JPH0980470A - Ｔｆｔ基板の配線欠陥修復方法 - Google Patents
Ｔｆｔ基板の配線欠陥修復方法Info
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- JPH0980470A JPH0980470A JP26214095A JP26214095A JPH0980470A JP H0980470 A JPH0980470 A JP H0980470A JP 26214095 A JP26214095 A JP 26214095A JP 26214095 A JP26214095 A JP 26214095A JP H0980470 A JPH0980470 A JP H0980470A
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- JP
- Japan
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- line
- repair
- intersection
- short
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-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
- G02F1/1362—Active matrix addressed cells
- G02F1/136259—Repairing; Defects
- G02F1/136263—Line defects
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
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- G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
- G02F1/1362—Active matrix addressed cells
- G02F1/136259—Repairing; Defects
- G02F1/136272—Auxiliary lines
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ＴＦＴ基板のマトリックス配線の断線と交点
の短絡欠陥を、有効かつ容易に修復する。 【解決手段】 マトリックス配線の周囲に、複数本のリ
ペア線Ｒ1 〜Ｒs を、各ゲート線Ｇ1 〜Ｇm およびドレ
イン線Ｄ1 〜Ｄn の引出し線のそれぞれと、２箇所で絶
縁交差して方形状に配線し、かつ各リペア線Ｒ1 〜Ｒs
の１偶をカットして構成されたリペア線群14を設け、任
意のゲート線Ｇまたはドレイン線Ｄが任意の箇所で断線
Ｂしているとき、いずれかのリペア線Ｒと、ゲート線Ｇ
またはドレイン線Ｄの引出し線との、２箇所の絶縁交差
点をそれぞれ接続して、断線Ｂに対する迂回路を構成し
て修復する。交点の短絡Ｓに対しては、短絡交点をカッ
トして除去し、２本のリペア線で前記と同様の迂回路を
構成する。
の短絡欠陥を、有効かつ容易に修復する。 【解決手段】 マトリックス配線の周囲に、複数本のリ
ペア線Ｒ1 〜Ｒs を、各ゲート線Ｇ1 〜Ｇm およびドレ
イン線Ｄ1 〜Ｄn の引出し線のそれぞれと、２箇所で絶
縁交差して方形状に配線し、かつ各リペア線Ｒ1 〜Ｒs
の１偶をカットして構成されたリペア線群14を設け、任
意のゲート線Ｇまたはドレイン線Ｄが任意の箇所で断線
Ｂしているとき、いずれかのリペア線Ｒと、ゲート線Ｇ
またはドレイン線Ｄの引出し線との、２箇所の絶縁交差
点をそれぞれ接続して、断線Ｂに対する迂回路を構成し
て修復する。交点の短絡Ｓに対しては、短絡交点をカッ
トして除去し、２本のリペア線で前記と同様の迂回路を
構成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、カラー液晶パネ
ル用のＴＦＴ基板の配線欠陥の修復方法に関する。
ル用のＴＦＴ基板の配線欠陥の修復方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】テレビなどの画像表示用のカラー液晶パ
ネルには、ＴＦＴ基板が使用されている。図２は、ＴＦ
Ｔ基板１の構成と、これ対する制御部２を示す。ＴＦＴ
基板１は、方形のガラス基板11に対して、それぞれ複数
ｍ，ｎ本のＸ電極とＹ電極とが、言い換えれば、Ｘ電極
として、通常、ゲート線12（Ｇ1 〜Ｇm)とＹ電極とし
て、通常、ドレイン線13（Ｄ1 〜Ｄn)とが、マトリック
ス状に配線（以下マトリックス配線）され、その各交点
にはＴＦＴなどよりなる電極素子14が形成されている。
制御部２はデータ回路21と走査回路22よりなり、データ
回路22からは各ドレイン線Ｄに対して画像データが与え
られ、これに対して走査回路21は各ゲート線Ｇを適当な
タイミングで順次に走査し、各電極素子14のＴＦＴをＯ
ＮまたはＯＦＦして、カラーフィルタがバックからの照
明光を透過または遮断する仕組みである。
ネルには、ＴＦＴ基板が使用されている。図２は、ＴＦ
Ｔ基板１の構成と、これ対する制御部２を示す。ＴＦＴ
基板１は、方形のガラス基板11に対して、それぞれ複数
ｍ，ｎ本のＸ電極とＹ電極とが、言い換えれば、Ｘ電極
として、通常、ゲート線12（Ｇ1 〜Ｇm)とＹ電極とし
て、通常、ドレイン線13（Ｄ1 〜Ｄn)とが、マトリック
ス状に配線（以下マトリックス配線）され、その各交点
にはＴＦＴなどよりなる電極素子14が形成されている。
制御部２はデータ回路21と走査回路22よりなり、データ
回路22からは各ドレイン線Ｄに対して画像データが与え
られ、これに対して走査回路21は各ゲート線Ｇを適当な
タイミングで順次に走査し、各電極素子14のＴＦＴをＯ
ＮまたはＯＦＦして、カラーフィルタがバックからの照
明光を透過または遮断する仕組みである。
【０００３】さて、ＴＦＴ基板１には製造過程において
種々の欠陥が発生する。そのなかにはマトリックス配線
の断線と短絡があり、短絡にはゲート線Ｇの相互間、ま
たはドレイン線相互間の短絡や、これらの交点の短絡、
または接地などがある。図３は、これらの欠陥を例示す
るもので、例えば、ドレイン線Ｄ1 は×印の１箇所で断
線しており、断線Ｂより下側のドレイン線Ｄ1 に接続さ
れたすべての電極素子14にはデータが供給されない。ま
たゲート線Ｇ2 は図示の１箇所で接地Ｅしており、ゲー
ト線Ｇ2 に接続されたすべての電極素子14は走査され
ず、いずれも動作が不良となる。またドレイン線Ｄ2 と
ゲート線Ｇ1 は交点で短絡Ｓしており、両線に接続され
たすべての電極素子14がやはり動作不良となる。このよ
うに電極素子14が動作不良すると、液晶パネルには良好
な画像が再生されない。
種々の欠陥が発生する。そのなかにはマトリックス配線
の断線と短絡があり、短絡にはゲート線Ｇの相互間、ま
たはドレイン線相互間の短絡や、これらの交点の短絡、
または接地などがある。図３は、これらの欠陥を例示す
るもので、例えば、ドレイン線Ｄ1 は×印の１箇所で断
線しており、断線Ｂより下側のドレイン線Ｄ1 に接続さ
れたすべての電極素子14にはデータが供給されない。ま
たゲート線Ｇ2 は図示の１箇所で接地Ｅしており、ゲー
ト線Ｇ2 に接続されたすべての電極素子14は走査され
ず、いずれも動作が不良となる。またドレイン線Ｄ2 と
ゲート線Ｇ1 は交点で短絡Ｓしており、両線に接続され
たすべての電極素子14がやはり動作不良となる。このよ
うに電極素子14が動作不良すると、液晶パネルには良好
な画像が再生されない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ＴＦＴ基板１のマトリ
ックス配線は、前記したように、断線や接地または交点
の短絡がたとえ１箇所であっても、多数の電極素子14が
動作不良となるので、製造後行う検査により欠陥を検出
し、可能なものは修正措置がとられている。ただし交点
以外の短絡や接地Ｅに対しては、レーザカッター方式の
修正装置があり、これにより短絡部分をカットすること
ができて、修正は比較的容易であるが、断線Ｂと交点の
短絡にはいまのところ有効な修正装置が無いため、一般
的には廃棄処分とされており、このために製品の歩止ま
りの低下を招いているのが現状である。この発明は以上
に鑑みてなされたもので、マトリックス配線の断線と交
点の短絡欠陥に対する、有効な修復方法を提供すること
を目的とする。
ックス配線は、前記したように、断線や接地または交点
の短絡がたとえ１箇所であっても、多数の電極素子14が
動作不良となるので、製造後行う検査により欠陥を検出
し、可能なものは修正措置がとられている。ただし交点
以外の短絡や接地Ｅに対しては、レーザカッター方式の
修正装置があり、これにより短絡部分をカットすること
ができて、修正は比較的容易であるが、断線Ｂと交点の
短絡にはいまのところ有効な修正装置が無いため、一般
的には廃棄処分とされており、このために製品の歩止ま
りの低下を招いているのが現状である。この発明は以上
に鑑みてなされたもので、マトリックス配線の断線と交
点の短絡欠陥に対する、有効な修復方法を提供すること
を目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】この発明はＴＦＴ基板の
配線欠陥修復方法であって、マトリックス配線の周囲の
ガラス基板上に、複数本のリペア線を、各ゲート線（Ｘ
電極）およびドレイン線（Ｙ電極）の引出し線のそれぞ
れと２箇所で絶縁交差して方形状に配線し、かつ方形状
の各リペア線の１偶をカットして構成されたリペア線群
を設ける。任意のゲート線またはドレイン線が任意の箇
所で断線しているとき、リペア線群のいずれかのリペア
線と、ゲート線またはドレイン線の引出し線との、２箇
所の絶縁交差点をそれぞれ接続して、断線箇所に対する
迂回路を構成して修復する。前記において、マトリック
ス配線の任意の交点でゲート線とドレイン線とが短絡し
ているとき、短絡交点の近傍でゲート線とドレイン線と
をそれぞれカットして、短絡交点を除外し、短絡点が除
外されたゲート線およびドレイン線の引出し線と、リペ
ア線群のいずれか２本のリペア線との、それぞれの２箇
所の絶縁交差点を接続して、短絡交点に対する迂回路を
構成して修復する。
配線欠陥修復方法であって、マトリックス配線の周囲の
ガラス基板上に、複数本のリペア線を、各ゲート線（Ｘ
電極）およびドレイン線（Ｙ電極）の引出し線のそれぞ
れと２箇所で絶縁交差して方形状に配線し、かつ方形状
の各リペア線の１偶をカットして構成されたリペア線群
を設ける。任意のゲート線またはドレイン線が任意の箇
所で断線しているとき、リペア線群のいずれかのリペア
線と、ゲート線またはドレイン線の引出し線との、２箇
所の絶縁交差点をそれぞれ接続して、断線箇所に対する
迂回路を構成して修復する。前記において、マトリック
ス配線の任意の交点でゲート線とドレイン線とが短絡し
ているとき、短絡交点の近傍でゲート線とドレイン線と
をそれぞれカットして、短絡交点を除外し、短絡点が除
外されたゲート線およびドレイン線の引出し線と、リペ
ア線群のいずれか２本のリペア線との、それぞれの２箇
所の絶縁交差点を接続して、短絡交点に対する迂回路を
構成して修復する。
【０００６】
【発明の実施の形態】前記のＴＦＴ基板の配線修復方法
においては、マトリックス配線の周囲のガラス基板上
に、方形状に設けたリペア線群は、複数本のリペア線を
各ゲート線およびドレイン線の引出し線のそれぞれと２
箇所で絶縁交差して配線し、各リペア線の１偶をカット
して構成される。いま、あるゲート線が任意の箇所で断
線しているときは、いずれかのリペア線と、断線してい
るゲート線の引出し線とを、２箇所の絶縁交差点でそれ
ぞれ接続すると、断線箇所の手前（走査回路側）の各電
極素子は走査回路からの走査信号を直接受けて動作する
が、これに対して断線箇所よりあとの各電極素子は、接
続された両絶縁交点により迂回路が構成され、これを迂
回した走査信号により動作する。すなわち断線箇所が修
復される。ドレイン線の断線の場合も同様である。次
に、マトリックス配線のある交点でゲート線とドレイン
線とが短絡したときは、短絡交点の近傍でゲート線とド
レイン線とをそれぞれカットして短絡交点を除外し、こ
れが除外されたゲート線およびドレイン線の引出し線
は、いずれか２本のリペア線との、それぞれの２箇所の
絶縁交差点が接続され、前記と同様に短絡交点に対する
迂回路が構成されて修復される。前記のように、この発
明の修復方法は、マトリックス配線の断線や短絡交点に
対して、リペア線により迂回路を構成する方法であるの
で、修復が容易かつ有効になされる利点がある。
においては、マトリックス配線の周囲のガラス基板上
に、方形状に設けたリペア線群は、複数本のリペア線を
各ゲート線およびドレイン線の引出し線のそれぞれと２
箇所で絶縁交差して配線し、各リペア線の１偶をカット
して構成される。いま、あるゲート線が任意の箇所で断
線しているときは、いずれかのリペア線と、断線してい
るゲート線の引出し線とを、２箇所の絶縁交差点でそれ
ぞれ接続すると、断線箇所の手前（走査回路側）の各電
極素子は走査回路からの走査信号を直接受けて動作する
が、これに対して断線箇所よりあとの各電極素子は、接
続された両絶縁交点により迂回路が構成され、これを迂
回した走査信号により動作する。すなわち断線箇所が修
復される。ドレイン線の断線の場合も同様である。次
に、マトリックス配線のある交点でゲート線とドレイン
線とが短絡したときは、短絡交点の近傍でゲート線とド
レイン線とをそれぞれカットして短絡交点を除外し、こ
れが除外されたゲート線およびドレイン線の引出し線
は、いずれか２本のリペア線との、それぞれの２箇所の
絶縁交差点が接続され、前記と同様に短絡交点に対する
迂回路が構成されて修復される。前記のように、この発
明の修復方法は、マトリックス配線の断線や短絡交点に
対して、リペア線により迂回路を構成する方法であるの
で、修復が容易かつ有効になされる利点がある。
【０００７】
【実施例】図１は、この発明を適用したＴＦＴ基板１の
一実施例を示す。ＴＦＴ基板１のマトリックス配線の各
交点は一点鎖線の範囲内に存在する。各ドレイン線（Ｄ
1 〜Ｄn)と各ゲート線（Ｇ1 〜Ｇm)は、それぞれの引出
し線が一点鎖線の範囲外のガラス基板11の余白部に引出
されている。この余白部にマトリックス配線を包囲し
て、複数ｓ本のリペア線（Ｒ1 〜Ｒs)を方形状に布線
し、各引出し線との交差点を絶縁し、例えば左上端を除
去してリペア線群15を構成する。各リペア線（Ｒ1 〜Ｒ
s)は、マトリックス配線と同一の線材で同一の直径のも
のが好ましく、マトリックス配線の形成時に容易に形成
することができる。いま、例えばゲート線Ｇ2 が図示の
×印の箇所で断線Ｂ1 しているときは、断線Ｂ1 の手前
の各電極素子14は、走査回路22（図２参照）よりの走査
信号を直接受ける。これに対して、例えばリペア線Ｒ1
をとり、これとゲート線Ｇ2 の２箇所の絶縁交差点ｐa,
ｐb をそれぞれ接続すると、断線Ｂ1 のあとの各電極素
子14に対して、絶縁交差点ｐa,ｐb を経由するリペア線
Ｒ1 の迂回路が構成され、走査信号はこれを迂回して、
これらの電極素子14に供給されて断線Ｂ1 が修復され
る。ドレイン線Ｄ3 が図示の×印の箇所で断線Ｂ2 して
いるときも同様で、例えばリペア線Ｒ2 をとり、２箇所
の絶縁交差点ｐc,ｐd を接続することにより、迂回路が
構成されて断線Ｂ2 が修復される。次に、任意のドレイ
ン線Ｄr とゲート線Ｇq とが、その交点で短絡Ｓしてい
るときは、短絡交点の近傍で両線をカットして短絡交点
を除外し、ドレイン線Ｄrとゲート線Ｇq に対して、適
当な２本のリペア線Ｒp,Ｒq をとって、それぞれの絶縁
交差点ｐe,ｐf およびｐg,ｐh を接続することにより、
両線に対する迂回路が構成されて交点の短絡Ｓが修復さ
れる。なおリペア線Ｒの本数ｓは、断線Ｂや交点の短絡
Ｓの発生頻度を勘案して、適切な値を決めればよい。
一実施例を示す。ＴＦＴ基板１のマトリックス配線の各
交点は一点鎖線の範囲内に存在する。各ドレイン線（Ｄ
1 〜Ｄn)と各ゲート線（Ｇ1 〜Ｇm)は、それぞれの引出
し線が一点鎖線の範囲外のガラス基板11の余白部に引出
されている。この余白部にマトリックス配線を包囲し
て、複数ｓ本のリペア線（Ｒ1 〜Ｒs)を方形状に布線
し、各引出し線との交差点を絶縁し、例えば左上端を除
去してリペア線群15を構成する。各リペア線（Ｒ1 〜Ｒ
s)は、マトリックス配線と同一の線材で同一の直径のも
のが好ましく、マトリックス配線の形成時に容易に形成
することができる。いま、例えばゲート線Ｇ2 が図示の
×印の箇所で断線Ｂ1 しているときは、断線Ｂ1 の手前
の各電極素子14は、走査回路22（図２参照）よりの走査
信号を直接受ける。これに対して、例えばリペア線Ｒ1
をとり、これとゲート線Ｇ2 の２箇所の絶縁交差点ｐa,
ｐb をそれぞれ接続すると、断線Ｂ1 のあとの各電極素
子14に対して、絶縁交差点ｐa,ｐb を経由するリペア線
Ｒ1 の迂回路が構成され、走査信号はこれを迂回して、
これらの電極素子14に供給されて断線Ｂ1 が修復され
る。ドレイン線Ｄ3 が図示の×印の箇所で断線Ｂ2 して
いるときも同様で、例えばリペア線Ｒ2 をとり、２箇所
の絶縁交差点ｐc,ｐd を接続することにより、迂回路が
構成されて断線Ｂ2 が修復される。次に、任意のドレイ
ン線Ｄr とゲート線Ｇq とが、その交点で短絡Ｓしてい
るときは、短絡交点の近傍で両線をカットして短絡交点
を除外し、ドレイン線Ｄrとゲート線Ｇq に対して、適
当な２本のリペア線Ｒp,Ｒq をとって、それぞれの絶縁
交差点ｐe,ｐf およびｐg,ｐh を接続することにより、
両線に対する迂回路が構成されて交点の短絡Ｓが修復さ
れる。なおリペア線Ｒの本数ｓは、断線Ｂや交点の短絡
Ｓの発生頻度を勘案して、適切な値を決めればよい。
【０００８】
【発明の効果】以上の説明のとおり、この発明による配
線修復方法によれば、リペア線によりマトリックス配線
の断線、または交点の短絡に対する迂回路が構成され
て、従来困難であったこれらの欠陥の修復が有効かつ容
易になされ、ＴＦＴ基板の製品の歩止まりの向上に寄与
する効果には大きいものがある。
線修復方法によれば、リペア線によりマトリックス配線
の断線、または交点の短絡に対する迂回路が構成され
て、従来困難であったこれらの欠陥の修復が有効かつ容
易になされ、ＴＦＴ基板の製品の歩止まりの向上に寄与
する効果には大きいものがある。
【図１】 図１は、この発明を適用したＴＦＴ基板１の
一実施例の構成図である。
一実施例の構成図である。
【図２】 図２は、ＴＦＴ基板１の構成と、制御部２の
説明図である。
説明図である。
【図３】 図３は、マトリックス配線に発生した断線と
短絡の説明図である。
短絡の説明図である。
１…ＴＦＴ基板、11…ガラス基板、12…ゲート線Ｇ、13
…ドレイン線Ｄ、14…電極素子、15…リペア線群、２…
制御部、21…データ回路、22…走査回路、Ｂ…断線、Ｅ
…接地、Ｓ…交点の短絡、Ｒ1 〜Ｒs …ｓ本のリペア
線、ｐa 〜ｐh …接続される絶縁交差点。
…ドレイン線Ｄ、14…電極素子、15…リペア線群、２…
制御部、21…データ回路、22…走査回路、Ｂ…断線、Ｅ
…接地、Ｓ…交点の短絡、Ｒ1 〜Ｒs …ｓ本のリペア
線、ｐa 〜ｐh …接続される絶縁交差点。
Claims (2)
- 【請求項１】方形のガラス基板の表面に、複数本のＸ電
極とＹ電極とをマトリックス配線し、該マトリックス配
線の各交点にＴＦＴよりなる電極素子を有するＴＦＴ基
板において、該マトリックス配線の周囲の該ガラス基板
上に、複数本のリペア線を、前記各Ｘ電極およびＹ電極
の引出し線のそれぞれと２箇所で絶縁交差して方形状に
配線し、かつ該方形状の各リペア線の１偶をカットして
構成されたリペア線群を設け、任意の前記Ｘ電極または
Ｙ電極が任意の箇所で断線しているとき、該リペア線群
のいずれかのリペア線と、該Ｘ電極またはＹ電極の引出
し線との、前記２箇所の絶縁交差点をそれぞれ接続し
て、該断線箇所に対する迂回路を構成して修復すること
を特徴とする、ＴＦＴ基板の配線欠陥修復方法。 - 【請求項２】前記Ｘ電極はゲート線であり、前記Ｙ電極
はドレイン線であって、前記マトリックス配線の任意の
交点で前記ゲート線と前記ドレイン線とが短絡している
とき、該短絡交点の近傍で該ゲート線とドレイン線とを
それぞれカットして該短絡交点を除外し、該短絡点が除
外されたゲート線およびドレイン線の引出し線と、前記
リペア線群のいずれか２本のリペア線との、それぞれの
２箇所の前記絶縁交差点を接続して、該短絡交点に対す
る迂回路を構成して修復することを特徴とする、請求項
１記載のＴＦＴ基板の配線欠陥修復方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26214095A JPH0980470A (ja) | 1995-09-14 | 1995-09-14 | Ｔｆｔ基板の配線欠陥修復方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26214095A JPH0980470A (ja) | 1995-09-14 | 1995-09-14 | Ｔｆｔ基板の配線欠陥修復方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0980470A true JPH0980470A (ja) | 1997-03-28 |
Family
ID=17371616
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26214095A Pending JPH0980470A (ja) | 1995-09-14 | 1995-09-14 | Ｔｆｔ基板の配線欠陥修復方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0980470A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6670595B1 (en) * | 1999-08-02 | 2003-12-30 | Olympus Optical Co., Ltd. | Photosensor and photosensor system |
| KR100490040B1 (ko) * | 1997-12-05 | 2005-09-06 | 삼성전자주식회사 | 두개이상의쇼팅바를갖는액정표시장치및그제조방법 |
| JP2006171672A (ja) * | 2004-12-10 | 2006-06-29 | Samsung Electronics Co Ltd | アレイ基板、アレイ基板を有する表示装置、及びアレイ基板のリペアー方法 |
| KR100692866B1 (ko) * | 2005-11-29 | 2007-03-09 | 엘지전자 주식회사 | 유기 전계발광 표시소자 및 그 제조방법 및 이를 이용한리페어 방법 |
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| JP2014527195A (ja) * | 2011-08-02 | 2014-10-09 | 京東方科技集團股▲ふん▼有限公司 | アレイ基板、液晶ディスプレイ・パネル及びその断線の修復方法 |
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| WO2018068542A1 (zh) * | 2016-10-14 | 2018-04-19 | 京东方科技集团股份有限公司 | 阵列基板及显示装置 |
-
1995
- 1995-09-14 JP JP26214095A patent/JPH0980470A/ja active Pending
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