JPH1010430A5 - - Google Patents
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- JPH1010430A5 JPH1010430A5 JP1996179882A JP17988296A JPH1010430A5 JP H1010430 A5 JPH1010430 A5 JP H1010430A5 JP 1996179882 A JP1996179882 A JP 1996179882A JP 17988296 A JP17988296 A JP 17988296A JP H1010430 A5 JPH1010430 A5 JP H1010430A5
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- JP
- Japan
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- optical system
- imaging optical
- catadioptric
- catadioptric imaging
- circuit pattern
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Description
【発明の名称】反射屈折結像光学系、露光装置及び露光方法
【0001】
【産業上の利用分野】
本発明は主として半導体の製造に用いられるステッパーなどの縮小露光装置の光学系に関し、特に光学系に反射屈折光学系を用いることにより、紫外線波長域でのサブミクロン単位の分解能を有する1/4×〜1/5×の走査型反射屈折縮小光学系である反射屈折結像光学系、該反射屈折結像光学系を用いた露光装置及び該反射屈折結像光学系を用いた露光方法に関するものである。
【産業上の利用分野】
本発明は主として半導体の製造に用いられるステッパーなどの縮小露光装置の光学系に関し、特に光学系に反射屈折光学系を用いることにより、紫外線波長域でのサブミクロン単位の分解能を有する1/4×〜1/5×の走査型反射屈折縮小光学系である反射屈折結像光学系、該反射屈折結像光学系を用いた露光装置及び該反射屈折結像光学系を用いた露光方法に関するものである。
【0009】
以上のような純粋な収差補正のほかに、このような高精度の光学系を製造する場合、どうしても製造誤差による製品のバラツキが生じる。このバラツキは製品ごとに異なる収差を持っており、通常は光学系の部分調整で補正することが行われている。しかし、製造誤差により像面のいたるところで収差量の異なる非対称な収差が発生したり、発生量そのものが多すぎると、光学部品で調整するだけでは、補正しきれないことが多い。このような場合に、結像付近に非球面でできた収差補正板を挿入して補正することがある。しかしこのような補正板は、結像面にできるだけ近い方が、画角に関する収差の補正には有効であるが、現実には、像面近傍にあるさまざまな調整機構や測定装置などから、像面からずっと物体よりに置かなければならないのが通常である。そうなると本来画角に関する収差だけを補正したい場合でも、他の口径に関する収差まで影響を受け、複雑な補正を行わなければならなくなるのである。したがって本発明は、結像性能を維持しながら光学系の小型化を実現することができ、特に歪曲収差を良好に補正することができ、しかも製造誤差を容易に吸収することができる反射屈折結像光学系、該反射屈折結像光学系を用いた露光装置及び該反射屈折結像光学系を用いた露光方法を提供することを課題とする。
以上のような純粋な収差補正のほかに、このような高精度の光学系を製造する場合、どうしても製造誤差による製品のバラツキが生じる。このバラツキは製品ごとに異なる収差を持っており、通常は光学系の部分調整で補正することが行われている。しかし、製造誤差により像面のいたるところで収差量の異なる非対称な収差が発生したり、発生量そのものが多すぎると、光学部品で調整するだけでは、補正しきれないことが多い。このような場合に、結像付近に非球面でできた収差補正板を挿入して補正することがある。しかしこのような補正板は、結像面にできるだけ近い方が、画角に関する収差の補正には有効であるが、現実には、像面近傍にあるさまざまな調整機構や測定装置などから、像面からずっと物体よりに置かなければならないのが通常である。そうなると本来画角に関する収差だけを補正したい場合でも、他の口径に関する収差まで影響を受け、複雑な補正を行わなければならなくなるのである。したがって本発明は、結像性能を維持しながら光学系の小型化を実現することができ、特に歪曲収差を良好に補正することができ、しかも製造誤差を容易に吸収することができる反射屈折結像光学系、該反射屈折結像光学系を用いた露光装置及び該反射屈折結像光学系を用いた露光方法を提供することを課題とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】
本発明は上記課題を解決するためになされたものであり、すなわち、第1結像光学系によって第1面の中間像を形成し、第2結像光学系によって中間像の再結像を第2面上に形成し、第1結像光学系からの光束を第2結像光学系へ導くように反射面を設けた反射屈折結像光学系において、反射面を、非平面且つ非球面に形成したことを特徴とする反射屈折結像光学系である。その際、反射面を中間像の近傍に配置することが好ましい。また非球面レンズ面の形状は、回転対称非球面、トーリック非球面、又は完全非対称非球面とすることができる。この構成により、少なくとも歪曲収差を補正することができ、また少なくとも瞳の球面収差を補正することができ、また少なくとも光学系の製造誤差を補正することができる。
【課題を解決するための手段】
本発明は上記課題を解決するためになされたものであり、すなわち、第1結像光学系によって第1面の中間像を形成し、第2結像光学系によって中間像の再結像を第2面上に形成し、第1結像光学系からの光束を第2結像光学系へ導くように反射面を設けた反射屈折結像光学系において、反射面を、非平面且つ非球面に形成したことを特徴とする反射屈折結像光学系である。その際、反射面を中間像の近傍に配置することが好ましい。また非球面レンズ面の形状は、回転対称非球面、トーリック非球面、又は完全非対称非球面とすることができる。この構成により、少なくとも歪曲収差を補正することができ、また少なくとも瞳の球面収差を補正することができ、また少なくとも光学系の製造誤差を補正することができる。
【0018】
【発明の効果】
以上のように本発明では、中間結像付近に非球面反射光学系を配したものであるから、光学系で発生する歪曲収差や、コマ収差、非点収差などに影響を与えることなく、歪曲収差を補正することができる。したがって光学系の結像性能の向上と小型化とを同時に実現することができる反射屈折結像光学系である。
【発明の効果】
以上のように本発明では、中間結像付近に非球面反射光学系を配したものであるから、光学系で発生する歪曲収差や、コマ収差、非点収差などに影響を与えることなく、歪曲収差を補正することができる。したがって光学系の結像性能の向上と小型化とを同時に実現することができる反射屈折結像光学系である。
Claims (8)
- 第1結像光学系によって第1面の中間像を形成し、第2結像光学系によって前記中間像の再結像を第2面上に形成し、前記第1結像光学系からの光束を第2結像光学系へ導くように反射面を設けた反射屈折結像光学系において、
前記反射面を、非平面且つ非球面に形成したことを特徴とする反射屈折結像光学系。 - 前記第1結像光学系は、凹面鏡と該凹面鏡への入射光と反射光との双方が透過するレンズ群とからなる往復光学系を有することを特徴とする請求項1記載の反射屈折結像光学系。
- 前記反射面を前記中間像の近傍に配置したことを特徴とする請求項1又は2記載の反射屈折結像光学系。
- 前記反射面は、回転対称非球面、トーリック非球面、又は完全非対称非球面であることを特徴とする請求項1乃至3の何れか一項記載の反射屈折結像光学系。
- 前記第1結像光学系と第2結像光学系との結像倍率のうち、少なくともいずれか一方は縮小倍率であることを特徴とする請求項1乃至4の何れか一項記載の反射屈折結像光学系。
- 前記反射屈折結像光学系は、偏心光学系であることを特徴とする請求項1乃至5の何れか一項記載の反射屈折結像光学系。
- 回路パターンを焼き付ける露光装置において、
レチクル上の前記回路パターンをウエハ上に転写するための請求項1乃至6の何れか一項記載の反射屈折結像光学系を備えていることを特徴とする露光装置。 - 回路パターンを焼き付ける露光方法において、
請求項1乃至6の何れか一項記載の反射屈折結像光学系を用いてレチクル上の前記回路パターンをウエハ上に転写することを特徴とする露光方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8179882A JPH1010430A (ja) | 1996-06-19 | 1996-06-19 | 2回結像光学系 |
| US08/877,920 US6157498A (en) | 1996-06-19 | 1997-06-18 | Dual-imaging optical system |
| US09/679,267 US6392822B1 (en) | 1996-06-19 | 2000-10-04 | Dual-imaging optical system |
| US10/086,472 US6867931B2 (en) | 1996-06-19 | 2002-02-28 | Dual-imaging optical system |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8179882A JPH1010430A (ja) | 1996-06-19 | 1996-06-19 | 2回結像光学系 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1010430A JPH1010430A (ja) | 1998-01-16 |
| JPH1010430A5 true JPH1010430A5 (ja) | 2004-10-21 |
Family
ID=16073556
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8179882A Pending JPH1010430A (ja) | 1996-06-19 | 1996-06-19 | 2回結像光学系 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1010430A (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6512631B2 (en) * | 1996-07-22 | 2003-01-28 | Kla-Tencor Corporation | Broad-band deep ultraviolet/vacuum ultraviolet catadioptric imaging system |
| EP1079253A4 (en) | 1998-04-07 | 2004-09-01 | Nikon Corp | DEVICE AND PROCESS FOR PROJECTION EXPOSURE, AND OPTICAL SYSTEM WITH REFLECTION AND REFRACTION |
| EP1293832A1 (en) | 1998-06-08 | 2003-03-19 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus and method |
| JP2002023055A (ja) * | 2000-07-10 | 2002-01-23 | Nikon Corp | 結像光学系および該結像光学系を備えた露光装置 |
| JP4245286B2 (ja) * | 2000-10-23 | 2009-03-25 | 株式会社ニコン | 反射屈折光学系および該光学系を備えた露光装置 |
| US7929114B2 (en) * | 2007-01-17 | 2011-04-19 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Projection optics for microlithography |
-
1996
- 1996-06-19 JP JP8179882A patent/JPH1010430A/ja active Pending
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