JPH098463A - 多層プリント配線板、その製造方法、及び多層プリント配線板を用いた半導体装置 - Google Patents

多層プリント配線板、その製造方法、及び多層プリント配線板を用いた半導体装置

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JPH098463A
JPH098463A JP7151635A JP15163595A JPH098463A JP H098463 A JPH098463 A JP H098463A JP 7151635 A JP7151635 A JP 7151635A JP 15163595 A JP15163595 A JP 15163595A JP H098463 A JPH098463 A JP H098463A
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JP
Japan
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multilayer printed
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JP7151635A
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Inventor
Yasushi Mitou
恭史 御藤
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Panasonic Electric Works Co Ltd
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Matsushita Electric Works Ltd
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    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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    • H10W72/07551Connecting or disconnecting of bond wires characterised by changes in properties of the bond wires during the connecting
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  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 小型化、薄型化に対応した多層プリント配線
板、その製造方法、及び多層プリント配線板を用いた半
導体装置を提供する。 【構成】 多層プリント配線板は、複数の絶縁層1と、
この絶縁層1の少なくとも一層以上を貫通した窪み2を
有し、上記窪み2を構成する貫通孔12を有する第1の
絶縁層1aと、第1の絶縁層1aの内層面4aに異なる
電位が加わる複数のべた状の導電路層5と、反対側に入
力端子6と、貫通孔12の内壁3に金属メッキ路7と、
及び、メッキを削り取って第1の絶縁層1aを露出させ
た分離路9を備えている。製造方法は、第1の回路板に
形成された貫通孔の内壁に金属メッキを施す工程、上記
第1の回路板の同一の面に異なる電位のべた状の導電路
層を形成する工程、金属メッキ層の一部を削り取り、金
属メッキ路を形成する工程、入力端子を形成する工程、
及び、べた状の導電路層上にプリプレグを介して第2の
回路板を重ね、加熱成形する工程からなる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は電子機器に用いられる多
層プリント配線板、その製造方法、及び多層プリント配
線板を用いた半導体装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】半導体チップ等を多層プリント配線板に
搭載した半導体装置が知られている。上記プリント配線
板にあっては、半導体チップの周囲に信号回路と、電源
回路やアース回路等のべた状の導電路層を各層に形成
し、これらの入力端子と半導体チップをワイヤーで接続
して用いられる。近年の小型化、薄型化に伴い、多層プ
リント配線板の回路形成にあっては、少ない層数で多数
の信号回路とべた状の導電路層を有する多層プリント配
線板、及び、半導体装置が求められている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上述の事実に
鑑みてなされたもので、その目的とするところは、小型
化、薄型化に対応した多層プリント配線板、その製造方
法、及び多層プリント配線板を用いた半導体装置を提供
することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明の請求項1に係る
多層プリント配線板は、複数の絶縁層1と、この絶縁層
1の少なくとも一層以上を貫通した、半導体チップ搭載
用の窪み2を有する多層プリント配線板であって、上記
窪み2を構成する貫通孔12を有する第1の絶縁層1a
と、上記第1の絶縁層1aの内層面4aに形成された、
上記貫通孔12の端縁13に達する、異なる電位が加わ
る複数のべた状の導電路層5と、上記内層面4aと反対
側の第1の絶縁層1aの面4bに形成された、異なる電
位が加わる複数の入力端子6と、上記第1の絶縁層1a
の貫通孔12の内壁3に、上記べた状の導電路層5と入
力端子6を各々連接する金属メッキ路7と、及び、上記
第1の絶縁層1aの貫通孔12に、べた状の導電路層5
の境界に設けられた絶縁路8に連接し、メッキを削り取
って上記第1の絶縁層1aを露出させた分離路9を備え
ていることを特徴とする。
【0005】本発明の請求項2に係る多層プリント配線
板の製造方法は、半導体チップ搭載用の窪み2と、この
窪み2の周囲に異なる電位のべた状の導電路層5を有す
る多層プリント配線板を、下記の工程により作製するこ
とを特徴とする。上記工程は、第1の回路板11aに形
成された半導体チップ搭載用の貫通孔12の内壁3に金
属メッキを施す工程、上記第1の回路板11aの同一の
面であって、上記貫通孔12の端縁13に達する、異な
る電位のべた状の導電路層5を形成する工程、上記第1
の回路板11aの内壁3に形成された金属メッキ層のう
ち、上記べた状の導電路層5の境界に設けられた絶縁路
8と接する金属メッキ層を削り取り、上記べた状の導電
路層5と連接する金属メッキ路7を形成する工程、上記
第1の回路板11aの金属メッキ路7と連接する入力端
子6を、べた状の導電路層5と反対側の第1の回路板1
1a上に形成する工程、及び、上記第1の回路板11a
に形成されたべた状の導電路層5に、半導体チップ搭載
用の貫通孔12aを有するプリプレグ10を介して、第
2の回路板11bを重ね、加熱成形する工程からなる。
【0006】本発明の請求項3に係る半導体装置は、請
求項1記載の多層プリント配線板の窪み2の底に半導体
チップ14を搭載したことを特徴とする。
【0007】
【作用】本発明の請求項1に係る多層プリント配線板
は、異なる電位が加わる複数のべた状の導電路層5を第
1の絶縁層1aの内層面4aに形成し、上記第1の絶縁
層1aの貫通孔12の内壁3に、上記べた状の導電路層
5と入力端子6を各々連接する金属メッキ路7と、メッ
キを削り取って上記第1の絶縁層1aを露出させた分離
路9を備えているので、電位毎に別の層を設けずにすむ
ため、層数が少なくできる。
【0008】本発明の請求項2に係る多層プリント配線
板の製造方法は、第1の回路板11aの内壁3に形成さ
れた金属メッキ層のうち、上記べた状の導電路層5の境
界に設けられた絶縁路8と接する金属メッキ層を削り取
り、上記べた状の導電路層5と連接する金属メッキ路7
を形成するので、第1の回路板11aの同一の面に異な
る電位のべた状の導電路層5を形成することができるた
め、多層プリント配線板の層数を少なくできる。
【0009】本発明の請求項3に係る半導体装置は、請
求項1記載の層数の少ない多層プリント配線板を用い
て、異なる電位のべた状の導電路層5と半導体チップを
接続できる。
【0010】
【実施例】以下、本発明を図面に基づいて詳細に説明す
る。
【0011】図1(a)は本発明の一実施例に係る多層
プリント配線板の要部を拡大した断面図であり、(b)
は多層プリント配線板を構成する第1の絶縁層の要部を
拡大した斜視図であり、図2(a)は本発明の一実施例
に係る多層プリント配線板の製造方法で作製した第1の
回路板の一部破断した断面斜視図であり、(b)は本発
明の一実施例に係る多層プリント配線板の製造方法の工
程を示した要部断面図であり、図3は図1(a)の多層
プリント配線板を用いた半導体装置の断面図である。
【0012】本発明の多層プリント配線板は図1(a)
に示す如く、複数の絶縁層1と、この絶縁層1の少なく
とも一層以上を貫通した、半導体チップ搭載用の窪み2
を有する。上記絶縁層1は、基材に樹脂を含浸乾燥して
得られるプリプレグの樹脂を硬化させた基板が用いられ
る。上記樹脂としてはエポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、
フッソ樹脂、フェノール樹脂、不飽和ポリエステル樹
脂、PPO樹脂等の単独、変性物、混合物等が用いられ
る。上記基材としては、特に限定するものではないが、
ガラス繊維等の無機材料の方が耐熱性、耐湿性等に優れ
て好ましい。また、耐熱性に優れる有機繊維布基材及び
これらの混合物を用いることもできる。
【0013】図1(a)及び(b)に示す如く、本発明
の多層プリント配線板を構成する第1の絶縁層1aは、
上記窪み2を構成する貫通孔12を有すると共に、異な
る電位が加わるべた状の導電路層5を備える。図中5
a,5bは異なる電位が加わる導電路層5を示す。上記
べた状の導電路層5は、例えば、電源回路やアース回路
として利用されるものである。本発明においては、上記
複数のべた状の導電路層5a、5bが内層面4aとなる
同一の面に形成され、上記導電路層5a、5bの境界に
絶縁路8が設けられ、これら導電路層5a、5bは上記
貫通孔12の端縁13にまで達している。さらに、上記
第1の絶縁層1aの内層面4aと反対側の面4bに異な
る電位が加わる複数の入力端子6が形成されている。図
中6a,6bは異なる電位が加わる入力端子6を示す。
【0014】本発明においては、上記第1の絶縁層1a
の貫通孔12の内壁3に、上記べた状の導電路層5と入
力端子6を各々連接する金属メッキ路7と、及び、上記
絶縁路8に連接する分離路9を備えている。金属メッキ
路7aは導電路層5aと入力端子6aを連接し、金属メ
ッキ路7bは導電路層5bと入力端子6bを連接する。
上記金属メッキ路7は貫通孔12の内壁3に金属メッキ
を施すことにより形成される。上記金属メッキ路7の層
構成は、金属メッキ一層でも、複層でもよいが、内層に
銅メッキ層を外層に金メッキ層の複層構成が適する。上
記分離路9は、貫通孔12の内壁3に施した金属メッキ
を削り取ることにより形成される。
【0015】本発明の多層プリント配線板は、上記構成
により、電位毎に別の層を設けずに同一の面に複数の導
電路層5を備えるので、層数が少なくできるため、半導
体装置の小型化、薄型化を実現できる。
【0016】次に、本発明の多層プリント配線板の製造
方法を図2(a)及び(b)に基づいて説明する。
【0017】本発明は、半導体チップ搭載用の貫通孔1
2を有する第1の回路板11aの内壁3に金属メッキを
施す。上記金属メッキは、例えば、内層として銅メッキ
を外層として金メッキを施すメッキ方法が挙げられる。
【0018】本発明は、上記第1の回路板11aの同一
の面に、異なる電位のべた状の導電路層5を形成する。
上記べた状の導電路層5は、例えば、電源回路やアース
回路として利用されるものである。図中5a,5bは異
なる電位が加わる導電路層5を示す。上記導電路層5は
貫通孔12の端縁13に達するよう形成し、且つ、導電
路層5の境界に絶縁路8が形成されている。上記導電路
層5は、例えば、回路板11aに配設された金属箔をエ
ッチングすることにより形成される。さらに、上記第1
の回路板11aに、べた状の導電路層5と反対側の面に
複数の入力端子6を形成する。上記入力端子6a、6b
は異なる電位が加わる入力端子6を示し、搭載する半導
体チップ等と接続される。上記入力端子6は、例えば、
回路板11aに配設された金属箔をエッチングすること
により形成される。
【0019】本発明においては、上記第1の回路板11
aの内壁3に形成された金属メッキ層のうち、上記べた
状の導電路層5の境界に設けられた絶縁路8と接する金
属メッキ層を削り取り、第1の絶縁層1aを露出させる
ことにより、べた状の導電路層5と入力端子6を、各々
連接する金属メッキ路7を内壁3に形成する。金属メッ
キ路7aは導電路層5aと入力端子6aを、金属メッキ
路7bは導電路層5bと入力端子6bを連接するように
形成する。上記金属メッキ層を削り取る場合、第1の絶
縁層1aの露出を確実にするため、絶縁層1aの表層も
削り取ることが好ましい。上記金属メッキ層の削り取る
方法は、例えば、ルーターによる切削でもよく、金型に
よる打ち抜きによってもよい。なお、上記第1の回路板
11aを作製する工程の作製順序は特に限定されない。
【0020】次に、図2(a)に示す如く、上記第1の
回路板11aに形成されたべた状の導電路層5に、半導
体チップ搭載用の貫通孔12aを有するプリプレグ10
を介して、第2の回路板11bを重ね、加熱成形する
と、べた状の導電路層5を内層回路として有する多層プ
リント配線板が作製される。
【0021】本発明の多層プリント配線板の製造方法
は、上記工程によって作製されるので、電位毎に別の層
を形成する必要がなく、同一の面に複数の導電路層5を
形成するため、層数を少なくできる。従って、半導体装
置の小型化、薄型化を実現する多層プリント配線板が得
られる。
【0022】なお、上記多層プリント配線板、及び、そ
の製造方法は上記実施例に限定されない。第1の絶縁層
1aとなる第1の回路板11aを外層材として用いた
が、内層材としてもよい。(図示せず) 上記多層プリント配線板は、図3に示す如く、窪み2の
底に半導体チップ14を搭載し、この半導体チップ14
と、入力端子6をワイヤー15でワイヤボンデングし
て、半導体装置として用いられる。上記半導体装置は、
ピンを用いたピングリッドアレイ(PGA型)、リード
フレイムを用いたクアドラフラットパッケージ(QFP
型)、テープオートメイテッドボンディング(TAB
型)、多層プリント配線板の端面に外部接続端子を有す
るリードレスチップキャリアー(LCC型)、半田ボー
ルを有するボールグリッドアレイ(BGA型)が挙げら
れる。
【0023】本発明の半導体装置は、上記多層プリント
配線板を用いるので、小型化、薄型化を実現することが
できる。
【0024】
【発明の効果】本発明の請求項1に係る多層プリント配
線板は、上記構成により、電位毎に別の層を設けずに同
一の面に複数の導電路層5を備えるので、層数が少なく
できるため、半導体装置の小型化、薄型化を実現でき
る。
【0025】本発明の請求項2に係る多層プリント配線
板の製造方法は、上記工程によって作製されるので、電
位毎に別の層を形成する必要がなく、同一の面に複数の
導電路層5を形成するため、層数を少なくできる。従っ
て、半導体装置の小型化、薄型化を実現する多層プリン
ト配線板が得られる。
【0026】本発明の請求項3に係る半導体装置は、請
求項1記載の層数の少ない多層プリント配線板を用いる
ので、小型化、薄型化を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】(a)は本発明の一実施例に係る多層プリント
配線板の要部を拡大した断面図であり、(b)は多層プ
リント配線板を構成する第1の絶縁層の要部を拡大した
断面斜視図である。
【図2】(a)は本発明の一実施例に係る多層プリント
配線板の製造方法で作製した第1の回路板の一部破断し
た断面斜視図であり、(b)は本発明の一実施例に係る
多層プリント配線板の製造方法の工程を示した要部断面
図である。
【図3】図1(a)の多層プリント配線板を用いた半導
体装置の断面図である。
【符号の説明】
1,1a 絶縁層 2 窪み 3 内壁 4a 内層面 4b 面 5,5a,5b 導電路層 6,6a,6b 入力端子 7,7a,7b 金属メッキ路 8 絶縁路 9 分離路 10 プリプレグ 11a 第1の回路板 11b 第2の回路板 12,12a 貫通孔 13 端縁 14 半導体チップ

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数の絶縁層(1)と、この絶縁層
    (1)の少なくとも一層以上を貫通した、半導体チップ
    搭載用の窪み(2)を有する多層プリント配線板であっ
    て、上記窪み(2)を構成する貫通孔(12)を有する
    第1の絶縁層(1a)、上記第1の絶縁層(1a)の内
    層面(4a)に形成された、上記貫通孔(12)の端縁
    (13)に達する、異なる電位が加わる複数のべた状の
    導電路層(5)、上記内層面(4a)と反対側の第1の
    絶縁層(1a)の面(4b)に形成された、異なる電位
    が加わる複数の入力端子(6)、上記第1の絶縁層(1
    a)の貫通孔(12)の内壁(3)に、上記べた状の導
    電路層(5)と入力端子(6)を各々連接する金属メッ
    キ路(7)、及び、上記第1の絶縁層(1a)の貫通孔
    (12)に、べた状の導電路層(5)の境界に設けられ
    た絶縁路(8)に連接し、メッキを削り取って上記第1
    の絶縁層(1a)を露出させた分離路(9)を備えてい
    ることを特徴とする多層プリント配線板。
  2. 【請求項2】 半導体チップ搭載用の窪み(2)と、こ
    の窪み(2)の周囲に異なる電位のべた状の導電路層
    (5)を有する多層プリント配線板を、下記の工程によ
    り作製することを特徴とするプリント配線板の製造方
    法。上記工程は、第1の回路板(11a)に形成された
    半導体チップ搭載用の貫通孔(12)の内壁(3)に金
    属メッキを施す工程、上記第1の回路板(11a)の同
    一の面であって、上記貫通孔(12)の端縁(13)に
    達する、異なる電位のべた状の導電路層(5)を形成す
    る工程、上記第1の回路板(11a)の内壁(3)に形
    成された金属メッキ層のうち、上記べた状の導電路層
    (5)の境界に設けられた絶縁路(8)と接する金属メ
    ッキ層を削り取り、上記べた状の導電路層(5)と連接
    する金属メッキ路(7)を形成する工程、上記第1の回
    路板(11a)の金属メッキ路(7)と連接する入力端
    子(6)を、べた状の導電路層(5)と反対側の第1の
    回路板(11a)上に形成する工程、及び、上記第1の
    回路板(11a)に形成されたべた状の導電路層(5)
    に、半導体チップ搭載用の貫通孔(12a)を有するプ
    リプレグ(10)を介して、第2の回路板(11b)を
    重ね、加熱成形する工程からなる。
  3. 【請求項3】 請求項1記載の多層プリント配線板の窪
    み(2)の底に半導体チップ(14)を搭載したことを
    特徴とする半導体装置。
JP7151635A 1995-06-19 1995-06-19 多層プリント配線板、その製造方法、及び多層プリント配線板を用いた半導体装置 Withdrawn JPH098463A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002261181A (ja) * 2001-02-27 2002-09-13 Kyocera Corp 半導体素子収納用パッケージおよびその製造方法
JP2014232851A (ja) * 2013-05-30 2014-12-11 京セラ株式会社 電子素子搭載用基板および電子装置

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