JPH10123303A - 反射防止光学部品 - Google Patents
反射防止光学部品Info
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- JPH10123303A JPH10123303A JP8297210A JP29721096A JPH10123303A JP H10123303 A JPH10123303 A JP H10123303A JP 8297210 A JP8297210 A JP 8297210A JP 29721096 A JP29721096 A JP 29721096A JP H10123303 A JPH10123303 A JP H10123303A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 密着性及び耐久性の高い反射防止膜を有する
反射防止光学部品を提供する。 【解決手段】 プラスチック基材２の表面に５層からな
る反射防止膜３を形成し、設計波長をλ0 として各層の
光学的膜厚が基材側より数えて順に、第１層３Ａは０．
５００λ0 、第２層３Ｂは０．１２０λ0 〜０．１３０
λ0 、第３層３Ｃは０．０３２λ0 〜０．０６０λ0 、
第４層３Ｄは０．２５０λ0 〜０．３００λ0 、第５層
３Ｅは０．２５０λ0 〜０．２６０λ0 であり、且つ第
１層及び第３層に用いられる物質がＳｉＯ2であり、第
２層、及び第４層に用いられる物質がＴｉＯ2とＺｒＯ2
の混合物、或いはＴａ2Ｏ5であり、第５層に用いられる
物質がＭｇＦ2であるような反射防止光学部品を形成す
る。これにより、膜の密着性及び耐久性を向上させる。
反射防止光学部品を提供する。 【解決手段】 プラスチック基材２の表面に５層からな
る反射防止膜３を形成し、設計波長をλ0 として各層の
光学的膜厚が基材側より数えて順に、第１層３Ａは０．
５００λ0 、第２層３Ｂは０．１２０λ0 〜０．１３０
λ0 、第３層３Ｃは０．０３２λ0 〜０．０６０λ0 、
第４層３Ｄは０．２５０λ0 〜０．３００λ0 、第５層
３Ｅは０．２５０λ0 〜０．２６０λ0 であり、且つ第
１層及び第３層に用いられる物質がＳｉＯ2であり、第
２層、及び第４層に用いられる物質がＴｉＯ2とＺｒＯ2
の混合物、或いはＴａ2Ｏ5であり、第５層に用いられる
物質がＭｇＦ2であるような反射防止光学部品を形成す
る。これにより、膜の密着性及び耐久性を向上させる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、プラスチックレン
ズ等の反射防止光学部品に関する。
ズ等の反射防止光学部品に関する。
【０００２】
【従来の技術】光学用プラスチック材料は加工性が良
く、透光製、機械的強度に優れ、また小型、軽量化が可
能で量産性が良好であることからレンズ等の光学部品に
広く使用されている。一般的に、光学部品は光学的な性
能を上げるために表面に反射防止膜が形成される。ガラ
スレンズのようなガラス製の光学部品の場合には、反射
防止コーティングは、ガラス基材と膜との密着性を確保
するために、ガラス基材を３００℃程度まで加熱し、蒸
着により成膜を形成することにより行なわれる（例えば
特開平６−１０９９０２号公報）。
く、透光製、機械的強度に優れ、また小型、軽量化が可
能で量産性が良好であることからレンズ等の光学部品に
広く使用されている。一般的に、光学部品は光学的な性
能を上げるために表面に反射防止膜が形成される。ガラ
スレンズのようなガラス製の光学部品の場合には、反射
防止コーティングは、ガラス基材と膜との密着性を確保
するために、ガラス基材を３００℃程度まで加熱し、蒸
着により成膜を形成することにより行なわれる（例えば
特開平６−１０９９０２号公報）。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、プラス
チック基材の場合には、これが耐熱性に劣るため、反射
防止膜を形成する際には、ガラス製品の場合とは異な
り、基材加熱を行なうことができない。そのため、プラ
スチック基材に対するコーティング膜に関しては、十分
な密着性や耐久性を得ることが困難であった。すなわ
ち、一般的に可視光帯域（４００ｎｍ〜７００ｎｍ）を
対象とする反射防止膜は、一般的に高屈折率層と低屈折
率層の交互の繰り返しによる積層構造膜から構成され
る。高屈折率層用の材料としては種々存在するが、低屈
折率層用の材料は、実用的な見地から略ＭｇＦ2とＳｉ
Ｏ2の２種類に限られている。ＭｇＦ2 は、より屈折率
が低くて優れた分光特性を与える好ましい物質である。
しかしながら、このＭｇＦ2は、現状においては基材温
度を例えば３００℃程度まで十分に上げて蒸着すること
によってしか十分な硬度の膜を得ることができない。し
かるに、前述のようにプラスチック基材は耐熱性に劣る
ことから、成膜時にこれを十分な温度まで加熱すること
ができず、このためにコーティング膜の密着性や耐久性
が悪く、また、内部応力の緩和によりクラック等も発生
するという問題点があった。
チック基材の場合には、これが耐熱性に劣るため、反射
防止膜を形成する際には、ガラス製品の場合とは異な
り、基材加熱を行なうことができない。そのため、プラ
スチック基材に対するコーティング膜に関しては、十分
な密着性や耐久性を得ることが困難であった。すなわ
ち、一般的に可視光帯域（４００ｎｍ〜７００ｎｍ）を
対象とする反射防止膜は、一般的に高屈折率層と低屈折
率層の交互の繰り返しによる積層構造膜から構成され
る。高屈折率層用の材料としては種々存在するが、低屈
折率層用の材料は、実用的な見地から略ＭｇＦ2とＳｉ
Ｏ2の２種類に限られている。ＭｇＦ2 は、より屈折率
が低くて優れた分光特性を与える好ましい物質である。
しかしながら、このＭｇＦ2は、現状においては基材温
度を例えば３００℃程度まで十分に上げて蒸着すること
によってしか十分な硬度の膜を得ることができない。し
かるに、前述のようにプラスチック基材は耐熱性に劣る
ことから、成膜時にこれを十分な温度まで加熱すること
ができず、このためにコーティング膜の密着性や耐久性
が悪く、また、内部応力の緩和によりクラック等も発生
するという問題点があった。
【０００４】本発明は、以上のような問題点に着目し、
これを有効に解決すべく創案されたものであり、その目
的は、密着性及び耐久性の高い反射防止膜を有する反射
防止光学部品を提供することにある。
これを有効に解決すべく創案されたものであり、その目
的は、密着性及び耐久性の高い反射防止膜を有する反射
防止光学部品を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記問題点を
解決するために、耐熱性が劣る透明基材と、この透明基
材上に屈折用部材を順次積層した第１層から第５層と、
この第４層と第５層との間に設けた混合物層とからなる
反射防止膜とを備えた反射防止光学部品であって、前記
第１層及び第３層は第１の低屈折用部材からなり、前記
第２層及び第４層は高屈折用部材からなり、前記第５層
は前記第１の低屈折用部材の屈折率よりも低屈折の第２
の低屈折用部材からなり、前記混合物層は、前記第４層
に用いられる高屈折用部材と前記第５層に用いられる第
２の低屈折用部材とを主成分とする混合物からなるよう
にしたものである。また、本発明は、プラスチック基材
の表面に５層からなる反射防止膜を形成し、設計波長を
λ0 として各層の光学的膜厚が基材側より数えて順に、
第１層は０．５００λ0 、第２層は０．１２０λ0 〜
０．１３０λ0 、第３層は０．０３２λ0 〜０．０６０
λ0 、第４層は０．２５０λ0 〜０．３００λ0 、第５
層は０．２５０λ0 〜０．２６０λ0 であり、且つ第１
層及び第３層に用いられる物質がＳｉＯ2であり、第２
層、及び第４層に用いられる物質がＴｉＯ2とＺｒＯ2の
混合物、或いはＴａ2Ｏ5であり、第５層に用いられる物
質がＭｇＦ2である反射防止光学部品を形成した。これ
によれば、高い光学特性を維持しつつ、反射防止膜のプ
ラスチック基材、或いは透明基材との密着性を向上さ
せ、且つ耐久性を向上させることが可能となる。このよ
うな反射防止膜のコーティングは、プラスチック基材、
或いは透明基材を加熱することなく真空蒸着により容易
に形成することができる。また、上記混合物層の膜厚
は、１ｎｍ〜１０ｎｍ程度に設定するのが好ましい。
解決するために、耐熱性が劣る透明基材と、この透明基
材上に屈折用部材を順次積層した第１層から第５層と、
この第４層と第５層との間に設けた混合物層とからなる
反射防止膜とを備えた反射防止光学部品であって、前記
第１層及び第３層は第１の低屈折用部材からなり、前記
第２層及び第４層は高屈折用部材からなり、前記第５層
は前記第１の低屈折用部材の屈折率よりも低屈折の第２
の低屈折用部材からなり、前記混合物層は、前記第４層
に用いられる高屈折用部材と前記第５層に用いられる第
２の低屈折用部材とを主成分とする混合物からなるよう
にしたものである。また、本発明は、プラスチック基材
の表面に５層からなる反射防止膜を形成し、設計波長を
λ0 として各層の光学的膜厚が基材側より数えて順に、
第１層は０．５００λ0 、第２層は０．１２０λ0 〜
０．１３０λ0 、第３層は０．０３２λ0 〜０．０６０
λ0 、第４層は０．２５０λ0 〜０．３００λ0 、第５
層は０．２５０λ0 〜０．２６０λ0 であり、且つ第１
層及び第３層に用いられる物質がＳｉＯ2であり、第２
層、及び第４層に用いられる物質がＴｉＯ2とＺｒＯ2の
混合物、或いはＴａ2Ｏ5であり、第５層に用いられる物
質がＭｇＦ2である反射防止光学部品を形成した。これ
によれば、高い光学特性を維持しつつ、反射防止膜のプ
ラスチック基材、或いは透明基材との密着性を向上さ
せ、且つ耐久性を向上させることが可能となる。このよ
うな反射防止膜のコーティングは、プラスチック基材、
或いは透明基材を加熱することなく真空蒸着により容易
に形成することができる。また、上記混合物層の膜厚
は、１ｎｍ〜１０ｎｍ程度に設定するのが好ましい。
【０００６】
【発明の実施の形態】以下に、本発明に係る反射防止光
学部品の一実施例を添付図面に基づいて詳述する。図１
は本発明に係る反射防止光学部品の部分拡大断面図であ
る。図示するように、この反射防止光学部品１は、素材
となる透明基材、例えばプラスチック基材２の表面に、
第１層３Ａから第５層３Ｅまで順次積層された５層から
なる反射防止膜３を形成して構成されている。設計波長
をλ0 とすると、各層の光学的膜厚は、第１層３Ａが
０．５００λ0 、第２層３Ｂが０．１２０λ0〜０．１
３０λ0 の範囲内、第３層３Ｃが０．０３２λ0 〜０．
０６０λ0 の範囲内、第４層３Ｄが０．２５０λ0 〜
０．３００λ0 の範囲内、第５層３Ｅが０．２５０λ0
〜０．２６０λ0 の範囲内になるようにそれぞれ設定さ
れている。
学部品の一実施例を添付図面に基づいて詳述する。図１
は本発明に係る反射防止光学部品の部分拡大断面図であ
る。図示するように、この反射防止光学部品１は、素材
となる透明基材、例えばプラスチック基材２の表面に、
第１層３Ａから第５層３Ｅまで順次積層された５層から
なる反射防止膜３を形成して構成されている。設計波長
をλ0 とすると、各層の光学的膜厚は、第１層３Ａが
０．５００λ0 、第２層３Ｂが０．１２０λ0〜０．１
３０λ0 の範囲内、第３層３Ｃが０．０３２λ0 〜０．
０６０λ0 の範囲内、第４層３Ｄが０．２５０λ0 〜
０．３００λ0 の範囲内、第５層３Ｅが０．２５０λ0
〜０．２６０λ0 の範囲内になるようにそれぞれ設定さ
れている。
【０００７】また、第１層３Ａ及び第３層３Ｃに用いら
れる物質は、低屈折用部材であるＳｉＯ2であり、第２
層３Ｂ及び第４層３Ｄに用いられる物質は、高屈折用部
材であるＴａ2Ｏ5、或いはＴｉＯ2とＺｒＯ2 の混合物
である。また、第５層３Ｅに用いられる物質はＳｉＯ2
より低屈折率の低屈折用部材であるＭｇＦ2である。ま
た本発明において、第４層３Ｄと第５層３Ｅの境界面
に、第４層３Ｄと第５層３Ｅのそれぞれの物質の混合物
を主成分とする混合物層４が、１ｎｍ〜１０ｎｍの厚み
で形成されている。これにより、反射防止膜３の密着
性、耐環境性及び耐久性を向上させることが可能とな
る。ここで用いられるプラスチック基材２としてはポリ
カーボネイト樹脂、環状ポリオレフィ樹脂等を用いるこ
とができる。また、設計波長λ0 は、光学部品の用途に
もよるが、例えば５２０ｎｍ程度である。各層の形成
は、プラスチック基材２を加熱することなく、例えば電
子ビーム蒸着法等を用いた真空蒸着法により行なえばよ
い。また、混合物層４の形成は、イオンビームアシスト
法による蒸着や第４層３Ｄの蒸着終了と第５層３Ｅの蒸
着開始をクロスオーバーさせる方法などを採用すること
により容易に行なうことができる。
れる物質は、低屈折用部材であるＳｉＯ2であり、第２
層３Ｂ及び第４層３Ｄに用いられる物質は、高屈折用部
材であるＴａ2Ｏ5、或いはＴｉＯ2とＺｒＯ2 の混合物
である。また、第５層３Ｅに用いられる物質はＳｉＯ2
より低屈折率の低屈折用部材であるＭｇＦ2である。ま
た本発明において、第４層３Ｄと第５層３Ｅの境界面
に、第４層３Ｄと第５層３Ｅのそれぞれの物質の混合物
を主成分とする混合物層４が、１ｎｍ〜１０ｎｍの厚み
で形成されている。これにより、反射防止膜３の密着
性、耐環境性及び耐久性を向上させることが可能とな
る。ここで用いられるプラスチック基材２としてはポリ
カーボネイト樹脂、環状ポリオレフィ樹脂等を用いるこ
とができる。また、設計波長λ0 は、光学部品の用途に
もよるが、例えば５２０ｎｍ程度である。各層の形成
は、プラスチック基材２を加熱することなく、例えば電
子ビーム蒸着法等を用いた真空蒸着法により行なえばよ
い。また、混合物層４の形成は、イオンビームアシスト
法による蒸着や第４層３Ｄの蒸着終了と第５層３Ｅの蒸
着開始をクロスオーバーさせる方法などを採用すること
により容易に行なうことができる。
【０００８】ここで、プラスチック基材としてポリカー
ボネイト樹脂を使用して反射防止膜を形成した時の具体
的実施例について説明する。ここでは、設計波長λ0 と
して５２０ｎｍを選択した。本実施例では、ポリカーボ
ネイト樹脂を基材とするレンズ形状のプラスチック基材
２を真空蒸着装置内のドームに固定して内部を２．０×
１０-5Ｔｏｒｒ以下まで排気し、第１層から第５層まで
の各層の蒸着物質を電子ビーム蒸着法、もしくは抵抗加
熱法を用いて基材上に順次形成した。各層の光学的膜厚
は表１に示す通りであり、膜厚の制御は水晶式膜厚計と
光学式膜厚計によって行なった。
ボネイト樹脂を使用して反射防止膜を形成した時の具体
的実施例について説明する。ここでは、設計波長λ0 と
して５２０ｎｍを選択した。本実施例では、ポリカーボ
ネイト樹脂を基材とするレンズ形状のプラスチック基材
２を真空蒸着装置内のドームに固定して内部を２．０×
１０-5Ｔｏｒｒ以下まで排気し、第１層から第５層まで
の各層の蒸着物質を電子ビーム蒸着法、もしくは抵抗加
熱法を用いて基材上に順次形成した。各層の光学的膜厚
は表１に示す通りであり、膜厚の制御は水晶式膜厚計と
光学式膜厚計によって行なった。
【０００９】
【表１】
【００１０】本実施例では、プラスチック基材を高温に
加熱せずに密着性、耐久性の良好な第５層のＭｇＦ2層
３Ｅを得る方法として、第４層３ＤのＴｉＯ2とＺｒＯ2
の混合物と第５層３ＥのＭｇＦ2との境界面に双方の混
合物層４を形成した。この混合物層４を形成する手段と
しては、イオンビームアシスト法による蒸着、電子線照
射による蒸着、イオンボンバード、または第４層３Ｄの
蒸着終了と第５層３Ｅの蒸着開始をクロスオーバーさせ
る方法等が挙げられる。このような手段によって形成さ
れた第４層３Ｄと第５層３Ｅの界面を、例えばオージェ
電子分光法による深さ方向の分析を行なうと、境界面に
双方の元素を含み、且つある程度の厚さ、例えば１ｎｍ
〜１０ｎｍ程度の厚さの混合物質を有するプロファイル
が観測された。また、第２層３Ｂの光学的膜厚が０．１
２０λ0 より小さい場合、０．１３０λ0 より大きい場
合、第３層３Ｃの光学的膜厚が０．０３２λ0 より小さ
い場合、０．０６０λ0 より大きい場合、第４層３Ｄの
光学的膜厚が０．２５０λ0 より小さい場合、０．３０
０λ0 より大きい場合、第５層３Ｅの光学的膜厚が０．
２５０λ0 より小さい場合、０．２６０λ0 よりも大き
い場合には、共に分光反射率が大きくなって好ましくな
かった。
加熱せずに密着性、耐久性の良好な第５層のＭｇＦ2層
３Ｅを得る方法として、第４層３ＤのＴｉＯ2とＺｒＯ2
の混合物と第５層３ＥのＭｇＦ2との境界面に双方の混
合物層４を形成した。この混合物層４を形成する手段と
しては、イオンビームアシスト法による蒸着、電子線照
射による蒸着、イオンボンバード、または第４層３Ｄの
蒸着終了と第５層３Ｅの蒸着開始をクロスオーバーさせ
る方法等が挙げられる。このような手段によって形成さ
れた第４層３Ｄと第５層３Ｅの界面を、例えばオージェ
電子分光法による深さ方向の分析を行なうと、境界面に
双方の元素を含み、且つある程度の厚さ、例えば１ｎｍ
〜１０ｎｍ程度の厚さの混合物質を有するプロファイル
が観測された。また、第２層３Ｂの光学的膜厚が０．１
２０λ0 より小さい場合、０．１３０λ0 より大きい場
合、第３層３Ｃの光学的膜厚が０．０３２λ0 より小さ
い場合、０．０６０λ0 より大きい場合、第４層３Ｄの
光学的膜厚が０．２５０λ0 より小さい場合、０．３０
０λ0 より大きい場合、第５層３Ｅの光学的膜厚が０．
２５０λ0 より小さい場合、０．２６０λ0 よりも大き
い場合には、共に分光反射率が大きくなって好ましくな
かった。
【００１１】更に、混合物層４の物理的膜厚が１ｎｍよ
り小さい場合及び１０ｎｍより大きい場合には共に機械
的強度が低下して好ましくなかった。図２に本実施例に
よる試料の垂直入射光に対する分光反射率特性を示す。
グラフから明らかなように、４００ｎｍ〜７００ｎｍの
可視光帯域において、両サイドは僅かに分光反射率が
１．０％近傍まで上昇しているが、それ以外の部分で
は、せいぜい０．１％程度であり、従来の光学部品と同
様に高い反射防止効果を得ることができた。また、この
試料を、温度６０℃、湿度９０％の雰囲気下に５００時
間晒して高温多湿試験を行ない、更に、この試料を−３
０℃と＋６０℃との間で５回温度変化させてヒートショ
ック試験を行なったところ、膜の密着性は何ら劣化せ
ず、また、クラックの発生も見られなかった。また、こ
の際、反射防止効果も劣化することはなかった。
り小さい場合及び１０ｎｍより大きい場合には共に機械
的強度が低下して好ましくなかった。図２に本実施例に
よる試料の垂直入射光に対する分光反射率特性を示す。
グラフから明らかなように、４００ｎｍ〜７００ｎｍの
可視光帯域において、両サイドは僅かに分光反射率が
１．０％近傍まで上昇しているが、それ以外の部分で
は、せいぜい０．１％程度であり、従来の光学部品と同
様に高い反射防止効果を得ることができた。また、この
試料を、温度６０℃、湿度９０％の雰囲気下に５００時
間晒して高温多湿試験を行ない、更に、この試料を−３
０℃と＋６０℃との間で５回温度変化させてヒートショ
ック試験を行なったところ、膜の密着性は何ら劣化せ
ず、また、クラックの発生も見られなかった。また、こ
の際、反射防止効果も劣化することはなかった。
【００１２】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の反射防止
光学部品によれば、次のように優れた作用効果を発揮す
ることができる。プラスチック基材上に、基材を加熱せ
ずに反射防止膜を形成することにより、優れた反射防止
効果を示すと共に高い耐久性、密着性が得られ、クラッ
クの発生も認められない反射防止光学部品を得ることが
できる。
光学部品によれば、次のように優れた作用効果を発揮す
ることができる。プラスチック基材上に、基材を加熱せ
ずに反射防止膜を形成することにより、優れた反射防止
効果を示すと共に高い耐久性、密着性が得られ、クラッ
クの発生も認められない反射防止光学部品を得ることが
できる。
【図１】本発明に係る反射防止光学部品の部分拡大断面
図である。
図である。
【図２】本発明の反射防止光学部品の分光反射率特性を
示すグラフである。
示すグラフである。
１…反射防止光学部品、２…プラスチック基材（透明基
材）、３… 反射防止膜、３Ａ…第１層、３Ｂ…第２
層、３Ｃ…第３層、３Ｄ…第４層、３Ｅ…第５層、４…
混合物層。
材）、３… 反射防止膜、３Ａ…第１層、３Ｂ…第２
層、３Ｃ…第３層、３Ｄ…第４層、３Ｅ…第５層、４…
混合物層。
Claims (3)
- 【請求項１】 耐熱性が劣る透明基材と、この透明基材
上に屈折用部材を順次積層した第１層から第５層と、こ
の第４層と第５層との間に設けた混合物層とからなる反
射防止膜とを備えた反射防止光学部品であって、前記第
１層及び第３層は第１の低屈折用部材からなり、前記第
２層及び第４層は高屈折用部材からなり、前記第５層は
前記第１の低屈折用部材の屈折率よりも低屈折の第２の
低屈折用部材からなり、前記混合物層は、前記第４層に
用いられる高屈折用部材と前記第５層に用いられる第２
の低屈折用部材とを主成分とする混合物からなることを
特徴とする反射防止光学部品。 - 【請求項２】 プラスチック基材の表面に５層からなる
反射防止膜を形成し、設計波長をλ0 として各層の光学
的膜厚が基材側より数えて順に、第１層は０．５００λ
0 、第２層は０．１２０λ0 〜０．１３０λ0 、第３層
は０．０３２λ0〜０．０６０λ0 、第４層は０．２５
０λ0 〜０．３００λ0 、第５層は０．２５０λ0 〜
０．２６０λ0 であり、且つ第１層及び第３層に用いら
れる物質がＳｉＯ2であり、第２層、及び第４層に用い
られる物質がＴｉＯ2とＺｒＯ2の混合物、或いはＴａ2
Ｏ5であり、第５層に用いられる物質がＭｇＦ2であるこ
とを特徴とする反射防止光学部品。 - 【請求項３】 前記第４層と第５層の境界面に、第４層
と第５層の混合物層が物理的膜厚で１ｎｍ〜１０ｎｍの
厚さに形成されていることを特徴とする請求項１記載の
反射防止光学部品。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8297210A JPH10123303A (ja) | 1996-10-18 | 1996-10-18 | 反射防止光学部品 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8297210A JPH10123303A (ja) | 1996-10-18 | 1996-10-18 | 反射防止光学部品 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10123303A true JPH10123303A (ja) | 1998-05-15 |
Family
ID=17843613
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8297210A Pending JPH10123303A (ja) | 1996-10-18 | 1996-10-18 | 反射防止光学部品 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10123303A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0994368A3 (en) * | 1998-10-13 | 2000-05-03 | Nikon Corporation | Anti-reflective films, optical elements and reduction-projection exposure apparatus utilizing same |
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| JP2009042278A (ja) * | 2007-08-06 | 2009-02-26 | Hoya Corp | 反射防止膜及びそれを用いた光学部材 |
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| JP2018180493A (ja) * | 2017-04-21 | 2018-11-15 | キヤノン株式会社 | 光学薄膜 |
-
1996
- 1996-10-18 JP JP8297210A patent/JPH10123303A/ja active Pending
Cited By (11)
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