JPH0992593A

JPH0992593A - 投影露光装置

Info

Publication number: JPH0992593A
Application number: JP7243132A
Authority: JP
Inventors: Shinji Wakamoto; 信二若本
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1995-09-21
Filing date: 1995-09-21
Publication date: 1997-04-04
Also published as: KR970016824A

Abstract

(57)【要約】【課題】走査方向による焦点位置の検出誤差又はアラ
イメント誤差の発生を抑制し、各種センサの設置数を少
なくする。【解決手段】光源系とレチクルとの間に設けたレチク
ルブラインドにより、投影光学系の有効露光フィールド
内に２つの照野フィールド２１ａ，２１ｂの何れかを走
査方向に所定間隔で選択的に形成する。２つの照野フィ
ールド２１ａ，２１ｂのほぼ中間の先読み領域２２に焦
点位置検出系のＡＦビームがスリット光として照射され
るように設定し、２つのアライメントセンサのアライメ
ント照明光が先読み領域２２の両端のアライメント領域
２３ａ，２３ｂに照射されるように設定する。ショット
領域２５ａを−Ｘ方向に走査するときには、−Ｘ方向側
の照野フィールド２１ａを使用し、ショット領域２５ｂ
を＋Ｘ方向に走査するときは、＋Ｘ方向側の照野フィー
ルド２１ｂを使用する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば半導体素
子、液晶表示素子、撮像素子（ＣＣＤ等）、又は薄膜磁
気ヘッド等をフォトリソグラフィ工程で製造する際に使
用される投影露光装置に関し、特に矩形又は円弧状等の
照明領域に対してマスク及び感光性の基板を同期して走
査することにより、マスク上のパターンを投影光学系を
介して逐次その基板上に露光する所謂スリットスキャン
方式、又はステップ・アンド・スキャン方式等の走査露
光型の投影露光装置に適用して好適なものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、半導体素子等を製造する際に使用
されていた露光装置は、主にレチクル（又はフォトマス
ク等）のパターンを投影光学系を介してステップ・アン
ド・リピート方式でフォトレジストが塗布されたウエハ
（又はガラスプレート等）上の各ショット領域に露光す
る一括露光方式の投影露光装置（ステッパー等）であっ
た。これに対して最近、半導体素子等の１個のチップパ
ターンが大型化する傾向にあり、投影露光装置において
は、より大きな面積のパターンを効率的にウエハ上の各
ショット領域に露光する大面積化が求められている。こ
のような大面積化を行う場合でも、特に投影像のディス
トーションを各ショット領域の全面で所定量以下に収め
る必要がある。そこで、ディストーションを各ショット
領域の全面で小さくし、且つ大面積化に応えるために、
ウエハ上の各ショット領域を走査開始位置にステッピン
グした後、例えば矩形、円弧状又は複数の台形等からな
る照明領域（これを「スリット状の照明領域」という）
に対してレチクル及びウエハを同期して走査することに
より、レチクル上のパターンを各ショット領域に逐次露
光する所謂ステップ・アンド・スキャン方式等の走査露
光型の露光装置が注目されている。

【０００３】このような走査露光型の露光装置でも、通
常、ウエハの焦点位置（投影光学系の光軸方向の位置）
を検出するための焦点位置検出系、及びレチクルとウエ
ハとの各ショット領域の位置合わせに使用されるアライ
メントセンサが備えられている。そして、焦点位置検出
系及びアライメントセンサから、それぞれ焦点位置検出
用光ビーム（以下、「ＡＦビーム」という）及びアライ
メント照明光をウエハ上に照射して、ウエハの各ショッ
ト領域のオートフォーカス及び位置合わせを行ってい
た。

【０００４】図４は、従来の走査露光型の露光装置にお
けるウエハ上のＡＦビーム及びアライメント照明光の照
射領域を示している。この場合、アライメントセンサと
しては、例えばレーザ光をウエハ上のドット列状のウエ
ハマークに照射し、そのマークにより回折又は散乱され
た光を用いてそのマークの位置を検出するＬＳＡ（Lase
r Step Alignment）方式等のアライメントセンサが使用
される。この図４において、ウエハ上の走査方向（Ｘ方
向）に所定幅で形成されたスリット状の照野フィールド
３１の走査方向の手前側の先読み領域３２ａ及び３２ｂ
に、２個の焦点位置検出系からのＡＦビームがそれぞれ
複数のスリット光（不図示）として照射されている。ま
た、照野フィールド３１の−Ｘ方向の先読み領域３２ａ
の非走査方向（±Ｙ方向）の近傍のアライメント領域３
３ａ，３４ａにアライメントセンサからのアライメント
照明光がそれぞれ照射されるように設定され、同様に照
野フィールド３１の＋Ｘ方向の先読み領域３２ｂの非走
査方向の近傍のアライメント領域３３ｂ，３４ｂに１対
のアライメントセンサからのアライメント照明光が照射
されるように設定されている。

【０００５】そして、例えばショット領域３０ａを照野
フィールド３１に対して矢印Ｂで示す＋Ｘ方向に走査し
て露光を行う際には、−Ｘ方向側の先読み領域３２ａで
検出されるウエハの焦点位置に基づいてオートフォーカ
スが行われると共に、アライメント領域３３ａ及び３４
ａで検出されるウエハマークの位置情報に基づいてアラ
イメントが行われていた。一方、ショット領域３０ｂを
照野フィールド３１に対して矢印Ａで示す−Ｘ方向に走
査して露光を行う際には、＋Ｘ方向側の先読み領域３２
ｂ及びアライメント領域３３ｂ，３４ｂで検出される情
報に基づいてオートフォーカス及びアライメントが行わ
れていた。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】上記の如き従来の技術
においては、走査方向の切り換えに対応するために、２
つの焦点位置検出系及び２対のアライメントセンサを用
いていたため、焦点位置検出系同士及びアライメントセ
ンサ同士の検出結果の間にオフセットが発生している
と、走査方向によりデフォーカス及びアライメント誤差
が発生する不都合があった。また、照野フィールド３１
の走査方向の両側に２つの焦点位置検出系及び２対のア
ライメントセンサを必要とするため、焦点位置検出系及
びアライメントセンサを含む機構が大型化し、且つ複雑
化するという不都合もあった。

【０００７】本発明は斯かる点に鑑み、走査方向による
焦点位置の検出誤差又はアライメント誤差が発生せず、
走査方向に依らずに正確にオートフォーカス又はアライ
メントを行うことができると共に、焦点位置検出系又は
アライメントセンサ等のセンサの設置数の少ない投影露
光装置を提供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明による投影露光装
置は、マスク（１）上の転写用のパターンの一部を投影
光学系（３）を介して基板（２）上に投影した状態で、
そのマスク（１）をその投影光学系に対して所定方向
（＋Ｘ方向又は−Ｘ方向）に走査するのと同期して、そ
の基板（２）をその投影光学系（３）に対してその所定
方向に対応する方向（−Ｘ方向又は＋Ｘ方向）に走査す
ることにより、そのマスク（１）の転写用のパターンの
像を逐次その基板（２）上に転写する投影露光装置にお
いて、その投影光学系（３）の有効露光フィールド（２
０）内でその基板（２）の走査方向に離れた位置又は連
続した位置に切り換え自在に複数個の露光領域（２１
ａ，２１ｂ）を設定する露光領域切り換え手段（１０，
１１）と、それら複数個の露光領域（２１ａ，２１ｂ）
の間のその基板（２）のその投影光学系（３）の光軸
（ＡＸ）方向の位置を検出し、この検出結果に基づいて
その基板（２）の高さ又は傾斜角を制御する面位置制御
手段（８ａ，８ｂ，５，７，１７）と、その基板（２）
のその投影光学系（３）に対する走査方向に応じてその
露光領域切り換え手段（１０，１１）を介してその投影
光学系（３）による露光領域を切り換える制御手段（１
７）と、を有するものである。

【０００９】斯かる本発明の投影露光装置によれば、例
えば図３に示すように、ショット領域（２５ａ）を矢印
Ａの方向に走査するときには、一方の露光領域（２１
ａ）を使用し、ショット領域（２５ｂ）を矢印Ｂの方向
に走査するときには、他方の露光領域（２１ｂ）を使用
する。また、走査方向に依らずに、共通にその面位置制
御手段を用いてオートフォーカス又はオートレベリング
が行われる。従って、走査方向に依らずに共通の検出位
置での検出値を使用するため、走査方向に依る検出値の
誤差が発生することもなく、常に面位置の検出が高精度
に行える。また、焦点位置検出系等のセンサを露光領域
の両側に備える必要がなく、センサの設置数を少なくで
きる。

【００１０】この場合、それら複数個の露光領域（２１
ａ，２１ｂ）の間の近傍の領域でその基板（２）上の位
置合わせ用マークの位置を検出するアライメントセンサ
（９ａ）を設け、このアライメントセンサの検出結果よ
りその基板（２）とそのマスク（４）との位置合わせを
行うことが好ましい。これにより、走査方向に依らずに
共通のアライメントセンサ（９ａ）により基板（２）上
の位置合わせマークの位置を検出して、位置合わせを行
う。

【００１１】また、その露光領域切り換え手段（１０，
１１）は、その投影光学系（３）の有効露光フィールド
内でそれら複数個の露光領域（２１ａ，２１ｂ）の全部
を含む一括露光領域（２１ｅ）を選択的に設定し、この
一括露光領域（２１ｅ）が設定されたときにそのマスク
（１）とその基板（２）とを静止させた状態で露光を行
ってもよい。

【００１２】これにより、本発明の投影露光装置は走査
露光型としてのみならず、ステッパーのような一括露光
型としても兼用できることになる。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下、本発明による投影露光装置
の実施の形態の一例につき図１〜図３を参照して説明す
る。本例は、ステップ・アンド・スキャン方式の投影露
光装置に本発明を適用したものである。図１は、本例の
投影露光装置の概略構成を示し、この図１において、露
光用の水銀ランプ及びオプティカル・インテグレータ等
を含む光源系１３から射出された照明光ＩＬは、第１リ
レーレンズ１２ａを透過した後、後述のレチクル１とほ
ぼ共役な面に配置されたレチクルブラインド（可変視野
絞り）１０に入射する。レチクルブラインド１０は、照
明光ＩＬの通過領域の位置及び形状を所望の状態に設定
するための４枚の可動ブレードから構成されており、ブ
ラインド駆動装置１１によりそれらの４枚の可動ブレー
ドの位置が制御できるようになっている。レチクルブラ
インド１０は、ブラインド駆動装置１１を介して、主制
御系１７により制御される。なお、露光用の照明光とし
ては、水銀ランプのｉ線（波長：３６５ｎｍ）等の他、
エキシマレーザ光（波長：２４８ｎｍ，１９３ｎｍ等）
等も使用できる。また、光源系１３内にはシャッターが
設置され、このシャッターによって所望の期間だけ照明
光ＩＬを照射できるようになっている。

【００１４】レチクルブラインド１０で成形された照明
光ＩＬは、第２リレーレンズ１２ｂを通過して、ダイク
ロイックミラー１４に入射する。ダイクロイックミラー
１４で下方に折り曲げられた照明光ＩＬは、コンデンサ
ーレンズ１５を介してレチクル１上に照射され、レチク
ル１上の照明領域内のパターンの像が、投影光学系３を
介して投影倍率β（βは例えば１／４、又は１／５等）
でウエハ２上の照野フィールドに投影される。ここで、
投影光学系ＰＬの光軸に平行にＺ軸を取り、Ｚ軸に垂直
な平面内で走査露光時のレチクル１及びウエハ２の走査
方向に平行（図１の紙面に平行な方向）にＸ軸を取り、
Ｚ軸に垂直な平面内でＸ軸に垂直な方向（非走査方向）
にＹ軸を取る。本例では、レチクル１は、不図示のレチ
クルベース上でＸ方向に摺動自在なレチクルステージ１
６上に載置され、ウエハ２は、ウエハホルダ４を介して
ウエハホルダ４を投影光学系３の光軸ＡＸ方向に駆動す
るためのＺステージ５上に載置され、Ｚステージ５は、
ウエハ２をＸ方向に走査すると共にＹ方向に位置決めす
るＸＹステージ１８上に保持されている。また、Ｚステ
ージ５及びＸＹステージ１８は、それぞれＺステージ駆
動系７及びウエハステージ駆動系１９を介して主制御系
１７により制御されている。

【００１５】レチクルステージ１６及びＸＹステージ１
８よりステージ駆動機構が構成され、走査露光時には主
制御系１７は、レチクルステージ１６を介して＋Ｘ方向
（又は−Ｘ方向）に所定速度Ｖ_RでレチクルＲを走査す
るのと同期して、ＸＹステージ１８を介してウエハ２上
の所定のショット領域を照野フィールドに対して−Ｘ方
向（又は＋Ｘ方向）に速度Ｖ_W （＝β・Ｖ_R）で走査す
る。これにより、そのショット領域上にレチクル１のパ
ターンが逐次転写露光される。

【００１６】また、図１の装置には、ウエハ２の露光面
に向けて斜めにスリット像２４ａ〜２４ｃ（図２（ａ）
参照）を形成するための複数の計測ビーム（以下、「Ａ
Ｆビーム」という）ＬＦを照射する照射光学系８ａと、
そのフォーカスビームＬＦのウエハ２の露光面での反射
光束を受光して各スリット像を再結像する受光光学系８
ｂとからなる斜入射方式の焦点位置検出系（以下、「焦
点位置検出系８ａ，８ｂ」という）が備えられている。

【００１７】図２（ａ）〜（ｅ）はそれぞれ本例の投影
光学系３の有効露光フィールド２０を示し、それらの内
の図２（ａ）に示すように、有効露光フィールド２０の
中央部をＹ方向（非走査方向）に横切るように設定され
たスリット状の先読み領域２２内に、Ｙ方向に等間隔に
図１の焦点位置検出系８ａ，８ｂからのＡＦビームＬＦ
がスリット像２４ａ〜２４ｃとして照射されている。そ
して、図１の受光光学系８ｂからはスリット像２４ａ〜
２４ｃの再結像された像の横ずれ量に対応する３個のフ
ォーカス信号が主制御系１７に供給され、主制御系１７
では供給されたフォーカス信号よりウエハ２の先読み領
域２２内の平均的な焦点位置を求める。そして、主制御
系１７はこの焦点位置が投影光学系３の結像面の焦点位
置に常に合致するように、Ｚステージ駆動系７を介して
ウエハの先読みオートフォーカス制御を行う。更に、先
読み領域２２の非走査方向（Ｙ方向）の両端部の近傍に
は、それぞれ後述のアライメントセンサからのアライメ
ント照明光が照射されるアライメント領域２３ａ，２３
ｂが設定されている。

【００１８】ここで、図１のレチクルブラインド１０の
制御によって所望の状態に設定できる本例の照野フィー
ルドの例につき、図２（ａ）〜（ｅ）を参照して説明す
る。先ず、照野フィールドとは、図１のレチクルブライ
ンド１０によってレチクル１のパターン形成面に設定さ
れる照明領域と、投影光学系３に関して共役なウエハ２
上の露光領域、即ち、或る時点でのウエハ２上へのレチ
クル１のパターンの投影領域を指す。

【００１９】そして、本例ではレチクルブラインド１０
の制御によって、図２（ａ）に示すように、有効露光フ
ィールド２０内で先読み領域２２に対して−Ｘ方向（走
査方向）に所定間隔離してスリット状の照野フィールド
２１ａを設定できる。また、図２（ｂ）に示すように、
先読み領域２２に対して＋Ｘ方向に所定間隔離して、照
野フィールド２１ａと対称にスリット状の照野フィール
ド２１ｂを設定することもできる。更に、レチクルブラ
インド１０の制御によって、図２（ｃ）及び（ｄ）に示
すように、先読み領域２２を含むように照野フィールド
２１ｃ及び２１ｄを設定することもでき、図２（ｅ）に
示すように、図２（ａ）及び（ｂ）の照野フィールド２
１ａ，２１ｂを覆う大きさの照野フィールド２１ｅを設
定することもできる。最後の大面積の照野フィールド２
１ｅを用いれば、通常の静止状態での一括露光方式での
露光を行うことができる。

【００２０】また、投影光学系６の上部側面付近で且つ
レチクルステージ１６の下方には、一例としてＴＴＬ
（スルー・ザ・レンズ）方式で且つＬＳＡ（Laser Step
Alignment）方式のアライメントセンサ９ａが設置され
ている。このアライメントセンサ９ａは、レチクル１と
ウエハ２の各ショット領域との最終的な位置合わせ（ア
ライメント）に使用される。このため、図３（ａ）に示
すように、ウエハ２上のショット領域２５ａの側面には
ドット列状のウエハマーク２７ａ，２７ｂよりなるウエ
ハマーク２８ａ〜２８ｄが所定間隔で配列されている。
また、ショット領域２５ａの反対側の側面にも対称にウ
エハマーク２９ａ〜２９ｄが配列されている。

【００２１】ウエハのアライメントに際して、アライメ
ントセンサ９ａからウエハ２上のフォトレジスト層に対
して感光性の弱い波長域のアライメント照明光Ｌａが射
出される。アライメントセンサ９ａから射出されたアラ
イメント照明光Ｌａは、投影光学系３を介してウエハ２
上のアライメント領域２３ａ（図３（ａ）参照）に十字
型のスリット光２６ａ，２６ｂとして照射される。その
状態でＸＹステージ１８を駆動して、例えば図３（ａ）
のドット列状のウエハマーク２８ａがスリット光２６
ａ，２６ｂをＸ方向に横切るようにすると、ウエハマー
ク２８ａがスリット光２６ａ，２６ｂにかかるときにウ
エハマーク２８ａからの回折光が発生する。ウエハマー
ク２８ａからの回折光は、入射した光路を逆戻りして、
再び投影光学系３を介して、アライメントセンサ９ａに
戻り、内部の受光センサに入射する。アライメントセン
サ９ａからは、その受光センサに入射する光量を光電変
換した検出信号が発生する。その検出信号はアライメン
ト処理系（不図示）に供給され、アライメント処理系に
おいて、光量が最も大きくなるときのＸＹステージ１８
のＸ座標よりそのウエハマーク２８ａの２次元的な位置
が検出される。なお、本例の投影露光装置にはアライメ
ントセンサ９ａと対称に２軸のＬＳＡ方式のアライメン
トセンサ（不図示）が配置されており、このアライメン
トセンサにより例えば図３（ａ）のショット領域２５ａ
のウエハマーク２９ａ〜２９ｄの２次元的な位置が検出
され、これらの検出結果に基づいてウエハ２の走査位置
及び回転角が微調整される。

【００２２】以上のように構成された本例の投影露光装
置の動作について、主に図３を参照して説明する。走査
型露光装置は、通常両方向（±Ｘ方向）の走査が可能な
構成となっており、本例では走査方向に応じて例えば図
２（ａ）の照野フィールド２１ａと図２（ｂ）の照野フ
ィールド２１ｂとを切り換えて使用する。そのように照
野フィールド２１ａ又は２１ｂが設定された後、図１の
主制御系１７はウエハステージ駆動系１９を介してＸＹ
ステージ１８を駆動することによりウエハ２の露光対象
のショット領域を走査開始位置に位置決めした後、露光
用の照明光ＩＬの照射を開始して、レチクルステージ１
６及びＸＹステージ１８を相対的に走査してレチクル１
のパターン像をそのショット領域に逐次転写する。

【００２３】この場合、先ず図３（ａ）に示すように、
ウエハ２上のショット領域２５ａを矢印Ａで示す−Ｘ方
向に走査して露光を行うときには、先読み領域２２に対
して−Ｘ方向側の照野フィールド２１ａが使用される。
そして、先読み領域２２で検出されるショット領域２５
ａの焦点位置に基づいてウエハのオートフォーカスが行
われ、アライメント領域２３ａ，２３ｂで検出されるウ
エハマーク２８ａ〜２８ｄ，２９ａ〜２９ｄの位置に基
づいて、レチクル１とショット領域２５ａとのアライメ
ントが行われる。

【００２４】一方、図３（ｂ）に示すように、ウエハ２
上の別のショット領域２５ｂを矢印Ｂで示す＋Ｘ方向に
走査して露光を行うときには、先読み領域２２に対して
＋Ｘ方向側の照野フィールド２１ｂが使用される。この
際にも、先読み領域２２で検出されるショット領域２５
ｂの焦点位置に基づいてウエハのオートフォーカスが行
われ、アライメント領域２３ａ，２３ｂで検出されるウ
エハマークの位置に基づいて、レチクル１とショット領
域２５ｂとのアライメントが行われる。

【００２５】以上、本例によれば、走査方向に応じてレ
チクルブラインド１０により２つの照野フィールド２１
ａ，２１ｂの一方を切り換えて形成し、これら２つの照
野フィールドの中間位置におけるショット領域の焦点位
置及びウエハマークの位置情報に基づき、オートフォー
カス及びアライメントを行いつつそのショット領域を走
査露光するので、走査方向により焦点位置検出系及びア
ライメントセンサの検出結果のオフセットが生ずること
がない。また、従来例に比較して半分の数の焦点位置検
出系及びアライメントセンサを設置するだけでよい。

【００２６】なお、本例では、２つの照野フィールド２
１ａ，２１ｂは走査方向に互いに離れた構成となってい
るが、図２（ｃ）及び（ｄ）に示すように一部の領域で
重なるような２つの照野フィールド２１ｃ，２１ｄを切
り換えて使用してもよい。また、レチクルブラインド１
０は、本例では第２リレーレンズ１２ｂの前に設けられ
ているが、レチクルブラインド１０はレチクル面とほぼ
共役な面にあればよいので、例えばレチクル１の下方に
配置してもよい。

【００２７】また、本例ではアライメントセンサとし
て、投影光学系３を介したＴＴＬ方式且つＬＳＡ方式の
ものを使用しているが、例えば、投影光学系３を介さな
いオフ・アクシス方式のアライメントセンサ、又は、レ
チクル１及び投影光学系３を介したＴＴＲ方式のアライ
メントセンサを使用してもよい。また、２光束干渉方式
（ＬＩＡ方式）や撮像方式のアライメントセンサを使用
してもよい。

【００２８】更に、図２（ｅ）に示すように２つの照野
フィールド２１ａ，２１ｂを覆う広い照野フィールド２
１ｅを設定し、レチクル１とウエハ２とを静止した状態
で、レチクル１上のパターンをウエハ２上の各ショット
領域に一括露光してもよい。従って、本例の投影露光装
置は、走査露光型に限らず、レチクルのパターンをウエ
ハのショット領域に一括して露光するステッパー等の一
括露光型の投影露光装置としても兼用できる。

【００２９】なお、本発明は上述の実施の形態に限定さ
れず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の構成を取
り得ることは勿論である。

【００３０】

【発明の効果】本発明の投影露光装置によれば、走査方
向に応じて露光領域を切り換えるようにして、共通の面
位置制御手段を使用しているため、面位置制御手段用の
焦点位置検出系等のセンサの設置数が少なくて済む他、
走査方向によって焦点位置（高さ）等の検出誤差が生ず
ることがない利点がある。従って、面位置制御手段に使
用される例えば焦点位置検出系のオフセット補正等を行
う必要もなくなり、シンプルな装置構成にできる利点が
ある。

【００３１】また、複数個の露光領域の間の近傍の領域
で基板上の位置合わせ用マークの位置を検出するアライ
メントセンサを設け、このアライメントセンサの検出結
果より基板とマスクとの位置合わせを行う場合には、ア
ライメントセンサの設置数を少なくできる。また、面位
置制御手段の場合と同様に、走査方向によってアライメ
ントセンサの検出誤差（アライメント誤差）の発生もな
く、マスクと基板とを高精度に位置合わせできる利点が
ある。

【００３２】また、露光領域切り換え手段が、投影光学
系の有効露光フィールド内で複数個の露光領域の全部を
含む一括露光領域を選択的に設定し、この一括露光領域
が設定されたときにマスクと基板とを静止させた状態で
露光を行う場合には、本発明の投影露光装置を一括露光
方式の投影露光装置としても兼用できる利点がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による投影露光装置の実施の形態の一例
を示す概略構成図である。

【図２】図１のレチクルブラインド１０の制御によって
設定できる照野フィールドの種々の例を示す図である。

【図３】（ａ）はショット領域を−Ｘ方向に走査する場
合に使用される照野フィールドを示す平面図、（ｂ）は
ショット領域を＋Ｘ方向に走査する場合に使用される照
野フィールドを示す平面図である。

【図４】従来の投影露光装置における照野フィールド及
び焦点位置の先読み領域等の配置を示す平面図である。

【符号の説明】

１レチクル２ウエハ３投影光学系５Ｚステージ８ａ照射光学系（焦点位置検出系）８ｂ受光光学系（焦点位置検出系）９ａアライメントセンサ１０レチクルブラインド１１ブラインド駆動装置１６レチクルステージ１７主制御系１８ＸＹステージ２１ａ〜２１ｅ照野フィールド２２先読み領域２３ａ，２３ｂアライメント領域２５ａ，２５ｂショット領域

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】マスク上の転写用のパターンの一部を投
影光学系を介して基板上に投影した状態で、前記マスク
を前記投影光学系に対して所定方向に走査するのと同期
して、前記基板を前記投影光学系に対して前記所定方向
に対応する方向に走査することにより、前記マスクの転
写用のパターンの像を逐次前記基板上に転写する投影露
光装置において、前記投影光学系の有効露光フィールド内で前記基板の走
査方向に離れた位置に切り換え自在に複数個の露光領域
を設定する露光領域切り換え手段と、前記複数個の露光領域の間の前記基板の前記投影光学系
の光軸方向の位置を検出し、該検出結果に基づいて前記
基板の高さ又は傾斜角を制御する面位置制御手段と、前記基板の前記投影光学系に対する走査方向に応じて前
記露光領域切り換え手段を介して前記投影光学系による
露光領域を切り換える制御手段と、を有することを特徴
とする投影露光装置。
【請求項２】請求項１記載の投影露光装置であって、前記複数個の露光領域の間の近傍の領域で前記基板上の
位置合わせ用マークの位置を検出するアライメントセン
サを設け、該アライメントセンサの検出結果より前記基板と前記マ
スクとの位置合わせを行うことを特徴とする投影露光装
置。
【請求項３】請求項１又は２記載の投影露光装置であ
って、前記露光領域切り換え手段は、前記投影光学系の有効露
光フィールド内で前記複数個の露光領域の全部を含む一
括露光領域を選択的に設定し、該一括露光領域が設定されたときに前記マスクと前記基
板とを静止させた状態で露光を行うことを特徴とする投
影露光装置。