JPH0981907A - 磁気ヘッド - Google Patents
磁気ヘッドInfo
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- JPH0981907A JPH0981907A JP23296295A JP23296295A JPH0981907A JP H0981907 A JPH0981907 A JP H0981907A JP 23296295 A JP23296295 A JP 23296295A JP 23296295 A JP23296295 A JP 23296295A JP H0981907 A JPH0981907 A JP H0981907A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 磁気ヘッドの磁気ギャップの位置を認識しや
すくして、磁気ヘッドのマウントの際の作業性を改善
し、生産性を向上させる。 【解決手段】 それぞれ第1および第2の非磁性基板に
より金属磁性層を挟み込んで成る対の磁気コア半体が、
金属磁性層の端面同士を対向させて突き合わされ、これ
ら金属磁性層の突き合わせ端面間に磁気ギャップが形成
され、磁気コア半体の各金属磁性層は、第1の非磁性基
板に非磁性下地層を介して被着形成され、各磁気コア半
体の第2の非磁性基板が第1の非磁性基板上の金属磁性
層上に接合層を介して接合され、対の磁気コア半体が突
き合わされた状態で、一方の磁気コア半体の非磁性下地
層ともう一方の磁気コア半体の接合層とが相対向するよ
うに配置され、非磁性下地層と接合層とが互いに異なる
厚さに選定された磁気ヘッドを構成する。
すくして、磁気ヘッドのマウントの際の作業性を改善
し、生産性を向上させる。 【解決手段】 それぞれ第1および第2の非磁性基板に
より金属磁性層を挟み込んで成る対の磁気コア半体が、
金属磁性層の端面同士を対向させて突き合わされ、これ
ら金属磁性層の突き合わせ端面間に磁気ギャップが形成
され、磁気コア半体の各金属磁性層は、第1の非磁性基
板に非磁性下地層を介して被着形成され、各磁気コア半
体の第2の非磁性基板が第1の非磁性基板上の金属磁性
層上に接合層を介して接合され、対の磁気コア半体が突
き合わされた状態で、一方の磁気コア半体の非磁性下地
層ともう一方の磁気コア半体の接合層とが相対向するよ
うに配置され、非磁性下地層と接合層とが互いに異なる
厚さに選定された磁気ヘッドを構成する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えばVTR(ビ
デオテープレコーダ)、デジタルデータレコーダ等の磁
気記録再生装置に用いて有用な磁気ヘッドに係わる。
デオテープレコーダ)、デジタルデータレコーダ等の磁
気記録再生装置に用いて有用な磁気ヘッドに係わる。
【0002】
【従来の技術】例えばVTR(ビデオテープレコーダ)
などの磁気記録再生装置においては、高画質化などを目
的として情報信号の短波長記録化が進められており、こ
れに対応して磁性粉に強磁性粉末を用いたいわゆるメタ
ルテープや、ベースフィルム上に強磁性金属材料を直接
被着した蒸着テープ等の高抗磁力磁気記録媒体が使用さ
れるようになってきている。
などの磁気記録再生装置においては、高画質化などを目
的として情報信号の短波長記録化が進められており、こ
れに対応して磁性粉に強磁性粉末を用いたいわゆるメタ
ルテープや、ベースフィルム上に強磁性金属材料を直接
被着した蒸着テープ等の高抗磁力磁気記録媒体が使用さ
れるようになってきている。
【0003】一方、これに対処するために磁気ヘッドの
分野においても研究が進められ、高抗磁力磁気記録媒体
を実現するために、コア材料に金属磁性材料を用いると
ともに、狭トラック化および狭ギャップ化を図った磁気
ヘッドが開発されている。
分野においても研究が進められ、高抗磁力磁気記録媒体
を実現するために、コア材料に金属磁性材料を用いると
ともに、狭トラック化および狭ギャップ化を図った磁気
ヘッドが開発されている。
【0004】このような磁気ヘッドとしては、非磁性材
料からなる基板に、高透磁率かつ高飽和磁束密度を有す
る金属磁性層を挟み込んだ構造の、いわゆるラミネート
タイプの磁気ヘッドが知られている。
料からなる基板に、高透磁率かつ高飽和磁束密度を有す
る金属磁性層を挟み込んだ構造の、いわゆるラミネート
タイプの磁気ヘッドが知られている。
【0005】図15Aおよび図15Bにこのラミネート
タイプの磁気ヘッドの例を示す。図15Aは磁気ヘッド
の斜視図、図15Bは磁気ヘッドの磁気記録媒体と対接
ないしは対向させる面(以下摺動面という)の拡大正面
図である。
タイプの磁気ヘッドの例を示す。図15Aは磁気ヘッド
の斜視図、図15Bは磁気ヘッドの磁気記録媒体と対接
ないしは対向させる面(以下摺動面という)の拡大正面
図である。
【0006】この磁気ヘッドを構成する磁気コアは閉磁
路を構成する一対の磁気コア半体51および52が突き
合わされて接合一体化され、磁気記録媒体との摺動面5
3に臨んでコア半体51および52の前方の突き合わせ
面間に磁気ギャップgを構成している。この磁気ギャッ
プgは、例えば再生ヘッドの場合、そのギャップ長が記
録波長の1/2〜1/3の長さになるように形成され
る。
路を構成する一対の磁気コア半体51および52が突き
合わされて接合一体化され、磁気記録媒体との摺動面5
3に臨んでコア半体51および52の前方の突き合わせ
面間に磁気ギャップgを構成している。この磁気ギャッ
プgは、例えば再生ヘッドの場合、そのギャップ長が記
録波長の1/2〜1/3の長さになるように形成され
る。
【0007】磁気コア半体51および52は、金属磁性
層54および55が非磁性ガード材57と58、59と
60によってそれぞれ挟み込まれてなる。
層54および55が非磁性ガード材57と58、59と
60によってそれぞれ挟み込まれてなる。
【0008】そして、磁気コア半体51および52同士
の突き合わせ端面においては、図15Aおよび図15B
に示すように、その金属磁性層54および55の端部が
突き合わされることによりその突き合わせ端面間に磁気
ギャップgが構成されている。従って、この磁気ギャッ
プgのトラック幅は、金属磁性層54および55の膜厚
によって設定される。
の突き合わせ端面においては、図15Aおよび図15B
に示すように、その金属磁性層54および55の端部が
突き合わされることによりその突き合わせ端面間に磁気
ギャップgが構成されている。従って、この磁気ギャッ
プgのトラック幅は、金属磁性層54および55の膜厚
によって設定される。
【0009】また、磁気コア半体51および52の突き
合わせ面には、磁気ギャップgのデプスDpを規制する
とともにコイルを巻装するための巻線溝56が形成さ
れ、巻線溝56の摺動面53側には補強ガラス71が充
填されている。
合わせ面には、磁気ギャップgのデプスDpを規制する
とともにコイルを巻装するための巻線溝56が形成さ
れ、巻線溝56の摺動面53側には補強ガラス71が充
填されている。
【0010】この磁気ヘッドにおいては、金属磁性層5
4および55の膜厚が磁気ギャップgのトラック幅とな
るものであるため、金属磁性層の膜厚を制御することで
簡単に狭トラック化が図れること、また構造的に疑似ギ
ャップが発生しないことの利点があり、さらに図15B
に示すように、この金属磁性層をSiO2 、Al
2 O 3 、Si3 N4 等の酸化物や窒化物のような電気絶
縁膜54´および55´と交互に積層した積層膜構造と
することで渦電流損失を回避でき高周波帯域での高出力
化が望めること等、様々な利点を有するものである。
4および55の膜厚が磁気ギャップgのトラック幅とな
るものであるため、金属磁性層の膜厚を制御することで
簡単に狭トラック化が図れること、また構造的に疑似ギ
ャップが発生しないことの利点があり、さらに図15B
に示すように、この金属磁性層をSiO2 、Al
2 O 3 、Si3 N4 等の酸化物や窒化物のような電気絶
縁膜54´および55´と交互に積層した積層膜構造と
することで渦電流損失を回避でき高周波帯域での高出力
化が望めること等、様々な利点を有するものである。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】ところで、VTR等の
磁気記録再生装置に用いられる磁気ヘッドは、回転ドラ
ムに高精度にマウントされる。このマウントする際の位
置決めは、光学顕微鏡を用いて磁気ギャップgの位置を
判別して行っている。具体的には、例えばギャップ材が
SiO2 、ギャップ形成コアが金属であれば、ギャップ
では光が透過し、その周囲のコアでは光が反射するので
ギャップとその周囲とで光の反射率が異なり、これによ
り磁気ギャップの位置を判別する。
磁気記録再生装置に用いられる磁気ヘッドは、回転ドラ
ムに高精度にマウントされる。このマウントする際の位
置決めは、光学顕微鏡を用いて磁気ギャップgの位置を
判別して行っている。具体的には、例えばギャップ材が
SiO2 、ギャップ形成コアが金属であれば、ギャップ
では光が透過し、その周囲のコアでは光が反射するので
ギャップとその周囲とで光の反射率が異なり、これによ
り磁気ギャップの位置を判別する。
【0012】ところが、上述のラミネートタイプの磁気
ヘッドの場合は、狭ギャップ化によって顕微鏡での像が
小さくなり、磁気ギャップgの位置が判別しにくくなっ
て来ている。特にギャップ材に金等の貴金属を用いた磁
気ヘッドにおいては、ギャップ材とコアとの反射率の差
が小さいために、さらにその判別が困難である。このよ
うに磁気ギャップgの位置が判別しにくいことにより、
磁気ヘッドを回転ドラムにマウントする際の作業性が低
下するという問題があった。
ヘッドの場合は、狭ギャップ化によって顕微鏡での像が
小さくなり、磁気ギャップgの位置が判別しにくくなっ
て来ている。特にギャップ材に金等の貴金属を用いた磁
気ヘッドにおいては、ギャップ材とコアとの反射率の差
が小さいために、さらにその判別が困難である。このよ
うに磁気ギャップgの位置が判別しにくいことにより、
磁気ヘッドを回転ドラムにマウントする際の作業性が低
下するという問題があった。
【0013】上述した問題の解決のために、本発明にお
いては、磁気ヘッドの磁気ギャップの位置を認識しやす
くして、マウントの際の作業性を改善し、生産性を向上
させるものである。
いては、磁気ヘッドの磁気ギャップの位置を認識しやす
くして、マウントの際の作業性を改善し、生産性を向上
させるものである。
【0014】
【課題を解決するための手段】本発明の磁気ヘッドは、
それぞれ第1および第2の非磁性基板により金属磁性層
を挟み込んで成る対の磁気コア半体が、金属磁性層の端
面同士を対向させて突き合わされ、これら金属磁性層の
突き合わせ端面間に磁気ギャップが形成され、磁気コア
半体の各金属磁性層は、第1の非磁性基板に非磁性下地
層を介して被着形成され、各磁気コア半体の第2の非磁
性基板が第1の非磁性基板上の金属磁性層上に接合層を
介して接合され、対の磁気コア半体が突き合わされた状
態で、一方の磁気コア半体の非磁性下地層ともう一方の
磁気コア半体の接合層とが相対向するように配置され、
非磁性下地層と接合層とが互いに異なる厚さに選定され
た構成とする。
それぞれ第1および第2の非磁性基板により金属磁性層
を挟み込んで成る対の磁気コア半体が、金属磁性層の端
面同士を対向させて突き合わされ、これら金属磁性層の
突き合わせ端面間に磁気ギャップが形成され、磁気コア
半体の各金属磁性層は、第1の非磁性基板に非磁性下地
層を介して被着形成され、各磁気コア半体の第2の非磁
性基板が第1の非磁性基板上の金属磁性層上に接合層を
介して接合され、対の磁気コア半体が突き合わされた状
態で、一方の磁気コア半体の非磁性下地層ともう一方の
磁気コア半体の接合層とが相対向するように配置され、
非磁性下地層と接合層とが互いに異なる厚さに選定され
た構成とする。
【0015】また本発明の他の磁気ヘッドは、それぞれ
第1および第2の非磁性基板により金属磁性層を挟み込
んで成る対の磁気コア半体が、金属磁性層の端面同士を
対向させて突き合わされ、これら金属磁性層の突き合わ
せ端面間に磁気ギャップが形成され、磁気コア半体の各
金属磁性層は、第1の非磁性基板に非磁性下地層を介し
て被着形成され、各磁気コア半体の第2の非磁性基板が
第1の非磁性基板上の金属磁性層上に接合層を介して接
合され、対の磁気コア半体が突き合わされた状態で、一
方の磁気コア半体の非磁性下地層ともう一方の磁気コア
半体の接合層とが相対向するように配置され、非磁性下
地層と接合層とは互いに異なる材料層により構成されて
成る。
第1および第2の非磁性基板により金属磁性層を挟み込
んで成る対の磁気コア半体が、金属磁性層の端面同士を
対向させて突き合わされ、これら金属磁性層の突き合わ
せ端面間に磁気ギャップが形成され、磁気コア半体の各
金属磁性層は、第1の非磁性基板に非磁性下地層を介し
て被着形成され、各磁気コア半体の第2の非磁性基板が
第1の非磁性基板上の金属磁性層上に接合層を介して接
合され、対の磁気コア半体が突き合わされた状態で、一
方の磁気コア半体の非磁性下地層ともう一方の磁気コア
半体の接合層とが相対向するように配置され、非磁性下
地層と接合層とは互いに異なる材料層により構成されて
成る。
【0016】上述の本発明の構成によれば、非磁性下地
層と接合層について、非磁性下地層と接合層とが異なる
厚さに形成されたことにより、あるいは非磁性下地層お
よび接合層をそれぞれ構成する材料を異なる材料とする
ことにより、ギャップ面と同一面上にある非磁性下地層
のエッジ部が容易に判別できるため、磁気ギャップの位
置を正確かつ容易に判別することができる。
層と接合層について、非磁性下地層と接合層とが異なる
厚さに形成されたことにより、あるいは非磁性下地層お
よび接合層をそれぞれ構成する材料を異なる材料とする
ことにより、ギャップ面と同一面上にある非磁性下地層
のエッジ部が容易に判別できるため、磁気ギャップの位
置を正確かつ容易に判別することができる。
【0017】
【発明の実施の形態】本発明の磁気ヘッドは、それぞれ
第1および第2の非磁性基板により金属磁性層を挟み込
んで成る対の磁気コア半体が、金属磁性層の端面同士を
対向させて突き合わされ、これら金属磁性層の突き合わ
せ端面間に磁気ギャップが形成される。各磁気コア半体
の各金属磁性層は、第1の非磁性基板に非磁性下地層を
介して被着形成され、各磁気コア半体の第2の非磁性基
板が第1の非磁性基板上の金属磁性層上に接合層を介し
て接合され、対の磁気コア半体が突き合わされた状態
で、一方の磁気コア半体の非磁性下地層ともう一方の磁
気コア半体の接合層とが相対向するように配置された構
造とし、さらに非磁性下地層と接合層の厚さを互いに異
ならせたものである。
第1および第2の非磁性基板により金属磁性層を挟み込
んで成る対の磁気コア半体が、金属磁性層の端面同士を
対向させて突き合わされ、これら金属磁性層の突き合わ
せ端面間に磁気ギャップが形成される。各磁気コア半体
の各金属磁性層は、第1の非磁性基板に非磁性下地層を
介して被着形成され、各磁気コア半体の第2の非磁性基
板が第1の非磁性基板上の金属磁性層上に接合層を介し
て接合され、対の磁気コア半体が突き合わされた状態
で、一方の磁気コア半体の非磁性下地層ともう一方の磁
気コア半体の接合層とが相対向するように配置された構
造とし、さらに非磁性下地層と接合層の厚さを互いに異
ならせたものである。
【0018】また、本発明の他の磁気ヘッドは、上述の
構成で非磁性下地層と接合層とをそれぞれ異なる材料で
構成するものである。
構成で非磁性下地層と接合層とをそれぞれ異なる材料で
構成するものである。
【0019】本発明による磁気ヘッドの一例を図1およ
び図2に示す。図1は磁気ヘッドの斜視図であり、図2
は図1の磁気ヘッドの磁気記録媒体との摺動面の拡大正
面図である。
び図2に示す。図1は磁気ヘッドの斜視図であり、図2
は図1の磁気ヘッドの磁気記録媒体との摺動面の拡大正
面図である。
【0020】この磁気ヘッドを構成する磁気コアは閉磁
路を構成する一対の磁気コア半体1および2が突き合わ
されて接合一体化され、磁気記録媒体との摺動面23に
臨む磁気ギャップgを構成している。
路を構成する一対の磁気コア半体1および2が突き合わ
されて接合一体化され、磁気記録媒体との摺動面23に
臨む磁気ギャップgを構成している。
【0021】磁気コア半体1および2は、例えばチタン
酸カルシウム(NiOを添加する場合もある)からなる
第1および第2の非磁性ガード材12aおよび12b
と、金属磁性層14とを有し、この金属磁性層14は第
1の非磁性基板としての第1の非磁性ガード材12aお
よび第2の非磁性基板としての第2の非磁性ガード材1
2bによって挟み込まれている。
酸カルシウム(NiOを添加する場合もある)からなる
第1および第2の非磁性ガード材12aおよび12b
と、金属磁性層14とを有し、この金属磁性層14は第
1の非磁性基板としての第1の非磁性ガード材12aお
よび第2の非磁性基板としての第2の非磁性ガード材1
2bによって挟み込まれている。
【0022】また、磁気コア半体1および2の突き合わ
せ端面には、磁気ギャップgのデプスDpを規制すると
ともにコイルを巻装するための巻線溝19が断面略コ字
状をなす溝としてコアの厚み方向に貫通して形成されて
いる。そして、巻線溝19上部には補強ガラス21が充
填されている。
せ端面には、磁気ギャップgのデプスDpを規制すると
ともにコイルを巻装するための巻線溝19が断面略コ字
状をなす溝としてコアの厚み方向に貫通して形成されて
いる。そして、巻線溝19上部には補強ガラス21が充
填されている。
【0023】一方、少なくとも一方の磁気コア半体1,
2の外側面に、上述の巻線溝19に巻装されるコイルの
巻装状態を確保するための例えば断面略コ字状の巻線ガ
イド溝24が設けられている。
2の外側面に、上述の巻線溝19に巻装されるコイルの
巻装状態を確保するための例えば断面略コ字状の巻線ガ
イド溝24が設けられている。
【0024】そしてこの磁気ヘッドにおいては、図2に
示すように、さらに金属磁性層14の両側に非磁性下地
層13および接合層20が形成された構成をとる。
示すように、さらに金属磁性層14の両側に非磁性下地
層13および接合層20が形成された構成をとる。
【0025】そして、磁気コア半体1および2の突き合
わせ端面においては、金属磁性層14の端部同士が突き
合わされることにより前述の磁気ギャップgが構成され
ている。磁気ギャップgのトラック幅は、非磁性ガード
材12a,12bおよび非磁性下地層13、接合層20
が非磁性体であることから、金属磁性層14の膜厚によ
って設定される。
わせ端面においては、金属磁性層14の端部同士が突き
合わされることにより前述の磁気ギャップgが構成され
ている。磁気ギャップgのトラック幅は、非磁性ガード
材12a,12bおよび非磁性下地層13、接合層20
が非磁性体であることから、金属磁性層14の膜厚によ
って設定される。
【0026】また図2に示すように、磁気コア半体1お
よび2の突き合わせ端面において、各磁気コア半体1お
よび2の各非磁性下地層13が互いに他の磁気コア半体
1および2の接合層20と対向する構成となっている。
よび2の突き合わせ端面において、各磁気コア半体1お
よび2の各非磁性下地層13が互いに他の磁気コア半体
1および2の接合層20と対向する構成となっている。
【0027】この非磁性下地層13を接合層20より厚
くして、磁気コア半体1および2の突き合わせ端面に、
非磁性下地層13の端面によるエッジEが生じるように
する。
くして、磁気コア半体1および2の突き合わせ端面に、
非磁性下地層13の端面によるエッジEが生じるように
する。
【0028】このエッジEは、前述のように磁気ヘッド
をマウントする際に光学顕微鏡で観察したときに、明瞭
に判別されるように、非磁性下地層13と接合層20と
の膜厚の差が0.2μm以上になるように各層の厚さを
選定する。
をマウントする際に光学顕微鏡で観察したときに、明瞭
に判別されるように、非磁性下地層13と接合層20と
の膜厚の差が0.2μm以上になるように各層の厚さを
選定する。
【0029】非磁性下地層13は、SiO2 やAl2 O
3 等の酸化物等の単層構造、あるいは密着性を考慮して
両側をCr,Tiで挟んだCr/SiO2 /Cr等の多
層構造とする。また非磁性下地層13は、Cr,Ti等
の非磁性金属により構成することもできる。
3 等の酸化物等の単層構造、あるいは密着性を考慮して
両側をCr,Tiで挟んだCr/SiO2 /Cr等の多
層構造とする。また非磁性下地層13は、Cr,Ti等
の非磁性金属により構成することもできる。
【0030】また金属磁性層14は、例えば次のような
材料により構成する。 (1)Fe−Al−Si,Fe−Ni−Al−Si,F
e−Ga−Si,Fe−Al−Ge等、およびそれらに
8原子%以下のCo,Ti,Cr,Nb,Mo,Ta,
Ru,Au,Pd,N,C,O等を1種または数種添加
した結晶質材料。 (2)Coに主としてZr,Ta,Ti,Hf,Mo,
Nb,Au,Pd,Ru等を1種または数種添加して構
成したアモルファス材料。 (3)Co,Feに主としてNi,Zr,Ta,Ti,
Hf,Mo,Nb,Si,Al,B,Ga,Ge,C
u,Sn,Ru,B等の1種または数種と、N,C,O
の1種または数種を添加して構成した微結晶材料。
材料により構成する。 (1)Fe−Al−Si,Fe−Ni−Al−Si,F
e−Ga−Si,Fe−Al−Ge等、およびそれらに
8原子%以下のCo,Ti,Cr,Nb,Mo,Ta,
Ru,Au,Pd,N,C,O等を1種または数種添加
した結晶質材料。 (2)Coに主としてZr,Ta,Ti,Hf,Mo,
Nb,Au,Pd,Ru等を1種または数種添加して構
成したアモルファス材料。 (3)Co,Feに主としてNi,Zr,Ta,Ti,
Hf,Mo,Nb,Si,Al,B,Ga,Ge,C
u,Sn,Ru,B等の1種または数種と、N,C,O
の1種または数種を添加して構成した微結晶材料。
【0031】なお、図2に示すようにこの金属磁性層1
4は、高周波帯域での渦電流発生を回避させるために、
例えばSiO2 ,Al2 O3 ,Si3 N4 等の酸化物や
窒化物などの電気的絶縁膜14´を介して積層させた積
層膜とすることもできる。
4は、高周波帯域での渦電流発生を回避させるために、
例えばSiO2 ,Al2 O3 ,Si3 N4 等の酸化物や
窒化物などの電気的絶縁膜14´を介して積層させた積
層膜とすることもできる。
【0032】接合層20は、融着ガラスあるいは金,
銀,パラジウム等の貴金属により形成した薄膜により構
成される。この接合層20は金属磁性層14との密着性
をよくするために、必要ならばCrやTi等の金属とこ
れらの材料とを積層させた構成とすることができる。
銀,パラジウム等の貴金属により形成した薄膜により構
成される。この接合層20は金属磁性層14との密着性
をよくするために、必要ならばCrやTi等の金属とこ
れらの材料とを積層させた構成とすることができる。
【0033】この例では、非磁性下地層13と接合層2
0との膜厚の差によってエッジEを生じさせることか
ら、これら2層の材料は光の反射率を考慮することな
く、上述の材料から選択することができるものである。
0との膜厚の差によってエッジEを生じさせることか
ら、これら2層の材料は光の反射率を考慮することな
く、上述の材料から選択することができるものである。
【0034】上述の磁気ヘッドは、例えば次のような方
法により製造する。図3に示すような両主面が鏡面加工
された、短冊状の非磁性基板12を用意する。
法により製造する。図3に示すような両主面が鏡面加工
された、短冊状の非磁性基板12を用意する。
【0035】図4Aに斜視図を示し、図4Bに図4Aの
A部の拡大図を示すように、この非磁性基板12の一方
の主面上にスパッタ法などの真空薄膜形成法により、非
磁性下地層13と、それぞれ絶縁膜14´を介して複数
の金属磁性層14を順次積層形成した、コア基板15を
構成する。
A部の拡大図を示すように、この非磁性基板12の一方
の主面上にスパッタ法などの真空薄膜形成法により、非
磁性下地層13と、それぞれ絶縁膜14´を介して複数
の金属磁性層14を順次積層形成した、コア基板15を
構成する。
【0036】次に図4Bに示すように、コア基板15の
金属磁性層14が形成された主面に接合層20をスパッ
タ法などにより形成する。このとき、形成される接合層
20の厚さは、先に形成した非磁性下地層13よりも薄
くなるように形成する。
金属磁性層14が形成された主面に接合層20をスパッ
タ法などにより形成する。このとき、形成される接合層
20の厚さは、先に形成した非磁性下地層13よりも薄
くなるように形成する。
【0037】その後、図5に示すように複数のコア基板
15を重ね合わせて、これらを加圧固定し熱処理を施し
接合一体化してコア体ブロック16を構成する。
15を重ね合わせて、これらを加圧固定し熱処理を施し
接合一体化してコア体ブロック16を構成する。
【0038】このコア体ブロック16を、図5中のA−
A´,B−B´,C−C´で示す面に沿って切断し、図
6に示すように互いに略対称な一対の磁気コア半体ブロ
ック17および18を作製する。
A´,B−B´,C−C´で示す面に沿って切断し、図
6に示すように互いに略対称な一対の磁気コア半体ブロ
ック17および18を作製する。
【0039】この磁気コア半体ブロック17および18
に対し、図7に示すようにその長手方向に沿って伸びる
巻線溝19を略コ字状の断面形状となるように形成す
る。
に対し、図7に示すようにその長手方向に沿って伸びる
巻線溝19を略コ字状の断面形状となるように形成す
る。
【0040】この後、磁気コア半体ブロック17および
18の巻線溝19が形成された側の面を鏡面加工する。
この鏡面加工をした研磨面に、ギャップ材兼接合層とし
て融着ガラス膜、あるいは金,銀,パラジウム等の貴金
属膜をスパッタ法等の真空薄膜形成法により被着形成す
る。
18の巻線溝19が形成された側の面を鏡面加工する。
この鏡面加工をした研磨面に、ギャップ材兼接合層とし
て融着ガラス膜、あるいは金,銀,パラジウム等の貴金
属膜をスパッタ法等の真空薄膜形成法により被着形成す
る。
【0041】そして、図8Aに斜視図を示し、図8Bに
図8AのB部の拡大図を示すように、磁気コア半体ブロ
ック17および18を、それぞれの金属磁性層14同士
が相対向するように突き合わせ、ガラス融着法あるいは
低温金属接合法により接合一体化させる。このように金
属磁性層14同士が相対向するように突き合わせると、
後に磁気ギャップが形成される接合部分においては、非
磁性下地層13と接合層20とが対向する構造となる。
そして非磁性下地層13と接合層20との膜厚の差によ
って、非磁性下地層13の接合部にエッジEが現れるこ
とになる。
図8AのB部の拡大図を示すように、磁気コア半体ブロ
ック17および18を、それぞれの金属磁性層14同士
が相対向するように突き合わせ、ガラス融着法あるいは
低温金属接合法により接合一体化させる。このように金
属磁性層14同士が相対向するように突き合わせると、
後に磁気ギャップが形成される接合部分においては、非
磁性下地層13と接合層20とが対向する構造となる。
そして非磁性下地層13と接合層20との膜厚の差によ
って、非磁性下地層13の接合部にエッジEが現れるこ
とになる。
【0042】尚、このときの熱処理工程において、図9
に示すように巻線溝19内にガラス棒を挿入配置し、こ
のガラス棒を溶融させて、巻線溝19内の上部に充填さ
せ補強ガラス21とする。この結果、各磁気コア半体ブ
ロック17および18にそれぞれ形成された金属磁性層
14の突き合わせ端面間に、記録再生ギャップとして動
作する磁気ギャップgが形成された磁気コアブロック2
2が形成される。
に示すように巻線溝19内にガラス棒を挿入配置し、こ
のガラス棒を溶融させて、巻線溝19内の上部に充填さ
せ補強ガラス21とする。この結果、各磁気コア半体ブ
ロック17および18にそれぞれ形成された金属磁性層
14の突き合わせ端面間に、記録再生ギャップとして動
作する磁気ギャップgが形成された磁気コアブロック2
2が形成される。
【0043】そして、図10に示すように、磁気コアブ
ロック22の外面にそれぞれ所要曲率をもった磁気記録
媒体との摺動面23を円筒研磨等により形成し、さらに
磁気コアブロック22の外面の巻線を回装する部分に巻
線ガイド溝24を形成する。
ロック22の外面にそれぞれ所要曲率をもった磁気記録
媒体との摺動面23を円筒研磨等により形成し、さらに
磁気コアブロック22の外面の巻線を回装する部分に巻
線ガイド溝24を形成する。
【0044】図11に示すように、摺動面23に、磁気
記録媒体への当たり幅規制溝25を形成する。その後、
図12に示すように点線で示すD−D´,E−E´,F
−F´,G−G´,H−H´の各線に沿う面において磁
気コアブロック22を切断して、図1および図2に示す
ような非磁性基板12で金属磁性層14を挟み込んだ磁
気コア半体1および2が突き合わされ、突き合わせ端面
間に磁気ギャップgが形成された構造の磁気ヘッドが形
成される。
記録媒体への当たり幅規制溝25を形成する。その後、
図12に示すように点線で示すD−D´,E−E´,F
−F´,G−G´,H−H´の各線に沿う面において磁
気コアブロック22を切断して、図1および図2に示す
ような非磁性基板12で金属磁性層14を挟み込んだ磁
気コア半体1および2が突き合わされ、突き合わせ端面
間に磁気ギャップgが形成された構造の磁気ヘッドが形
成される。
【0045】この構造のラミネートタイプの磁気ヘッド
は、狭ギャップ化しても、またギャップ材に貴金属を用
いてギャップの位置の判別がしにくい場合でも、ギャッ
プと同一面上にある非磁性下地層のエッジ部Eが存在す
ることから、このギャップ位置を容易にかつ正確に判別
することができる。
は、狭ギャップ化しても、またギャップ材に貴金属を用
いてギャップの位置の判別がしにくい場合でも、ギャッ
プと同一面上にある非磁性下地層のエッジ部Eが存在す
ることから、このギャップ位置を容易にかつ正確に判別
することができる。
【0046】続いて、本発明による磁気ヘッドの他の一
例について説明する。この例は、磁気コア半体1および
2の突き合わせ端面において、金属磁性層14の両外側
でそれぞれ非磁性下地層13および接合層20とが相対
向する構成において、非磁性下地層13と接合層20と
を異なる材料で構成する場合の例である。
例について説明する。この例は、磁気コア半体1および
2の突き合わせ端面において、金属磁性層14の両外側
でそれぞれ非磁性下地層13および接合層20とが相対
向する構成において、非磁性下地層13と接合層20と
を異なる材料で構成する場合の例である。
【0047】この例では図1に斜視図を示した構造の磁
気ヘッドにおいて、図13にその磁気記録媒体との摺動
面の拡大正面図を示すように、相対向する非磁性下地層
13と接合層20について、それぞれの厚さが同じであ
る一方、それぞれの層13、20を構成する材料が異な
るものである。
気ヘッドにおいて、図13にその磁気記録媒体との摺動
面の拡大正面図を示すように、相対向する非磁性下地層
13と接合層20について、それぞれの厚さが同じであ
る一方、それぞれの層13、20を構成する材料が異な
るものである。
【0048】この場合、例えば非磁性下地層13はSi
O2 ,Al2 O3 等の酸化物、接合層20は金等の貴金
属により構成することにより、これら2層の反射率が異
なり、磁気コア半体1および2の突き合わせ面におい
て、相対向するこれら2層によって、境界面がエッジE
として形成される。この場合も、前述の場合と同様に光
学顕微鏡で観察する際に、非磁性下地層13では光が透
過し接合層20では光が反射するので、このエッジEを
明瞭に識別することができ、これにより磁気ギャップg
の位置を確実に判別して、磁気ヘッドを精度良くマウン
トすることができる。
O2 ,Al2 O3 等の酸化物、接合層20は金等の貴金
属により構成することにより、これら2層の反射率が異
なり、磁気コア半体1および2の突き合わせ面におい
て、相対向するこれら2層によって、境界面がエッジE
として形成される。この場合も、前述の場合と同様に光
学顕微鏡で観察する際に、非磁性下地層13では光が透
過し接合層20では光が反射するので、このエッジEを
明瞭に識別することができ、これにより磁気ギャップg
の位置を確実に判別して、磁気ヘッドを精度良くマウン
トすることができる。
【0049】この場合の非磁性下地層13と接合層20
の材料の組み合わせは、反射率が異なりエッジEが明瞭
となるように選定される。従って、例えば次のような組
み合わせが考えられる。 1)非磁性下地層13を酸化物、接合層20を貴金属に
より形成する。(上述の例) 2)非磁性下地層13をCr,Ti等の非磁性金属、接
合層20をガラス等により形成する。
の材料の組み合わせは、反射率が異なりエッジEが明瞭
となるように選定される。従って、例えば次のような組
み合わせが考えられる。 1)非磁性下地層13を酸化物、接合層20を貴金属に
より形成する。(上述の例) 2)非磁性下地層13をCr,Ti等の非磁性金属、接
合層20をガラス等により形成する。
【0050】上述の各例の磁気ヘッドにおいては、先の
図4Aおよび図4Bに示したように接合層20を形成す
る際に、非磁性基板12に対して非磁性下地層13およ
び金属磁性層14と同一の基板12の主面側に形成する
構成とした。一方、この接合層20を形成するときに、
図14Aに図4AのA部の拡大図を示すように、非磁性
下地層13が形成された非磁性基板12の主面とは反対
側の非磁性基板12の主面に接合層20を形成すること
もできる。この場合も、同様にコア基板15を接合する
ことにより、図5に示すようにコア体ブロック16を形
成することができ、以後上述の例と同様の工程を採って
本発明の磁気ヘッドを構成することができる。
図4Aおよび図4Bに示したように接合層20を形成す
る際に、非磁性基板12に対して非磁性下地層13およ
び金属磁性層14と同一の基板12の主面側に形成する
構成とした。一方、この接合層20を形成するときに、
図14Aに図4AのA部の拡大図を示すように、非磁性
下地層13が形成された非磁性基板12の主面とは反対
側の非磁性基板12の主面に接合層20を形成すること
もできる。この場合も、同様にコア基板15を接合する
ことにより、図5に示すようにコア体ブロック16を形
成することができ、以後上述の例と同様の工程を採って
本発明の磁気ヘッドを構成することができる。
【0051】また図14Bに図4AのA部の拡大図を示
すように、非磁性基板12の両方の主面の側にそれぞれ
接合層20を形成しても同様にして本発明の磁気ヘッド
を構成することができる。
すように、非磁性基板12の両方の主面の側にそれぞれ
接合層20を形成しても同様にして本発明の磁気ヘッド
を構成することができる。
【0052】本発明の磁気ヘッドは、上述の例に限定さ
れるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲でそ
の他様々な構成が取り得る。
れるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲でそ
の他様々な構成が取り得る。
【0053】
【発明の効果】上述の本発明による磁気ヘッドによれ
ば、非磁性下地層と接合層の膜厚を異ならせることによ
り、磁気ヘッドの磁気ギャップの位置の認識が容易にな
る。
ば、非磁性下地層と接合層の膜厚を異ならせることによ
り、磁気ヘッドの磁気ギャップの位置の認識が容易にな
る。
【0054】また、本発明による他の磁気ヘッドによれ
ば、非磁性下地層と接合層をそれぞれ異なる材料により
構成することにより、同様に磁気ヘッドの磁気ギャップ
の位置の認識が容易になる。
ば、非磁性下地層と接合層をそれぞれ異なる材料により
構成することにより、同様に磁気ヘッドの磁気ギャップ
の位置の認識が容易になる。
【0055】従って本発明により、ラミネートタイプの
磁気ヘッドにおいて、磁気ヘッドの磁気ギャップの位置
の認識が容易になり、磁気ヘッドの製造の際に回転ドラ
ムに高精度にマウントすることができる。これにより作
業性が改善され、生産性の向上が図られる。
磁気ヘッドにおいて、磁気ヘッドの磁気ギャップの位置
の認識が容易になり、磁気ヘッドの製造の際に回転ドラ
ムに高精度にマウントすることができる。これにより作
業性が改善され、生産性の向上が図られる。
【図1】本発明の磁気ヘッドの一例の斜視図である。
【図2】図1の磁気ヘッドの磁気記録媒体との摺動面の
拡大正面図である。
拡大正面図である。
【図3】本発明の磁気ヘッドの一例の一製造工程を示す
斜視図である。
斜視図である。
【図4】A 本発明の磁気ヘッドの一例の一製造工程を
示す斜視図である。 B 図4AのA部の拡大図である。
示す斜視図である。 B 図4AのA部の拡大図である。
【図5】本発明の磁気ヘッドの一例の一製造工程を示す
斜視図である。
斜視図である。
【図6】本発明の磁気ヘッドの一例の一製造工程を示す
斜視図である。
斜視図である。
【図7】本発明の磁気ヘッドの一例の一製造工程を示す
斜視図である。
斜視図である。
【図8】A 本発明の磁気ヘッドの一例の一製造工程を
示す斜視図である。 B 図8AのB部の拡大図である。
示す斜視図である。 B 図8AのB部の拡大図である。
【図9】本発明の磁気ヘッドの一例の一製造工程を示す
斜視図である。
斜視図である。
【図10】本発明の磁気ヘッドの一例の一製造工程を示
す斜視図である。
す斜視図である。
【図11】本発明の磁気ヘッドの一例の一製造工程を示
す斜視図である。
す斜視図である。
【図12】本発明の磁気ヘッドの一例の一製造工程を示
す斜視図である。
す斜視図である。
【図13】図1の磁気ヘッドの磁気記録媒体との摺動面
の拡大正面図である。
の拡大正面図である。
【図14】A 図4AのA部の拡大図である。 B 図4AのA部の拡大図である。
【図15】従来の磁気ヘッドの例である。 A 磁気ヘッドの斜視図である。 B 磁気ヘッドの磁気記録媒体との摺動面の拡大正面図
である。
である。
【符号の説明】 1、2、51、52 磁気コア半体 12 非磁性基板 12a 第1の非磁性ガード材(非磁性基板) 12b 第2の非磁性ガード材(非磁性基板) 13 非磁性下地層 14、54、55 金属磁性層 14´、54´、55´ 絶縁膜 15 コア基板 16 コア体ブロック 17、18 磁気コア半体ブロック 19、56 巻線溝 20 接合層 21 接合ガラス 22 磁気コアブロック 23、53 摺動面 24、61 巻線ガイド溝 25 当たり幅規制溝 E エッジ g 磁気ギャップ 57、58、59、60 非磁性ガード材
Claims (4)
- 【請求項1】 それぞれ第1および第2の非磁性基板に
より金属磁性層を挟み込んで成る対の磁気コア半体が、
上記金属磁性層の端面同士を対向させて突き合わされ、
これら金属磁性層の突き合わせ端面間に磁気ギャップが
形成され、 上記磁気コア半体の上記各金属磁性層は、上記第1の非
磁性基板に非磁性下地層を介して被着形成され、 上記各磁気コア半体の上記第2の非磁性基板が上記第1
の非磁性基板上の上記金属磁性層上に接合層を介して接
合され、 上記対の磁気コア半体が突き合わされた状態で、一方の
磁気コア半体の上記非磁性下地層ともう一方の磁気コア
半体の上記接合層とが相対向するように配置され、 上記非磁性下地層と上記接合層とは、互いに異なる厚さ
に選定されたことを特徴とする磁気ヘッド。 - 【請求項2】 上記磁気ギャップを構成するギャップ材
が貴金属からなることを特徴とする請求項1に記載の磁
気ヘッド。 - 【請求項3】 上記非磁性下地層と上記接合層との厚さ
の差が0.2μm以上とされたことを特徴とする請求項
1に記載の磁気ヘッド。 - 【請求項4】 それぞれ第1および第2の非磁性基板に
より金属磁性層を挟み込んで成る対の磁気コア半体が、
上記金属磁性層の端面同士を対向させて突き合わされ、
これら金属磁性層の突き合わせ端面間に磁気ギャップが
形成され、 上記磁気コア半体の上記各金属磁性層は、上記第1の非
磁性基板に非磁性下地層を介して被着形成され、 上記各磁気コア半体の上記第2の非磁性基板が上記第1
の非磁性基板上の上記金属磁性層上に接合層を介して接
合され、 上記対の磁気コア半体が突き合わされた状態で、一方の
磁気コア半体の上記非磁性下地層ともう一方の磁気コア
半体の上記接合層とが相対向するように配置され、 上記非磁性下地層と上記接合層とは互いに異なる材料層
によって構成されたことを特徴とする磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23296295A JPH0981907A (ja) | 1995-09-11 | 1995-09-11 | 磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23296295A JPH0981907A (ja) | 1995-09-11 | 1995-09-11 | 磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0981907A true JPH0981907A (ja) | 1997-03-28 |
Family
ID=16947608
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23296295A Pending JPH0981907A (ja) | 1995-09-11 | 1995-09-11 | 磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0981907A (ja) |
-
1995
- 1995-09-11 JP JP23296295A patent/JPH0981907A/ja active Pending
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