JPH0980745A - 湿し水不要感光性平版印刷版 - Google Patents
湿し水不要感光性平版印刷版Info
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Landscapes
- Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 近赤外から赤外に発光領域を持つ固体レー
ザ、半導体レーザ(熱モード)を用いてコンピュータ等
のデジタルデータを直接記録することが可能であり、さ
らにはポジ型またはネガ型の両方に使用可能なヒートモ
ード書き込み型直接製版用湿し水不要感光性平版印刷版
を提供すること。 【解決手段】 支持体上に、感光層、シリコーンゴム層
をこの順に積層してなる湿し水不要感光性平版印刷版に
おいて、該感光層が少なくとも(a)一般式(I)で示さ
れるエノールエーテル基を少なくとも2個有する化合
物、(b) 線状高分子化合物、(c) 赤外線吸収剤、(d) 酸
前駆体、を含有することを特徴とする湿し水不要感光性
平版印刷版。 (R1 )(R2 )C=C(R3 )−O− (I) (式中、R1 、R2 、R3 はそれぞれ独立に水素、アル
キル基又はアリール基を表す。また、それらの内の2つ
が結合して飽和又はオレフィン性不飽和の環を形成して
もよい。)
ザ、半導体レーザ(熱モード)を用いてコンピュータ等
のデジタルデータを直接記録することが可能であり、さ
らにはポジ型またはネガ型の両方に使用可能なヒートモ
ード書き込み型直接製版用湿し水不要感光性平版印刷版
を提供すること。 【解決手段】 支持体上に、感光層、シリコーンゴム層
をこの順に積層してなる湿し水不要感光性平版印刷版に
おいて、該感光層が少なくとも(a)一般式(I)で示さ
れるエノールエーテル基を少なくとも2個有する化合
物、(b) 線状高分子化合物、(c) 赤外線吸収剤、(d) 酸
前駆体、を含有することを特徴とする湿し水不要感光性
平版印刷版。 (R1 )(R2 )C=C(R3 )−O− (I) (式中、R1 、R2 、R3 はそれぞれ独立に水素、アル
キル基又はアリール基を表す。また、それらの内の2つ
が結合して飽和又はオレフィン性不飽和の環を形成して
もよい。)
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、湿し水を用いない
で印刷が可能な湿し水不要感光性平版印刷版に関し、特
にコンピュータ等のデジタル信号から直接描画できるダ
イレクト製版用の湿し水不要感光性平版印刷版に関す
る。
で印刷が可能な湿し水不要感光性平版印刷版に関し、特
にコンピュータ等のデジタル信号から直接描画できるダ
イレクト製版用の湿し水不要感光性平版印刷版に関す
る。
【0002】
【従来の技術】近年におけるレーザの発展はめざましく
特に近赤外から赤外に発光領域を持つ固体レーザ、半導
体レーザは高出力かつ小型の物が容易に入手できるよう
になってきている。これらのレーザはコンピュータ等の
デジタルデータから直接製版する際の露光光源として非
常に有用である。従来コンピュータのデジタルデータか
ら直接描画できる高感度な湿し水不要感光性平版印刷版
として、特公昭57−3516号公報、特開昭53−5
5211号公報には、シリコーン樹脂からなるインキ反
発層上に、電子写真を利用してトナー画像を形成し画像
部とする印刷版が開示されている。特開昭54−449
05号公報には銀塩乳剤層を積層し、高感度かつ広範囲
な波長光での露光が可能な印刷版が開示されている。ま
た米国特許第4,958,562号には基体上にシリコ
ーンゴム層を積層し、放電破壊によって画像部を形成す
るタイプの印刷版等が開示されている。
特に近赤外から赤外に発光領域を持つ固体レーザ、半導
体レーザは高出力かつ小型の物が容易に入手できるよう
になってきている。これらのレーザはコンピュータ等の
デジタルデータから直接製版する際の露光光源として非
常に有用である。従来コンピュータのデジタルデータか
ら直接描画できる高感度な湿し水不要感光性平版印刷版
として、特公昭57−3516号公報、特開昭53−5
5211号公報には、シリコーン樹脂からなるインキ反
発層上に、電子写真を利用してトナー画像を形成し画像
部とする印刷版が開示されている。特開昭54−449
05号公報には銀塩乳剤層を積層し、高感度かつ広範囲
な波長光での露光が可能な印刷版が開示されている。ま
た米国特許第4,958,562号には基体上にシリコ
ーンゴム層を積層し、放電破壊によって画像部を形成す
るタイプの印刷版等が開示されている。
【0003】しかし、電子写真方式を利用した印刷版は
帯電、露光、現像処理が煩雑であり、更にトナー画像を
画像部として使用する印刷版はインキ反発層と画像部の
接着性と印刷時の地汚れの両立が困難であるという問題
がある。銀塩感材を使用した印刷版は処理が煩雑であり
コストが高くなる欠点を有する。また放電やレーザ光に
よりシリコーンゴム層を破壊するタイプの印刷版は、版
面に残るシリコーン滓を除去しなければならないという
問題がある。このように従来のコンピュータ等のデジタ
ルデータから直接描画できる平版印刷版は十分満足でき
るものではなかった。更にコンピュータのデジタルデー
タをレーザ光により直接製版する際にはポジ型の材料は
かなりの書き込み時間を必要とするため、ネガ型が有利
である。ネガ型の湿し水不要感光性平版印刷版として、
特公昭61−54222号、特公昭61−616号には
支持体に裏打ちされたO−ナフトキノンジアジドからな
る光分解型感光層の上にシリコーンゴム層を設けた湿し
水不要感光性平版印刷版が提案されている。また特開昭
59−17552号、特公平3−56223号には同様
の印刷版を処理方法を調節することによりポジ型及びネ
ガ型両用とすることが提案されている。これらの印刷版
に使用されるキノンジアジド化合物は、感光性平版印刷
版やフォトレジストの分野で広く利用されてきたが十分
な感度を示すものではなく、更に感光波長が固定される
ためレーザ光による直接描画には適さなかった。
帯電、露光、現像処理が煩雑であり、更にトナー画像を
画像部として使用する印刷版はインキ反発層と画像部の
接着性と印刷時の地汚れの両立が困難であるという問題
がある。銀塩感材を使用した印刷版は処理が煩雑であり
コストが高くなる欠点を有する。また放電やレーザ光に
よりシリコーンゴム層を破壊するタイプの印刷版は、版
面に残るシリコーン滓を除去しなければならないという
問題がある。このように従来のコンピュータ等のデジタ
ルデータから直接描画できる平版印刷版は十分満足でき
るものではなかった。更にコンピュータのデジタルデー
タをレーザ光により直接製版する際にはポジ型の材料は
かなりの書き込み時間を必要とするため、ネガ型が有利
である。ネガ型の湿し水不要感光性平版印刷版として、
特公昭61−54222号、特公昭61−616号には
支持体に裏打ちされたO−ナフトキノンジアジドからな
る光分解型感光層の上にシリコーンゴム層を設けた湿し
水不要感光性平版印刷版が提案されている。また特開昭
59−17552号、特公平3−56223号には同様
の印刷版を処理方法を調節することによりポジ型及びネ
ガ型両用とすることが提案されている。これらの印刷版
に使用されるキノンジアジド化合物は、感光性平版印刷
版やフォトレジストの分野で広く利用されてきたが十分
な感度を示すものではなく、更に感光波長が固定される
ためレーザ光による直接描画には適さなかった。
【0004】最近それらに代わるネガ型湿し水不要感光
性平版印刷版として、感光層に、光により酸を発生する
化合物(光酸発生剤)及び酸により加水分解等を生じ溶
解度が変化する化合物、必要に応じてバインダー樹脂等
を含有する組成物が報告されている。例えば特開昭63
−88556号には、支持体上に、光酸発生剤、酸によ
り分解可能なC−O−C結合を有する化合物および水不
溶性バインダーを含有する感光層、さらに無定型ケイ酸
からなる中間層を介しシリコーンゴム層を有する湿し水
不要感光性平版印刷版を、露光した後、現像液を用いて
可溶化した感光層を溶解除去すると同時に、その上のシ
リコーンゴム層も除去し、アルミニウム基板を露出せし
め画像部とする方法が提案されている。しかしながらこ
の場合も感度は低く、この技術において用いられる実用
上有効な光酸発生剤の多くが450nm以下にしか吸収が
ないため、近赤外から赤外に発光領域を持つ固体レー
ザ、半導体レーザによる書き込みには適さなかった。
性平版印刷版として、感光層に、光により酸を発生する
化合物(光酸発生剤)及び酸により加水分解等を生じ溶
解度が変化する化合物、必要に応じてバインダー樹脂等
を含有する組成物が報告されている。例えば特開昭63
−88556号には、支持体上に、光酸発生剤、酸によ
り分解可能なC−O−C結合を有する化合物および水不
溶性バインダーを含有する感光層、さらに無定型ケイ酸
からなる中間層を介しシリコーンゴム層を有する湿し水
不要感光性平版印刷版を、露光した後、現像液を用いて
可溶化した感光層を溶解除去すると同時に、その上のシ
リコーンゴム層も除去し、アルミニウム基板を露出せし
め画像部とする方法が提案されている。しかしながらこ
の場合も感度は低く、この技術において用いられる実用
上有効な光酸発生剤の多くが450nm以下にしか吸収が
ないため、近赤外から赤外に発光領域を持つ固体レー
ザ、半導体レーザによる書き込みには適さなかった。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、近赤
外から赤外に発光領域を持つ固体レーザ、半導体レーザ
(熱モード)を用いてコンピュータ等のデジタルデータ
を直接記録することが可能であり、さらにはポジ型また
はネガ型の両方に使用可能なヒートモード書き込み型直
接製版用湿し水不要感光性平版印刷版を提供することで
ある。
外から赤外に発光領域を持つ固体レーザ、半導体レーザ
(熱モード)を用いてコンピュータ等のデジタルデータ
を直接記録することが可能であり、さらにはポジ型また
はネガ型の両方に使用可能なヒートモード書き込み型直
接製版用湿し水不要感光性平版印刷版を提供することで
ある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、支持体上に、
感光層、シリコーンゴム層をこの順に積層してなり、該
感光層が、(a) 下記一般式(I)で示されるエノールエ
ーテル基を少なくとも2個有する化合物と、(b) 線状高
分子化合物と、(c) 赤外線吸収剤と、(d) 酸前駆体を含
有することを特徴とする湿し水不要感光性平版印刷版で
ある。 (R1 )(R2 ) C=C (R3)−O− (I) (式中、R1 、R2 及びR3 はそれぞれ独立に水素、ア
ルキル基又はアリール基を表す。また、それらの内の2
つが結合して飽和又はオレフィン性不飽和の環を形成し
てもよい。)
感光層、シリコーンゴム層をこの順に積層してなり、該
感光層が、(a) 下記一般式(I)で示されるエノールエ
ーテル基を少なくとも2個有する化合物と、(b) 線状高
分子化合物と、(c) 赤外線吸収剤と、(d) 酸前駆体を含
有することを特徴とする湿し水不要感光性平版印刷版で
ある。 (R1 )(R2 ) C=C (R3)−O− (I) (式中、R1 、R2 及びR3 はそれぞれ独立に水素、ア
ルキル基又はアリール基を表す。また、それらの内の2
つが結合して飽和又はオレフィン性不飽和の環を形成し
てもよい。)
【0007】
【発明の実施の形態】本発明の湿し水不要感光性平版印
刷版は、感光性皮膜の作成条件によりポジ型またはネガ
型の湿し水不要感光性平版印刷版となる。支持体上に比
較的低温で感光層を塗布乾燥し、シリコーンゴム層を積
層した場合、感光層中の赤外線吸収剤が赤外線の吸収に
より得た熱エネルギーにより酸前駆体が分解して酸を発
生し、その結果エノールエーテル基含有化合物のカチオ
ン重合が進行すると同時に、シリコーンゴム層との密着
が向上し、ポジ型の湿し水不要平版印刷版となる。一
方、上記感光層を比較的高温で乾燥した場合には、エノ
ールエーテル基含有化合物と酸基を含むバインダーが熱
架橋し、溶剤、アルカリ水溶液等に不溶になる。この組
成物に赤外光を吸収させるとその熱架橋部分は酸前駆体
から発生した酸により加水分解され、シリコーンゴム層
との密着が低下し、ネガ型の湿し水不要感光性平版印刷
版となる。以下、本発明について詳細に説明する。
刷版は、感光性皮膜の作成条件によりポジ型またはネガ
型の湿し水不要感光性平版印刷版となる。支持体上に比
較的低温で感光層を塗布乾燥し、シリコーンゴム層を積
層した場合、感光層中の赤外線吸収剤が赤外線の吸収に
より得た熱エネルギーにより酸前駆体が分解して酸を発
生し、その結果エノールエーテル基含有化合物のカチオ
ン重合が進行すると同時に、シリコーンゴム層との密着
が向上し、ポジ型の湿し水不要平版印刷版となる。一
方、上記感光層を比較的高温で乾燥した場合には、エノ
ールエーテル基含有化合物と酸基を含むバインダーが熱
架橋し、溶剤、アルカリ水溶液等に不溶になる。この組
成物に赤外光を吸収させるとその熱架橋部分は酸前駆体
から発生した酸により加水分解され、シリコーンゴム層
との密着が低下し、ネガ型の湿し水不要感光性平版印刷
版となる。以下、本発明について詳細に説明する。
【0008】本発明に用いる感光層は、上記(a)、
(b)、(c)及び(d)の成分を含有する感光性組成
物である。まず、本発明の成分(a)のエノールエーテ
ル基を含有する化合物について説明する。一般式(I)
のエノールエーテル基において、R1 、R2 及びR3 が
アルキル基を表す場合は、好ましくは炭素原子数1〜2
0の飽和又は不飽和の直鎖、分岐又は脂環のアルキル基
(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピ
ル基、シクロヘキシル基等)を示し、ハロゲン原子、シ
アノ基、エステル基、アルコキシ基、アリールオキシ基
又はアリール基により置換されていてもよい。また、R
1 、R2 及びR3 がアリール基を表す場合は、一般に炭
素原子数6〜20のアリール基(例えばフェニル基、ナ
フチル基、アントリル基、フェナントリル基等)を示
し、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ア
シル基、アシルオキシ基、アルキルメルカプト基、アミ
ノ基、アミノアシル基、カルボアルコキシ基、ニトロ
基、スルホニル基、シアノ基又はハロゲン原子により置
換されていてもよい。また、R1 、R2 及びR3 のいず
れか2つが結合して飽和又はオレフィン性不飽和の環を
形成する場合の例としては、通常3〜8員の環、好まし
くは5又は6員の環、例えば、シクロアルキル基又はシ
クロアルケニル基が挙げられる。
(b)、(c)及び(d)の成分を含有する感光性組成
物である。まず、本発明の成分(a)のエノールエーテ
ル基を含有する化合物について説明する。一般式(I)
のエノールエーテル基において、R1 、R2 及びR3 が
アルキル基を表す場合は、好ましくは炭素原子数1〜2
0の飽和又は不飽和の直鎖、分岐又は脂環のアルキル基
(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピ
ル基、シクロヘキシル基等)を示し、ハロゲン原子、シ
アノ基、エステル基、アルコキシ基、アリールオキシ基
又はアリール基により置換されていてもよい。また、R
1 、R2 及びR3 がアリール基を表す場合は、一般に炭
素原子数6〜20のアリール基(例えばフェニル基、ナ
フチル基、アントリル基、フェナントリル基等)を示
し、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ア
シル基、アシルオキシ基、アルキルメルカプト基、アミ
ノ基、アミノアシル基、カルボアルコキシ基、ニトロ
基、スルホニル基、シアノ基又はハロゲン原子により置
換されていてもよい。また、R1 、R2 及びR3 のいず
れか2つが結合して飽和又はオレフィン性不飽和の環を
形成する場合の例としては、通常3〜8員の環、好まし
くは5又は6員の環、例えば、シクロアルキル基又はシ
クロアルケニル基が挙げられる。
【0009】本発明において、一般式(I)のエノール
エーテル基のうち、好ましいものは、R1 、R2 及びR
3 のうちひとつがメチル基、もしくはエチル基で、残り
が水素原子であるエノールエーテル基、更に好ましいも
のはR1 、R2 及びR3 がすべて水素であるビニルエー
テル基である。本発明では2つ以上のエノールエーテル
基を含有する種々の化合物を使用することができるが、
これらは大気圧下で60℃以上の沸点を有する化合物で
あることが好ましい。成分(a)の好ましい化合物とし
ては、下記一般式(II)又は(III)で示すエノールエー
テル化合物を挙げることができる。 A−[−(O−R4 )n−O−CH=CH2 ]m (II) A−[−B−R4 −O−CH=CH2 ]m (III) ここで、Aはm価のアルキレン基、アリーレン基又はヘ
テロ環基を示し、Bは−CO−O−、−NHCOO−又
は−NHCONH−を示し、R4 は炭素原子数1〜10
の直鎖又は分岐のアルキレン基を示す。nは0又は1〜
10の整数、mは2〜6の整数を示す。一般式(II)で
示される化合物は例えば、Stephen. C. Lapin, Polymer
s Paint Colour Journal, 179(4237) 、321(1989) に記
載されている方法、即ち多価アルコールもしくは多価フ
ェノールとアセチレンとの反応、又は多価アルコールも
しくは多価フェノールとハロゲン化アルキルビニルエー
テルとの反応に準じて合成することができる。
エーテル基のうち、好ましいものは、R1 、R2 及びR
3 のうちひとつがメチル基、もしくはエチル基で、残り
が水素原子であるエノールエーテル基、更に好ましいも
のはR1 、R2 及びR3 がすべて水素であるビニルエー
テル基である。本発明では2つ以上のエノールエーテル
基を含有する種々の化合物を使用することができるが、
これらは大気圧下で60℃以上の沸点を有する化合物で
あることが好ましい。成分(a)の好ましい化合物とし
ては、下記一般式(II)又は(III)で示すエノールエー
テル化合物を挙げることができる。 A−[−(O−R4 )n−O−CH=CH2 ]m (II) A−[−B−R4 −O−CH=CH2 ]m (III) ここで、Aはm価のアルキレン基、アリーレン基又はヘ
テロ環基を示し、Bは−CO−O−、−NHCOO−又
は−NHCONH−を示し、R4 は炭素原子数1〜10
の直鎖又は分岐のアルキレン基を示す。nは0又は1〜
10の整数、mは2〜6の整数を示す。一般式(II)で
示される化合物は例えば、Stephen. C. Lapin, Polymer
s Paint Colour Journal, 179(4237) 、321(1989) に記
載されている方法、即ち多価アルコールもしくは多価フ
ェノールとアセチレンとの反応、又は多価アルコールも
しくは多価フェノールとハロゲン化アルキルビニルエー
テルとの反応に準じて合成することができる。
【0010】一般式(II)で示されるエノールエーテル
化合物の具体例として、エチレングリコールジビニルエ
ーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、
1,3−ブタンジオールジビニルエーテル、テトラメチ
レングリコールジビニルエーテル、ネオペンチルグリコ
ールジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビ
ニルエーテル、トリメチロールエタントリビニルエーテ
ル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、1,4−シク
ロヘキサンジオールジビニルエーテル、テトラエチレン
グリコールジビニルエーテル、ペンタエリスリトールジ
ビニルエーテル、ペンタエリスリトールトリビニルエー
テル、ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、ソ
ルビトールテトラビニルエーテル、ソルビールペンタビ
ニルエーテル、エチレングリコールジエチレンビニルエ
ーテル、トリエチレングリコールジエチレンビニルエー
テル、エチレングリコールジプロピレンビニルエーテ
ル、トリエチレングリコールジエチレンビニルエーテ
ル、トリメチロールプロパントリエチレンビニルエーテ
ル、トリメチロールプロパンジエチレンビニルエーテ
ル、ペンタエリスリトールジエチレンビニルエーテル、
ペンタエリスリトールトリエチレンビニルエーテル、ペ
ンタエリスリトールテトラエチレンビニルエーテル、
1,2−ジ(ビニルエーテルメトキシ)ベンゼン、1,
2−ジ(ビニルエーテルエトキシ)ベンゼン、並びに以
下のII−1〜II〜41で示される化合物を挙げることが
できるが、これらに限定されるものではない。
化合物の具体例として、エチレングリコールジビニルエ
ーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、
1,3−ブタンジオールジビニルエーテル、テトラメチ
レングリコールジビニルエーテル、ネオペンチルグリコ
ールジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビ
ニルエーテル、トリメチロールエタントリビニルエーテ
ル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、1,4−シク
ロヘキサンジオールジビニルエーテル、テトラエチレン
グリコールジビニルエーテル、ペンタエリスリトールジ
ビニルエーテル、ペンタエリスリトールトリビニルエー
テル、ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、ソ
ルビトールテトラビニルエーテル、ソルビールペンタビ
ニルエーテル、エチレングリコールジエチレンビニルエ
ーテル、トリエチレングリコールジエチレンビニルエー
テル、エチレングリコールジプロピレンビニルエーテ
ル、トリエチレングリコールジエチレンビニルエーテ
ル、トリメチロールプロパントリエチレンビニルエーテ
ル、トリメチロールプロパンジエチレンビニルエーテ
ル、ペンタエリスリトールジエチレンビニルエーテル、
ペンタエリスリトールトリエチレンビニルエーテル、ペ
ンタエリスリトールテトラエチレンビニルエーテル、
1,2−ジ(ビニルエーテルメトキシ)ベンゼン、1,
2−ジ(ビニルエーテルエトキシ)ベンゼン、並びに以
下のII−1〜II〜41で示される化合物を挙げることが
できるが、これらに限定されるものではない。
【0011】
【化1】
【0012】
【化2】
【0013】
【化3】
【0014】
【化4】
【0015】
【化5】
【0016】
【化6】
【0017】
【化7】
【0018】
【化8】
【0019】
【化9】
【0020】一方、一般式(III)(B=−CO−O−の
場合)で示される化合物は、多価カルボン酸とハロゲン
化アルキルビニルエーテルとの反応により製造すること
ができる。具体例としてはテレフタル酸ジエチレンビニ
ルエーテル、フタル酸ジエチレンビニルエーテル、イソ
フタル酸ジエチレンビニルエーテル、フタル酸ジプロピ
レンビニルエーテル、テレフタル酸ジプロピレンビニル
エーテル、イソフタル酸ジプロピレンビニルエーテル、
マレイン酸ジエチレンビニルエーテル、フマル酸ジエチ
レンビニルエーテル、イタコン酸ジエチレンビニルエー
テル等を挙げることができるが、これらに限定されるも
のではない。
場合)で示される化合物は、多価カルボン酸とハロゲン
化アルキルビニルエーテルとの反応により製造すること
ができる。具体例としてはテレフタル酸ジエチレンビニ
ルエーテル、フタル酸ジエチレンビニルエーテル、イソ
フタル酸ジエチレンビニルエーテル、フタル酸ジプロピ
レンビニルエーテル、テレフタル酸ジプロピレンビニル
エーテル、イソフタル酸ジプロピレンビニルエーテル、
マレイン酸ジエチレンビニルエーテル、フマル酸ジエチ
レンビニルエーテル、イタコン酸ジエチレンビニルエー
テル等を挙げることができるが、これらに限定されるも
のではない。
【0021】更に本発明において好適に用いられるビニ
ルエーテル基含有化合物としては、下記一般式(IV)、
(V)および(VI)等で示される活性水素を有するビニ
ルエーテル化合物とイソシアネート基を有する化合物と
の反応により合成されるビニルエーテル基含有化合物を
挙げることができる。 CH2 =CH−O−R5 −OH (IV) CH2 =CH−O−R5 −COOH (V) CH2 =CH−O−R5 −NH2 (VI) ここで、R5 は炭素原子数1〜10の直鎖又は分岐のア
ルキレン基を示す。イソシアネート基を含有する化合物
としては、例えば架橋剤ハンドブック(大成社刊、19
81年発行)に記載の化合物を用いることができる。
ルエーテル基含有化合物としては、下記一般式(IV)、
(V)および(VI)等で示される活性水素を有するビニ
ルエーテル化合物とイソシアネート基を有する化合物と
の反応により合成されるビニルエーテル基含有化合物を
挙げることができる。 CH2 =CH−O−R5 −OH (IV) CH2 =CH−O−R5 −COOH (V) CH2 =CH−O−R5 −NH2 (VI) ここで、R5 は炭素原子数1〜10の直鎖又は分岐のア
ルキレン基を示す。イソシアネート基を含有する化合物
としては、例えば架橋剤ハンドブック(大成社刊、19
81年発行)に記載の化合物を用いることができる。
【0022】具体的には、トリフェニルメタントリイソ
シアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、トリ
レンジイソシアネート、2,4−トリレンジイソシアネ
ートの二量体、ナフタレン−1,5−ジイソシアネー
ト、o−トリレンジイソシアネート、ポリメチレンポリ
フェニルイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネ
ート等のポリイソシアネート型、トリレンジイソシアネ
ートとトリメチロールプロパンの付加体、ヘキサメチレ
ンジイソシアネートと水との付加体、キシレンジイソシ
アネートとトリメチロールプロパンとの付加体等のポリ
イソシアネートアダクト型等を挙げることができる。上
記イソシアネート基含有化合物と活性水素含有ビニルエ
ーテル基含有化合物とを反応させることにより末端にビ
ニルエーテル基をもつ種々の化合物を製造することがで
きる。このような化合物の例を以下に列挙するが、本発
明の範囲はこれらに限定されるものではない。
シアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、トリ
レンジイソシアネート、2,4−トリレンジイソシアネ
ートの二量体、ナフタレン−1,5−ジイソシアネー
ト、o−トリレンジイソシアネート、ポリメチレンポリ
フェニルイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネ
ート等のポリイソシアネート型、トリレンジイソシアネ
ートとトリメチロールプロパンの付加体、ヘキサメチレ
ンジイソシアネートと水との付加体、キシレンジイソシ
アネートとトリメチロールプロパンとの付加体等のポリ
イソシアネートアダクト型等を挙げることができる。上
記イソシアネート基含有化合物と活性水素含有ビニルエ
ーテル基含有化合物とを反応させることにより末端にビ
ニルエーテル基をもつ種々の化合物を製造することがで
きる。このような化合物の例を以下に列挙するが、本発
明の範囲はこれらに限定されるものではない。
【0023】
【化10】
【0024】
【化11】
【0025】
【化12】
【0026】以上説明したエノールエーテル基を少なく
とも2個含有する化合物は単一で使用できるが、数種の
混合物として使用してもよい。感光性組成物中のエノー
ルエーテル基を含有する化合物の添加量は感光性組成物
の全固形分に対し1〜80重量%、好ましくは5〜50重量
%の範囲である。この範囲であると、ポジ型の場合、露
光部のカチオン重合が効率よく起こりシリコーンゴム層
の密着性が向上する。ネガ型の場合には皮膜形成時の熱
架橋が十分になされ未露光部を強度に優れた皮膜とする
ことができる。
とも2個含有する化合物は単一で使用できるが、数種の
混合物として使用してもよい。感光性組成物中のエノー
ルエーテル基を含有する化合物の添加量は感光性組成物
の全固形分に対し1〜80重量%、好ましくは5〜50重量
%の範囲である。この範囲であると、ポジ型の場合、露
光部のカチオン重合が効率よく起こりシリコーンゴム層
の密着性が向上する。ネガ型の場合には皮膜形成時の熱
架橋が十分になされ未露光部を強度に優れた皮膜とする
ことができる。
【0027】本発明で使用される線状高分子(b)は、
重合可能なエノールエーテル基を少なくとも2個有する
化合物(a)と相溶性を有している物の中より任意に選
択して用いることができる。ポジ型の湿し水不要感光性
平版印刷版を作成する場合、線状高分子としては、以下
に例示する、フィルム形成能を有するものの中から任意
に選択することができる。 (1)ビニルポリマー、例えばポリ酢酸ビニル、ポリビ
ニルアルコール、ポリビニルブチラール、ポリビニルメ
チルエーテル、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン等、およ
びこれらのコポリマー。 (2)(メタ)アクリル酸エステルポリマーおよびアル
キル(メタ)アクリルアミドポリマー、例えばポリ(メ
タ)アクリル酸エチル、ポリ(メタ)アクリル酸ブチ
ル、ポリt−ブチルアクリルアミド、ポリジアセトンア
クリルアミド等、およびこれらのコポリマー。 (3)未加硫ゴム、例えば天然ゴム、ポリブタジエン、
ポリイソブチレン、ポリネオプレン等、およびこれらの
コポリマー。 (4)ポリエーテル、例えばポリエチレンオキシド、ポ
リプロピレンオキシド等。 (5)ポリアミド、次に示すモノマー類のコポリマー、
例えば、カプロラクタム、ラウロラクタム、ヘキサメチ
レンジアミン、4,4’−ビス−アミノシクロヘキシル
メタン、2,4,4−トリメチルヘキサメチレンジアミ
ン、イソホロンジアミン、ジグリコール類、イソフタル
酸、アジピン酸、セバシン酸等。 (6)ポリエステル、例えばテレフタル酸、アジピン酸
等とエチレングリコール、1,4−ブタンジオール等と
の縮合物。 (7)ポリウレタン、例えばヘキサメチレンジイソシア
ネート、トルエンジイソシアネート、ナフタレン−1,
5−ジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等
とエチレングリコール、1,4−ブタンジオール、ポリ
エステルとのポリウレタン。また、鎖延長剤としてイソ
ホロンジアミン、ヘキサメチレンジアミン等を用いても
良い。
重合可能なエノールエーテル基を少なくとも2個有する
化合物(a)と相溶性を有している物の中より任意に選
択して用いることができる。ポジ型の湿し水不要感光性
平版印刷版を作成する場合、線状高分子としては、以下
に例示する、フィルム形成能を有するものの中から任意
に選択することができる。 (1)ビニルポリマー、例えばポリ酢酸ビニル、ポリビ
ニルアルコール、ポリビニルブチラール、ポリビニルメ
チルエーテル、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン等、およ
びこれらのコポリマー。 (2)(メタ)アクリル酸エステルポリマーおよびアル
キル(メタ)アクリルアミドポリマー、例えばポリ(メ
タ)アクリル酸エチル、ポリ(メタ)アクリル酸ブチ
ル、ポリt−ブチルアクリルアミド、ポリジアセトンア
クリルアミド等、およびこれらのコポリマー。 (3)未加硫ゴム、例えば天然ゴム、ポリブタジエン、
ポリイソブチレン、ポリネオプレン等、およびこれらの
コポリマー。 (4)ポリエーテル、例えばポリエチレンオキシド、ポ
リプロピレンオキシド等。 (5)ポリアミド、次に示すモノマー類のコポリマー、
例えば、カプロラクタム、ラウロラクタム、ヘキサメチ
レンジアミン、4,4’−ビス−アミノシクロヘキシル
メタン、2,4,4−トリメチルヘキサメチレンジアミ
ン、イソホロンジアミン、ジグリコール類、イソフタル
酸、アジピン酸、セバシン酸等。 (6)ポリエステル、例えばテレフタル酸、アジピン酸
等とエチレングリコール、1,4−ブタンジオール等と
の縮合物。 (7)ポリウレタン、例えばヘキサメチレンジイソシア
ネート、トルエンジイソシアネート、ナフタレン−1,
5−ジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等
とエチレングリコール、1,4−ブタンジオール、ポリ
エステルとのポリウレタン。また、鎖延長剤としてイソ
ホロンジアミン、ヘキサメチレンジアミン等を用いても
良い。
【0028】更に、フィルム形成能を有する高分子化合
物として、側鎖に光重合可能な又は光架橋可能なオレフ
ィン性不飽和二重結合基を有する高分子化合物を使用す
ることができるが、これらに限定されるものではない。
これらのポジ型の湿し水不要感光性平版印刷版を作成す
るのに用いられる線状有機高分子重合体は、単一で使用
できるが、数種の混合物として使用しても良く、感光性
組成物中に任意な量を混和させることができる。しかし
感光性組成物の全固形分に対し90重量%を越える場合
は、形成される画像強度等の点で好ましい結果を与えな
い。好ましくは30〜85重量%である。また光重合可
能なビニルエーテル化合物と線状有機高分子重合体は重
量比で10:90〜70:30の範囲とするのが好まし
い。より好ましい範囲は30:70〜50:50であ
る。
物として、側鎖に光重合可能な又は光架橋可能なオレフ
ィン性不飽和二重結合基を有する高分子化合物を使用す
ることができるが、これらに限定されるものではない。
これらのポジ型の湿し水不要感光性平版印刷版を作成す
るのに用いられる線状有機高分子重合体は、単一で使用
できるが、数種の混合物として使用しても良く、感光性
組成物中に任意な量を混和させることができる。しかし
感光性組成物の全固形分に対し90重量%を越える場合
は、形成される画像強度等の点で好ましい結果を与えな
い。好ましくは30〜85重量%である。また光重合可
能なビニルエーテル化合物と線状有機高分子重合体は重
量比で10:90〜70:30の範囲とするのが好まし
い。より好ましい範囲は30:70〜50:50であ
る。
【0029】一方ネガ型の湿し水不要感光性平版印刷版
を作成する場合の線状高分子としては、エノールエーテ
ル基含有化合物と熱的に反応し3次元架橋樹脂を形成す
る酸基を有し、その架橋部が酸により効率よく分解する
ものであれば任意に選択して用いることができる。上記
線状高分子は一般に線状高分子を得る公知の方法により
合成できるが、例えば、酸基、好ましくはカルボン酸
基、スルホン酸基、リン酸基、スルホンアミド基等を有
するビニルモノマーとそれらと共重合可能な他のビニル
モノマーを共重合することによって得ることができる。
酸基を含有するビニルモノマーとしては、例えばアクリ
ル酸、メタクリル酸、マレイン酸、イタコン酸、クロト
ン酸、イソクロトン酸、p−ビニル安息香酸、p−ビニ
ルベンゼンスルホン酸、p−ビニル桂皮酸、マレイン酸
モノメチルエーテル、マレイン酸モノエチルエーテル、
2−(アクリルアミド)−2−メチルプロパンスルホン
酸等が挙げられるが、これらに限定されるものではな
い。
を作成する場合の線状高分子としては、エノールエーテ
ル基含有化合物と熱的に反応し3次元架橋樹脂を形成す
る酸基を有し、その架橋部が酸により効率よく分解する
ものであれば任意に選択して用いることができる。上記
線状高分子は一般に線状高分子を得る公知の方法により
合成できるが、例えば、酸基、好ましくはカルボン酸
基、スルホン酸基、リン酸基、スルホンアミド基等を有
するビニルモノマーとそれらと共重合可能な他のビニル
モノマーを共重合することによって得ることができる。
酸基を含有するビニルモノマーとしては、例えばアクリ
ル酸、メタクリル酸、マレイン酸、イタコン酸、クロト
ン酸、イソクロトン酸、p−ビニル安息香酸、p−ビニ
ルベンゼンスルホン酸、p−ビニル桂皮酸、マレイン酸
モノメチルエーテル、マレイン酸モノエチルエーテル、
2−(アクリルアミド)−2−メチルプロパンスルホン
酸等が挙げられるが、これらに限定されるものではな
い。
【0030】上記モノマーと共重合可能な他のモノマー
としては、例えばアクリロニトリル、アクリルアミド、
メタクリルアミド、メチルアクリレート、エチルアクリ
レート、プロピルアクリレート、ブチルアクリレート、
メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピ
ルメタクリレート、ブチルメタクリレート、ベンジルア
クリレート、ベンジルメタクリレート、ビニルベンゾエ
ート、塩化ビニル、ビニリデンクロライド、スチレン、
酢酸ビニル、N−(4−スルファモイルフェニル)メタ
クリルアミド、N−フェニルホスホニルメタクリルアミ
ド、ブタジエン、クロロプレン、イソプレン、2−ヒド
ロキシエチルスチレン、2−ヒドロキシエチルアクリレ
ート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、p−2−
ヒドロキシエチルスチレン、p−ヒドロキシスチレン、
3−メルカプトエチルアクリレート、2−メルカプトエ
チルメタクリレート等を挙げることができるが、これら
に限定されるものではない。
としては、例えばアクリロニトリル、アクリルアミド、
メタクリルアミド、メチルアクリレート、エチルアクリ
レート、プロピルアクリレート、ブチルアクリレート、
メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピ
ルメタクリレート、ブチルメタクリレート、ベンジルア
クリレート、ベンジルメタクリレート、ビニルベンゾエ
ート、塩化ビニル、ビニリデンクロライド、スチレン、
酢酸ビニル、N−(4−スルファモイルフェニル)メタ
クリルアミド、N−フェニルホスホニルメタクリルアミ
ド、ブタジエン、クロロプレン、イソプレン、2−ヒド
ロキシエチルスチレン、2−ヒドロキシエチルアクリレ
ート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、p−2−
ヒドロキシエチルスチレン、p−ヒドロキシスチレン、
3−メルカプトエチルアクリレート、2−メルカプトエ
チルメタクリレート等を挙げることができるが、これら
に限定されるものではない。
【0031】酸基を含有するビニルモノマーと他の共重
合可能なモノマーとは任意の組合せでかつ任意の数のモ
ノマーを共重合させることができるが、酸基を含有する
ビニルモノマーと他の共重合可能なモノマーの比率とし
ては、重量%で2:98〜80:20の範囲が適当であ
り、好ましい範囲としては5:95〜50:50、より
好ましい範囲は5:95〜30:70である。また酸基
を有する線状高分子(b)は、酸基を有するジヒドロキ
シ化合物とジイソシアネート化合物との反応、酸基を有
するジヒドロキシ化合物とジカルボン酸化合物との共縮
合等により得ることができる。
合可能なモノマーとは任意の組合せでかつ任意の数のモ
ノマーを共重合させることができるが、酸基を含有する
ビニルモノマーと他の共重合可能なモノマーの比率とし
ては、重量%で2:98〜80:20の範囲が適当であ
り、好ましい範囲としては5:95〜50:50、より
好ましい範囲は5:95〜30:70である。また酸基
を有する線状高分子(b)は、酸基を有するジヒドロキ
シ化合物とジイソシアネート化合物との反応、酸基を有
するジヒドロキシ化合物とジカルボン酸化合物との共縮
合等により得ることができる。
【0032】例えば3,5−ジヒドロキシ安息香酸、
2,2−ビス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸、2,
2−ビス(2−ヒドロキシエチル)プロピオン酸、2,
2−ビス(3−ヒドロキシプロピル)プロピオン酸、ビ
ス(ヒドロキシメチル)酢酸、ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)酢酸、4,4−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)ペンタン酸、酒石酸等の酸基を有するジヒドロキシ
化合物と、2,4−トリレンジイソシアネート、2,4
−トリレンジイソシアネートの2量体、4,4′−ジフ
ェニルメタンジイソシアネート、1,5−ナフチレンジ
イソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ト
リメチルヘキサメチレンジイソシアネート、4,4′−
メチレンビス(シクロヘキシルイソシアネート)等のジ
イソシアネート化合物を等当量で反応させることによ
り、カルボキシル基を含有する線状ポリウレタン樹脂が
得られる。又更にカルボキシル基を有せず、イソシアネ
ートと反応しない他の置換基を有しても良いジオール化
合物を併用しても良い。例えば、エチレングリコール、
ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ネオ
ペンチルグリコール、1,3−ブチレングリコール、ビ
スフェノールA、水添ビスフェノールA、水添ビスフェ
ノールF、ビスフェノールAのエチレンオキサイド付加
体等を挙げることができるが、これらに限定されるもの
ではない。
2,2−ビス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸、2,
2−ビス(2−ヒドロキシエチル)プロピオン酸、2,
2−ビス(3−ヒドロキシプロピル)プロピオン酸、ビ
ス(ヒドロキシメチル)酢酸、ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)酢酸、4,4−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)ペンタン酸、酒石酸等の酸基を有するジヒドロキシ
化合物と、2,4−トリレンジイソシアネート、2,4
−トリレンジイソシアネートの2量体、4,4′−ジフ
ェニルメタンジイソシアネート、1,5−ナフチレンジ
イソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ト
リメチルヘキサメチレンジイソシアネート、4,4′−
メチレンビス(シクロヘキシルイソシアネート)等のジ
イソシアネート化合物を等当量で反応させることによ
り、カルボキシル基を含有する線状ポリウレタン樹脂が
得られる。又更にカルボキシル基を有せず、イソシアネ
ートと反応しない他の置換基を有しても良いジオール化
合物を併用しても良い。例えば、エチレングリコール、
ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ネオ
ペンチルグリコール、1,3−ブチレングリコール、ビ
スフェノールA、水添ビスフェノールA、水添ビスフェ
ノールF、ビスフェノールAのエチレンオキサイド付加
体等を挙げることができるが、これらに限定されるもの
ではない。
【0033】また線状高分子(b)は上記酸基を有する
ジオール、必要に応じて、上記他のジオールと2官能の
カルボン酸、例えばフタル酸、イソフタル酸、テレフタ
ル酸、フマル酸、イタコン酸、アジピン酸等と共縮合す
ることにより得ることができる。酸基を含有するジオー
ルと他のモノマー単位との比率としては、重量%で2:
98〜80:20の範囲が適当であり、好ましい範囲と
しては5:95〜50:50、より好ましい範囲は、
5:95〜30:70である。また本発明で使用される
酸基を有する線状高分子(b)として、フェノール性水
酸基を含有する樹脂を挙げることができる。具体的に
は、フェノールホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾール
ホルムアルデヒド樹脂、p−クレゾールホルムアルデヒ
ド樹脂、o−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、m−/
p−混合クレゾールホルムアルデヒド樹脂、フェノール
/クレゾールホルムアルデヒド樹脂等のノボラック樹
脂、レゾール型のフェノール樹脂類、フェノール変性キ
シレン樹脂、ポリヒドロキシスチレン、ポリハロゲン化
ヒドロキシスチレン、フェノール性水酸基を有するアク
リル樹脂等を挙げることができるが、これらに限定され
るものではない。
ジオール、必要に応じて、上記他のジオールと2官能の
カルボン酸、例えばフタル酸、イソフタル酸、テレフタ
ル酸、フマル酸、イタコン酸、アジピン酸等と共縮合す
ることにより得ることができる。酸基を含有するジオー
ルと他のモノマー単位との比率としては、重量%で2:
98〜80:20の範囲が適当であり、好ましい範囲と
しては5:95〜50:50、より好ましい範囲は、
5:95〜30:70である。また本発明で使用される
酸基を有する線状高分子(b)として、フェノール性水
酸基を含有する樹脂を挙げることができる。具体的に
は、フェノールホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾール
ホルムアルデヒド樹脂、p−クレゾールホルムアルデヒ
ド樹脂、o−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、m−/
p−混合クレゾールホルムアルデヒド樹脂、フェノール
/クレゾールホルムアルデヒド樹脂等のノボラック樹
脂、レゾール型のフェノール樹脂類、フェノール変性キ
シレン樹脂、ポリヒドロキシスチレン、ポリハロゲン化
ヒドロキシスチレン、フェノール性水酸基を有するアク
リル樹脂等を挙げることができるが、これらに限定され
るものではない。
【0034】これらの線状高分子の分子量は1,000 〜1,
000,000 、好ましくは1,500 〜200,000 である。これら
のうち好適に用いられる線状高分子としては酸基を含有
するモノマーとヒドロキシル基またはメルカプト基を含
有するモノマーを一定の割合で含有した共重合体を挙げ
ることができる。共重合体の酸基を含むモノマーの含有
率が2〜80重量%、好ましくは5〜50重量%、より
好ましくは5〜30重量%であり、ヒドロキシル基また
はメルカプト基を含むモノマーの含有率が2〜80重量
%、好ましくは5〜50重量%、より好ましくは5〜3
0重量%の線状高分子が特に好適に用いられる。これら
ネガ型の湿し水不要感光性平版印刷版を作成するのに用
いられる線状高分子は単一で使用できるが、数種の混合
物として使用してもよい。感光性組成物中の線状高分子
の添加量は感光性組成物の全固形分に対し、1〜90重
量%、好ましくは20〜90重量%、より好ましくは3
0〜85重量%の範囲であり、この範囲であると画像形
成性が良好である。
000,000 、好ましくは1,500 〜200,000 である。これら
のうち好適に用いられる線状高分子としては酸基を含有
するモノマーとヒドロキシル基またはメルカプト基を含
有するモノマーを一定の割合で含有した共重合体を挙げ
ることができる。共重合体の酸基を含むモノマーの含有
率が2〜80重量%、好ましくは5〜50重量%、より
好ましくは5〜30重量%であり、ヒドロキシル基また
はメルカプト基を含むモノマーの含有率が2〜80重量
%、好ましくは5〜50重量%、より好ましくは5〜3
0重量%の線状高分子が特に好適に用いられる。これら
ネガ型の湿し水不要感光性平版印刷版を作成するのに用
いられる線状高分子は単一で使用できるが、数種の混合
物として使用してもよい。感光性組成物中の線状高分子
の添加量は感光性組成物の全固形分に対し、1〜90重
量%、好ましくは20〜90重量%、より好ましくは3
0〜85重量%の範囲であり、この範囲であると画像形
成性が良好である。
【0035】本発明において赤外線吸収剤(c)として
は、公知である種々の顔料もしくは染料が用いられる。
赤外光を吸収する顔料としてはカーボンブラックが好適
に用いられる。赤外光を吸収する染料としてはシアニン
系、メロシアニン系、フタロシアニン系、スクアリリウ
ム系、金属ジチオレン類、ナフトキノン系、ピリリウム
系等の染料があげられ、例えば特開昭58−12524
6号、同59−84356号、同59−202829
号、同60−78787号等に記載されているシアニン
染料、特開昭58−173696号、同58−1816
90号、同58−194595号等に記載されているメ
チン染料、特開昭58−112793号、同58−22
4793号、同59−48187号、同59−7399
6号、同60−52940号、同60−63744号等
に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−11
2792号等に記載されているスクアリリウム色素、英
国特許434,875号記載のシアニン染料等が好適に
用いられる。また米国特許第5,156,938号記載
の近赤外吸収剤、米国特許第3,881,924号記載
の置換されたアリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特
開昭57−142645号記載のトリメチンチオピリリ
ウム塩、特開昭58−181051号、同58−220
143号、同59−41363号、同59−84248
号、同59−84249号、同59−146063号、
同59−146061号記載のピリリウム系化合物、特
開昭59−216146号記載のシアニン色素、米国特
許第4,283,475号記載のペンタメチンチオピリ
リウム塩や特公平5−13514号、同5−19702
号公報に開示されているピリリウム化合物は特に好まし
く用いられる。また特に好ましい別の例として、米国特
許4,756,993号明細書中に式(I)、(II) と
して記載されている近赤外吸収染料をあげることができ
る。これらの顔料もしくは染料は、感光層組成物全固形
分に対し、0.01〜50重量%、好ましくは0.1〜
20重量%の割合で添加することができる。
は、公知である種々の顔料もしくは染料が用いられる。
赤外光を吸収する顔料としてはカーボンブラックが好適
に用いられる。赤外光を吸収する染料としてはシアニン
系、メロシアニン系、フタロシアニン系、スクアリリウ
ム系、金属ジチオレン類、ナフトキノン系、ピリリウム
系等の染料があげられ、例えば特開昭58−12524
6号、同59−84356号、同59−202829
号、同60−78787号等に記載されているシアニン
染料、特開昭58−173696号、同58−1816
90号、同58−194595号等に記載されているメ
チン染料、特開昭58−112793号、同58−22
4793号、同59−48187号、同59−7399
6号、同60−52940号、同60−63744号等
に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−11
2792号等に記載されているスクアリリウム色素、英
国特許434,875号記載のシアニン染料等が好適に
用いられる。また米国特許第5,156,938号記載
の近赤外吸収剤、米国特許第3,881,924号記載
の置換されたアリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特
開昭57−142645号記載のトリメチンチオピリリ
ウム塩、特開昭58−181051号、同58−220
143号、同59−41363号、同59−84248
号、同59−84249号、同59−146063号、
同59−146061号記載のピリリウム系化合物、特
開昭59−216146号記載のシアニン色素、米国特
許第4,283,475号記載のペンタメチンチオピリ
リウム塩や特公平5−13514号、同5−19702
号公報に開示されているピリリウム化合物は特に好まし
く用いられる。また特に好ましい別の例として、米国特
許4,756,993号明細書中に式(I)、(II) と
して記載されている近赤外吸収染料をあげることができ
る。これらの顔料もしくは染料は、感光層組成物全固形
分に対し、0.01〜50重量%、好ましくは0.1〜
20重量%の割合で添加することができる。
【0036】本発明で使用される酸前駆体(d)として
は、光カチオン重合の光開始剤、光ラジカル重合の光開
始剤、色素類の光消色剤、光変色剤、あるいはマイクロ
レジスト等に使用されている公知の酸を発生する化合
物、及びそれらの混合物を適宜に選択して使用すること
ができる。例えば S. I. Schlesinger, Photogr. Sci.
Eng., 18, 387(1974) 、T. S. Bal et al, Polymer, 2
1, 423 (1980)に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,0
69,055 号、同4,069,056 号、特開平4-365049号に記載
のアンモニウム塩、D. C. Necker et al, Macromolecul
es, 17, 2468 (1984) 、C. S. Wen et al, Teh, Proc.
Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988)、米
国特許第4,069,055 号、同4,069,056 号に記載のホスホ
ニウム塩、J. V. Crivello et al, Macromolecules, 10
(6), 1307 (1977)、Chem. & Eng. News, Nov. 28, p31
(1988)、欧州特許第104,143 号、米国特許第339,049
号、同第410,201 号、特開平2-150848号、特開平2-2965
14号に記載のヨードニウム塩、J. V. Crivello et al,
Polymer J.17, 73 (1985)、J. V. Crivello et al. J.
Org. Chem., 43, 3055 (1978)、W.R. Watt et al, J. P
olymer Sci., Polymer Chem. Ed., 22, 1789 (1984) 、
J.V. Crivello et al, Polymer Bull., 14, 279 (1985)
、J. V. Crivello et al, Macromolecules, 14(5), 11
41 (1981)、J. V. Crivello et al, J. Polymer Sci.,
Polymer Chem. Ed., 17, 2877 (1979) 、欧州特許第37
0,693 号、同233,567 号、同297,443 号、同297,442
号、米国特許第4,933,377 号、同4,760,013 号、同4,73
4,444 号、同2,833,827 号、独国特許第2,904,626 号、
同3,604,580 号、同3,604,581 号に記載のスルホニウム
塩、
は、光カチオン重合の光開始剤、光ラジカル重合の光開
始剤、色素類の光消色剤、光変色剤、あるいはマイクロ
レジスト等に使用されている公知の酸を発生する化合
物、及びそれらの混合物を適宜に選択して使用すること
ができる。例えば S. I. Schlesinger, Photogr. Sci.
Eng., 18, 387(1974) 、T. S. Bal et al, Polymer, 2
1, 423 (1980)に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,0
69,055 号、同4,069,056 号、特開平4-365049号に記載
のアンモニウム塩、D. C. Necker et al, Macromolecul
es, 17, 2468 (1984) 、C. S. Wen et al, Teh, Proc.
Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988)、米
国特許第4,069,055 号、同4,069,056 号に記載のホスホ
ニウム塩、J. V. Crivello et al, Macromolecules, 10
(6), 1307 (1977)、Chem. & Eng. News, Nov. 28, p31
(1988)、欧州特許第104,143 号、米国特許第339,049
号、同第410,201 号、特開平2-150848号、特開平2-2965
14号に記載のヨードニウム塩、J. V. Crivello et al,
Polymer J.17, 73 (1985)、J. V. Crivello et al. J.
Org. Chem., 43, 3055 (1978)、W.R. Watt et al, J. P
olymer Sci., Polymer Chem. Ed., 22, 1789 (1984) 、
J.V. Crivello et al, Polymer Bull., 14, 279 (1985)
、J. V. Crivello et al, Macromolecules, 14(5), 11
41 (1981)、J. V. Crivello et al, J. Polymer Sci.,
Polymer Chem. Ed., 17, 2877 (1979) 、欧州特許第37
0,693 号、同233,567 号、同297,443 号、同297,442
号、米国特許第4,933,377 号、同4,760,013 号、同4,73
4,444 号、同2,833,827 号、独国特許第2,904,626 号、
同3,604,580 号、同3,604,581 号に記載のスルホニウム
塩、
【0037】J. V. Crivello et al, Macromolecules,
10(6), 1307 (1977)、J. V. Crivelloet al, J. Polyme
r Sci., Polymer Chem. Ed., 17, 1047 (1979) に記載
のセレノニウム塩、C. S. Wen et al, Teh, Proc. Con
f. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988)に記載
のアルソニウム塩等のオニウム塩、米国特許第3,905,81
5号、特公昭46-4605 号、特開昭48-36281号、特開昭55-
32070号、特開昭60-239736 号、特開昭61-169835 号、
特開昭61-169837 号、特開昭62-58241号、特開昭62-212
401 号、特開昭63-70243号、特開昭63-298339 号に記載
の有機ハロゲン化合物、K. Meier et al, J. Rad. Curi
ng, 13(4), 26 (1986)、T. P. Gill et al,Inorg. Che
m., 19, 3007 (1980) 、D. Astruc, Acc. Chem. Res.,
19(12), 377(1896)、特開平2-161445号に記載の有機金
属/有機ハロゲン化物、S. Hayase etal, J. Polymer S
ci., 25, 753 (1987)、E. Reichmanis et al, J. Polym
er Sci., Polymer Chem. Ed., 23, 1 (1985) 、Q. Q. Z
hu et al, J. Photochem., 36, 85, 39, 317 (1987)、
B. Amit et al, Tetrahedron Lett., (24) 2205 (197
3), D. H. R. Barton et al, J. Chem Soc., 3571 (196
5)、P. M. Collins et al,J. Chem. Soc., Perkin I, 1
695 (1975) 、M. Rudinstein et al, TetrahedronLet
t., (17), 1445 (1975) 、J. W. Walker et al, J. Am.
Chem. Soc., 110,7170 (1988) 、S. C. Busman et al,
J. Imaging Technol., 11(4), 191 (1985)、H. M. Hou
lihan et al, Macoromolecules, 21, 2001 (1988)、P.
M. Collinset al, J. Chem. Soc., Chem. Commun., 532
(1972) 、S. Hayase et al, Macromolecules, 18, 179
9 (1985)、E. Reichmanis et al, J. Electrochem. So
c., Solid State Sci. Technol., 130(6)、F. M. Houli
han et al, Macromolecules,21, 2001 (1988) 、欧州特
許第0290,750号、同046,083 号、同156,535 号、同271,
851 号、同0,388,343 号、米国特許第3,901,710 号、同
4,181,531 号、特開昭60-198538 号、特開昭53-133022
号に記載のo−ニトロベンジル型保護基を有する光酸発
生剤、M. Tunooka et al, Polymer Preprints Japan, 3
8(8)、G. Berner et al, J. Rad. Curing, 13(4)、W.
J. Mijs et al, Coating Technol., 55(697), 45 (198
3)、Akzo, H. Adachi et al, Polymer Preprints, Japa
n, 37(3)、欧州特許第0199,672号、同84,515号、同199,
672 号、同044,115 号、同0101,122号、米国特許第4,61
8,564 号、同4,371,605 号、同4,431,774 号、特開昭64
-18143号、特開平2-245756号、特開平4-365048号に記載
のイミノスルフォネート等に代表される、光分解してス
ルホン酸を発生する化合物、特開昭61-166544 号に記載
のジスルホン化合物を挙げることができる。
10(6), 1307 (1977)、J. V. Crivelloet al, J. Polyme
r Sci., Polymer Chem. Ed., 17, 1047 (1979) に記載
のセレノニウム塩、C. S. Wen et al, Teh, Proc. Con
f. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988)に記載
のアルソニウム塩等のオニウム塩、米国特許第3,905,81
5号、特公昭46-4605 号、特開昭48-36281号、特開昭55-
32070号、特開昭60-239736 号、特開昭61-169835 号、
特開昭61-169837 号、特開昭62-58241号、特開昭62-212
401 号、特開昭63-70243号、特開昭63-298339 号に記載
の有機ハロゲン化合物、K. Meier et al, J. Rad. Curi
ng, 13(4), 26 (1986)、T. P. Gill et al,Inorg. Che
m., 19, 3007 (1980) 、D. Astruc, Acc. Chem. Res.,
19(12), 377(1896)、特開平2-161445号に記載の有機金
属/有機ハロゲン化物、S. Hayase etal, J. Polymer S
ci., 25, 753 (1987)、E. Reichmanis et al, J. Polym
er Sci., Polymer Chem. Ed., 23, 1 (1985) 、Q. Q. Z
hu et al, J. Photochem., 36, 85, 39, 317 (1987)、
B. Amit et al, Tetrahedron Lett., (24) 2205 (197
3), D. H. R. Barton et al, J. Chem Soc., 3571 (196
5)、P. M. Collins et al,J. Chem. Soc., Perkin I, 1
695 (1975) 、M. Rudinstein et al, TetrahedronLet
t., (17), 1445 (1975) 、J. W. Walker et al, J. Am.
Chem. Soc., 110,7170 (1988) 、S. C. Busman et al,
J. Imaging Technol., 11(4), 191 (1985)、H. M. Hou
lihan et al, Macoromolecules, 21, 2001 (1988)、P.
M. Collinset al, J. Chem. Soc., Chem. Commun., 532
(1972) 、S. Hayase et al, Macromolecules, 18, 179
9 (1985)、E. Reichmanis et al, J. Electrochem. So
c., Solid State Sci. Technol., 130(6)、F. M. Houli
han et al, Macromolecules,21, 2001 (1988) 、欧州特
許第0290,750号、同046,083 号、同156,535 号、同271,
851 号、同0,388,343 号、米国特許第3,901,710 号、同
4,181,531 号、特開昭60-198538 号、特開昭53-133022
号に記載のo−ニトロベンジル型保護基を有する光酸発
生剤、M. Tunooka et al, Polymer Preprints Japan, 3
8(8)、G. Berner et al, J. Rad. Curing, 13(4)、W.
J. Mijs et al, Coating Technol., 55(697), 45 (198
3)、Akzo, H. Adachi et al, Polymer Preprints, Japa
n, 37(3)、欧州特許第0199,672号、同84,515号、同199,
672 号、同044,115 号、同0101,122号、米国特許第4,61
8,564 号、同4,371,605 号、同4,431,774 号、特開昭64
-18143号、特開平2-245756号、特開平4-365048号に記載
のイミノスルフォネート等に代表される、光分解してス
ルホン酸を発生する化合物、特開昭61-166544 号に記載
のジスルホン化合物を挙げることができる。
【0038】またこれらの光により酸を発生する基、あ
るいは化合物をポリマーの主鎖又は側鎖に導入した化合
物、例えば、M. E. Woodhouse et al, J. Am. Chem. So
c.,104, 5586 (1982)、S. P. Pappas et al, J. Imagin
g Sci., 30(5),218 (1986)、S. Kondo et al. Makromo
l. Chem., Rapid Commun., 9,625 (1988)、Y. Yamada e
t al, Makromol. Chem., 152, 153, 163 (1972)、J. V.
Crivello et al. J.Polymer Sci., Polymer Chem. E
d., 17, 3845 (1979) 、米国特許第3,849,137号、独国
特許第3,914,407 、特開昭63-26653号、特開昭55-16482
4 号、特開昭62-69263号、特開昭63-1460387、特開昭63
-163452 号、特開昭62-153853 号、特開昭63-146029 号
に記載の化合物を用いることができる。更に、V. N. R.
Pillai, Synthesis, (1), 1(1980)、A. Abad et al, T
etrahedron Lett., (47)4555 (1971) 、D. H. R. Barto
n et al, J. Chem. Soc., (C),329 (1970)、米国特許第
3,779,778 号、欧州特許第126,712 号に記載の光により
酸を発生する化合物も使用することができる。
るいは化合物をポリマーの主鎖又は側鎖に導入した化合
物、例えば、M. E. Woodhouse et al, J. Am. Chem. So
c.,104, 5586 (1982)、S. P. Pappas et al, J. Imagin
g Sci., 30(5),218 (1986)、S. Kondo et al. Makromo
l. Chem., Rapid Commun., 9,625 (1988)、Y. Yamada e
t al, Makromol. Chem., 152, 153, 163 (1972)、J. V.
Crivello et al. J.Polymer Sci., Polymer Chem. E
d., 17, 3845 (1979) 、米国特許第3,849,137号、独国
特許第3,914,407 、特開昭63-26653号、特開昭55-16482
4 号、特開昭62-69263号、特開昭63-1460387、特開昭63
-163452 号、特開昭62-153853 号、特開昭63-146029 号
に記載の化合物を用いることができる。更に、V. N. R.
Pillai, Synthesis, (1), 1(1980)、A. Abad et al, T
etrahedron Lett., (47)4555 (1971) 、D. H. R. Barto
n et al, J. Chem. Soc., (C),329 (1970)、米国特許第
3,779,778 号、欧州特許第126,712 号に記載の光により
酸を発生する化合物も使用することができる。
【0039】上記酸前駆体の中で、特に有効に用いられ
るものについて以下に説明する。 (1) トリハロメチル基が置換した下記一般式(VII)で
表されるオキサゾール誘導体又は下記一般式(VIII) で
表されるS−トリアジン誘導体。
るものについて以下に説明する。 (1) トリハロメチル基が置換した下記一般式(VII)で
表されるオキサゾール誘導体又は下記一般式(VIII) で
表されるS−トリアジン誘導体。
【0040】
【化13】
【0041】式中、R6 は置換もしくは未置換のアリー
ル基又はアルケニル基であり、R7は置換もしくは未置
換のアリール基、アルケニル基、アルキル基又は−CY
3 を表す。Yは塩素原子又は臭素原子を示す。上記オキ
サゾール誘導体(VII)及びS−トリアジン誘導体(VII
I) の具体例としては、以下の VII−1〜 VII−8及びV
III−1〜VIII−10の化合物を挙げることができる
が、これらに限定されるものではない。
ル基又はアルケニル基であり、R7は置換もしくは未置
換のアリール基、アルケニル基、アルキル基又は−CY
3 を表す。Yは塩素原子又は臭素原子を示す。上記オキ
サゾール誘導体(VII)及びS−トリアジン誘導体(VII
I) の具体例としては、以下の VII−1〜 VII−8及びV
III−1〜VIII−10の化合物を挙げることができる
が、これらに限定されるものではない。
【0042】
【化14】
【0043】
【化15】
【0044】
【化16】
【0045】
【化17】
【0046】
【化18】
【0047】(2) 下記一般式(IX) で表されるヨード
ニウム塩又は下記一般式(X)で表されるスルホニウム
塩。
ニウム塩又は下記一般式(X)で表されるスルホニウム
塩。
【0048】
【化19】
【0049】式中、Ar1 及びAr2 は各々独立に置換もし
くは未置換のアリール基を示す。好ましい置換基として
は、アルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基、
アリール基、アルコキシ基、ニトロ基、カルボキシル
基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシ基、メルカプ
ト基及びハロゲン原子が挙げられる。R8 、R9 及びR
10は各々独立に、置換もしくは未置換のアルキル基又は
アリール基を示す。好ましくは炭素原子数6〜14のア
リール基、炭素原子数1〜8のアルキル基又はそれらの
置換誘導体である。好ましい置換基は、アリール基に対
しては炭素原子数1〜8のアルコキシ基、炭素原子数1
〜8のアルキル基、ニトロ基、カルボキシル基、ヒドロ
キシ基又はハロゲン原子であり、アルキル基に対しては
炭素原子数1〜8のアルコキシ基、カルボキシル基、ア
ルコキシカルボニル基である。Z- は対アニオンを示
し、例えば BF4 - 、AsF6 - 、PF6 - 、SbF6 - 、SiF6 - 、
ClO4 - 、CF3SO - 、BPh4 - 、(Ph=フェニル)、ナフタ
レン−1−スルホン酸アニオン、アントラキノンスルホ
ン酸アニオン等の縮合多核芳香族スルホン酸アニオン、
スルホン酸基含有染料等を挙げることができるが、これ
らに限定されるものではない。また、R8 、R9 及びR
10のうちの2つ並びにAr1 及びAr2 はそれぞれ単結
合又は置換基を介して結合してもよい。
くは未置換のアリール基を示す。好ましい置換基として
は、アルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基、
アリール基、アルコキシ基、ニトロ基、カルボキシル
基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシ基、メルカプ
ト基及びハロゲン原子が挙げられる。R8 、R9 及びR
10は各々独立に、置換もしくは未置換のアルキル基又は
アリール基を示す。好ましくは炭素原子数6〜14のア
リール基、炭素原子数1〜8のアルキル基又はそれらの
置換誘導体である。好ましい置換基は、アリール基に対
しては炭素原子数1〜8のアルコキシ基、炭素原子数1
〜8のアルキル基、ニトロ基、カルボキシル基、ヒドロ
キシ基又はハロゲン原子であり、アルキル基に対しては
炭素原子数1〜8のアルコキシ基、カルボキシル基、ア
ルコキシカルボニル基である。Z- は対アニオンを示
し、例えば BF4 - 、AsF6 - 、PF6 - 、SbF6 - 、SiF6 - 、
ClO4 - 、CF3SO - 、BPh4 - 、(Ph=フェニル)、ナフタ
レン−1−スルホン酸アニオン、アントラキノンスルホ
ン酸アニオン等の縮合多核芳香族スルホン酸アニオン、
スルホン酸基含有染料等を挙げることができるが、これ
らに限定されるものではない。また、R8 、R9 及びR
10のうちの2つ並びにAr1 及びAr2 はそれぞれ単結
合又は置換基を介して結合してもよい。
【0050】一般式(IX)及び(X)で示される上記オ
ニウム塩は公知であり、例えばJ. W. Knapczyk et al,
J. Am. Chem. Soc., 91, 145 (1969) 、A. L. Maycok e
t al, J. Org. Chem., 35, 2532 (1970)、E. Goethas e
t al, Bull. Soc. Chem. Belg., 73, 546, (1964) 、H.
M. Leicester, J. Am. Chem. Soc., 51, 3587 (1929)
、J. B. Crivello et al, J. Polym. Chem. Ed., 18,
2677 (1980)、米国特許第2,807,648 号及び同4,247,473
号、特開昭53-101331 号に記載の方法により合成する
ことができる。一般式(IX)及び(X)のオニウム化合
物の具体例としては、以下に示す化合物IX−1〜IX−2
0及びX−1〜X−34が挙げられるが、これに限定さ
れるものではない。
ニウム塩は公知であり、例えばJ. W. Knapczyk et al,
J. Am. Chem. Soc., 91, 145 (1969) 、A. L. Maycok e
t al, J. Org. Chem., 35, 2532 (1970)、E. Goethas e
t al, Bull. Soc. Chem. Belg., 73, 546, (1964) 、H.
M. Leicester, J. Am. Chem. Soc., 51, 3587 (1929)
、J. B. Crivello et al, J. Polym. Chem. Ed., 18,
2677 (1980)、米国特許第2,807,648 号及び同4,247,473
号、特開昭53-101331 号に記載の方法により合成する
ことができる。一般式(IX)及び(X)のオニウム化合
物の具体例としては、以下に示す化合物IX−1〜IX−2
0及びX−1〜X−34が挙げられるが、これに限定さ
れるものではない。
【0051】
【化20】
【0052】
【化21】
【0053】
【化22】
【0054】
【化23】
【0055】
【化24】
【0056】
【化25】
【0057】
【化26】
【0058】
【化27】
【0059】
【化28】
【0060】
【化29】
【0061】
【化30】
【0062】
【化31】
【0063】
【化32】
【0064】
【化33】
【0065】
【化34】
【0066】(3) 下記一般式(XI) で表されるジスル
ホン誘導体又は下記一般式(XII)で表されるイミノスル
ホネート誘導体。
ホン誘導体又は下記一般式(XII)で表されるイミノスル
ホネート誘導体。
【0067】
【化35】
【0068】式中、Ar3 及びAr4 は各々独立に置換もし
くは未置換のアリール基を示す。R 11は置換もしくは未
置換のアルキル基又はアリール基を表す。A1 は置換も
しくは未置換のアルキレン基、アルケニレン基又はアリ
ーレン基を示す。一般式(XI) 及び(XII)で示される化
合物の具体例としては、以下に示す化合物XI−1〜XI−
12及び XII−1〜 XII−12が挙げられるが、これら
に限定されるものではない。
くは未置換のアリール基を示す。R 11は置換もしくは未
置換のアルキル基又はアリール基を表す。A1 は置換も
しくは未置換のアルキレン基、アルケニレン基又はアリ
ーレン基を示す。一般式(XI) 及び(XII)で示される化
合物の具体例としては、以下に示す化合物XI−1〜XI−
12及び XII−1〜 XII−12が挙げられるが、これら
に限定されるものではない。
【0069】
【化36】
【0070】
【化37】
【0071】
【化38】
【0072】
【化39】
【0073】
【化40】
【0074】
【化41】
【0075】
【化42】
【0076】
【化43】
【0077】これらの酸前駆体の添加量は感光性組成物
の全固形分を基準として0.001 〜40重量%の範囲であ
り、好ましくは0.1〜20重量%の範囲である。酸前駆体
の添加量が少なすぎると感度が低下し、また多すぎても
感度は一定以上あがらずコストの面で不利である。
の全固形分を基準として0.001 〜40重量%の範囲であ
り、好ましくは0.1〜20重量%の範囲である。酸前駆体
の添加量が少なすぎると感度が低下し、また多すぎても
感度は一定以上あがらずコストの面で不利である。
【0078】露光後直ちに可視画像を得るための焼出し
剤として、露光による熱によって酸を放出する化合物と
塩を形成しうる有機染料との組合せを挙げることができ
る。具体的には特開昭50−36209号公報、特開昭
53−8128号公報記載のo−ナフトキノンジアジド
−4−スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の組合
せや特開昭53−36223号公報、特開昭54−74
728号公報記載のトリハロメチル化合物と塩形成性有
機染料の組合せを挙げることができる。画像の着色剤と
して前記の塩形成性有機染料以外の染料も用いることが
できる。塩形成性有機染料も含めて好適な染料としては
油溶性染料又は塩基性染料がある。具体的には、例えば
オイルイエロー#101、オイルイエロー#130、オ
イルピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブル
ーBOS、オイルブラックBY、オイルブラックBS、
オイルブラックT−505(以上オリエンタル化学工業
(株)製)、クリスタルバイオレット(CI4255
5)、メチルバイオレット(CI42535)、ローダ
ミンB(CI45170B)、マラカイトグリーン(C
I42000)、メチレンブルー(CI52015)な
どを挙げることができる。これらの染料は、感光性組成
物の全固形分に対し、0.01〜10重量%、好ましくは
0.1〜3重量%の割合で感光性組成物中に添加すること
ができる。なお本発明の赤外線吸収剤により十分な濃度
の可視画像が得られる場合、このような染料を添加する
必要はない。
剤として、露光による熱によって酸を放出する化合物と
塩を形成しうる有機染料との組合せを挙げることができ
る。具体的には特開昭50−36209号公報、特開昭
53−8128号公報記載のo−ナフトキノンジアジド
−4−スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の組合
せや特開昭53−36223号公報、特開昭54−74
728号公報記載のトリハロメチル化合物と塩形成性有
機染料の組合せを挙げることができる。画像の着色剤と
して前記の塩形成性有機染料以外の染料も用いることが
できる。塩形成性有機染料も含めて好適な染料としては
油溶性染料又は塩基性染料がある。具体的には、例えば
オイルイエロー#101、オイルイエロー#130、オ
イルピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブル
ーBOS、オイルブラックBY、オイルブラックBS、
オイルブラックT−505(以上オリエンタル化学工業
(株)製)、クリスタルバイオレット(CI4255
5)、メチルバイオレット(CI42535)、ローダ
ミンB(CI45170B)、マラカイトグリーン(C
I42000)、メチレンブルー(CI52015)な
どを挙げることができる。これらの染料は、感光性組成
物の全固形分に対し、0.01〜10重量%、好ましくは
0.1〜3重量%の割合で感光性組成物中に添加すること
ができる。なお本発明の赤外線吸収剤により十分な濃度
の可視画像が得られる場合、このような染料を添加する
必要はない。
【0079】また本発明の感光性組成物には必要に応じ
て塗布性を改良するためのアルキルエーテル類(例えば
エチルセルロース、メチルセルロース)、シリコーン系
界面活性剤、フッ素系界面活性剤やフッ素系表面配向
剤、膜の柔軟性や耐摩耗性を付与するための可塑剤(例
えばトリクレジルホスフェート、ジメチルフタレート、
リン酸トリオクチル、リン酸トリブチル、クエン酸トリ
ブチル、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリ
コール等)及び追加の増感剤などを添加することができ
る。更にシリコーンゴム層との接着性を強化するためシ
ランカップリング剤、チタンカップリング剤等を添加し
ても良い。添加量はその使用目的によって異なるが、一
般には感光性組成物の全固形分に対して0.3 〜30重量%
である。
て塗布性を改良するためのアルキルエーテル類(例えば
エチルセルロース、メチルセルロース)、シリコーン系
界面活性剤、フッ素系界面活性剤やフッ素系表面配向
剤、膜の柔軟性や耐摩耗性を付与するための可塑剤(例
えばトリクレジルホスフェート、ジメチルフタレート、
リン酸トリオクチル、リン酸トリブチル、クエン酸トリ
ブチル、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリ
コール等)及び追加の増感剤などを添加することができ
る。更にシリコーンゴム層との接着性を強化するためシ
ランカップリング剤、チタンカップリング剤等を添加し
ても良い。添加量はその使用目的によって異なるが、一
般には感光性組成物の全固形分に対して0.3 〜30重量%
である。
【0080】本発明の感光性組成物は上記各成分を溶解
する溶剤に溶解し、塗布される。ここで使用する溶媒と
しては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メ
チルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノ
ール、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メ
トキシ−2−プロパノール、エチレングリコールモノエ
チルエーテル、2−メトキシエチルアセテート、1−メ
トキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、
乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミ
ド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレ
ア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ス
ルホラン、γ−ブチロラクトン、トルエン、酢酸エチ
ル、ジオキサンなどがあり、これらの溶媒を単独あるい
は混合して使用する。溶媒中の上記成分(添加物を含む
全固形分)の濃度は、好ましくは2〜50重量%であ
る。また塗布量は一般的に固形分として好ましくは0.2
〜5.0 g/m2であるが、より好ましくは0.3 〜3.0 g/
m2である。
する溶剤に溶解し、塗布される。ここで使用する溶媒と
しては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メ
チルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノ
ール、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メ
トキシ−2−プロパノール、エチレングリコールモノエ
チルエーテル、2−メトキシエチルアセテート、1−メ
トキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、
乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミ
ド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレ
ア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ス
ルホラン、γ−ブチロラクトン、トルエン、酢酸エチ
ル、ジオキサンなどがあり、これらの溶媒を単独あるい
は混合して使用する。溶媒中の上記成分(添加物を含む
全固形分)の濃度は、好ましくは2〜50重量%であ
る。また塗布量は一般的に固形分として好ましくは0.2
〜5.0 g/m2であるが、より好ましくは0.3 〜3.0 g/
m2である。
【0081】上記の塗布用溶液は公知の塗布技術を用い
て支持体上に塗布される。塗布技術の例としては、回転
塗布法、ワイヤーバー塗布法、ディップ塗布法、エアー
ナイフ塗布法、ロール塗布法、ブレード塗布法、カーテ
ン塗布法及びスプレー塗布法等を挙げることができる。
上記のようにして塗布された感光性組成物の層は、熱風
乾燥機、赤外線乾燥機等を用いて30秒〜10分間、乾
燥される。ポジ型の湿し水不要感光性平版印刷版を作成
する場合は、50〜100℃で乾燥させることが望まし
い。一方ネガ型の湿し水不要感光性平版印刷版を作成す
る場合は、成分(a)と成分(b)との架橋を行わせる
ため100〜150℃で乾燥させることが好適である
が、塗布乾燥後の感光性組成物に改めて熱をかける方法
等を用いても良い。
て支持体上に塗布される。塗布技術の例としては、回転
塗布法、ワイヤーバー塗布法、ディップ塗布法、エアー
ナイフ塗布法、ロール塗布法、ブレード塗布法、カーテ
ン塗布法及びスプレー塗布法等を挙げることができる。
上記のようにして塗布された感光性組成物の層は、熱風
乾燥機、赤外線乾燥機等を用いて30秒〜10分間、乾
燥される。ポジ型の湿し水不要感光性平版印刷版を作成
する場合は、50〜100℃で乾燥させることが望まし
い。一方ネガ型の湿し水不要感光性平版印刷版を作成す
る場合は、成分(a)と成分(b)との架橋を行わせる
ため100〜150℃で乾燥させることが好適である
が、塗布乾燥後の感光性組成物に改めて熱をかける方法
等を用いても良い。
【0082】本発明で用いられる支持体は、通常の印刷
機にセットできる程度のたわみ性と印刷時にかかる荷重
とに耐えるものでなければならない。従って代表的な支
持体としては、コート紙、アルミニウムのような金属
板、ポリエチレンテレフタレートのようなプラスチック
フィルム、ゴム、あるいはそれらを複合させたものを挙
げることができ、より好ましくはアルミニウムおよびア
ルミニウム含有合金(例えばケイ素、銅、マンガン、マ
グネシウム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケルな
どの金属とアルミニウムとの合金)合金である。
機にセットできる程度のたわみ性と印刷時にかかる荷重
とに耐えるものでなければならない。従って代表的な支
持体としては、コート紙、アルミニウムのような金属
板、ポリエチレンテレフタレートのようなプラスチック
フィルム、ゴム、あるいはそれらを複合させたものを挙
げることができ、より好ましくはアルミニウムおよびア
ルミニウム含有合金(例えばケイ素、銅、マンガン、マ
グネシウム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケルな
どの金属とアルミニウムとの合金)合金である。
【0083】本発明においては、支持体と感光層との間
にプライマー層を設けても良い。本発明に用いられるプ
ライマー層としては、基板と感光層間の接着性向上、ハ
レーション防止、画像の染色や印刷特性向上のために種
々のものを使用することができる。例えば特開昭60−
22903号公報に開示されているような種々の感光性
ポリマーを感光層を積層する前に露光して硬化せしめた
もの、特開昭62−50760号公報に開示されている
エポキシ樹脂を熱硬化せしめたもの、特開昭63−13
3151号公報に開示されているゼラチンを硬膜せしめ
たもの、さらに特開平3−200965号公報に開示さ
れているウレタン樹脂とシランカップリング剤を用いた
ものや特開平3−273248号公報に開示されている
ウレタン樹脂を用いたものなどを挙げることができる。
この他ゼラチンまたはカゼインを硬膜させたものも有効
である。更にプライマー層を柔軟化させる目的で、前記
のプライマー層中にガラス転移温度が室温以下であるポ
リウレタン、ポリアミド、スチレン/ブタジエンゴム、
カルボキシ変性スチレン/ブタジエンゴム、アクリロニ
トリル/ブタジエンゴム、カルボン酸変性アクリロニト
リル/ブタジエンゴム、ポリイソプレン、アクリレート
ゴム、ポリエチレン、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリ
プロピレン等のポリマーを添加しても良い。その添加割
合は任意でありフィルム層を形成できる範囲であれば添
加剤だけでプライマー層を形成しても良い。またこれら
のプライマー層には前記の目的に沿って染料、pH指示
薬、焼き出し剤、光重合開始剤、接着助剤(例えば重合
性モノマー、ジアゾ樹脂、シランカップリング剤、チタ
ネートカップリング剤やアルミニウムカップリング
剤)、顔料、シリカ粉末や酸化チタン粉末等の添加剤を
含有させることもできる。また塗布後、露光によって硬
化させることもできる。一般にプライマー層の塗布量は
0.1〜20g/m2 の範囲が適当であり、好ましくは
1〜10g/m2 であり、より好ましくは1〜5g/m
2 である。
にプライマー層を設けても良い。本発明に用いられるプ
ライマー層としては、基板と感光層間の接着性向上、ハ
レーション防止、画像の染色や印刷特性向上のために種
々のものを使用することができる。例えば特開昭60−
22903号公報に開示されているような種々の感光性
ポリマーを感光層を積層する前に露光して硬化せしめた
もの、特開昭62−50760号公報に開示されている
エポキシ樹脂を熱硬化せしめたもの、特開昭63−13
3151号公報に開示されているゼラチンを硬膜せしめ
たもの、さらに特開平3−200965号公報に開示さ
れているウレタン樹脂とシランカップリング剤を用いた
ものや特開平3−273248号公報に開示されている
ウレタン樹脂を用いたものなどを挙げることができる。
この他ゼラチンまたはカゼインを硬膜させたものも有効
である。更にプライマー層を柔軟化させる目的で、前記
のプライマー層中にガラス転移温度が室温以下であるポ
リウレタン、ポリアミド、スチレン/ブタジエンゴム、
カルボキシ変性スチレン/ブタジエンゴム、アクリロニ
トリル/ブタジエンゴム、カルボン酸変性アクリロニト
リル/ブタジエンゴム、ポリイソプレン、アクリレート
ゴム、ポリエチレン、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリ
プロピレン等のポリマーを添加しても良い。その添加割
合は任意でありフィルム層を形成できる範囲であれば添
加剤だけでプライマー層を形成しても良い。またこれら
のプライマー層には前記の目的に沿って染料、pH指示
薬、焼き出し剤、光重合開始剤、接着助剤(例えば重合
性モノマー、ジアゾ樹脂、シランカップリング剤、チタ
ネートカップリング剤やアルミニウムカップリング
剤)、顔料、シリカ粉末や酸化チタン粉末等の添加剤を
含有させることもできる。また塗布後、露光によって硬
化させることもできる。一般にプライマー層の塗布量は
0.1〜20g/m2 の範囲が適当であり、好ましくは
1〜10g/m2 であり、より好ましくは1〜5g/m
2 である。
【0084】本発明において用いられる架橋を行ったシ
リコーンゴム層は、下記組成物A、またはBを硬化して
形成した皮膜である。 組成物A ジオルガノポリシロキサン (数平均分子量が3,000 〜40,000) 100重量部 縮合型架橋剤 3〜70重量部 触媒 0.01〜40重量部 前記成分のジオルガノポリシロキサンは、下記一般式
で示されるような繰り返し単位を有するポリマーで、R
12およびR13は炭素原子数1〜10のアルキル基、ビニ
ル基、アリール基であり、またその他の適当な置換基を
有していても良い。一般的には、R12およびR13の60
%以上がメチル基、あるいはハロゲン化ビニル基、ハロ
ゲン化フェニル基などであるものが好ましい。 −SiR12R13−O− このようなジオルガノポリシロキサンは両末端に水酸基
を有するものを用いるのが好ましい。また前記成分
は、数平均分子量が3,000 〜40,000であり、より好まし
くは5,000 〜36,000である。
リコーンゴム層は、下記組成物A、またはBを硬化して
形成した皮膜である。 組成物A ジオルガノポリシロキサン (数平均分子量が3,000 〜40,000) 100重量部 縮合型架橋剤 3〜70重量部 触媒 0.01〜40重量部 前記成分のジオルガノポリシロキサンは、下記一般式
で示されるような繰り返し単位を有するポリマーで、R
12およびR13は炭素原子数1〜10のアルキル基、ビニ
ル基、アリール基であり、またその他の適当な置換基を
有していても良い。一般的には、R12およびR13の60
%以上がメチル基、あるいはハロゲン化ビニル基、ハロ
ゲン化フェニル基などであるものが好ましい。 −SiR12R13−O− このようなジオルガノポリシロキサンは両末端に水酸基
を有するものを用いるのが好ましい。また前記成分
は、数平均分子量が3,000 〜40,000であり、より好まし
くは5,000 〜36,000である。
【0085】また成分は縮合型のものであればいずれ
であっても良いが、次の一般式で示されるようなものが
好ましい。 R14m・ Si・Xn (m+n=4,nは2以上) ここでR14は先に説明したR12と同じ意味であり、X
は、Cl,Br,Iなどのハロゲン;HまたはOH;O
COR15, OR15, −O−N=CR16R17, −NR16R
17などの有機置換基を示す。ここでR15は炭素原子数1
〜10のアルキル基および炭素原子数6〜20のアリー
ル基、R16、R17は炭素原子数1〜10のアルキル基を
示す。成分は錫、亜鉛、鉛、カルシウム、マンガンな
どの金属カルボン酸塩、例えばラウリン酸ジブチル、オ
クチル酸鉛、ナフテン酸鉛など、あるいは塩化白金酸の
ような公知の触媒があげられる。
であっても良いが、次の一般式で示されるようなものが
好ましい。 R14m・ Si・Xn (m+n=4,nは2以上) ここでR14は先に説明したR12と同じ意味であり、X
は、Cl,Br,Iなどのハロゲン;HまたはOH;O
COR15, OR15, −O−N=CR16R17, −NR16R
17などの有機置換基を示す。ここでR15は炭素原子数1
〜10のアルキル基および炭素原子数6〜20のアリー
ル基、R16、R17は炭素原子数1〜10のアルキル基を
示す。成分は錫、亜鉛、鉛、カルシウム、マンガンな
どの金属カルボン酸塩、例えばラウリン酸ジブチル、オ
クチル酸鉛、ナフテン酸鉛など、あるいは塩化白金酸の
ような公知の触媒があげられる。
【0086】 組成物B 付加反応性官能基を有するジオルガノポリシロキサン (数平均分子量が3,000 〜100,000) 100重量部 オルガノハイドロジェンポリシロキサン 0.1〜10重量部 付加触媒 0.00001〜1重量部 上記の付加反応性官能基を有するジオルガノポリシロ
キサンとは、1分子中にケイ素原子に直接結合したアル
ケニル基(より好ましくはビニル基)を少なくとも2個
有するオルガノポリシロキサンで、アルケニル基は分子
鎖末端、中間いずれにあってもよく、アルケニル基以外
の有機基としては、置換もしくは非置換の炭素原子数1
〜10のアルキル基、アリール基である。また成分に
は水酸基を微量有することも任意である。成分の数平
均分子量は、3,000 〜40,000であり、より好ましくは5,
000 〜36,000である。
キサンとは、1分子中にケイ素原子に直接結合したアル
ケニル基(より好ましくはビニル基)を少なくとも2個
有するオルガノポリシロキサンで、アルケニル基は分子
鎖末端、中間いずれにあってもよく、アルケニル基以外
の有機基としては、置換もしくは非置換の炭素原子数1
〜10のアルキル基、アリール基である。また成分に
は水酸基を微量有することも任意である。成分の数平
均分子量は、3,000 〜40,000であり、より好ましくは5,
000 〜36,000である。
【0087】成分としては、両末端水酸基のポリジメ
チルシロキサン、α、ω−ジメチルポリシロキサン、両
末端メチル基の(メチルシロキサン)(ジメチルシロキ
サン)共重合体、環状ポリメチルシロキサン、両末端ト
リメチルシリル基のポリメチルシロキサン、両末端トリ
メチルシリル基の(ジメチルシロキサン)(メチルシロキ
サン)共重合体などが例示される。成分としては、公
知のものの中から任意に選ばれるが、特に白金系の化合
物が望ましく、白金単体、塩化白金、塩化白金酸、オレ
フィン配位白金などが例示される。これらの組成物の硬
化速度を制御する目的で、テトラシクロ(メチルビニ
ル)シロキサンなどのビニル基含有のオルガノポリシロ
キサン、炭素−炭素三重結合含有のアルコール、アセト
ン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プ
ロピレングリコールモノメチルエーテルなどの架橋抑制
剤を添加することも可能である。
チルシロキサン、α、ω−ジメチルポリシロキサン、両
末端メチル基の(メチルシロキサン)(ジメチルシロキ
サン)共重合体、環状ポリメチルシロキサン、両末端ト
リメチルシリル基のポリメチルシロキサン、両末端トリ
メチルシリル基の(ジメチルシロキサン)(メチルシロキ
サン)共重合体などが例示される。成分としては、公
知のものの中から任意に選ばれるが、特に白金系の化合
物が望ましく、白金単体、塩化白金、塩化白金酸、オレ
フィン配位白金などが例示される。これらの組成物の硬
化速度を制御する目的で、テトラシクロ(メチルビニ
ル)シロキサンなどのビニル基含有のオルガノポリシロ
キサン、炭素−炭素三重結合含有のアルコール、アセト
ン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プ
ロピレングリコールモノメチルエーテルなどの架橋抑制
剤を添加することも可能である。
【0088】なおシリコーンゴム層には必要に応じてシ
リカ、炭酸カルシウム、酸化チタン等の無機物の粉末、
前記のシランカップリング剤、チタネートカップリング
剤やアルミニウム系カップリング剤等の接着助剤や光重
合開始剤を添加しても良い。本発明におけるシリコーン
ゴム層は印刷インキ反撥層となるものであり、厚さが小
さいとインキ反撥性の低下、傷が入りやすい等の問題が
あり、厚さが大きいと、現像性が悪くなるという点か
ら、厚みとしては0.5〜5g/m2 が好適であり、好
ましくは1〜3g/m2 である。
リカ、炭酸カルシウム、酸化チタン等の無機物の粉末、
前記のシランカップリング剤、チタネートカップリング
剤やアルミニウム系カップリング剤等の接着助剤や光重
合開始剤を添加しても良い。本発明におけるシリコーン
ゴム層は印刷インキ反撥層となるものであり、厚さが小
さいとインキ反撥性の低下、傷が入りやすい等の問題が
あり、厚さが大きいと、現像性が悪くなるという点か
ら、厚みとしては0.5〜5g/m2 が好適であり、好
ましくは1〜3g/m2 である。
【0089】ここに説明した湿し水不要感光性平版印刷
版において、シリコーンゴム層の上に更に種々のシリコ
ーンゴム層を塗工しても良い。更にシリコーンゴム層の
表面保護のために、シリコーンゴム層上に透明なフィル
ム、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビ
ニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポ
リエチレンテレフタレート、セロファン等をラミネート
したりポリマーのコーティングを施しても良い。これら
のフィルムは延伸して用いても良い。またこれらのフィ
ルムにはマットを施しても良い。
版において、シリコーンゴム層の上に更に種々のシリコ
ーンゴム層を塗工しても良い。更にシリコーンゴム層の
表面保護のために、シリコーンゴム層上に透明なフィル
ム、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビ
ニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポ
リエチレンテレフタレート、セロファン等をラミネート
したりポリマーのコーティングを施しても良い。これら
のフィルムは延伸して用いても良い。またこれらのフィ
ルムにはマットを施しても良い。
【0090】本発明の湿し水不要感光性平版印刷版は通
常、像露光、現像工程を施される。本発明の印刷版に用
いられる活性光線の光源としては、近赤外から赤外領域
に発光波長を持つ光源が好ましく、例えば、固体レー
ザ、半導体レーザが特に好ましい。ただし、使用される
酸前駆体の種類によっては、水銀灯、メタルハライドラ
ンプ、キセノンランプ、ケミカルランプ、カーボンアー
ク灯の紫外線の他、電子線、X線、イオンビーム、遠紫
外線などでも画像形成は可能である。フォトレジスト用
の光源に使われるg線、i線、Deep−UV光も使用する
事ができ、また高密度エネルギービーム(レーザビーム
又は電子線)による走査露光も本発明に使用することが
できる。このようなレーザビームとしてはヘリウム・ネ
オンレーザ、アルゴンレーザ、クリプトンイオンレー
ザ、ヘリウム・カドミウムレーザ、KrFエキシマレー
ザなどが挙げられる。
常、像露光、現像工程を施される。本発明の印刷版に用
いられる活性光線の光源としては、近赤外から赤外領域
に発光波長を持つ光源が好ましく、例えば、固体レー
ザ、半導体レーザが特に好ましい。ただし、使用される
酸前駆体の種類によっては、水銀灯、メタルハライドラ
ンプ、キセノンランプ、ケミカルランプ、カーボンアー
ク灯の紫外線の他、電子線、X線、イオンビーム、遠紫
外線などでも画像形成は可能である。フォトレジスト用
の光源に使われるg線、i線、Deep−UV光も使用する
事ができ、また高密度エネルギービーム(レーザビーム
又は電子線)による走査露光も本発明に使用することが
できる。このようなレーザビームとしてはヘリウム・ネ
オンレーザ、アルゴンレーザ、クリプトンイオンレー
ザ、ヘリウム・カドミウムレーザ、KrFエキシマレー
ザなどが挙げられる。
【0091】本発明による湿し水不要感光性平版印刷版
は露光した後、酸前駆体から発生した酸による反応を促
進するため加熱を施しても良い。この加熱工程は80〜
150℃の温度範囲で、5秒〜20分の範囲で行われる
ことが好ましい。露光及び必要に応じて加熱工程を経た
湿し水不要感光性平版印刷版は、画像部の感光層の一部
あるいは全部を溶解あるいは膨潤しうる現像液、あるい
はシリコーンゴム層を膨潤しうる現像液で現像される。
この場合画像部の感光層およびその上のシリコーンゴム
層が除去される場合と画像部のシリコーンゴム層のみが
除去される場合があり、これは現像液の強さによって制
御することができる。
は露光した後、酸前駆体から発生した酸による反応を促
進するため加熱を施しても良い。この加熱工程は80〜
150℃の温度範囲で、5秒〜20分の範囲で行われる
ことが好ましい。露光及び必要に応じて加熱工程を経た
湿し水不要感光性平版印刷版は、画像部の感光層の一部
あるいは全部を溶解あるいは膨潤しうる現像液、あるい
はシリコーンゴム層を膨潤しうる現像液で現像される。
この場合画像部の感光層およびその上のシリコーンゴム
層が除去される場合と画像部のシリコーンゴム層のみが
除去される場合があり、これは現像液の強さによって制
御することができる。
【0092】本発明の湿し水不要感光性平版印刷板の現
像液としては、公知のものが使用できる。例えば、脂肪
族炭化水素類(ヘキサン、ヘプタン、“アイソパーE、
H、G”(エッソ化学製脂肪族炭化水素類の商標名)あ
るいはガソリン、灯油など)、芳香族炭化水素類(トル
エン、キシレンなど)、あるいはハロゲン化炭化水素
(トリクレンなど)に下記の極性溶媒を添加したものや
極性溶媒そのものが好適である。 ・アルコール類(メタノール、エタノール、プロパノー
ル、ベンジルアルコール、エチレングリコールモノフェ
ニルエーテル、2−メトキシエタノール、2−エトキシ
エタノール、カルビトールモノメチルエーテル、カルビ
トールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモ
ノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエ
ーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジ
プロピレングリコールモノメチルエーテル、ポリエチレ
ングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコー
ル、ポリプロピレングリコール、トリエチレングリコー
ル、テトラエチレングリコール) ・ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン) ・エステル類(酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、
乳酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル
アセテート、カルビトールアセテート、ジメチルフタレ
ート、ジエチルフタレート) ・その他(トリエチルフォスフェート、トリクレジルフ
ォスフェート)
像液としては、公知のものが使用できる。例えば、脂肪
族炭化水素類(ヘキサン、ヘプタン、“アイソパーE、
H、G”(エッソ化学製脂肪族炭化水素類の商標名)あ
るいはガソリン、灯油など)、芳香族炭化水素類(トル
エン、キシレンなど)、あるいはハロゲン化炭化水素
(トリクレンなど)に下記の極性溶媒を添加したものや
極性溶媒そのものが好適である。 ・アルコール類(メタノール、エタノール、プロパノー
ル、ベンジルアルコール、エチレングリコールモノフェ
ニルエーテル、2−メトキシエタノール、2−エトキシ
エタノール、カルビトールモノメチルエーテル、カルビ
トールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモ
ノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエ
ーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジ
プロピレングリコールモノメチルエーテル、ポリエチレ
ングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコー
ル、ポリプロピレングリコール、トリエチレングリコー
ル、テトラエチレングリコール) ・ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン) ・エステル類(酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、
乳酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル
アセテート、カルビトールアセテート、ジメチルフタレ
ート、ジエチルフタレート) ・その他(トリエチルフォスフェート、トリクレジルフ
ォスフェート)
【0093】また上記有機溶剤系現像液に水を添加した
り、上記溶剤を界面活性剤を用いて水に可溶化したもの
や、更にその上にアルカリ剤、例えば珪酸ナトリウム、
珪酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水
酸化リチウム、第三リン酸ナトリウム、第二リン酸ナト
リウム、第三リン酸アンモニウム、第二リン酸アンモニ
ウム、メタ珪酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、アンモ
ニア水などのような無機アルカリ剤や、テトラアルキル
アンモニウムハイドライド、モノエタノールアミン、ジ
エタノールアミン、トリエタノールアミンなどのような
有機アルカリ剤を添加することができる。また場合によ
っては単に水道水やアルカリ水を現像液として使用する
ことができ、必要に応じて界面活性剤や上記のような有
機溶媒を加えることもできる。またクリスタルバイオレ
ット、アストラゾンレッドなどの染料を現像液に加えて
現像と、画像部の染色を同時に行うことも可能である。
現像は、例えば上記のような現像液を含む現像用パッド
で版面をこすったり、現像液を版面に注いだ後に水中で
現像ブラシでこするなど、公知の方法で行うことができ
る。現像液温は任意であるが、好ましくは10℃〜50
℃である。
り、上記溶剤を界面活性剤を用いて水に可溶化したもの
や、更にその上にアルカリ剤、例えば珪酸ナトリウム、
珪酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水
酸化リチウム、第三リン酸ナトリウム、第二リン酸ナト
リウム、第三リン酸アンモニウム、第二リン酸アンモニ
ウム、メタ珪酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、アンモ
ニア水などのような無機アルカリ剤や、テトラアルキル
アンモニウムハイドライド、モノエタノールアミン、ジ
エタノールアミン、トリエタノールアミンなどのような
有機アルカリ剤を添加することができる。また場合によ
っては単に水道水やアルカリ水を現像液として使用する
ことができ、必要に応じて界面活性剤や上記のような有
機溶媒を加えることもできる。またクリスタルバイオレ
ット、アストラゾンレッドなどの染料を現像液に加えて
現像と、画像部の染色を同時に行うことも可能である。
現像は、例えば上記のような現像液を含む現像用パッド
で版面をこすったり、現像液を版面に注いだ後に水中で
現像ブラシでこするなど、公知の方法で行うことができ
る。現像液温は任意であるが、好ましくは10℃〜50
℃である。
【0094】このようにして得られた刷版は、その画像
形成性を確認するため露出画像部を染色液で染色し、検
知しうるようにできる。現像液に露出画像部の染色のた
めの染料を含有しない場合には現像後に染色液で染色さ
れる。染色液を軟らかいパッドにしみこませ、画像部を
軽くこすることにより、画像部のみが染色され、これに
よりハイライト部まで現像が十分に行われていることを
確認できる。染色液としては水溶性の分散染料、酸性染
料および塩基性染料のうちから選ばれる1種または2種
以上を水、アルコール類、ケトン類、エーテル類などの
単独または2種以上の混合液に溶解または分散せしめた
ものが用いられる。染色性を向上させるためにカルボン
酸類、アミン類、界面活性剤、染色助剤、消泡剤などを
加えることも効果的である。
形成性を確認するため露出画像部を染色液で染色し、検
知しうるようにできる。現像液に露出画像部の染色のた
めの染料を含有しない場合には現像後に染色液で染色さ
れる。染色液を軟らかいパッドにしみこませ、画像部を
軽くこすることにより、画像部のみが染色され、これに
よりハイライト部まで現像が十分に行われていることを
確認できる。染色液としては水溶性の分散染料、酸性染
料および塩基性染料のうちから選ばれる1種または2種
以上を水、アルコール類、ケトン類、エーテル類などの
単独または2種以上の混合液に溶解または分散せしめた
ものが用いられる。染色性を向上させるためにカルボン
酸類、アミン類、界面活性剤、染色助剤、消泡剤などを
加えることも効果的である。
【0095】染色液により染色された刷版は、ついで水
洗し、その後乾燥する事が望ましく、これにより版面の
べとつきを抑えることができ、刷版の取り扱い性を向上
させることができる。またこのように処理された刷版を
積み重ねて保管する場合には版面を保護するために合紙
を挿入し挟んでおくことが好ましい。以上のような現像
処理と染色処理、またそれに続く水洗乾燥処理は自動処
理機で行うことが好ましい。このような自動処理機の好
ましいものは特開平2−220061号公報に記載され
ている。
洗し、その後乾燥する事が望ましく、これにより版面の
べとつきを抑えることができ、刷版の取り扱い性を向上
させることができる。またこのように処理された刷版を
積み重ねて保管する場合には版面を保護するために合紙
を挿入し挟んでおくことが好ましい。以上のような現像
処理と染色処理、またそれに続く水洗乾燥処理は自動処
理機で行うことが好ましい。このような自動処理機の好
ましいものは特開平2−220061号公報に記載され
ている。
【0096】
【発明の効果】本発明の湿し水不要感光性平版印刷版
は、ポジ型またはネガ型の両方に使用可能なヒートモー
ド型直接製版用湿し水不要平版印刷版であり、近赤外か
ら赤外に発光領域を持つ固体レーザ・半導体レーザを用
いてコンピュータ等のデジタル信号から直接製版が可能
である。
は、ポジ型またはネガ型の両方に使用可能なヒートモー
ド型直接製版用湿し水不要平版印刷版であり、近赤外か
ら赤外に発光領域を持つ固体レーザ・半導体レーザを用
いてコンピュータ等のデジタル信号から直接製版が可能
である。
【0097】
(基板の作成)厚さ0.24mmの2Sアルミニウム板を8
0℃に保った第三燐酸ナトリウムの10%水溶液に3分
間浸漬して脱脂し、ナイロンブラシで砂目立てした後、
アルミン酸ナトリウムで約10分間エッチングして、硫
酸水素ナトリウム3%水溶液でデスマット処理を行っ
た。このアルミニウム板を20%硫酸中で電流密度2A
/dm2 で2分間陽極酸化を行った。
0℃に保った第三燐酸ナトリウムの10%水溶液に3分
間浸漬して脱脂し、ナイロンブラシで砂目立てした後、
アルミン酸ナトリウムで約10分間エッチングして、硫
酸水素ナトリウム3%水溶液でデスマット処理を行っ
た。このアルミニウム板を20%硫酸中で電流密度2A
/dm2 で2分間陽極酸化を行った。
【0098】(カーボンブラック分散液の作成)下記重
量比による組成物をガラスビーズにより10分間分散
し、カーボンブラック分散液を得た。 カーボンブラック 1重量部 ベンジルメタクリレート/メタクリル酸共重合体 1.6重量部 (モル比72/28,重量平均分子量7万) シクロヘキサノン 1.6重量部 メトキシプロピルアセテート 3.8重量部
量比による組成物をガラスビーズにより10分間分散
し、カーボンブラック分散液を得た。 カーボンブラック 1重量部 ベンジルメタクリレート/メタクリル酸共重合体 1.6重量部 (モル比72/28,重量平均分子量7万) シクロヘキサノン 1.6重量部 メトキシプロピルアセテート 3.8重量部
【0099】(感光層)上記アルミニウム板上に、下記
組成の感光液を塗布し、80℃で2分間乾燥した。乾燥
後の重量は2g/m2 であった。 前記のカーボンブラック分散液 10重量部 表−1のエノールエーテル化合物 3重量部 表−1の酸前駆体 0.3重量部 メチルメタクリレート/メタクリル酸の共重合体 10重量部 (モル比70/30,重量平均分子量3万) MCF323 0.1重量部 (大日本インキ化学工業(株)製、界面活性剤) メチルエチルケトン 50重量部
組成の感光液を塗布し、80℃で2分間乾燥した。乾燥
後の重量は2g/m2 であった。 前記のカーボンブラック分散液 10重量部 表−1のエノールエーテル化合物 3重量部 表−1の酸前駆体 0.3重量部 メチルメタクリレート/メタクリル酸の共重合体 10重量部 (モル比70/30,重量平均分子量3万) MCF323 0.1重量部 (大日本インキ化学工業(株)製、界面活性剤) メチルエチルケトン 50重量部
【0100】(シリコーンゴム層)上記感光層上に、下
記のシリコーンゴム組成液を乾燥重量2g/m2 になる
よう塗布し、100℃、2分間乾燥した。 ・α,ω−ジビニルポリジメチルシロキサン(重合度約700) 9重量部 ・(CH3)3-Si-O-(SiH(CH3)-O)8-Si(CH3)3 0.5重量部 ・ポリジメチルシロキサン(重合度約8,000) 0.5重量部 ・オレフィン−塩化白金酸 0.2重量部 ・抑制剤(CH2=CHSi(CH3)2OSi(CH3)3) 0.3重量部 ・アイソパーE(エッソ化学(株)製) 140重量部 上記のようにして得られたシリコーンゴム層の表面に、
厚さ9μmの二軸延伸ポリプロピレンフィルムをラミネ
ートし、湿し水不要感光性平版印刷版を得た。
記のシリコーンゴム組成液を乾燥重量2g/m2 になる
よう塗布し、100℃、2分間乾燥した。 ・α,ω−ジビニルポリジメチルシロキサン(重合度約700) 9重量部 ・(CH3)3-Si-O-(SiH(CH3)-O)8-Si(CH3)3 0.5重量部 ・ポリジメチルシロキサン(重合度約8,000) 0.5重量部 ・オレフィン−塩化白金酸 0.2重量部 ・抑制剤(CH2=CHSi(CH3)2OSi(CH3)3) 0.3重量部 ・アイソパーE(エッソ化学(株)製) 140重量部 上記のようにして得られたシリコーンゴム層の表面に、
厚さ9μmの二軸延伸ポリプロピレンフィルムをラミネ
ートし、湿し水不要感光性平版印刷版を得た。
【0101】得られた印刷版を、版面出力2Wに調節し
たYAGレーザで露光した後、ラミネートされたフィル
ムを剥離し、トリプロピレングリコールの40℃の液に
印刷版を1分間浸漬し水中で現像パッドによりこすった
ところ、いずれの実施例の印刷版においても、露光部で
はシリコーンゴム層が残存し、未露光部では感光層が露
出したポジ型の湿し水不要平版印刷版か得られた。
たYAGレーザで露光した後、ラミネートされたフィル
ムを剥離し、トリプロピレングリコールの40℃の液に
印刷版を1分間浸漬し水中で現像パッドによりこすった
ところ、いずれの実施例の印刷版においても、露光部で
はシリコーンゴム層が残存し、未露光部では感光層が露
出したポジ型の湿し水不要平版印刷版か得られた。
【0102】
【表1】 表−1 エノールエーテル化合物 酸前駆体 実施例1 II−11 IX−2 実施例2 VI−3 IX−2 実施例3 II−11 VII −2 実施例4 II−11 VIII−2実施例5 II−11 XI−8
【0103】比較例1 実施例1の感光液組成中、カーボンブラック分散液の代
わりに油溶性染料(ビクトリアピュアブルーBOH)1.
25重量部を用いた以外は実施例1と同様にして、湿し
水不要感光性平版印刷版を作成した。この湿し水不要感
光性平版印刷版を実施例1と同様に露光、現像処理した
ところ、シリコーンゴム層が全面で剥離し、画像が得ら
れなかった。
わりに油溶性染料(ビクトリアピュアブルーBOH)1.
25重量部を用いた以外は実施例1と同様にして、湿し
水不要感光性平版印刷版を作成した。この湿し水不要感
光性平版印刷版を実施例1と同様に露光、現像処理した
ところ、シリコーンゴム層が全面で剥離し、画像が得ら
れなかった。
【0104】実施例6 実施例1で用いたカーボンブラック分散液10重量部の
代わりに下記染料( 0.02 重量部)を用い、実施例1と
同様の操作により感光性平版印刷版を作成した。 染料:2,6-ジ-t- ブチル-4-[5-(2,6- ジ-t- ブチル-4H-
チオピラン-4- イリデン)-ペンタ-1,3- ジエニル] チオ
ピリリウムテトラフルオロボレート(米国特許第4,2
83,475号記載の化合物) 得られた感光性平版印刷版を半導体レーザ(波長825 n
m、スポット径:1/e2 =11.9 μm)を用い、線速度8m/se
c、版面出力110mW で露光した。実施例1と同様の現像
処理を行ったところ、ポジ型の湿し水不要平版印刷版が
得られた。
代わりに下記染料( 0.02 重量部)を用い、実施例1と
同様の操作により感光性平版印刷版を作成した。 染料:2,6-ジ-t- ブチル-4-[5-(2,6- ジ-t- ブチル-4H-
チオピラン-4- イリデン)-ペンタ-1,3- ジエニル] チオ
ピリリウムテトラフルオロボレート(米国特許第4,2
83,475号記載の化合物) 得られた感光性平版印刷版を半導体レーザ(波長825 n
m、スポット径:1/e2 =11.9 μm)を用い、線速度8m/se
c、版面出力110mW で露光した。実施例1と同様の現像
処理を行ったところ、ポジ型の湿し水不要平版印刷版が
得られた。
【0105】実施例7 実施例1で用いたシリコーンゴム層の代わりに、下記組
成よりなるシリコーンゴム液を乾燥重量2g/m2 とな
るように実施例1の感光層上に塗布し、100℃、2分
間乾燥させ、カバーフィルムを設けて湿し水不要感光性
平版印刷版を作成した。 ・両末端に水酸基を有するジメチルポリシロキサン(重合度700) 9重量部 ・メチルトリアセトキシシラン 0.3重量部 ・トリメトキシシリルプロピル−3, 5− ジアリルイソシアヌレート 0.3重量部 ・ジブチル錫ジオクタノエート 0.03重量部 ・アイソパーE(エッソ化学(株)製) 160重量部 この印刷版を実施例1と同様に露光、現像処理を行った
ところ、ポジ型の湿し水不要平版印刷版が得られた。
成よりなるシリコーンゴム液を乾燥重量2g/m2 とな
るように実施例1の感光層上に塗布し、100℃、2分
間乾燥させ、カバーフィルムを設けて湿し水不要感光性
平版印刷版を作成した。 ・両末端に水酸基を有するジメチルポリシロキサン(重合度700) 9重量部 ・メチルトリアセトキシシラン 0.3重量部 ・トリメトキシシリルプロピル−3, 5− ジアリルイソシアヌレート 0.3重量部 ・ジブチル錫ジオクタノエート 0.03重量部 ・アイソパーE(エッソ化学(株)製) 160重量部 この印刷版を実施例1と同様に露光、現像処理を行った
ところ、ポジ型の湿し水不要平版印刷版が得られた。
【0106】実施例8 〔ネガ型湿し水不要感光性平版印刷版の作成〕実施例1
で作成したアルミニウム基板に実施例1の感光液を塗布
し120℃で10分間乾燥して感光層を形成した。その
感光層上に、実施例1と同様にしてシリコーンゴム層の
形成、フィルムのラミネートを行い湿し水不要感光性平
版印刷版を作成した。得られた印刷版を、版面出力2W
に調節したYAGレーザで露光した後、ラミネートされ
たフィルムを剥離し、トリプロピレングリコールの40
℃の液に印刷版を1分間浸漬し、水中で現像パッドによ
りこすったところ、未露光部ではシリコーンゴム層が残
存し、露光部では感光層が露出したネガ型湿し水不要平
版印刷版が得られた。
で作成したアルミニウム基板に実施例1の感光液を塗布
し120℃で10分間乾燥して感光層を形成した。その
感光層上に、実施例1と同様にしてシリコーンゴム層の
形成、フィルムのラミネートを行い湿し水不要感光性平
版印刷版を作成した。得られた印刷版を、版面出力2W
に調節したYAGレーザで露光した後、ラミネートされ
たフィルムを剥離し、トリプロピレングリコールの40
℃の液に印刷版を1分間浸漬し、水中で現像パッドによ
りこすったところ、未露光部ではシリコーンゴム層が残
存し、露光部では感光層が露出したネガ型湿し水不要平
版印刷版が得られた。
【0107】比較例2 実施例8の感光液組成中カーボンブラック分散液の代わ
りに油溶性染料(ビクトリアピュアブルーBOH)1.2
5重量部を用いた以外は実施例8と同様にして、湿し水
不要平版印刷版を作成した。この印刷版を実施例8と同
様に露光、現像処理したところシリコーンゴム層が全面
で剥離せず画像が得られなかった。
りに油溶性染料(ビクトリアピュアブルーBOH)1.2
5重量部を用いた以外は実施例8と同様にして、湿し水
不要平版印刷版を作成した。この印刷版を実施例8と同
様に露光、現像処理したところシリコーンゴム層が全面
で剥離せず画像が得られなかった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G03F 7/033 G03F 7/033
Claims (1)
- 【請求項1】 支持体上に、感光層、シリコーンゴム層
をこの順に積層してなり、該感光層が少なくとも (a)一般式(I)で示されるエノールエーテル基を少な
くとも2個有する化合物、 (b) 線状高分子化合物 (c) 赤外線吸収剤 (d) 酸前駆体 を含有することを特徴とする湿し水不要感光性平版印刷
版。 (R1 )(R2 )C=C(R3 )−O− (I) (式中、R1 、R2 、R3 はそれぞれ独立に水素、アル
キル基又はアリール基を表す。また、それらの内の2つ
が結合して飽和又はオレフィン性不飽和の環を形成して
もよい。)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7231675A JPH0980745A (ja) | 1995-09-08 | 1995-09-08 | 湿し水不要感光性平版印刷版 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7231675A JPH0980745A (ja) | 1995-09-08 | 1995-09-08 | 湿し水不要感光性平版印刷版 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0980745A true JPH0980745A (ja) | 1997-03-28 |
Family
ID=16927229
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7231675A Pending JPH0980745A (ja) | 1995-09-08 | 1995-09-08 | 湿し水不要感光性平版印刷版 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0980745A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11160860A (ja) * | 1997-11-28 | 1999-06-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | ポジ型画像形成材料 |
-
1995
- 1995-09-08 JP JP7231675A patent/JPH0980745A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11160860A (ja) * | 1997-11-28 | 1999-06-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | ポジ型画像形成材料 |
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