JPH1161131A - 地盤改良工法 - Google Patents

地盤改良工法

Info

Publication number
JPH1161131A
JPH1161131A JP9226729A JP22672997A JPH1161131A JP H1161131 A JPH1161131 A JP H1161131A JP 9226729 A JP9226729 A JP 9226729A JP 22672997 A JP22672997 A JP 22672997A JP H1161131 A JPH1161131 A JP H1161131A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
injection
cement
ground
pressure
dispersant
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP9226729A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4131424B2 (ja
Inventor
Osamu Matsuo
修 松尾
Masaaki Sano
昌明 佐野
Soichi Fujii
壮一 藤井
Toshirou Shinetsu
寿郎 新越
Kimihiko Ichikawa
公彦 市川
Kenji Fuchigami
憲児 渕上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Minister for Public Works for State of New South Wales
Onoda Chemico Co Ltd
National Research and Development Agency Public Works Research Institute
Original Assignee
Minister for Public Works for State of New South Wales
Onoda Chemico Co Ltd
Public Works Research Institute Ministry of Construction
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Minister for Public Works for State of New South Wales, Onoda Chemico Co Ltd, Public Works Research Institute Ministry of Construction filed Critical Minister for Public Works for State of New South Wales
Priority to JP22672997A priority Critical patent/JP4131424B2/ja
Publication of JPH1161131A publication Critical patent/JPH1161131A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4131424B2 publication Critical patent/JP4131424B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B28/00—Compositions of mortars, concrete or artificial stone, containing inorganic binders or the reaction product of an inorganic and an organic binder, e.g. polycarboxylate cements
    • C04B28/02—Compositions of mortars, concrete or artificial stone, containing inorganic binders or the reaction product of an inorganic and an organic binder, e.g. polycarboxylate cements containing hydraulic cements other than calcium sulfates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B7/00—Hydraulic cements
    • C04B7/36—Manufacture of hydraulic cements in general
    • C04B7/48—Clinker treatment
    • C04B7/52—Grinding ; After-treatment of ground cement
    • C04B7/527—Grinding ; After-treatment of ground cement obtaining cements characterised by fineness, e.g. by multi-modal particle size distribution
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2103/00—Function or property of ingredients for mortars, concrete or artificial stone
    • C04B2103/40—Surface-active agents, dispersants
    • C04B2103/408—Dispersants
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2111/00—Mortars, concrete or artificial stone or mixtures to prepare them, characterised by specific function, property or use
    • C04B2111/00474—Uses not provided for elsewhere in C04B2111/00
    • C04B2111/00732—Uses not provided for elsewhere in C04B2111/00 for soil stabilisation

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Soil Conditioners And Soil-Stabilizing Materials (AREA)
  • Consolidation Of Soil By Introduction Of Solidifying Substances Into Soil (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 砂質土の改良において、超微粒子セメントを
注入材として使用する場合、従来、水セメント比を１０
０〜４００％、分散剤を超微粒子セメントに対し、０．
１〜１．３％添加してなる懸濁液型注入材を地盤中に注
入しているが、この注入材は透水係数が１０-2ｃｍ／ｓ
ｅｃより不透水性の地盤に浸透注入させることができな
かった。また、注入工法は２５〜１００ｃｍのピッチに
おいて注入材を低圧で注入するため、不透水性の砂質土
および砂質土・粘性土から成る互層地盤の場合、連続し
た改良体を造成するこよができなかった。 【解決手段】 超微粒子セメントの水セメント比を２０
０〜１５００％、分散剤を超微粒子セメントに対して１
〜１５％添加してなる注入材を作り、砂質土に圧力１０
０〜６００ｋｇｆ／ｃｍ2 の高圧で噴射し、高圧噴射
改良領域と浸透改良領域からなる連続した改良体を造成
する。注入材の浸透により、圧力を逃がすことになるた
め、周辺地盤に及ぼす影響が少ない。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は耐久性および浸透
性を有する超微粒子セメントの注入材を、高圧で地盤中
に噴射させることにより、高圧噴射改良領域に浸透改良
領域を加えた改良地盤を造成する高圧噴射工法の改良改
善に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】軟弱地盤の改良工法のうち、高圧噴射工
法に用いられる注入材は普通セメント、高炉セメントお
よびセメント系固化材を主成分としており、耐久性を有
するが浸透性に乏しい。また、注入工法に用いられる溶
液型注入材は浸透性を有するが耐久性に乏しい。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記の浸透性の問題を
解決するために、耐久性を有し浸透性の良い注入材とし
て超微粒子セメントを用いることが提案されている。超
微粒子セメントを注入材として使用する場合、従来、水
セメント比を１００〜４００％、分散剤を超微粒子セメ
ントに対し０．１〜１．３％添加してなる懸濁液型注入
材を地盤中に注入しているが，この注入材は透水係数が
１０-2ｃｍ／ｓｅｃ未満の不透水性の地盤に浸透注入さ
せることができなかった。また、注入工法は２５〜１０
０ｃｍのピッチにおいて注入材を低圧で注入するため、
不透水性の砂質土および砂質土・粘性土から成る互層地
盤の場合、連続した改良体を造成することができなかっ
た。
【０００４】
【課題を解決するための手段】この発明は上記の課題を
解決するために、超微粒子セメントの水セメント比を２
００〜１５００％、分散剤を超微粒子セメントに対して
１〜１５％を添加してなる注入材を作り、砂質土に圧力
１００〜６００ｋｇｆ／ｃｍ2 の高圧で噴射し、高圧
噴射改良領域と浸透改良領域からなる連続した改良体を
造成する地盤改良工法である。
【０００５】また、上記地盤改良工法に用いる超微粒子
セメントを平均粒径４μｍ、最大粒径１０μｍ、残分３
％以下、またブレーン比表面積７０００〜１２０００ｃ
ｍ2／ｇ無機質化合物とし、また、前記注入材に用いる
分散剤としてナフタレンスルフォン酸塩系のものを用い
たことである。
【０００６】
【発明の実施の形態】この発明の実施の形態を以下の実
施例に基づき説明する。 実施例 （１）超微粒子セメント注入材の仕様 実験に用いた超微粒子セメントの特性を表１に示す。
【０００７】
【表１】
【０００８】実験に用いた超微粒子セメント注入材およ
び通常の高圧噴射注入材の仕様を表２に示す。
【０００９】
【表２】
【００１０】（２）地盤の特性 実験に用いた地盤の特性を表３に示す。柱状図及び改良
体造成断面を図１に示す。
【００１１】
【表３】
【００１２】（３）注入材の噴射の仕様 注入材の噴射の仕様を表４に示す。位置図を図２に示
す。
【００１３】
【表４】
【００１４】実施結果 （１）浸透メカニズム 高圧噴射工法は、改良体の出来型については注入工法よ
り確実である。しかし、一般的な単管式の高圧噴射工法
は、排泥を出さないため周辺地盤に変位を及ぼすことが
あるとされている。これは改良材を地盤中に強制圧入す
ることにより、地盤内の体積増加に起因して地中内の応
力が増加し、周辺地盤を押すためとされている。そこ
で、改良材に浸透性の高い超微粒子セメント懸濁液を用
いて、高圧噴射により形成される改良径に加え、地盤内
にこもった圧力で懸濁液を浸透させることにより、改良
径を拡大させることをねらう。また、懸濁液の浸透によ
り、圧力を逃すことになるため、周辺地盤に及ぼす影響
が少ない。
【００１５】（２）噴射時間と改良径 表４の注入材の仕様のもと表３の地盤で行った結果を、
図３に示す。超微粒子注入材の場合、噴射時間と改良径
が比例関係にあり、噴射時間が長いほど改良径が大きく
なる。セメント系固化材の場合も同様の関係を示すが、
超微粒子セメント注入材の方がより大きな値を示す。
【００１６】（３）高圧噴射改良領域と浸透改良領域 高圧噴射改良領域と浸透改良領域を図４に示す。噴射時
間が長くなると高圧噴射改良領域は７０ｃｍ〜１００ｃ
ｍになり、浸透改良領域は３０ｃｍ〜５０ｃｍとなる。
噴射時間が長くなるほど高圧噴射改良領域は大きくな
り、また、浸透改良領域も大きくなる。
【００１７】
【発明の効果】この発明は上述のように、超微粒子セメ
ントの水セメント比を２００〜１５００％、分散剤を超
微粒子セメントに対して１〜１５％を添加してなる注入
材を作り、砂質土に圧力１００〜６００ｋｇｆ／ｃｍ2
の高圧で噴射することで、高圧噴射改良領域と浸透改
良領域からなる連続した大口径の改良体を造成すること
ができる。また、注入材の浸透により、圧力を逃すこと
になるため、周辺地盤に及ぼす影響が少なく、既設の構
造物に近接しての施工も可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の地盤改良工法の実施例のための現場
施工実験における柱状図および改良体造成断面を示した
図である。
【図２】この発明の地盤改良工法の実施例における現場
施工実験の位置図である。
【図３】この発明の地盤改良工法の実施例における噴射
量と改良径の関係を示す図である。
【図４】この発明の地盤改良工法の実施例における高圧
噴射領域と浸透領域を示す図である。
フロントページの続き (72)発明者 藤井 壮一 東京都台東区柳橋２丁目17番４号 小野田 ケミコ株式会社内 (72)発明者 新越 寿郎 東京都台東区柳橋２丁目17番４号 小野田 ケミコ株式会社内 (72)発明者 市川 公彦 東京都台東区柳橋２丁目17番４号 小野田 ケミコ株式会社内 (72)発明者 渕上 憲児 東京都台東区柳橋２丁目17番４号 小野田 ケミコ株式会社内

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 砂質土地盤の改良にあたり、超微粒子セ
    メントの水セメント比が２００〜１５００％に、前記超
    微粒子セメントに対して質量比１〜１５％の分散剤を添
    加してなる注入材を、前記地盤中に、圧力が１００〜６
    ００ｋｇｆ／ｃｍ2 の高圧で噴射するこを特徴とする
    地盤改良工法。
  2. 【請求項２】 砂質土地盤の改良にあたり、平均粒径４
    μｍ、最大粒径１０μｍ、残分３％以下、ブレーン比表
    面積７０００〜１２０００ｃｍ2 ／ｇの超微粒子セメ
    ントの水セメント比が２００〜１５００％に、分散剤を
    前記超微粒子セメントに対して１〜１５％を添加してな
    る注入材を、前記地盤中に、圧力が１００〜６００ｋｇ
    ｆ／ｃｍ2 の高圧で噴射することを特徴とする地盤改
    良工法。
  3. 【請求項３】 前記分散剤がナフタレンスルフォン酸塩
    系のものであることを特徴とする請求項１〜２記載の地
    盤改良工法。
  4. 【請求項４】 前記分散剤がナフタレンスルフォン酸塩
    系に超微粒子セメントの注入材の遅延剤を混合したのも
    のであることを特徴とする請求項１〜２記載の地盤改良
    工法。
JP22672997A 1997-08-22 1997-08-22 地盤改良工法 Expired - Fee Related JP4131424B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP22672997A JP4131424B2 (ja) 1997-08-22 1997-08-22 地盤改良工法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP22672997A JP4131424B2 (ja) 1997-08-22 1997-08-22 地盤改良工法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH1161131A true JPH1161131A (ja) 1999-03-05
JP4131424B2 JP4131424B2 (ja) 2008-08-13

Family

ID=16849705

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP22672997A Expired - Fee Related JP4131424B2 (ja) 1997-08-22 1997-08-22 地盤改良工法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4131424B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003074068A (ja) * 2001-08-30 2003-03-12 Okabe Co Ltd 斜面安定化方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0978565A (ja) * 1995-09-13 1997-03-25 Pub Works Res Inst Ministry Of Constr 地盤改良工法
JPH09143978A (ja) * 1995-11-17 1997-06-03 Pub Works Res Inst Ministry Of Constr 地盤改良工法
JPH09194835A (ja) * 1996-01-19 1997-07-29 Denki Kagaku Kogyo Kk ジェットグラウト工法用セメント混和材及びそれを用いたジェットグラウト工法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0978565A (ja) * 1995-09-13 1997-03-25 Pub Works Res Inst Ministry Of Constr 地盤改良工法
JPH09143978A (ja) * 1995-11-17 1997-06-03 Pub Works Res Inst Ministry Of Constr 地盤改良工法
JPH09194835A (ja) * 1996-01-19 1997-07-29 Denki Kagaku Kogyo Kk ジェットグラウト工法用セメント混和材及びそれを用いたジェットグラウト工法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003074068A (ja) * 2001-08-30 2003-03-12 Okabe Co Ltd 斜面安定化方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP4131424B2 (ja) 2008-08-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN110042834A (zh) 磁性砂浆锚固体的施工方法
CN111502712B (zh) 一种适应围岩为盐岩地层的隧道衬砌防水结构
JPH1161131A (ja) 地盤改良工法
JP2847337B2 (ja) 地盤注入液
JP3682551B2 (ja) 地盤改良工法
JPH07211418A (ja) 接地抵抗低減剤および接地電極
JPH0860153A (ja) 地盤注入工法
JP3709505B2 (ja) 地盤の液状化防止工法
JP2850652B2 (ja) 埋込み杭根固め部の施工方法
JP3166960B2 (ja) 地盤注入工法
JP3219276B2 (ja) セメントを基材とする注入用グラウト
JP4672213B2 (ja) 斜面安定化方法
JP5398096B1 (ja) 浸透性微粒子グラウト材
JPH0925642A (ja) 傾斜した建造物の復元方法、復元のための注入装置および注入材
JPS63280121A (ja) アンカー体及びグランドアンカー構造物
JP6584354B2 (ja) 液状化対策用ジェットグラウト工法
JPH05140557A (ja) 地盤注入剤および注入工法
JP3339085B2 (ja) シリカ系グラウト材による砂地盤の耐震性向上方法
JP2002173931A (ja) 地盤改良工法
JPH07331234A (ja) 固結型滑材
JP2001234529A (ja) 水中コンクリート工法
JP3100545B2 (ja) ダブルパッカー注入工法用グラウト材
JP2802137B2 (ja) 杭の拡大根固め工法およびその工法において使用する装置
JPS5855354A (ja) グラウト材
JP2927347B2 (ja) セメント組成物

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040518

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20070116

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070206

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070405

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20080422

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20080516

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110606

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120606

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130606

Year of fee payment: 5

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees