JPH0999210A - 溶剤ガス処理装置及び溶剤ガス処理方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 処理効率が良く、且つ吸着剤を繰り返し使用
することができる溶剤ガス処理装置及び溶剤ガス処理方
法を提供することを課題とする。 【解決手段】 溶剤を含む原ガスを導入し、吸着剤12を
流動させながら前記原ガスと接触させて原ガス中の溶剤
を吸着剤12に吸着させる吸着部4 を有する吸着塔1 を具
備する溶剤ガス処理装置において、前記吸着剤12が高分
子からなり、且つ前記吸着塔1 の上流側に原ガスを吸着
塔1 内へ圧送すべくブロアー13が設けられたことを解決
手段として有する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、工場等から排出さ
れる有機溶剤を含む有害な排ガス等を除去して、浄化ガ
スとして排出する溶剤ガス処理装置及び溶剤ガス処理方
法の改良に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、塗装工場、印刷工場、化学工場及
び磁気テープ製造工場等の有機溶剤を使用する工場から
排出される溶剤を含んだガスを浄化する装置の１つとし
て、図３に示すような球状活性炭を用いた流動床式の溶
剤ガス処理装置が使用されていた。

【０００３】即ち、球状活性炭からなる吸着剤42を上方
から下方へ流動させながら移動する多段式流動床を有
し、原ガス導入路35が接続された原ガス導入口35a から
原ガスを導入して、該原ガスを前記流動床34を流動する
吸着剤42に向流接触させて溶剤を吸着剤42に吸着させて
溶剤が除去されたガスを排出する吸着塔31と、該吸着塔
31で溶剤を吸着した吸着剤42を移送して、溶剤の沸点ま
で水蒸気等の加熱手段34によって吸着剤42を加熱しなが
ら外気や窒素ガス等からなる脱着用ガスを向流接触させ
て、溶剤を該吸着剤42から脱着する脱着塔32とからな
り、該脱着塔32において脱着された吸着剤42は再び吸着
塔31へ移送され吸着剤42として繰り返し利用するもので
ある。

【０００４】さらに、吸着剤42を脱着した後の脱着後ガ
スは、脱着後ガス排出路40からコンデンサー45を通り、
脱着後ガスに含まれる溶剤成分が冷却、凝縮されて回収
部に回収される。

【０００５】また、前記吸着塔31に原ガスを導入する手
段としては、浄化ガス排出路36に設けられたブロアー44
によって、原ガス導入路35から原ガスを吸着塔31内部に
吸引するように設けられている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】このような溶剤ガス処
理装置では、上記のように吸着剤42として球状の活性炭
を使用しているため、流動床14を流動する時や、移送時
に吸着剤42同士や移送路の内壁等に接触して活性炭が磨
耗することがあり、浄化ガス中に黒粉が混入するおそれ
があった。また、このように活性炭が磨耗することによ
り活性炭が減容化して処理能力が低下したり、或いは脱
着塔32において吸着剤42から溶剤を脱着させる際に、溶
剤の脱着する温度にまで吸着剤42を加熱するため、特に
高温で脱着する溶剤の場合には、加熱により吸着剤42に
熱劣化が生じるため、吸着剤42を長期間繰り返して使用
することは困難であり不経済であった。また、活性炭は
水分を吸着するので湿度の高い原ガスを処理することが
できず、さらには触媒作用があるため回収される溶剤の
品質が低く、変質等の問題があった。

【０００７】また、原ガスを吸着塔31内に導入する手段
として、浄化ガス排出路36にブロアー44を設けて、該ブ
ロアー44によって吸着塔31を吸引して原ガスを原ガス導
入口35a から吸着塔31内に導入するため、吸着塔31内部
は外部より減圧状態になる。吸着剤42が溶剤を吸着する
場合に、やや加圧条件下の方が吸着し易いが、このよう
に吸着塔31内が減圧状態になると、溶剤を吸着しにくく
なり、吸着塔31での吸着効率が低下するという問題が生
じていた。

【０００８】本発明は、このような問題点を解決するた
めになされたものであり、処理効率が良く、且つ吸着剤
を繰り返し使用することができる溶剤ガス処理装置及び
溶剤ガス処理方法を提供することを課題とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】

（構成）本発明は、このような課題を解決するために、
溶剤ガス処理装置とその方法としてなされたもので、溶
剤ガス処理装置としての特徴は、溶剤を含む原ガスを導
入し、吸着剤12を流動させながら前記原ガスと接触させ
て原ガス中の溶剤を吸着剤12に吸着させる吸着部4 を有
する吸着塔1 を具備する溶剤ガス処理装置において、前
記吸着剤12が高分子からなり、且つ前記吸着塔1 の上流
側に原ガスを吸着塔1 内へ圧送すべくブロアー13が設け
られたことにある。

【００１０】また、溶剤ガス処理方法としての特徴は、
吸着塔1 内に導入された溶剤を含む原ガスを、吸着塔1
内の吸着部4 において流動する吸着剤12に接触させて溶
剤を吸着剤12に吸着させた後に、溶剤が除去されたガス
を排出する溶剤ガス処理方法において、前記吸着剤12が
高分子からなり、前記吸着塔1 の上流側に設けられたブ
ロアー13によって原ガスを圧送して吸着塔1 内に導入す
ることにある。

【００１１】（作用）すなわち上記のように本発明で
は、吸着剤12として高分子からなる吸着剤を使用したた
め、移送時に磨耗したり脱着時の熱によって熱劣化する
ことがないため長期間繰り返し使用することができる。
また、高分子から人工的に形成する吸着剤であるため、
溶剤の種類に応じてその溶剤に対する吸着能力を高める
ような吸着剤12の粒子の大きさ、密度、機械的強度等を
適宜調整することも容易にできる。また高分子から形成
された吸着剤であるため、活性炭のように水分を吸着す
ることがなく、湿度の高い原ガスを処理することができ
る。さらに、活性炭のような触媒作用がないため回収さ
れる溶剤の品質が高くなる。

【００１２】また、原ガスを吸着塔１に導入するため
に、吸着塔１より上流側に設けられたブロアー13によっ
て原ガスを吸着塔1 へ圧送するため、該吸着塔1 内部は
やや加圧状態になる。従って、吸着塔1 内が吸着剤12に
溶剤を吸着させるのに良好な環境となり吸着効率が向上
する。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態の一例
について図面に従って説明する。先ず、溶剤ガス処理装
置の構成について説明する。図１に示す１は、下部に原
ガス導入路５が接続された原ガス導入口5aが設けられ、
該原ガス導入口5aから溶剤を含む原ガスが導入され、該
原ガスを吸着させるために、吸着剤12が最上段から最下
段まで流動される吸着部としての多段式流動床４を有す
る吸着塔である。

【００１４】原ガス導入路５にはブロアー13が設けら
れ、該ブロアー13によって原ガス導入口5aから吸着塔１
内部に原ガスが圧送される。吸着剤12は合成樹脂等の高
分子から形成され、高分子の材質、細孔の大きさ、密
度、粒径等は吸着する溶剤の種類に応じて、溶剤に対す
る吸着能が高くなるように適宜選択される。

【００１５】また、吸着塔１の上部にはガス排出路６が
接続された浄化ガス排出口6aが設けられている。

【００１６】２は、前記多段式流動床４を最下段まで移
動された溶剤を吸着した吸着剤12が吸着剤移送路７を通
って導入される脱着塔で、該脱着塔２内には、吸着剤12
を脱着塔２の下方へ落下移動させる移動部14が形成され
ている。該脱着塔２には水蒸気導入路15が設けられ、該
水蒸気導入路15から導入された水蒸気によって移動部14
を落下する吸着剤12は溶剤を脱着するのに適当な温度に
間接的に加熱される。

【００１７】８は、前記移動部14の下部に設けられ、脱
着塔２において溶剤が脱着されて再生された吸着剤12を
前記吸着塔１内の多段式流動床４の最上部に返送する吸
着剤返送路である。

【００１８】９は、外気を脱着用ガスとして脱着塔２の
下方から導入する脱着用ガス導入路で、該脱着用ガス導
入路９にはブロアー18が設けられ、該ブロアー18によっ
て脱着用ガスは脱着塔２内に圧送されて、該圧力によっ
て脱着塔２の下方から上方に向かって流される。

【００１９】10は、脱着塔２内で吸着剤12に含まれる溶
剤を脱着した後の溶剤を含む脱着後ガスを排出するため
の脱着後ガス排出路である。該脱着後ガス排出路10には
コンデンサー16が接続され、脱着後ガスに含まれる溶剤
を冷却凝縮して、該コンデンサー16の下流に接続された
溶剤回収部17において凝縮された溶剤が回収されるよう
に形成されている。尚、本実施の形態では溶剤を回収す
るようにしたが、この他、溶剤を触媒酸化や直接燃焼さ
せて除去するための燃焼装置を脱着後ガス排出路10に配
置してもよい。

【００２０】次に、上記の構成からなる溶剤ガス処理装
置によって工場等から排出された溶剤を含む原ガスから
溶剤を除去する場合について説明する。

【００２１】まず、前記吸着塔１に接続された原ガス導
入路５に設けられたブロアー13によって溶剤を含む原ガ
スを、吸着塔１の下部に設けられた原ガス導入口5aから
吸着塔１内に圧送して導入する。吸着塔１内に導入され
た原ガスは、該ブロアー13の圧送力によって下方から上
方へ送られて、前記流動床４を上段から下段に向かって
移動されている吸着剤12と向流接触される。

【００２２】この吸着塔１内は、ブロアー13によって原
ガスが吸着塔１内に圧送されることによって外部に比べ
てやや加圧状態になっており、吸着剤12は加圧されると
溶剤を吸着しやすくなる傾向があるため、このような加
圧状態の吸着塔１内において溶剤は吸着剤12に吸着され
やすくなる。

【００２３】このように原ガスに含まれる溶剤は吸着剤
12に吸着され、吸着塔１の上部の浄化ガス排出口6aから
は溶剤を除去された浄化ガスが排出され浄化ガス排出路
６を通って外部へ放出される。

【００２４】一方、多段式流動床４を流動されて溶剤を
吸着した吸着剤12は、最下段まで移動された後、前記吸
着剤移送路７から脱着塔２内へ導入される。該吸着剤12
は、水蒸気導入路15から導入された水蒸気によって脱着
に必要な温度まで間接的に加熱されながら脱着塔２内の
前記移動部14内を落下する。この脱着に必要な温度は、
溶剤の種類や吸着剤12の材質等に応じて適宜決定され
る。

【００２５】また、該脱着塔２内には、前記脱着用ガス
導入路９から外気を脱着用ガスとして脱着用ガス導入路
９に設けられたブロアー18によって脱着塔２内へ圧送
し、該ブロアー18の圧送力によって脱着用ガスは脱着塔
内を下方から上方へ向かって流される。

【００２６】従って、吸着剤12に吸着されていた溶剤は
脱着され、さらに該脱着された溶剤は脱着用ガスによっ
て脱着塔２の上方へ運搬され、脱着塔２の下方へ移送さ
れた吸着剤12は、吸着剤返送路８を通って吸着塔１の流
動床の最上段へ移送されて、再び吸着剤12として流動床
４で流動される。

【００２７】そして、溶剤を脱着した後の脱着後ガス
は、脱着塔２の上部の脱着後ガス排出路10から脱着塔２
外へ排出され、該脱着後ガス排出路10に接続されたコン
デンサー16によって脱着後ガスに含まれていた溶剤は冷
却凝縮され、溶剤回収部17に回収される。

【００２８】尚、上記実施の形態の一例では、脱着塔２
内へ脱着用ガスを導入する手段として脱着用ガス導入路
９に設けられたブロアー18によって圧送したが、脱着塔
２内へ脱着用ガスを導入するブロアー18を脱着塔２上部
に接続された脱着後ガス排出路10に設けて、該ブロアー
18によって脱着塔２内部を吸引して、脱着用ガスを脱着
塔２に接続された脱着用ガス導入路９から脱着塔２に引
き込んでもよい。この場合、脱着塔２内はブロアー18に
よって吸引され、外部と比べるとやや減圧状態となり、
そのため溶剤が吸着剤12から脱着されやすい条件となり
脱着効率が向上するという利点がある。

【００２９】また、上記実施の形態において、脱着塔２
内の吸着剤12を脱着するための加熱手段として水蒸気を
使用したが、加熱手段はこれに限定されるものではな
く、例えば水蒸気以外の熱媒体やヒーターを用いたり、
或いは脱着用ガスを予め加熱しておき、該脱着用ガスの
熱によって吸着剤12を所定の温度まで加熱して脱着して
もよい。

【００３０】さらに、脱着塔２内で吸着剤12を移送する
手段としては、上記実施の形態のように上部から下方へ
落下するように設けられた移動部14の他に、吸着塔１の
吸着部のような多段式の流動床であってもよい。

【００３１】さらに、上記実施の形態では、脱着塔２に
外気を脱着用ガスとして導入して、脱着される吸着剤12
と向流接触させたが、この他脱着用ガスとしては窒素ガ
ス等を用いてもよい。

【００３２】また、上記実施の形態では、脱着後ガス排
出路10に溶剤回収部17を配置して溶剤を回収させるよう
にしたが、このような溶剤回収部17以外に、除去した溶
剤を触媒酸化や直接燃焼させて除去する燃焼装置を該溶
剤回収部17の代わりに配置してもよい。

【００３３】

【発明の効果】叙上のように、本発明は吸着剤が高分子
からなるため、磨耗や熱劣化しにくく、吸着剤として何
度も繰り返して使用することができ経済的であるととも
に、高分子の吸着性能を調整することが容易であるた
め、より処理する溶剤に適した吸着剤を形成することが
できる。

【００３４】また、吸着塔内に原ガスを導入する手段と
して、吸着塔の上流側にブロアーを設け、該ブロアーに
よって原ガスを圧送して吸着塔内へ導入するため、吸着
塔内がやや加圧状態になる。従って、吸着塔内は溶剤が
吸着剤に吸着されやすい状態になり、吸着効率が向上
し、原ガスを効率よく浄化することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態の一例としての溶剤ガス処
理装置の概略構成図。

【図２】他の実施の形態の例の溶剤ガス処理装置の概略
構成図。

【図３】従来の溶剤ガス処理装置の概略構成図。

【符号の説明】

１ 吸着塔 ２ 脱着塔 ４ 多段流動床（吸着部） ６ ガス排出口 ８ 吸着剤返送路（返送路） 12 吸着剤 13 ブロアー 18 ブロアー

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 溶剤を含む原ガスを導入し、吸着剤(12)
   を流動させながら前記原ガスと接触させて原ガス中の溶
   剤を吸着剤(12)に吸着させる吸着部(4) を有する吸着塔
   (1) を具備する溶剤ガス処理装置において、前記吸着剤
   (12)が高分子からなり、且つ前記吸着塔(1) の上流側に
   原ガスを吸着塔(1) 内へ圧送すべくブロアー(13)が設け
   られたことを特徴とする溶剤ガス処理装置。
2. 【請求項２】 吸着塔(1) 内に導入された溶剤を含む原
   ガスを、吸着塔(1) 内の吸着部(4) において流動する吸
   着剤(12)に接触させて溶剤を吸着剤(12)に吸着させた後
   に、溶剤が除去されたガスを排出する溶剤ガス処理方法
   において、前記吸着剤(12)が高分子からなり、前記吸着
   塔(1) の上流側に設けられたブロアー(13)によって原ガ
   スを圧送して吸着塔(1) 内に導入することを特徴とする
   溶剤ガス処理方法。