JPH0996701A - 反射防止膜およびその製造方法 - Google Patents
反射防止膜およびその製造方法Info
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- JPH0996701A JPH0996701A JP7256157A JP25615795A JPH0996701A JP H0996701 A JPH0996701 A JP H0996701A JP 7256157 A JP7256157 A JP 7256157A JP 25615795 A JP25615795 A JP 25615795A JP H0996701 A JPH0996701 A JP H0996701A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ２層構成の反射防止膜であって、所望の反射
率を示しかつその反射率を示す帯域幅が従来より広い反
射防止膜を提供する。 【解決手段】 透明基板１１上に順に設けられた第１の
層１３および該第１の層１３より屈折率が低くかつフッ
素樹脂で構成された第２の層１５から成る、２層構成の
反射防止膜において、前記第１の層１３を前記透明基板
より屈折率が低い物質の層で構成する。
率を示しかつその反射率を示す帯域幅が従来より広い反
射防止膜を提供する。 【解決手段】 透明基板１１上に順に設けられた第１の
層１３および該第１の層１３より屈折率が低くかつフッ
素樹脂で構成された第２の層１５から成る、２層構成の
反射防止膜において、前記第１の層１３を前記透明基板
より屈折率が低い物質の層で構成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、２層構成の反射
防止膜とその製造方法とに関するものである。
防止膜とその製造方法とに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】例えばレンズ、プリズム、フィルタ等の
光学素子では、所望の光学特性を得るために、その表面
に反射防止膜が形成されることが多い。このような反射
防止膜のうち２層構成の反射防止膜の従来例として、例
えば特開平６−１８７０５号公報に開示のものがあっ
た。この反射防止膜は、透明基板上に、空気側へ向かっ
て、屈折率が１．５８以上の高屈折率物質の第１の層お
よび屈折率が１．３５以下の非晶質透明フッ素樹脂の第
２の層を積層して構成した反射防止膜であった（例えば
特許請求の範囲）。すなわち、透明基板上に順に設けら
れた第１の層および該第１の層より屈折率が低くかつフ
ッ素樹脂で構成された第２の層から成る、反射防止膜で
あった。さらに、この公報の第４欄第６〜８行に、この
反射防止膜における第１の層はその屈折率が基板のそれ
より高いものが好ましいと記載されているように、この
従来の反射防止膜は、第１の層の屈折率が透明基板のそ
れより高くされた構成の反射防止膜でもあった。また、
この反射防止膜はディッピングコート法、スピンコート
法などの塗布溶液により形成されるものであった（例え
ば第２欄第３３〜３４行）。この公報に開示の反射防止
膜によれば、優れた反射防止性を有した光学素子が得ら
れるという（例えば第２欄第３０〜３２行）。
光学素子では、所望の光学特性を得るために、その表面
に反射防止膜が形成されることが多い。このような反射
防止膜のうち２層構成の反射防止膜の従来例として、例
えば特開平６−１８７０５号公報に開示のものがあっ
た。この反射防止膜は、透明基板上に、空気側へ向かっ
て、屈折率が１．５８以上の高屈折率物質の第１の層お
よび屈折率が１．３５以下の非晶質透明フッ素樹脂の第
２の層を積層して構成した反射防止膜であった（例えば
特許請求の範囲）。すなわち、透明基板上に順に設けら
れた第１の層および該第１の層より屈折率が低くかつフ
ッ素樹脂で構成された第２の層から成る、反射防止膜で
あった。さらに、この公報の第４欄第６〜８行に、この
反射防止膜における第１の層はその屈折率が基板のそれ
より高いものが好ましいと記載されているように、この
従来の反射防止膜は、第１の層の屈折率が透明基板のそ
れより高くされた構成の反射防止膜でもあった。また、
この反射防止膜はディッピングコート法、スピンコート
法などの塗布溶液により形成されるものであった（例え
ば第２欄第３３〜３４行）。この公報に開示の反射防止
膜によれば、優れた反射防止性を有した光学素子が得ら
れるという（例えば第２欄第３０〜３２行）。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特開平
６−１８７０５号公報に開示の２層構成の反射防止膜の
場合、所望の反射率を示す帯域幅は必ずしも広いとはい
えない。例えば反射率が１％以下を示す帯域幅はせいぜ
い２００ｎｍ程度である（例えば上記公報の図３、図
５、図６参照）。目的の反射率を示しかつ帯域幅をより
広くする技術として、３層以上の多層構造を用いる技術
もあるが、その場合は層数が増える分、製造工程の管理
が大変であったり不良発生時の処理が大変等の問題があ
る。２層構成の反射防止膜であって、所望の反射率を示
し、かつ、その反射率を示す帯域幅が従来より広い反射
防止膜が望まれる。また、このような反射防止膜であっ
て所望の分光反射率特性を示す反射防止膜を容易に製造
できる方法が望まれる。
６−１８７０５号公報に開示の２層構成の反射防止膜の
場合、所望の反射率を示す帯域幅は必ずしも広いとはい
えない。例えば反射率が１％以下を示す帯域幅はせいぜ
い２００ｎｍ程度である（例えば上記公報の図３、図
５、図６参照）。目的の反射率を示しかつ帯域幅をより
広くする技術として、３層以上の多層構造を用いる技術
もあるが、その場合は層数が増える分、製造工程の管理
が大変であったり不良発生時の処理が大変等の問題があ
る。２層構成の反射防止膜であって、所望の反射率を示
し、かつ、その反射率を示す帯域幅が従来より広い反射
防止膜が望まれる。また、このような反射防止膜であっ
て所望の分光反射率特性を示す反射防止膜を容易に製造
できる方法が望まれる。
【０００４】
【課題を解決するための手段】そこで、この出願の第一
発明によれば、透明基板上に順に設けられた第１の層お
よび該第１の層より屈折率が低くかつフッ素樹脂で構成
された第２の層から成る、２層構成の反射防止膜におい
て、前記第１の層を前記透明基板より屈折率が低い物質
の層で構成したことを特徴とする。
発明によれば、透明基板上に順に設けられた第１の層お
よび該第１の層より屈折率が低くかつフッ素樹脂で構成
された第２の層から成る、２層構成の反射防止膜におい
て、前記第１の層を前記透明基板より屈折率が低い物質
の層で構成したことを特徴とする。
【０００５】また、この出願の第二発明によれば、透明
基板上に順に設けられた第１の層および第２の層から成
る２層構成の反射防止膜を製造するに当たり、先ず、透
明基板上に屈折率が前記透明基板より低い物質の層で構
成された第１の層を形成し、次に、該第１の層上に屈折
率が該第１の層より低くかつフッ素樹脂で構成された第
２の層を真空蒸着法により形成すると共に、該蒸着時の
蒸着速度および基板加熱温度の少なくとも一方を制御し
て当該反射防止膜の特性を制御することを特徴とする。
基板上に順に設けられた第１の層および第２の層から成
る２層構成の反射防止膜を製造するに当たり、先ず、透
明基板上に屈折率が前記透明基板より低い物質の層で構
成された第１の層を形成し、次に、該第１の層上に屈折
率が該第１の層より低くかつフッ素樹脂で構成された第
２の層を真空蒸着法により形成すると共に、該蒸着時の
蒸着速度および基板加熱温度の少なくとも一方を制御し
て当該反射防止膜の特性を制御することを特徴とする。
【０００６】なおこれら第一および第二の発明におい
て、透明基板を構成する材料として、典型的には、光学
ガラス、石英、プラスチックスが挙げられる。しかし、
透明基板を構成する材料はこれらの例に限られない。ま
た、ここでいう透明基板の形状は目的に応じ任意とでき
る。板状のもの、さらにはレンズ、プリズム等の光学素
子の形状に即した形状のもの、さらには、フィルム状の
ものなども、もちろんここでいう透明基板に含まれる。
て、透明基板を構成する材料として、典型的には、光学
ガラス、石英、プラスチックスが挙げられる。しかし、
透明基板を構成する材料はこれらの例に限られない。ま
た、ここでいう透明基板の形状は目的に応じ任意とでき
る。板状のもの、さらにはレンズ、プリズム等の光学素
子の形状に即した形状のもの、さらには、フィルム状の
ものなども、もちろんここでいう透明基板に含まれる。
【０００７】また、これら第一および第二発明において
第１の層の構成材料は、上記屈折率の条件を満足するこ
とを前提として設計に応じた種々のものとできる。例え
ば、(a).酸化物であって上記屈折率の条件を満足するも
の、(b).金属フッ化物であって上記屈折率の条件を満足
するもの、(c) 高分子化合物であって上記屈折率の条件
を満足するものは、第１の層の構成材料として用い得
る。酸化物の例としては例えばＳｉＯ2 を、金属フッ化
物の例としては例えばＭｇＦ2 やＡｌ2 Ｆ3 を、それぞ
れ挙げることが出来る。
第１の層の構成材料は、上記屈折率の条件を満足するこ
とを前提として設計に応じた種々のものとできる。例え
ば、(a).酸化物であって上記屈折率の条件を満足するも
の、(b).金属フッ化物であって上記屈折率の条件を満足
するもの、(c) 高分子化合物であって上記屈折率の条件
を満足するものは、第１の層の構成材料として用い得
る。酸化物の例としては例えばＳｉＯ2 を、金属フッ化
物の例としては例えばＭｇＦ2 やＡｌ2 Ｆ3 を、それぞ
れ挙げることが出来る。
【０００８】また、これら第一および第二発明において
第２の層の構成材料は、任意好適なフッ素樹脂とでき
る。フッ素樹脂は一般に屈折率が低いため、２層構成の
反射防止膜における第２の層の構成材料として用いて好
適だからである。特に第一発明の場合では、ディップコ
ート法により形成されるフッ素樹脂であっても良い。ま
た第二発明の場合は、真空蒸着法により薄膜化が可能な
フッ素樹脂であれば任意好適なものを用い得る。例え
ば、テトラフルオロエチレン(tetrafluoroethylene)
と、２，２−ビストリフルオロメチル−４，５−ジフル
オロ−１，３−ジオキソル(2,2-bistrifluoromethyl-4,
5-difluoro-1,3-dioxole) との共重合体から成るフッ素
樹脂（具体的にはデュポン社製のＡＦ２４００（商品
名））は、真空蒸着法により薄膜化が可能であり、か
つ、低い屈折率の薄膜が得られ、しかも、蒸着時の蒸着
速度および基板加熱温度の少なくとも一方を変えること
で、薄膜の屈折率を変化させることが出来ることが知ら
れているので（例えば文献Ｉ「ＳＰＩＥ Vol.2253（１
９９４），ｐｐ．５１２〜５１９の例えばＦｉｇ．１、
Ｆｉｇ．３）、この第二発明で用いるフッ素樹脂として
好適である。
第２の層の構成材料は、任意好適なフッ素樹脂とでき
る。フッ素樹脂は一般に屈折率が低いため、２層構成の
反射防止膜における第２の層の構成材料として用いて好
適だからである。特に第一発明の場合では、ディップコ
ート法により形成されるフッ素樹脂であっても良い。ま
た第二発明の場合は、真空蒸着法により薄膜化が可能な
フッ素樹脂であれば任意好適なものを用い得る。例え
ば、テトラフルオロエチレン(tetrafluoroethylene)
と、２，２−ビストリフルオロメチル−４，５−ジフル
オロ−１，３−ジオキソル(2,2-bistrifluoromethyl-4,
5-difluoro-1,3-dioxole) との共重合体から成るフッ素
樹脂（具体的にはデュポン社製のＡＦ２４００（商品
名））は、真空蒸着法により薄膜化が可能であり、か
つ、低い屈折率の薄膜が得られ、しかも、蒸着時の蒸着
速度および基板加熱温度の少なくとも一方を変えること
で、薄膜の屈折率を変化させることが出来ることが知ら
れているので（例えば文献Ｉ「ＳＰＩＥ Vol.2253（１
９９４），ｐｐ．５１２〜５１９の例えばＦｉｇ．１、
Ｆｉｇ．３）、この第二発明で用いるフッ素樹脂として
好適である。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照してこの出願の
各発明の実施の形態について比較例と共に説明する。こ
こで、図１は透明基板１１と、第１の層１３と、第２の
層１５との積層関係を示した断面図、また図２〜図６は
発明のいくつかの実施の形態の反射防止膜あるいは比較
例の反射防止膜おのおのでの分光反射率特性を示した図
である。ただし、いずれの図もこの発明を理解出来る程
度に概略的に示してあるにすぎない。また、以下に説明
する透明基板、第１の層および第２の層それぞれの屈折
率はいずれも波長５００ｎｍの光についての屈折率であ
る。また図２〜図６に示した分光反射率特性は、いずれ
もＴＦ−ＣＡＬＣと称される汎用計算ソフトによるシミ
ュレーションにより得た結果である。ただし、この計算
の際の屈折率は、波長５００ｎｍの光に対する屈折率に
統一している。本願発明の効果を知るうえでは屈折率の
波長依存性を無視してもさしつかえないからである。
各発明の実施の形態について比較例と共に説明する。こ
こで、図１は透明基板１１と、第１の層１３と、第２の
層１５との積層関係を示した断面図、また図２〜図６は
発明のいくつかの実施の形態の反射防止膜あるいは比較
例の反射防止膜おのおのでの分光反射率特性を示した図
である。ただし、いずれの図もこの発明を理解出来る程
度に概略的に示してあるにすぎない。また、以下に説明
する透明基板、第１の層および第２の層それぞれの屈折
率はいずれも波長５００ｎｍの光についての屈折率であ
る。また図２〜図６に示した分光反射率特性は、いずれ
もＴＦ−ＣＡＬＣと称される汎用計算ソフトによるシミ
ュレーションにより得た結果である。ただし、この計算
の際の屈折率は、波長５００ｎｍの光に対する屈折率に
統一している。本願発明の効果を知るうえでは屈折率の
波長依存性を無視してもさしつかえないからである。
【００１０】１．第１の実施の形態 透明基板１１を石英（屈折率１．４８）で構成し、第１
の層１３をフッ化マグネシウム（屈折率１．３８）の層
で構成し、第２の層１５をデュポン社製のＡＦ２４００
と称されるフッ素樹脂であって屈折率が１．２５のもの
の層で構成することにより、第１の実施の形態の反射防
止膜を構成出来る。ただし、第１の層１３および第２の
層１５の膜厚は、それらの光学的膜厚が波長５００ｎｍ
の光のλ／４に相当する膜厚となるようにする（以下の
他の実施の形態および比較例において同じ。）。なお、
第１の層１３を構成するフッ化マグネシウムの層は例え
ば真空蒸着法により形成できる。また、第２の層１５を
構成する屈折率が１．２５であるＡＦ２４００の層は、
文献Ｉ「ＳＰＩＥ Vol.2253（１９９４）の第５１５頁
のＦｉｇ．３に記載されているように、例えば蒸着速度
をおおよそ４．５〜２２Å／ｓｅｃとし、かつ、基板加
熱温度を加熱なしからおおよそ８５℃までの範囲のうち
のいずれかとした蒸着条件により形成できる。
の層１３をフッ化マグネシウム（屈折率１．３８）の層
で構成し、第２の層１５をデュポン社製のＡＦ２４００
と称されるフッ素樹脂であって屈折率が１．２５のもの
の層で構成することにより、第１の実施の形態の反射防
止膜を構成出来る。ただし、第１の層１３および第２の
層１５の膜厚は、それらの光学的膜厚が波長５００ｎｍ
の光のλ／４に相当する膜厚となるようにする（以下の
他の実施の形態および比較例において同じ。）。なお、
第１の層１３を構成するフッ化マグネシウムの層は例え
ば真空蒸着法により形成できる。また、第２の層１５を
構成する屈折率が１．２５であるＡＦ２４００の層は、
文献Ｉ「ＳＰＩＥ Vol.2253（１９９４）の第５１５頁
のＦｉｇ．３に記載されているように、例えば蒸着速度
をおおよそ４．５〜２２Å／ｓｅｃとし、かつ、基板加
熱温度を加熱なしからおおよそ８５℃までの範囲のうち
のいずれかとした蒸着条件により形成できる。
【００１１】この第１の実施の形態における反射防止膜
で得られる分光反射率特性を図２に示した。なお、図２
において横軸は波長（ｎｍ）、縦軸は反射率（％）をそ
れぞれ示す（以下の図３〜図６において同じ。）。この
図２から分かるように、第１の実施の形態の反射防止膜
は、波長約３３０ｎｍから約１０００ｎｍの範囲にわた
って反射率が１％以下という反射特性を示す反射防止膜
になることが分かる。すなわち、反射率が１％以下とな
る帯域幅が約６７０ｎｍにもなる反射防止膜になること
が分かる。第１の層の屈折率が基板のそれより高かった
従来技術の場合は反射率が１％以下を示す帯域幅はせい
ぜい２００ｎｍ程度であったことを考えると、本願発明
の優位さが理解できる。
で得られる分光反射率特性を図２に示した。なお、図２
において横軸は波長（ｎｍ）、縦軸は反射率（％）をそ
れぞれ示す（以下の図３〜図６において同じ。）。この
図２から分かるように、第１の実施の形態の反射防止膜
は、波長約３３０ｎｍから約１０００ｎｍの範囲にわた
って反射率が１％以下という反射特性を示す反射防止膜
になることが分かる。すなわち、反射率が１％以下とな
る帯域幅が約６７０ｎｍにもなる反射防止膜になること
が分かる。第１の層の屈折率が基板のそれより高かった
従来技術の場合は反射率が１％以下を示す帯域幅はせい
ぜい２００ｎｍ程度であったことを考えると、本願発明
の優位さが理解できる。
【００１２】２．第２の実施の形態 第１の実施の形態における構成に対し第２の層１５をデ
ュポン社製のＡＦ２４００と称されるフッ素樹脂であっ
て屈折率が１．２０のものの層で構成する。それ以外は
第１の実施の形態と同様にすることで第２の実施の形態
の反射防止膜を構成できる。なお、屈折率が１．２０で
あるＡＦ２４００の層は、上記文献Ｉの第５１５頁のＦ
ｉｇ．３に記載されているように、蒸着速度をおおよそ
１０〜２２Å／ｓｅｃとし、かつ、基板加熱温度を加熱
なしからおおよそ５０℃までの範囲のうちのいずれかと
した蒸着条件により形成できる。
ュポン社製のＡＦ２４００と称されるフッ素樹脂であっ
て屈折率が１．２０のものの層で構成する。それ以外は
第１の実施の形態と同様にすることで第２の実施の形態
の反射防止膜を構成できる。なお、屈折率が１．２０で
あるＡＦ２４００の層は、上記文献Ｉの第５１５頁のＦ
ｉｇ．３に記載されているように、蒸着速度をおおよそ
１０〜２２Å／ｓｅｃとし、かつ、基板加熱温度を加熱
なしからおおよそ５０℃までの範囲のうちのいずれかと
した蒸着条件により形成できる。
【００１３】この第２の実施の形態における反射防止膜
で得られる分光反射率特性を図３に示した。この図３か
ら分かるように、第２の実施の形態の反射防止膜は、波
長３４０ｎｍから９８０ｎｍの範囲にわたって反射率が
１％以下という反射特性を示す反射防止膜になることが
分かる。さらに、波長約３６０ｎｍから約８２０ｎｍ強
の範囲にわたって反射率が０．５％以下という反射特性
を示す反射防止膜になることが分かる。すなわち、反射
率が１％以下となる帯域幅が６４０ｎｍ強にもなり、か
つ、反射率が０．５％以下となる帯域幅が約４６０ｎｍ
にもなる反射防止膜になることが分かる。第１の層の屈
折率が基板のそれより高かった従来技術の場合は反射率
が１％以下を示す帯域幅はせいぜい２００ｎｍ程度であ
ったことを考えると、本願発明の優位さが理解できる。
また、第１の実施の形態および第２の実施の形態各々で
の分光反射率特性を比較することで分かるように、第２
の層を形成する際の蒸着条件を変えると第２の層の屈折
率を変化させることが出来、その結果、反射防止膜の分
光反射率特性を制御できることが分かる。
で得られる分光反射率特性を図３に示した。この図３か
ら分かるように、第２の実施の形態の反射防止膜は、波
長３４０ｎｍから９８０ｎｍの範囲にわたって反射率が
１％以下という反射特性を示す反射防止膜になることが
分かる。さらに、波長約３６０ｎｍから約８２０ｎｍ強
の範囲にわたって反射率が０．５％以下という反射特性
を示す反射防止膜になることが分かる。すなわち、反射
率が１％以下となる帯域幅が６４０ｎｍ強にもなり、か
つ、反射率が０．５％以下となる帯域幅が約４６０ｎｍ
にもなる反射防止膜になることが分かる。第１の層の屈
折率が基板のそれより高かった従来技術の場合は反射率
が１％以下を示す帯域幅はせいぜい２００ｎｍ程度であ
ったことを考えると、本願発明の優位さが理解できる。
また、第１の実施の形態および第２の実施の形態各々で
の分光反射率特性を比較することで分かるように、第２
の層を形成する際の蒸着条件を変えると第２の層の屈折
率を変化させることが出来、その結果、反射防止膜の分
光反射率特性を制御できることが分かる。
【００１４】３．第３の実施の形態 透明基板１１を屈折率が１．６０のガラス基板（例えば
ショット製のＦ１５と称される光学ガラス）で構成し、
第１の層１３をＳｉＯ2 （屈折率１．４７）の層で構成
したこと以外は、第１の実施の形態と同様にすること
で、第３の実施の形態の反射防止膜を構成できる。
ショット製のＦ１５と称される光学ガラス）で構成し、
第１の層１３をＳｉＯ2 （屈折率１．４７）の層で構成
したこと以外は、第１の実施の形態と同様にすること
で、第３の実施の形態の反射防止膜を構成できる。
【００１５】この第３の実施の形態における反射防止膜
で得られる分光反射率特性を図４に示した。この図４か
ら分かるように、第３の実施の形態の反射防止膜は、波
長約３３０ｎｍから約１０００ｎｍ強の範囲にわたって
反射率が１％以下という反射特性を示す反射防止膜にな
ることが分かる。さらに、波長約３６０ｎｍから約８２
０ｎｍ強の範囲にわたって反射率が０．５％以下で然も
第２の実施の形態に比べ低反射率帯域が広いという反射
特性を示す反射防止膜になることが分かる。すなわち、
反射率が１％以下となる帯域幅が６７０ｎｍ強にもな
り、かつ、反射率が０．５％以下となる帯域幅が約４６
０ｎｍにもなる反射防止膜になることが分かる。第１の
層の屈折率が基板のそれより高かった従来技術の場合は
反射率が１％以下を示す帯域幅はせいぜい２００ｎｍ程
度であったことを考えると、本願発明の優位さが理解で
きる。
で得られる分光反射率特性を図４に示した。この図４か
ら分かるように、第３の実施の形態の反射防止膜は、波
長約３３０ｎｍから約１０００ｎｍ強の範囲にわたって
反射率が１％以下という反射特性を示す反射防止膜にな
ることが分かる。さらに、波長約３６０ｎｍから約８２
０ｎｍ強の範囲にわたって反射率が０．５％以下で然も
第２の実施の形態に比べ低反射率帯域が広いという反射
特性を示す反射防止膜になることが分かる。すなわち、
反射率が１％以下となる帯域幅が６７０ｎｍ強にもな
り、かつ、反射率が０．５％以下となる帯域幅が約４６
０ｎｍにもなる反射防止膜になることが分かる。第１の
層の屈折率が基板のそれより高かった従来技術の場合は
反射率が１％以下を示す帯域幅はせいぜい２００ｎｍ程
度であったことを考えると、本願発明の優位さが理解で
きる。
【００１６】４．比較例 ４−１．比較例１ 透明基板１１の屈折率を１．４８に固定し、かつ、第２
の層１５の屈折率を１．２５に固定した状態において、
第１の層１３の屈折率を透明基板１１の屈折率と等しい
場合を含みそれより大きくなる方向に種々に変える。こ
のように行なう比較例１の種々の水準のうち第１の層１
３の屈折率が１．５８、１．５３、１．４８（基板の屈
折率と等しい場合）の３つの水準での反射防止膜で得ら
れる分光反射率特性を図５にそれぞれ示した。ただしこ
の図５には、この比較例１と本願発明との関係を明確に
するために、本願発明の範囲のいくつかの例、すなわち
第１の層１３の屈折率を基板のそれより小さい１．４
３、１、３８とした例の反射防止膜の分光反射率特性も
併せて示してある。
の層１５の屈折率を１．２５に固定した状態において、
第１の層１３の屈折率を透明基板１１の屈折率と等しい
場合を含みそれより大きくなる方向に種々に変える。こ
のように行なう比較例１の種々の水準のうち第１の層１
３の屈折率が１．５８、１．５３、１．４８（基板の屈
折率と等しい場合）の３つの水準での反射防止膜で得ら
れる分光反射率特性を図５にそれぞれ示した。ただしこ
の図５には、この比較例１と本願発明との関係を明確に
するために、本願発明の範囲のいくつかの例、すなわち
第１の層１３の屈折率を基板のそれより小さい１．４
３、１、３８とした例の反射防止膜の分光反射率特性も
併せて示してある。
【００１７】この図５から分かるように、第１の層１３
の屈折率を透明基板１１のそれより大きくしてしまう
と、反射率が例えば１％以下となる帯域幅は最大でも３
００ｎｍ程度にしかできない。このことからして、第１
の層１３を透明基板１１より屈折率が低い物質の層で構
成するのが良いと考える。
の屈折率を透明基板１１のそれより大きくしてしまう
と、反射率が例えば１％以下となる帯域幅は最大でも３
００ｎｍ程度にしかできない。このことからして、第１
の層１３を透明基板１１より屈折率が低い物質の層で構
成するのが良いと考える。
【００１８】４−２．比較例２ また、比較例２として、透明基板を石英（屈折率１．４
８）で構成し、第１の層１３をデュポン社製ＡＦ２４０
０であって屈折率が１．２５のものの層で構成し、第２
の層をフッ化マグネシウム（屈折率１．３８）の層で構
成した反射防止膜を考える。すなわち、本願発明の第１
の実施の形態に対し第１および第２の層の構成材料を交
換した構成を考える。この比較例２の反射防止膜で得ら
れる分光反射率特性を図６に示した。この図６から分か
るように比較例２の構成の場合、反射率１％以下の帯域
は得られなくなり、好ましい反射防止膜が構成出来ない
ことが分かる。このことからして、第２の層１５を第１
の層１３より屈折率が低い物質で構成するのが良いと考
える。そして、フッ素樹脂は低屈折率の層の形成が可能
であるので、この発明では第２の層１５の構成材料とし
てフッ素樹脂を用いている。
８）で構成し、第１の層１３をデュポン社製ＡＦ２４０
０であって屈折率が１．２５のものの層で構成し、第２
の層をフッ化マグネシウム（屈折率１．３８）の層で構
成した反射防止膜を考える。すなわち、本願発明の第１
の実施の形態に対し第１および第２の層の構成材料を交
換した構成を考える。この比較例２の反射防止膜で得ら
れる分光反射率特性を図６に示した。この図６から分か
るように比較例２の構成の場合、反射率１％以下の帯域
は得られなくなり、好ましい反射防止膜が構成出来ない
ことが分かる。このことからして、第２の層１５を第１
の層１３より屈折率が低い物質で構成するのが良いと考
える。そして、フッ素樹脂は低屈折率の層の形成が可能
であるので、この発明では第２の層１５の構成材料とし
てフッ素樹脂を用いている。
【００１９】また、図５および図６に示した各分光反射
率特性から次のようなことがいえると考えられる。第１
の層の屈折率を透明基板のそれより小さくする際にある
範囲までは第１の層の屈折率の低下に伴いその反射防止
膜での低反射率帯域が広くなってゆく（図５のｎ1 ＝
１．５８〜１．４３の各例）。そして、第１の層の屈折
率がある値以下になると、それまでは下に凸となってい
た特性図部分が、上に凸に反転する（図５のｎ1 ＝１．
３８の例及び図６）。このことから、もし反射率がある
値以下で帯域幅をなるべく広くしたい場合は、上記凸部
分が反転する前後のある程度の範囲に第１の層の屈折率
を設定するのが良いのではないかと考えられる。上述の
実施の形態の場合でいえば、基板の屈折率１．４８に対
し上記凸部分が反転するのは第１の層の屈折率が１．４
３より小さくなった後から１．３８までの範囲のどこか
であると考えられるので、第１の層の屈折率を１．４３
〜１．３８の範囲のどこかにすると、反射率がより広帯
域で低くなる特性が得られると考えられる。
率特性から次のようなことがいえると考えられる。第１
の層の屈折率を透明基板のそれより小さくする際にある
範囲までは第１の層の屈折率の低下に伴いその反射防止
膜での低反射率帯域が広くなってゆく（図５のｎ1 ＝
１．５８〜１．４３の各例）。そして、第１の層の屈折
率がある値以下になると、それまでは下に凸となってい
た特性図部分が、上に凸に反転する（図５のｎ1 ＝１．
３８の例及び図６）。このことから、もし反射率がある
値以下で帯域幅をなるべく広くしたい場合は、上記凸部
分が反転する前後のある程度の範囲に第１の層の屈折率
を設定するのが良いのではないかと考えられる。上述の
実施の形態の場合でいえば、基板の屈折率１．４８に対
し上記凸部分が反転するのは第１の層の屈折率が１．４
３より小さくなった後から１．３８までの範囲のどこか
であると考えられるので、第１の層の屈折率を１．４３
〜１．３８の範囲のどこかにすると、反射率がより広帯
域で低くなる特性が得られると考えられる。
【００２０】上述の実施の形態の説明においては、透明
基板、第１の層および第２の層それぞれの屈折率につい
ていくつかの例を示したが、これら例はこの発明の範囲
内の一例にすぎない。したがって、この発明が上記実施
の形態における屈折率の組み合わせ例に限られるもので
ないことは理解されたい。
基板、第１の層および第２の層それぞれの屈折率につい
ていくつかの例を示したが、これら例はこの発明の範囲
内の一例にすぎない。したがって、この発明が上記実施
の形態における屈折率の組み合わせ例に限られるもので
ないことは理解されたい。
【００２１】
【発明の効果】上述した説明から明らかなように、この
出願の第一発明によれば、透明基板上に順に設けられた
第１の層および該第１の層より屈折率が低くかつフッ素
樹脂で構成された第２の層から成る、２層構成の反射防
止膜において、前記第１の層を前記透明基板より屈折率
が低い物質の層で構成している。このため、所望の反射
率を示し、かつ、この反射率を示す帯域幅が従来に比べ
広い反射防止膜を提供できる。
出願の第一発明によれば、透明基板上に順に設けられた
第１の層および該第１の層より屈折率が低くかつフッ素
樹脂で構成された第２の層から成る、２層構成の反射防
止膜において、前記第１の層を前記透明基板より屈折率
が低い物質の層で構成している。このため、所望の反射
率を示し、かつ、この反射率を示す帯域幅が従来に比べ
広い反射防止膜を提供できる。
【００２２】また、この出願の第二発明によれば、透明
基板上に屈折率が前記透明基板より低い物質の層で構成
された第１の層を形成し、この第１の層上に屈折率が該
第１の層より低くかつフッ素樹脂で構成された第２の層
を真空蒸着法により形成すると共に、該蒸着時の蒸着速
度および基板加熱温度の少なくとも一方を制御して当該
反射防止膜の特性を制御して、２層構成の反射防止膜を
製造する。このため、所望の反射率を示し、かつ、この
反射率を示す帯域幅が従来に比べ広い反射防止膜であっ
て任意の所望の分光反射率特性を示す反射防止膜を容易
に製造できる。また、真空蒸着法によるため、例えばデ
ィップコート法に比べ、膜厚制御が容易、膜強度に優れ
た膜が形成出来るなどの効果も得られる。
基板上に屈折率が前記透明基板より低い物質の層で構成
された第１の層を形成し、この第１の層上に屈折率が該
第１の層より低くかつフッ素樹脂で構成された第２の層
を真空蒸着法により形成すると共に、該蒸着時の蒸着速
度および基板加熱温度の少なくとも一方を制御して当該
反射防止膜の特性を制御して、２層構成の反射防止膜を
製造する。このため、所望の反射率を示し、かつ、この
反射率を示す帯域幅が従来に比べ広い反射防止膜であっ
て任意の所望の分光反射率特性を示す反射防止膜を容易
に製造できる。また、真空蒸着法によるため、例えばデ
ィップコート法に比べ、膜厚制御が容易、膜強度に優れ
た膜が形成出来るなどの効果も得られる。
【図１】発明の実施の形態および比較例の説明図であ
り、透明基板、第１の層および第２の層の積層関係を示
した断面図である。
り、透明基板、第１の層および第２の層の積層関係を示
した断面図である。
【図２】発明の第１の実施の形態で得られる特性の説明
図である。
図である。
【図３】発明の第２の実施の形態で得られる特性の説明
図である。
図である。
【図４】発明の第３の実施の形態で得られる特性の説明
図である。
図である。
【図５】比較例１の説明に供する図である。
【図６】比較例２の説明に供する図である。
１１：透明基板 １３：第１の層 １５：第２の層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ２３Ｃ 14/06 Ｃ２３Ｃ 14/06 Ｒ
Claims (3)
- 【請求項１】 透明基板上に順に設けられた第１の層お
よび該第１の層より屈折率が低くかつフッ素樹脂で構成
された第２の層から成る、２層構成の反射防止膜におい
て、 前記第１の層を前記透明基板より屈折率が低い物質の層
で構成したことを特徴とする反射防止膜。 - 【請求項２】 透明基板上に順に設けられた第１の層お
よび第２の層から成る２層構成の反射防止膜を製造する
に当たり、 透明基板上に屈折率が該透明基板より低い物質の層で構
成された第１の層を形成し、 該形成した第１の層上に屈折率が該第１の層より低くか
つフッ素樹脂で構成された第２の層を真空蒸着法により
形成すると共に、該蒸着時の蒸着速度および基板加熱温
度の少なくとも一方を制御して当該反射防止膜の特性を
制御することを特徴とする反射防止膜の製造方法。 - 【請求項３】 請求項２に記載の反射防止膜の製造方法
において、 前記フッ素樹脂として、テトラフルオロエチレンと、
２，２−ビストリフルオロメチル−４，５−ジフルオロ
−１，３−ジオキソルとの共重合体を用いることを特徴
とする反射防止膜の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7256157A JPH0996701A (ja) | 1995-10-03 | 1995-10-03 | 反射防止膜およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7256157A JPH0996701A (ja) | 1995-10-03 | 1995-10-03 | 反射防止膜およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0996701A true JPH0996701A (ja) | 1997-04-08 |
Family
ID=17288704
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7256157A Pending JPH0996701A (ja) | 1995-10-03 | 1995-10-03 | 反射防止膜およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0996701A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000055130A3 (en) * | 1999-03-16 | 2001-04-12 | Du Pont | Fluoropolymer low reflecting layers for plastic lenses and devices |
| JP2002544115A (ja) * | 1999-05-15 | 2002-12-24 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフトング | フッ化物層の上に疎水性層を製造するための方法および組成物 |
| JP2006171332A (ja) * | 2004-12-15 | 2006-06-29 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 反射防止膜 |
| JP2019059986A (ja) * | 2017-09-27 | 2019-04-18 | 吉田 國雄 | 薄膜の形成方法及び光学素子 |
-
1995
- 1995-10-03 JP JP7256157A patent/JPH0996701A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000055130A3 (en) * | 1999-03-16 | 2001-04-12 | Du Pont | Fluoropolymer low reflecting layers for plastic lenses and devices |
| JP2002544115A (ja) * | 1999-05-15 | 2002-12-24 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフトング | フッ化物層の上に疎水性層を製造するための方法および組成物 |
| JP4896297B2 (ja) * | 1999-05-15 | 2012-03-14 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | フッ化物層の上に疎水性層を製造するための多孔質モールド |
| JP2006171332A (ja) * | 2004-12-15 | 2006-06-29 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 反射防止膜 |
| JP2019059986A (ja) * | 2017-09-27 | 2019-04-18 | 吉田 國雄 | 薄膜の形成方法及び光学素子 |
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