドレーン壁体に構成してもよい。
【0015】注入口2より改良予定地盤の注入範囲1へ
の注入材の注入は、地盤上部よりステップダウン方式で
数回に亙って行うことにより、初めに注入した注入材に
より改良予定範囲1の上部がカバーロックされたかたち
となり、前記注入箇所より下方の注入材の注入時には、
注入材の水平方向への浸透距離が延び、水平方向の改良
範囲を広げることができる。
【0016】なお、ドレーン部3の設置は、有孔パイプ
または網パイプ等の有孔筒体6に玉砂利、砕石または砂
等の充填物5を充填形成しものを、図2または図3の様
に設置してもよいが、図4または図5に示す様に、注入
範囲1をトレンチに玉砂利を充填した壁体で囲繞するド
レーン部3に形成してもよい。
【0017】図6はこの発明の実験のために周囲を玉砂
利ドレーンで囲った実験土槽の断面図であり、実験土槽
10を構成する砂地盤11の砂の混合を防ぐための玉砂
利等の充填物5を充填したドレーン部12を構成するに
あたり、200メッシュの網に玉砂利5を充填した壁体
13を使用した。また、この造成砂地盤面上にコンクリ
ート層14を形成した。上記の実験土槽10には、相対
密度Dr=50%を目標に砂地盤11を作成するために
山形産珪砂6号を用いたが、その砂地盤11の砂の物性
は、表1に示すとおりである。
【表1】 また、上記の砂地盤11の性状は、乾燥密度1.514
g/cm3(Dr=44)、水道水で飽和させた後の透水
係数は、K=3.26×10-2cm/secであった。
【0018】注入方法は懸濁液型注入材を1ショットで
注入する。 注入条件 水/注入材 100 〜 1000% 分散材添加物/注入材 1.0 〜 15% 注入圧:予めP−Q曲線を求めてから、設定するが2〜
20kgf/cm2 とする。 注入速度:5〜20 l/min サンドゲル強度:1 kgf/cm2 以上 を目標とする。
【0019】上記土槽10の中央(対角線の交点)に注
入管15をたて込み二重管ダブルパッカー方式により平
均粒径4.0μm、最大粒径10μm、残分3%以下、
ブレーン比表面積9000cm2 /gの注入材を水/注
入材=750%、ナフタレン系分散材を注入材重量に対
して、1%添加したものを第一注入口(コンクリート層
上面より下方1mのところ)から、10 l/minに
て9000 l注入した。また、注入と併行して第一注
入口と同一高さに設置した水中ポンプ16により10 l
/minにて吸水して実験土槽10外に排水させた。
【0020】次に第二注入口(コンクリート層上面より
下方3mのところ)から同様の注入を行い9500 l
注入した。また、注入と同時に第二注入口と同一高さに
設置した水中ポンプ16により、10 l/minにて
吸水し実験土槽10外に排水させた。
【0021】一ヶ月後に実験砂地盤を開削して調査した
ところ、平均直径2.7m,最大直径3.5mの円柱状
固結体を確認した。
【0022】
【発明の効果】改良予定地盤の所定位置に設置した注入
口から注入材として平均粒径4μm,最大粒径10μ
m,残分3%以下,ブレーン比表面積9000cm2
gの注入材を注入すると、注入材は浸透性に優れている
ので、改良予定地盤全体に浸透注入させることができ
る。
【0023】上部よりステップダウン方式で注入材の注
入を行えば、上部をカバーロックすることとなり、それ
以下の地盤に注入時には、水平方向への浸透距離が延
び、水平方向の改良範囲を広げることができ改良予定地
盤全体の改良が容易である。
【0024】注入口より注入される注入材の注入範囲の
前面、あるいは注入範囲を囲繞するようにドレーン部を
設置し、また、必要に応じて、過剰水吸出装置例えば水
中ポンプを前記ドレーン部に設置したので、注入材の過
剰水あるいは地下水をドレーン部から外部に流出させる
ことができるから、規定量の注入材を注入できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図はこの発明の地盤改良工法のドレーン部の一
設置方法の平面図である。
【図2】図はこの発明の地盤改良工法のドレーン部の他
の設置方法の平面図である。
【図3】図はこの発明の地盤改良工法のドレーン部の他
の設置方法の平面図である。
【図4】図はこの発明の地盤改良工法のドレーン部の他
の設置方法の平面図である。
【図5】図はこの発明の地盤改良工法のドレーン部の他
の設置方法の平面図である。
【図6】図はこの発明の地盤改良工法の実験のための実
験土槽の断面図である。
【符号の説明】
1.注入範囲 2.注入口 3.ドレーン部 3a.ドレーン壁 5.砕石等の充填物 6.有孔筒体 A.注入方向 10.実験土槽 11.砂地盤 12.ドレーン部 13.ドレーン壁体 14.コンクリート層 15.注入管 16.水中ポンプ 17.ダブルパッカー
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 下田 正雄 東京都台東区柳橋2丁目17番4号 小野田 ケミコ株式会社内 (72)発明者 藤井 壮一 東京都台東区柳橋2丁目17番4号 小野田 ケミコ株式会社内 (72)発明者 新越 寿郎 東京都台東区柳橋2丁目17番4号 小野田 ケミコ株式会社内

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 改良予定範囲に注入材を注入するにあた
    り、注入すべき予定範囲の所定位置に注入材の注入口を
    設置し、該注入口より注入される注入材の注入範囲の前
    面にドレーン部を設置し、所定の場所に所定量の注入材
    を注入することを特徴とする地盤改良工法。
  2. 【請求項2】 改良予定範囲に注入材を注入するにあた
    り、注入すべき予定範囲の所定位置に注入材の注入口を
    設置し、該注入口より注入される注入材の注入範囲を囲
    繞するようにドレーン部を設置し、所定の場所に所定量
    の注入材を注入することを特徴とする地盤改良工法。
  3. 【請求項3】 ドレーン部がサンドパイルあるいは有孔
    パイプまたは網パイプ等の有孔筒体に玉砂利、砕石また
    は砂等の充填物を充填した円柱体状のドレーンであるこ
    とを特徴とする請求項1〜2記載の地盤改良工法。
  4. 【請求項4】 ドレーン部がトレンチに玉砂利、砕石ま
    たは砂等の充填物を充填した壁状のドレーンであること
    を特徴とする請求項1〜2記載の地盤改良工法。
  5. 【請求項5】 ドレーン部に必要に応じ水中ポンプ等の
    排水装置を設置したことを特徴とする請求項1〜2記載
    の地盤改良工法。
  6. 【請求項6】 注入材が平均粒径4μm、最大粒径10
    μm、残分3%以下、ブレーン比表面積7500〜10
    000cm2 /gの超微粒子セメントであることを特徴
    とする請求項1〜2記載の地盤改良工法。
  7. 【請求項7】 改良予定範囲への注入材の注入を、ステ
    ップダウン方式あるいはステップアップ方式により複数
    回にわたりおこなうことを特徴とする請求項1〜2記載
    の地盤改良工法。
JP23499495A 1995-09-13 1995-09-13 地盤改良工法 Pending JPH0978565A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1161131A (ja) * 1997-08-22 1999-03-05 Pub Works Res Inst Ministry Of Constr 地盤改良工法
CN101591904B (zh) 2008-05-28 2012-04-25 徐立新 先预压排水后向排水体注浆形成复合桩基的加固方法
JP2018131756A (ja) * 2017-02-14 2018-08-23 株式会社不動テトラ 地盤改良方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1161131A (ja) * 1997-08-22 1999-03-05 Pub Works Res Inst Ministry Of Constr 地盤改良工法
CN101591904B (zh) 2008-05-28 2012-04-25 徐立新 先预压排水后向排水体注浆形成复合桩基的加固方法
JP2018131756A (ja) * 2017-02-14 2018-08-23 株式会社不動テトラ 地盤改良方法

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