JPH10102236A - スパッタ装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 基板に対して異なる方向に磁場を印加するこ
とが可能な簡易な構成のスパッタ装置を提供する。 【解決手段】 真空容器１内に回転可能に設けられた試
料台２に対向して同心円周上に複数のカソード３が配置
され、試料台２に保持された基板２０の表面に異なる向
きの磁場を設定する複数の磁石４１，４２，４３，４４
は、磁石保持体４によって一体に保持されるとともに磁
石保持体４を中心軸の周りに回転させる回転機構が設け
られている。磁石４１，４２，４３，４４を成膜の際に
基板２０に接近した位置にし、放電手段６による基板２
０のクリーニングの際に磁石４１，４２，４３，４４を
基板２０から離間した位置にするよう磁石保持体を移動
させる移動機構が設けられている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本願の発明は、基板の表面に
磁性薄膜を作成するスパッタ装置に関し、特に、磁気ヘ
ッド等の製作に必要な磁気異方性を有する薄膜を作成す
るスパッタ装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】基板の表面への磁性薄膜の作成には、従
来よりスパッタ装置が多く用いられている。このうち、
磁気記録媒体の信号読み出し用等に使用される磁気ヘッ
ド用の磁性薄膜の作成においては、磁気異方性を有する
薄膜を作成することが必要である。図４は、このような
磁気異方性を有する薄膜を作成することが可能な従来の
スパッタ装置の構成を示した正面断面概略図であり、図
５は、図４の装置のＢ−Ｂでの断面を上から見た平面断
面概略図である。

【０００３】図４に示すスパッタ装置は、排気系１１を
備えた真空容器１と、真空容器１内の所定の位置に設け
られた試料台２と、試料台２に対向した真空容器１内の
位置に配設された複数のカソード３と、試料台２に保持
された基板２０の表面に所定の磁場を設定する磁石４
１，４２と、試料台２とカソード３との間に配設されて
使用するカソード３を選択するシャッター板５とから主
に構成されている。

【０００４】試料台２は円盤状の部材であり、その下面
に基板２０を保持するようになっている。基板２０の保
持は、基板２０の周縁を機械的に保持する機構によって
行われる。この試料台２の上面中央には、上方に向けて
の延びる回転軸２１が固定されている。回転軸２１は、
不図示の回転機構が連結されており、試料台２は回転軸
２１を介して中心軸Ａの周りに自転するようになってい
る。尚、基板２０は、試料台２の中心軸Ａから偏心した
位置に配置される。従って、試料台２が自転した際、基
板２０は試料台２の中心軸Ａの周りに公転することにな
る。

【０００５】また、カソード３は、図４及び図５から分
かるように、試料台２の中心軸Ａと同心円周上に等間隔
をおいて複数配置されている。そして、試料台２が自転
して所定位置に停止した際、基板２０と特定のカソード
３は同軸上に対向した状態となるようになっている。各
々のカソード３は、所定の材料よりなるターゲット３１
と、ターゲット３１の下側に配設された磁石機構３２と
から構成され、不図示のカソード電源によって所定の電
圧が印加されるようになっている。尚、各カソード３の
ターゲット３１は、異なる磁性材料で形成される場合が
多い。これは、基板２０の表面に異種の薄膜を積層する
必要があるためにである。

【０００６】磁石４１，４２は、図２から分かるよう
に、二本の棒状の永久磁石である。二本の磁石４１，４
２は、基板２０の直径よりも若干大きな離間間隔で平行
に配置されており、図４中矢印４００で示す向きの磁場
を印加するようになっている。尚、二本の磁石４１，４
２は、試料台２の下面に固定されており、従って、試料
台２の回転とともに回転するようになっている。

【０００７】カソード３と試料台２との間に配置された
シャッター板５は、試料台２と同軸上に配置された円板
状の部材である。シャッター板５は、中心軸Ａからのカ
ソード３の半径距離と同じ距離の位置に開口５１を有し
ている。開口５１の大きさは、カソード３よりも僅かに
大きい程度である。シャッター板５の下面中央には回転
軸５２が固定されて下方に延びており、連結された不図
示の回転機構によってシャッター板５は中心軸Ａの周り
に自転するようになっている。そして、上記基板２０と
特定のカソード３が対向した状態で、その基板２０とカ
ソード３の間に開口５１が位置するようにシャッター板
５を回転停止させることで、特定のカソード３を選択し
てスパッタリングに使用することができる。

【０００８】また、図４及び図５に示す装置は、真空容
器１内に所定のガスを導入する不図示のガス導入系を備
えている。このガス導入系は、アルゴン等の不活性ガス
を導入し、カソード３が与える電界によってスパッタ放
電を生じさせるよう構成されている。

【０００９】図４及び図５に示すスパッタ装置では、不
図示のゲートバルブを通して基板２０を真空容器１内に
搬入し、試料台２上の所定位置に保持させた後、排気系
１１を動作させて所定圧力まで真空容器１内を排気す
る。並行して、試料台２及びシャッター板５を回転さ
せ、所定のカソード３が基板２０に対向し、その間にシ
ャッター板５の開口が位置する状態とする。

【００１０】この状態で、ガス導入系を動作させて所定
のガスを所定の流量で導入し、基板２０に対向したカソ
ード３を動作させる。即ち、当該カソード３のカソード
電源を動作させてスパッタ放電を生じさせ、ターゲット
３１をスパッタする。スパッタされたターゲット３１の
材料は、シャッター板５の開口５１を通って基板２０の
表面に達し、当該表面に所定の薄膜が作成される。

【００１１】次に、試料台２及びシャッター板５を回転
させ、基板２０が別のカソード３に対向し、その間にシ
ャッター板５の開口５１が位置した状態となるようにす
る。この状態で、所定のガスを所定量導入しながら、当
該別のカソード３を動作させる。これによって、当該別
のカソード３を構成するターゲット３１の材料の薄膜が
積層される。このようにして、使用するカソード３を順
次選択しながら所定の薄膜を積層する。そして、複数の
カソード３のうちの一部又は全部は磁性材料よりなるタ
ーゲット３１を備えており、磁性薄膜を含む所定の薄膜
が積層されるようになっている。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】上記のようなスパッタ
リングによる磁性薄膜の積層技術の重要な適用分野の一
つに、磁気記録媒体の信号読み出し用等に使用される磁
気ヘッドの製作が挙げられる。最近では、外部磁界によ
りその電気抵抗が変化する異方性磁気抵抗効果(ＡＭ
Ｒ，anisotropic magnetoresistance effect) を使用し
た磁気ヘッドが多く生産されている。

【００１３】このうち、巨大磁気抵抗ヘッド（ＧＭＲ）
等のある種の磁気ヘッドの製作においては、異なる向き
に一軸異方性を持つ強磁性薄膜を積層した構造をとる。
このような磁気ヘッドの製作においては、基板に対して
異なる向きに磁場を印加しながらスパッタ成膜すること
が必要になるが、述した従来のスパッタ装置では、スパ
ッタ成膜される基板に対しては一つの向きの磁場を印加
できるのみであり、基板２０に対して異なる向きに磁場
を印加する機能はなかった。従って、このような異なる
向きに一軸異方性を有する磁性薄膜を積層する必要のあ
る磁気デバイスについては、従来のスパッタ装置で成膜
工程を行うことはできなかった。

【００１４】基板に対して異なる向きに磁場を印加する
には、（１）磁石を基板の中心軸の周りに回転させる、
（２）磁石に電磁石を採用し、磁場の向きを電気的に変
化させる、（３）磁石は固定された状態とし、自転機構
による回転又はアームによる再配置などの方法により成
膜のたびに基板の向きを変える、等の構成が考えられ
る。

【００１５】しかしながら、（１）や（３）の構成で
は、基板を公転させる試料台の回転機構に付加するよう
にして基板中心軸周りの回転機構が必要になるため、機
械的に非常に複雑になる欠点がある。また、（２）の構
成では、真空容器１内に複雑な配線を設ける必要が生
じ、放電からの配線の保護等のやっかいな問題が発生す
る。さらに、電磁石は永久磁石に比べて大きくなり易い
ので、試料台周辺の構成が大がかりになり易いという欠
点もある。

【００１６】本願の発明は、このような課題を解決する
ためになされたものであり、基板に対して異なる方向に
磁場を印加することが可能な簡易な構成のスパッタ装置
を提供することを目的とする。

【００１７】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本願の請求項１記載の発明は、排気系を備えた真空
容器と、真空容器内の所定の位置に設けられるとともに
中心軸の周りに回転可能に設けられた試料台と、試料台
に対向した真空容器内の位置であって試料台の中心軸と
同心円周上に所定間隔をおいて配置された複数のカソー
ドと、試料台に保持された基板の表面に異なる向きの磁
場を設定することが可能な複数の磁石とを備え、成膜す
る基板を試料台の中心軸から偏心した所定位置に配置す
るとともに使用するカソードに対向した位置に基板が配
置されるよう試料台を回転停止させて成膜を行うスパッ
タ装置であって、前記複数の磁石は、試料台とカソード
との間の位置に試料台と同軸上に配設された磁石保持体
によって一体に保持されるとともに中心軸と同心円周上
に所定間隔をおいて配置されており、この磁石保持体
は、カソードからのスパッタ粒子の通過を許容する形状
を有し、さらに、磁石保持体を中心軸の周りに回転させ
て使用する磁石を基板の表面近傍の位置に配置する回転
機構が設けられているという構成を有する。また、上記
課題を解決するため、請求項２記載の発明は、上記請求
項１の構成において、磁石保持体に保持された磁石が、
基板に接近した第一の位置と、基板から離間した第二の
位置とを取り得るよう磁石保持体を移動させる移動機構
が設けられているとともに、前記試料台に保持された基
板をクリーニングするための放電を生じさせる放電手段
が設けられているという構成を有する。

【００１８】

【発明の実施の形態】以下、本願発明の実施の形態につ
いて説明する。図１は、本願発明の実施形態に係るスパ
ッタ装置の構成を示した正面断面概略図であり、図２
は、図１の装置のＢ−Ｂでの断面を上から見た平面断面
概略図である。尚、図１の（ａ）（ｂ）は、異なる動作
状態を示している。

【００１９】図１に示すスパッタ装置は、排気系１１を
備えた真空容器１と、真空容器１内の所定の位置に設け
られるとともに中心軸Ａの周りに回転可能に設けられた
試料台２と、試料台２に対向した真空容器１内の位置で
あって試料台２の中心軸Ａと同心円周上に所定間隔をお
いて配置された複数のカソード３と、試料台２に保持さ
れた基板２０の表面に異なる向きの磁場を設定すること
が可能な複数の磁石４１，４２，４３，４４とを備えて
いる。

【００２０】真空容器１は、不図示のゲートバルブを備
えた気密な容器である。排気系１１は、例えば拡散ポン
プやクライオポンプ等を備えて、真空容器１内を１０^-5
パスカル程度の圧力まで排気可能に構成される。試料台
２は、図４に示す装置と同様、円盤状の形状であり、回
転軸２１が上面に固定され、不図示の回転機構によって
中心軸Ａの周りに回転するようになっている。試料台２
は、基板２０の周縁を機械的に保持する不図示のチャッ
ク機構を有し、その下面に基板２０を保持するよう構成
されている。基板２０は、従来と同様に試料台２の中心
軸Ａから偏心した位置に配置され、試料台２が自転した
際に、試料台２の中心軸Ａの周りに公転するようになっ
ている。

【００２１】カソード３についても、従来と同様に、試
料台２の中心軸Ａと同心円周上に等間隔をおいて複数配
置されている。そして、試料台２が回転して所定位置に
停止した際、基板２０と特定のカソード３は同軸上に対
向した状態となるようになっている。各々のカソード３
は、所定の材料よりなるターゲット３１と、ターゲット
３１の下側に配設された磁石機構３２とから構成され、
不図示のカソード電源によって所定の電圧が印加される
ようになっている。尚、各カソード３のターゲット３１
は、異なる磁性材料で形成されており、基板２０の表面
に異種の薄膜を積層することが可能になっている。ま
た、磁石機構３２は、マグネトロンスパッタリングのた
めの磁場をターゲット３１の表面上に形成するものであ
る。

【００２２】複数の磁石４１，４２，４３，４４につい
ての構成は、本実施形態の装置の大きな特徴点を成して
いる。複数の磁石４１，４２，４３，４４は、図１及び
図２に示すように、棒状の二組の永久磁石からなるもの
である。一つの組を構成する磁石４１，４２，４３，４
４の上面には、相異なる磁極が現れるようになってお
り、基板２０の表面に沿うようにして一方向性の磁場が
設定されるよう構成されている。

【００２３】そして、二組の磁石４１，４２，４３，４
４は、基板２０の表面に異なる向きの磁場を設定するこ
とが可能になっている。具体的には、各組を構成する棒
状の磁石４１，４２，４３，４４は、互いに平行な方向
に長いものである。そして、第一の組を構成する磁石４
１，４２と第二の組を構成する磁石４３，４４とは、９
０度異なる方向に長い形状となっている。この結果、各
組の磁石４１，４２，４３，４４によって９０度異なる
向き（図２中、矢印４００，４０１で示す）の一方向性
磁場が設定されるようになっているのである。

【００２４】これらの複数の磁場４１，４２，４３，４
４は、図１及び図２に示すように、試料台２とカソード
３との間の位置に試料台２と同軸上に配設された磁石保
持体４０の上面に固定されており、磁石保持体４０によ
って一体に保持されている。各組の磁石４１，４２，４
３，４４は、その中心点が中心軸Ａの同心円周上になる
ように所定間隔をおいて配置されている。

【００２５】磁石保持体４０は、円盤状の部材であり、
その下面中央には回転軸４５が設けられている。回転軸
４５には、不図示の回転機構が付設されており、磁石保
持体４０は、中心軸Ａの周りに回転可能になっている。
回転機構は、回転軸４５に連結されたギヤ又はベルト等
の運動伝達系とモータ等の回転駆動源とから構成され
る。

【００２６】また、磁石保持体４０は、基板２０と特定
のカソード３が対向した際に基板２０とそのカソード３
との間に位置する開口４６を有している。開口４６は、
カソード３よりも若干大きく、カソード３から飛来する
スパッタ粒子を充分通過させて基板２０に到達させるよ
うになっている。

【００２７】さらに、磁石保持体４０には、磁石保持体
４０を中心軸Ａの方向に直線移動させる不図示の移動機
構が付設されている。この移動機構は、磁石保持体４０
の回転軸４５に連結されたものであり、回転軸４５を介
して磁石保持体４０を移動させ、磁石保持体４０上の磁
石が、基板２０に接近した第一の位置と、基板２０から
離間した第二の位置とを取り得るよう構成されている。

【００２８】移動機構は、磁石保持体４０の回転軸４５
に連結された直線運動機構であり、回転軸４５又は回転
軸４５に固定されたアームを上下動させるエアシリンダ
等の直線駆動源と、この直線駆動源をガイドするリニア
ガイド等から構成される。この移動機構は、前述した回
転機構に回転軸４５との連結を着脱することが可能な部
材を設け、回転軸４５を回転機構から切り離した状態で
回転軸４５を上下動させるよう構成してもよい。

【００２９】また、上記磁石保持体４０の下側には、シ
ャッター板５が配設されている。シャッター板５は、図
４及び図５に示す従来のものとほぼ同様の構成である。
即ち、シャッター板５は、試料台２と同軸上に配置され
た円板状の部材であり、中心軸Ａからのカソード３の半
径距離と同じ距離の位置に開口５１を有している。開口
５１の大きさは、カソード３よりも僅かに大きい。尚、
図２中、シャッター板５の図示は省略されている。

【００３０】そして、シャッター板５の下面中央には回
転軸５２が固定されて下方に延びており、連結された不
図示の回転機構によってシャッター板５が中心軸Ａの周
りに回転し、上記開口５１を基板２０とカソード３の間
に位置させることが可能となっている。このシャッター
板５により、使用されていないカソード３から不必要に
スパッタ材料が基板２０に飛来するのが防止される。

【００３１】尚、本実施形態の装置では、シャッター板
５の回転軸５２は円筒状の形状になっており、内部に磁
石保持体４０の回転軸４５が挿通されている。また、シ
ャッター板５の回転軸５２と真空容器１の器壁の間、及
び、シャッター板５の回転軸５２の内面と磁石保持体４
０の回転軸４５の間には、不図示の真空シールが設けら
れて気密封止している。真空シールは、磁性流体等を用
いたメカニカルシールであり、回転軸５２，４５の回転
を許容しつつ気密封止を確保している。また、前述した
試料台２の回転軸と真空容器１の器壁との間に不図示の
同様な真空シールが設けられている。

【００３２】また、図１及び図２に示す装置は、従来の
装置と同様、真空容器１内に所定のガスを導入する不図
示のガス導入系を備えている。ガス導入系は、アルゴン
等の不活性ガスを導入し、カソードが与える電界によっ
てスパッタ放電を生じるようになっている。

【００３３】さらに、本実施形態の装置では、試料台２
に保持された基板２０をクリーニングするための放電を
生じさせる放電手段６が設けられている。放電手段６
は、試料台２に所定の電圧を印加する試料台電源６１を
含む電力供給系である。試料台電源６１は、例えば所定
の周波数の高周波を試料台２に印加するように構成され
る。不図示のガス導入系によって所定のガスを真空容器
１内に導入させた状態で放電手段６を導ささせると、基
板２０が高周波スパッタされる。この高周波スパッタに
よて、基板２０の表面の汚れ等が除去されるようになっ
ている。

【００３４】次に、図３を併用しながら、上記構成に係
る本実施形態のスパッタ装置の動作について説明する。
図３は、図１及び図２に示すスパッタ装置の動作を説明
する斜視概略図である。

【００３５】まず、不図示のゲートバルブを通して基板
２０を真空容器１内に搬入し、試料台２上の所定位置に
保持させた後、排気系１１を動作させて所定圧力まで真
空容器１内を排気する。並行して、試料台２及びシャッ
ター板５を回転停止させ、所定のカソード３が基板２０
に対向し、その間にシャッター板５の開口５１が位置す
る状態とする。また、図３（ａ）に示すように、磁石保
持体４０に設けられた不図示の回転機構及び移動機構を
動作させて第一の組の磁石４１，４２が基板２０の近傍
に位置するようにする。

【００３６】この状態で、不図示のガス導入系を動作さ
せて所定のガスを所定の流量で導入し、基板２０に対向
したカソード３を動作させる。即ち、当該カソード３の
カソード電源を動作させてスパッタ放電を生じさせ、タ
ーゲット３１をスパッタする。スパッタされたターゲッ
ト３１の磁性材料は、シャッター板５の開口５１を通っ
て基板２０の表面に達し、当該表面に第一の磁性薄膜が
作成される。この際、基板２０の近傍に位置する第一の
組の磁石４１，４２によって基板２０の表面に所定の一
方向性磁場が印加されているため、作成される第一の磁
性薄膜は、この磁場の向き（矢印４００）に沿った一軸
異方性を有するものになる。

【００３７】そして、試料台２及びシャッター板５を回
転させ、基板２０が別のカソード３に対向し、その間に
シャッター板５の開口が位置した状態になるようにす
る。また、図３（ｂ）に示すように、磁石保持体４０の
回転機構を動作させて第二の組の磁石４３，４４が基板
２０の近傍に位置するようにする。この状態で所定のガ
スを所定量導入しながら、当該別のカソード３を動作さ
せる。これによって、当該別のカソード３を構成するタ
ーゲット３１の材料よりなる第二の磁性薄膜が積層され
る。この際、第二の組の磁石４３，４４は、第一の磁石
４１，４２とは９０度異なる向きの磁場を印加するよう
になっているため、作成される第二の磁性薄膜は、前記
第一の磁性薄膜に比べて９０度異なる向き（矢印４０
１）の一軸異方性を有することになる。

【００３８】このようにして、使用するカソード３を順
次選択しながら所定の薄膜を積層する。尚、複数のカソ
ード３のうち、特定のカソード３のターゲット３１には
非磁性材料を使用することもある。例えば、ある種の磁
気ヘッドの製作においては、Ｔａ（タンタル）シート層
を磁性薄膜に積層して形成することがあるが、このよう
な場合には、Ｔａ製のターゲット３が使用される。

【００３９】上述のような成膜に際して、基板２０の表
面クリーニングを行うことがある。この表面クリーニン
グは、基板２０の表面に付着した油脂等の汚れや表面保
護膜等をスパッタエッチングによって除去するものであ
る。上記クリーニングは、以下の手順で行われる。即
ち、試料台２に基板２０を保持させた後、磁石保持体４
０に設けられた移動機構を動作させ、図１（ａ）に示す
ように、磁石４１，４２，４３，４４を基板２０から離
間した第二の位置に配置させる。この状態で、ガス導入
系によって所定のガスを所定量導入しながら、放電手段
６を動作させる。この結果、高周波スパッタによって基
板２０の表面がスパッタエッチングされ、表面の汚れ等
が除去される。

【００４０】この際、磁石４１，４２，４３，４４が基
板２０から離間した第二の位置に位置するので、基板２
０の表面には本質的に磁場は印加されない。このため、
高周波放電によって生ずるプラズマの状態は磁場の影響
を受けずに安定して均一なものとなり、安定した均一な
クリーニングが行われる。基板２０の近傍に磁石４１，
４２，４３，４４を位置させたままでクリーニングを行
うと、プラズマが磁石４１，４２，４３，４４の影響を
受けて不安定になったり不均一になったりして、クリー
ニングが充分行えない問題があるが、本実施形態の装置
によれば、このような問題がない。

【００４１】このようにしてクリーニングが終了し、そ
の後、前述した磁性薄膜の成膜を行う場合、磁石保持体
４０の移動機構を動作させ、図１（ｂ）に示すように、
磁石を基板２０の近傍の位置に配置する。そして、同様
に、クリーニング後の基板２０について成膜を行う。こ
の際、基板２０の表面が清浄になっているので、薄膜の
付着性等の点で問題になることがない。

【００４２】上述した構成及び動作に係る本実施形態の
スパッタ装置では、異なる向きの磁場を印加する複数の
磁石４１，４２，４３，４４が磁石保持体４０に一体に
保持されており、その磁石保持体４０を中心軸Ａの周り
に回転させる機構によって特定の組の磁石４１，４２，
４３，４４を選択しているので、基板２０に体する異な
る向きの磁場の印加が簡易な構成によって行えるという
長所がある。

【００４３】以上説明した本実施形態のスパッタ装置の
構成において、二組の磁石４１，４２，４３，４４は９
０度異なる向きの磁場を基板２０に印加するものであっ
たが、１８０度等の他の角度異なる向きの磁場を基板２
０に印加するものであってもよい。また、磁石の組数
は、三組以上であってもよい。さらに、各組を構成する
磁石が一つの磁石で兼用される場合もあり、従って、磁
石の数が二の倍数になるとは限らない。

【００４４】

【発明の効果】以上説明した通り、請求項１の発明によ
れば、基板に対して異なる方向に磁場を印加することが
可能な簡易な構成のスパッタ装置が提供できる。また、
請求項２の発明によれば、上記請求項１の発明の効果に
加え、基板の表面のクリーニングを安定して均一に行え
るという効果が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本願の発明の実施形態に係るスパッタ装置の構
成を示した正面断面概略図である。

【図２】図１の装置のＢ−Ｂでの断面を上から見た平面
断面概略図である。

【図３】図１及び図２に示すスパッタ装置の動作を説明
する斜視概略図である。

【図４】磁気異方性を有する薄膜を作成することが可能
な従来のスパッタ装置の構成を示した正面断面概略図で
ある。

【図５】図４の装置のＢ−Ｂでの断面を上から見た平面
断面概略図である。

【符号の説明】

１ 真空容器 １１ 排気系 ２ 試料台 ２０ 基板 ３ カソード ３１ ターゲット ４０ 磁石保持体 ４１ 磁石 ４２ 磁石 ４３ 磁石 ４４ 磁石 ５ シャッター板 ６ 放電手段

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 排気系を備えた真空容器と、真空容器内
   の所定の位置に設けられるとともに中心軸の周りに回転
   可能に設けられた試料台と、試料台に対向した真空容器
   内の位置であって試料台の中心軸と同心円周上に所定間
   隔をおいて配置された複数のカソードと、試料台に保持
   された基板の表面に異なる向きの磁場を設定することが
   可能な複数の磁石とを備え、成膜する基板を試料台の中
   心軸から偏心した所定位置に配置するとともに使用する
   カソードに対向した位置に基板が配置されるよう試料台
   を回転停止させて成膜を行うスパッタ装置であって、 前記複数の磁石は、試料台とカソードとの間の位置に試
   料台と同軸上に配設された磁石保持体によって一体に保
   持されるとともに中心軸と同心円周上に所定間隔をおい
   て配置されており、この磁石保持体は、カソードからの
   スパッタ粒子の通過を許容する形状を有し、さらに、磁
   石保持体を中心軸の周りに回転させて使用する磁石を基
   板の表面近傍の位置に配置する回転機構が設けられてい
   ることを特徴とするスパッタ装置。
2. 【請求項２】 前記磁石保持体に保持された磁石が、基
   板に接近した第一の位置と、基板から離間した第二の位
   置とを取り得るよう磁石保持体を移動させる移動機構が
   設けられているとともに、前記試料台に保持された基板
   をクリーニングするための放電を生じさせる放電手段が
   設けられていることを特徴とする請求項１記載のスパッ
   タ装置。