JPH0998052A - 電子部品 - Google Patents
電子部品Info
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- JPH0998052A JPH0998052A JP7252748A JP25274895A JPH0998052A JP H0998052 A JPH0998052 A JP H0998052A JP 7252748 A JP7252748 A JP 7252748A JP 25274895 A JP25274895 A JP 25274895A JP H0998052 A JPH0998052 A JP H0998052A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は、水晶振動子やSAWデバイスなど
の電子部品に関するものであって、周波数の調整量が小
さくても、調整用材料が強固に下地のベース電極に密着
し、後の洗浄工程等においても剥がれ落ちることが少な
く、目的周波数に調整する。 【構成】 圧電性基板の表面にベース電極を設け、この
ベース電極上に周波数調整膜を構成した電子部品におい
て、周波数調整膜の形成領域をベース電極の形成領域よ
り小さい領域に制限することによって、周波数の調整量
が少ないときでも、膜厚を厚くすることができ、下地と
してのベース電極に強固に密着する調整膜を得ることが
できる。
の電子部品に関するものであって、周波数の調整量が小
さくても、調整用材料が強固に下地のベース電極に密着
し、後の洗浄工程等においても剥がれ落ちることが少な
く、目的周波数に調整する。 【構成】 圧電性基板の表面にベース電極を設け、この
ベース電極上に周波数調整膜を構成した電子部品におい
て、周波数調整膜の形成領域をベース電極の形成領域よ
り小さい領域に制限することによって、周波数の調整量
が少ないときでも、膜厚を厚くすることができ、下地と
してのベース電極に強固に密着する調整膜を得ることが
できる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は水晶振動子やSAWデバ
イスなどの電子部品に関するものである。
イスなどの電子部品に関するものである。
【0002】
【従来の技術】水晶振動子は圧電体である水晶板を所定
の厚みにスライスし、水晶板の振動部表面に励振用電極
となるベース電極を形成することで、水晶の振動を電気
的に取り出すことができるが、水晶板の厚み、ベース電
極の膜厚にバラツキが発生して共振周波数がばらつくの
で、これを補正するため、ベース電極上に、周波数調整
膜としての調整用電極をベース電極の形成領域より周囲
約100マイクロメートルほど小さい領域に設けること
で、共振周波数を所望の値に合わせ込む調整蒸着工程を
行っていた。さらに、調整蒸着後には、水晶板の表面の
汚染物質を落とすため、水晶板の表面の洗浄を行うが、
このとき、洗剤とともに超音波洗浄法などを用いて洗浄
を行っていた。
の厚みにスライスし、水晶板の振動部表面に励振用電極
となるベース電極を形成することで、水晶の振動を電気
的に取り出すことができるが、水晶板の厚み、ベース電
極の膜厚にバラツキが発生して共振周波数がばらつくの
で、これを補正するため、ベース電極上に、周波数調整
膜としての調整用電極をベース電極の形成領域より周囲
約100マイクロメートルほど小さい領域に設けること
で、共振周波数を所望の値に合わせ込む調整蒸着工程を
行っていた。さらに、調整蒸着後には、水晶板の表面の
汚染物質を落とすため、水晶板の表面の洗浄を行うが、
このとき、洗剤とともに超音波洗浄法などを用いて洗浄
を行っていた。
【0003】図10は従来の水晶振動子を示す。1は水
晶板で、サンドブラスト等の工法により溝部4がくり抜
かれており、振動部3が設けられている。2a,2bは
電気信号の励振用及び入出力部となるベース電極であ
る。ベース電極2aは電極引き回し用貫通孔5を介して
裏側に引き回されており、裏側に形成されたベース電極
2bとともに、振動部3の振動を電気信号として取り出
すことができる。一方、図11は従来の周波数調整蒸着
で用いられてきたマスクを示す。このマスク7には、ベ
ース電極2a及び振動部3に接触しないように、スペー
ス8がエッチングにより設けられている。9はマスクの
開口部であり、この領域だけ調整用電極が形成される。
従来のマスクにおいては、開口部9はベース電極2aよ
り周囲約100マイクロメートルほど小さく設計され、
調整蒸着を行う際には、図12の様にマスクをセットす
る。このようにして調整蒸着を行った場合、調整用電極
は図10における6の部分のようにベース電極2aより
少し小さい領域に蒸着される。
晶板で、サンドブラスト等の工法により溝部4がくり抜
かれており、振動部3が設けられている。2a,2bは
電気信号の励振用及び入出力部となるベース電極であ
る。ベース電極2aは電極引き回し用貫通孔5を介して
裏側に引き回されており、裏側に形成されたベース電極
2bとともに、振動部3の振動を電気信号として取り出
すことができる。一方、図11は従来の周波数調整蒸着
で用いられてきたマスクを示す。このマスク7には、ベ
ース電極2a及び振動部3に接触しないように、スペー
ス8がエッチングにより設けられている。9はマスクの
開口部であり、この領域だけ調整用電極が形成される。
従来のマスクにおいては、開口部9はベース電極2aよ
り周囲約100マイクロメートルほど小さく設計され、
調整蒸着を行う際には、図12の様にマスクをセットす
る。このようにして調整蒸着を行った場合、調整用電極
は図10における6の部分のようにベース電極2aより
少し小さい領域に蒸着される。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、共振周
波数を調整した調整量が微少である場合、共振周波数の
値は、超音波洗浄法などで水晶板の洗浄を行うと、周波
数調整蒸着を行った時点の値から変化する。これは、調
整蒸着を行った量が微少な時には、蒸着される蒸着物が
極微量であるため、下地との密着力が極端に弱くなり、
洗浄において、はがれ落ちてしまうからである。このた
め、これまで、周波数を調整した量である一定値以上の
ものだけが良品となり、それ以下のものは、周波数が高
くはずれて不良品になるという問題があった。
波数を調整した調整量が微少である場合、共振周波数の
値は、超音波洗浄法などで水晶板の洗浄を行うと、周波
数調整蒸着を行った時点の値から変化する。これは、調
整蒸着を行った量が微少な時には、蒸着される蒸着物が
極微量であるため、下地との密着力が極端に弱くなり、
洗浄において、はがれ落ちてしまうからである。このた
め、これまで、周波数を調整した量である一定値以上の
ものだけが良品となり、それ以下のものは、周波数が高
くはずれて不良品になるという問題があった。
【0005】図13は従来のマスクを用いて実際に行っ
た周波数の調整量と洗浄後の周波数のシフト量の関係を
示したものであるが、これによると、周波数の調整後に
おいて、調整蒸着量が500ppm以下のものについて
は、洗浄後に周波数が高周波側に変化していることがわ
かる。これは、洗浄によって調整蒸着した分が剥がれ落
ちたことを示している。
た周波数の調整量と洗浄後の周波数のシフト量の関係を
示したものであるが、これによると、周波数の調整後に
おいて、調整蒸着量が500ppm以下のものについて
は、洗浄後に周波数が高周波側に変化していることがわ
かる。これは、洗浄によって調整蒸着した分が剥がれ落
ちたことを示している。
【0006】本発明は、周波数の調整量が小さくても、
後の洗浄工程において剥がれ落ちる調整蒸着量を少なく
して、目的周波数に調整可能な電子部品を提供すること
を目的とする。
後の洗浄工程において剥がれ落ちる調整蒸着量を少なく
して、目的周波数に調整可能な電子部品を提供すること
を目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は、圧電性基板の表面にベース電極を設け、
このベース電極上に周波数調整用膜を構成した電子部品
であって、上記周波数調整用膜は上記ベース電極の形成
領域より小さい領域に設けられ、同質量とするときに膜
厚が大きくなる様に領域を制限して形成したことを特徴
とするものである。
め、本発明は、圧電性基板の表面にベース電極を設け、
このベース電極上に周波数調整用膜を構成した電子部品
であって、上記周波数調整用膜は上記ベース電極の形成
領域より小さい領域に設けられ、同質量とするときに膜
厚が大きくなる様に領域を制限して形成したことを特徴
とするものである。
【0008】ここで、同質量とするとき膜厚が厚くなる
ように領域を制限して周波数調整膜を形成するには、周
波数調整の際に蒸着される領域が通常より面積が小さく
なるようにマスクの開口部の形状を小さくする。このと
き、開口部分は後の電気的特性に影響を与えないような
形状とすることが望ましい。
ように領域を制限して周波数調整膜を形成するには、周
波数調整の際に蒸着される領域が通常より面積が小さく
なるようにマスクの開口部の形状を小さくする。このと
き、開口部分は後の電気的特性に影響を与えないような
形状とすることが望ましい。
【0009】
【作用】上記構造により、周波数調整膜の膜厚が厚くで
きる為、周波数の調整量が小さくても、後の洗浄工程に
おいて剥がれ落ちる調整蒸着量が少なくなり、調整蒸着
量が微少な場合でも、調整蒸着を行った後の洗浄工程で
周波数が変化することが少なくなるので、これまでは不
良品とされていた周波数の調整量の微少なものについて
も、良品とすることができる。
きる為、周波数の調整量が小さくても、後の洗浄工程に
おいて剥がれ落ちる調整蒸着量が少なくなり、調整蒸着
量が微少な場合でも、調整蒸着を行った後の洗浄工程で
周波数が変化することが少なくなるので、これまでは不
良品とされていた周波数の調整量の微少なものについて
も、良品とすることができる。
【0010】
【実施例】図1は本発明の一実施例である水晶振動子の
振動板の部分を示す。11は水晶板で、サンドブラスト
等の工法により溝部14がくり抜かれており、振動部1
3が設けられている。12aは電気信号の励振用及び入
出力部となるベース電極である。ベース電極12aは電
極引き回し用貫通孔15を介して裏側に引き回されてお
り、裏側に形成されたベース電極12bとともに、振動
部13の振動を電気信号として取り出すことができる。
図2は本実施例の周波数調整蒸着で用いられるマスクを
示す。このマスク17には、ベース電極12a及び振動
部13に接触しないように、スペース18がエッチング
により設けられている。19はマスクの開口部であり、
この領域だけ調整用電極が形成される。調整蒸着を行う
際には、図3の様にマスクをセットする。このようにし
て調整蒸着を行った場合、周波数調整膜としての調整用
電極は図1における16の部分のようにベース電極12
aより小さい領域に蒸着される。
振動板の部分を示す。11は水晶板で、サンドブラスト
等の工法により溝部14がくり抜かれており、振動部1
3が設けられている。12aは電気信号の励振用及び入
出力部となるベース電極である。ベース電極12aは電
極引き回し用貫通孔15を介して裏側に引き回されてお
り、裏側に形成されたベース電極12bとともに、振動
部13の振動を電気信号として取り出すことができる。
図2は本実施例の周波数調整蒸着で用いられるマスクを
示す。このマスク17には、ベース電極12a及び振動
部13に接触しないように、スペース18がエッチング
により設けられている。19はマスクの開口部であり、
この領域だけ調整用電極が形成される。調整蒸着を行う
際には、図3の様にマスクをセットする。このようにし
て調整蒸着を行った場合、周波数調整膜としての調整用
電極は図1における16の部分のようにベース電極12
aより小さい領域に蒸着される。
【0011】ここで、周波数の調整後において、調整蒸
着量が500ppm以下のものについては、洗浄後に周
波数が高周波側に変化していることがわかっている。こ
れは、洗浄によって調整蒸着した分が剥がれ落ちたこと
に起因している。一方、洗浄においてはがれ落ちないよ
うにするには、少なくとも、調整量は500ppm以上
である必要がある。つまり、調整蒸着用の蒸着物が50
0ppmの調整を行う程度の膜厚であれば、洗浄におい
てもはがれ落ちることは少ないといえる。
着量が500ppm以下のものについては、洗浄後に周
波数が高周波側に変化していることがわかっている。こ
れは、洗浄によって調整蒸着した分が剥がれ落ちたこと
に起因している。一方、洗浄においてはがれ落ちないよ
うにするには、少なくとも、調整量は500ppm以上
である必要がある。つまり、調整蒸着用の蒸着物が50
0ppmの調整を行う程度の膜厚であれば、洗浄におい
てもはがれ落ちることは少ないといえる。
【0012】調整蒸着において、周波数の変化はベース
電極12a上に形成される調整用電極16の膜厚と面積
の積にほぼ比例するから、これから調整しようとする量
が250ppm程度のものであれば、図2のように、マ
スク17の開口部19の面積が1/2である形状とし、
この調整蒸着マスク17を図3の様にセットする。この
とき、水晶板11のベース電極12a上に蒸着される面
積は通常の半分となる。これにより、ベース電極12a
上に形成される調整用電極16は、通常の開口部の場合
より総質量が半分になるので、同じ膜厚に対しては周波
数のシフト量も半分となり、調整する量を250ppm
とした場合、調整用電極16の膜厚は従来の場合に比べ
て約2倍となる。これは、従来の開口部のマスクを用い
た場合の調整量の500ppmに相当するから、調整用
電極16の膜厚は、後の洗浄に十分耐えうるものとする
事ができる。
電極12a上に形成される調整用電極16の膜厚と面積
の積にほぼ比例するから、これから調整しようとする量
が250ppm程度のものであれば、図2のように、マ
スク17の開口部19の面積が1/2である形状とし、
この調整蒸着マスク17を図3の様にセットする。この
とき、水晶板11のベース電極12a上に蒸着される面
積は通常の半分となる。これにより、ベース電極12a
上に形成される調整用電極16は、通常の開口部の場合
より総質量が半分になるので、同じ膜厚に対しては周波
数のシフト量も半分となり、調整する量を250ppm
とした場合、調整用電極16の膜厚は従来の場合に比べ
て約2倍となる。これは、従来の開口部のマスクを用い
た場合の調整量の500ppmに相当するから、調整用
電極16の膜厚は、後の洗浄に十分耐えうるものとする
事ができる。
【0013】同様に、たとえば調整量が100ppmの
時には、膜厚が5倍となるように、マスクの開口部の面
積を1/5とする大きさに設定すれば同様の効果が得ら
れる。
時には、膜厚が5倍となるように、マスクの開口部の面
積を1/5とする大きさに設定すれば同様の効果が得ら
れる。
【0014】尚、上記の実施例において、マスク17の
開口部19の形状を矩形としたが、調整量が極く小さい
場合にはベース電極12上に偏って調整用電極16が形
成される結果となり、水晶振動子としての電気特性に影
響を与えかねない。従って、このような場合には、他
に、図4に示す櫛歯状の開口部22を有するマスク17
を用いた櫛歯状の調整用電極、図5に示す渦巻き状の開
口部22を有するマスク17を用いた渦巻き状の調整用
電極、図6に示す網状の開口部22を有するマスク17
を用いた網状の調整用電極、図7に示す複数の丸状の開
口部22を有するマスク17や図8に示す複数の長孔状
の開口部22を有するマスク17を用いたアイランド形
状の調整用電極を形成すればよい。
開口部19の形状を矩形としたが、調整量が極く小さい
場合にはベース電極12上に偏って調整用電極16が形
成される結果となり、水晶振動子としての電気特性に影
響を与えかねない。従って、このような場合には、他
に、図4に示す櫛歯状の開口部22を有するマスク17
を用いた櫛歯状の調整用電極、図5に示す渦巻き状の開
口部22を有するマスク17を用いた渦巻き状の調整用
電極、図6に示す網状の開口部22を有するマスク17
を用いた網状の調整用電極、図7に示す複数の丸状の開
口部22を有するマスク17や図8に示す複数の長孔状
の開口部22を有するマスク17を用いたアイランド形
状の調整用電極を形成すればよい。
【0015】これらのマスクによって、調整用電極を蒸
着すると、ベース電極12a上で均一に形成領域が設け
られるので、水晶振動子の電気的な特性に影響は及ぼさ
ない。このとき、形成領域は規則正しく並んでいる必要
はなく、偏りなく分散されていればよい。
着すると、ベース電極12a上で均一に形成領域が設け
られるので、水晶振動子の電気的な特性に影響は及ぼさ
ない。このとき、形成領域は規則正しく並んでいる必要
はなく、偏りなく分散されていればよい。
【0016】また、上記実施例では水晶振動子について
説明したが、他に、SAWデバイスにおいても有効であ
る。SAWデバイスの場合は、図9に示すように、圧電
性基板23上に設けた励振用の電極24の形成領域より
小さい領域を調整用領域25とし、この領域25に周波
数調整膜として酸化珪素などの絶縁体を構成する。この
場合、マスクの開口部を調整量によって変えたものを用
いて周波数調整を行うことで、周波数の調整量が非常に
微少な場合でも、周波数調整膜の膜厚を厚くすることが
でき、後の洗浄等にも耐える強固な膜を形成することが
できる。
説明したが、他に、SAWデバイスにおいても有効であ
る。SAWデバイスの場合は、図9に示すように、圧電
性基板23上に設けた励振用の電極24の形成領域より
小さい領域を調整用領域25とし、この領域25に周波
数調整膜として酸化珪素などの絶縁体を構成する。この
場合、マスクの開口部を調整量によって変えたものを用
いて周波数調整を行うことで、周波数の調整量が非常に
微少な場合でも、周波数調整膜の膜厚を厚くすることが
でき、後の洗浄等にも耐える強固な膜を形成することが
できる。
【0017】
【発明の効果】このように本発明によれば、ベース電極
上に設けられる周波数調整膜を、同質量とするとき膜厚
が大きくなるように領域を制限して形成したので、周波
数の調整量が小さくとも後の洗浄工程で剥がれ落ちる調
整蒸着量は少ない。従って、調整蒸着量が微少な場合で
も、調整蒸着を行った後の洗浄工程で周波数が変化する
ことが少なく、これまでは不良品とされていた周波数の
調整量の微少なものについても良品とすることができ
る。
上に設けられる周波数調整膜を、同質量とするとき膜厚
が大きくなるように領域を制限して形成したので、周波
数の調整量が小さくとも後の洗浄工程で剥がれ落ちる調
整蒸着量は少ない。従って、調整蒸着量が微少な場合で
も、調整蒸着を行った後の洗浄工程で周波数が変化する
ことが少なく、これまでは不良品とされていた周波数の
調整量の微少なものについても良品とすることができ
る。
【図1】本発明の一実施例である水晶振動子の振動板部
分を示す平面図
分を示す平面図
【図2】同水晶振動子の調整用電極の形成時に用いられ
るマスクを示す平面図
るマスクを示す平面図
【図3】同調整用電極の形成時の断面図
【図4】同マスクの他の例を示す平面図
【図5】同マスクの他の例を示す平面図
【図6】同マスクの他の例を示す平面図
【図7】同マスクの他の例を示す平面図
【図8】同マスクの他の例を示す平面図
【図9】本発明の他の実施例であるSAWデバイスを示
す斜視図
す斜視図
【図10】従来の水晶振動子の振動板部分を示す平面図
【図11】同水晶振動子の調整用電極の形成時に用いら
れてきたマスクを示す平面図
れてきたマスクを示す平面図
【図12】同調整用電極の形成時の断面図
【図13】同水晶振動子における調整蒸着を行った調整
量と洗浄後の周波数のシフト量の関係を示す相関図
量と洗浄後の周波数のシフト量の関係を示す相関図
1,11 水晶板 2a,2b,12a,12b ベース電極 3,13 振動部 4,14 溝部 5,15 電極引き回し用貫通孔 6,16 調整用電極 7,17 マスク 8,18 電極逃げスペース 9,19 開口部 22 開口部 23 圧電性基板 24 励振用電極 25 調整用領域
Claims (6)
- 【請求項1】 圧電性基板の表面にベース電極を設け、
このベース電極上に周波数調整用膜を構成した電子部品
であって、上記周波数調整用膜は上記ベース電極の形成
領域より小さい領域に設けられ、同質量とするときに膜
厚が大きくなる様に領域を制限して形成した電子部品。 - 【請求項2】 圧電性材料からなる基板の表面に設けた
ベース電極と、この電極上に設けた調整用電極より構成
される入出力電極を備える電子部品であって、上記調整
用電極は上記ベース電極の形成領域より小さい領域に設
けられ、同質量とするときに膜厚が大きくなる様に領域
を制限して形成した電子部品。 - 【請求項3】 調整用電極を形成する領域を櫛歯状にし
た請求項2記載の電子部品。 - 【請求項4】 調整用電極を形成する領域を渦巻き状に
した請求項2記載の電子部品。 - 【請求項5】 調整用電極を形成する領域を網状にした
請求項2記載の電子部品。 - 【請求項6】 調整用電極を形成する領域をアイランド
形状にした請求項2記載の電子部品。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7252748A JPH0998052A (ja) | 1995-09-29 | 1995-09-29 | 電子部品 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7252748A JPH0998052A (ja) | 1995-09-29 | 1995-09-29 | 電子部品 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0998052A true JPH0998052A (ja) | 1997-04-08 |
Family
ID=17241739
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7252748A Pending JPH0998052A (ja) | 1995-09-29 | 1995-09-29 | 電子部品 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0998052A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007535279A (ja) * | 2004-05-07 | 2007-11-29 | インテル・コーポレーション | 集積化された多周波数帯圧電薄膜共振器(fbar)の形成 |
-
1995
- 1995-09-29 JP JP7252748A patent/JPH0998052A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007535279A (ja) * | 2004-05-07 | 2007-11-29 | インテル・コーポレーション | 集積化された多周波数帯圧電薄膜共振器(fbar)の形成 |
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