JPH10104419A - カラーフィルタおよびその製造方法 - Google Patents
カラーフィルタおよびその製造方法Info
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- JPH10104419A JPH10104419A JP28002596A JP28002596A JPH10104419A JP H10104419 A JPH10104419 A JP H10104419A JP 28002596 A JP28002596 A JP 28002596A JP 28002596 A JP28002596 A JP 28002596A JP H10104419 A JPH10104419 A JP H10104419A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 無機材料からなる着色層を備え、平坦性に優
れ、かつ、着色層の着色均一性が良好なカラーフィルタ
と、このようなカラーフィルタを簡便に製造できるカラ
ーフィルタの製造方法を提供する。 【解決手段】 高融点の金属、金属酸化物あるいは金属
窒化物を主体とした拡散防止層を透明ガラス基板上に形
成し、この拡散防止層上に、有機バインダに少なくとも
低融点ガラス粉体と無機顔料粉体を分散含有させたペー
ストを所望のパターンで形成し、その後、低融点ガラス
粉体の軟化点より高い温度で焼成して有機成分を除去し
て着色層を形成することにより、透明ガラス基板上に拡
散防止層を介して複数色の着色パターンからなる着色層
を備えたカラーフィルタとする。
れ、かつ、着色層の着色均一性が良好なカラーフィルタ
と、このようなカラーフィルタを簡便に製造できるカラ
ーフィルタの製造方法を提供する。 【解決手段】 高融点の金属、金属酸化物あるいは金属
窒化物を主体とした拡散防止層を透明ガラス基板上に形
成し、この拡散防止層上に、有機バインダに少なくとも
低融点ガラス粉体と無機顔料粉体を分散含有させたペー
ストを所望のパターンで形成し、その後、低融点ガラス
粉体の軟化点より高い温度で焼成して有機成分を除去し
て着色層を形成することにより、透明ガラス基板上に拡
散防止層を介して複数色の着色パターンからなる着色層
を備えたカラーフィルタとする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はカラーフィルタおよ
びその製造方法に係り、特に種々の表示装置に使用でき
る平坦性に優れ均一性が良好な着色層を有するカラーフ
ィルタと、このようなカラーフィルタの製造方法に関す
る。
びその製造方法に係り、特に種々の表示装置に使用でき
る平坦性に優れ均一性が良好な着色層を有するカラーフ
ィルタと、このようなカラーフィルタの製造方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】ＣＲＴディスプレイ、電子放出ディスプ
レイパネル（ＦＥＤ）、プラズマディスプレイパネル
（ＰＤＰ）等に使用されるカラーフィルタとして、従来
から無機材料からなるカラーフィルタが使用されてい
る。このカラーフィルタは、通常、３原色（Ｒ，Ｇ，
Ｂ）、あるいは、これに遮光層を加えた各色の着色パタ
ーンからなる着色層を備え、このような着色層は、有機
バインダに低融点ガラス粉体と無機顔料粉体を分散含有
させたペーストを用いて透明ガラス基板上に所望のパタ
ーンで形成し、その後、焼成することによりペースト中
の有機バインダや有機溶剤等の有機成分を焼成除去する
とともに、低融点ガラス粉体を溶融させて無機顔料を含
有した層とすることにより形成される。
レイパネル（ＦＥＤ）、プラズマディスプレイパネル
（ＰＤＰ）等に使用されるカラーフィルタとして、従来
から無機材料からなるカラーフィルタが使用されてい
る。このカラーフィルタは、通常、３原色（Ｒ，Ｇ，
Ｂ）、あるいは、これに遮光層を加えた各色の着色パタ
ーンからなる着色層を備え、このような着色層は、有機
バインダに低融点ガラス粉体と無機顔料粉体を分散含有
させたペーストを用いて透明ガラス基板上に所望のパタ
ーンで形成し、その後、焼成することによりペースト中
の有機バインダや有機溶剤等の有機成分を焼成除去する
とともに、低融点ガラス粉体を溶融させて無機顔料を含
有した層とすることにより形成される。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
着色層の形成における焼成工程において、溶融した低融
点ガラスの成分、例えば、酸化鉛（ＰｂＯ）等が下地の
透明ガラス基板内に拡散しやすく、このような拡散が生
じると、形成される着色層の表面形状が不規則となり平
坦性が悪くなるとともに、平面的にも隣接する画素が混
ざり合い光学特性の劣化や色ムラの原因になるという問
題がある。また、カラーフィルタ上に透明電極を形成す
る場合、カラーフィルタの平坦性が悪いと、透明電極に
切断が生じるおそれがあり、信頼性の高い表示装置を製
造するためにカラーフィルタには高い平坦性が要求され
ている。一方、平坦性の良好なカラーフィルタを製造す
るには、上記の拡散現象を抑制するために焼成工程にお
いて正確な温度、保持時間の管理が必要であり、操作が
極めて煩雑となって歩留の向上と製造コストの低減に支
障を来していた。
着色層の形成における焼成工程において、溶融した低融
点ガラスの成分、例えば、酸化鉛（ＰｂＯ）等が下地の
透明ガラス基板内に拡散しやすく、このような拡散が生
じると、形成される着色層の表面形状が不規則となり平
坦性が悪くなるとともに、平面的にも隣接する画素が混
ざり合い光学特性の劣化や色ムラの原因になるという問
題がある。また、カラーフィルタ上に透明電極を形成す
る場合、カラーフィルタの平坦性が悪いと、透明電極に
切断が生じるおそれがあり、信頼性の高い表示装置を製
造するためにカラーフィルタには高い平坦性が要求され
ている。一方、平坦性の良好なカラーフィルタを製造す
るには、上記の拡散現象を抑制するために焼成工程にお
いて正確な温度、保持時間の管理が必要であり、操作が
極めて煩雑となって歩留の向上と製造コストの低減に支
障を来していた。
【０００４】本発明は、上述のような事情に鑑みてなさ
れたものであり、無機材料からなる着色層を備え、平坦
性に優れ、かつ、着色層の着色均一性が良好なカラーフ
ィルタと、このようなカラーフィルタを簡便に製造でき
るカラーフィルタの製造方法を提供することを目的とす
る。
れたものであり、無機材料からなる着色層を備え、平坦
性に優れ、かつ、着色層の着色均一性が良好なカラーフ
ィルタと、このようなカラーフィルタを簡便に製造でき
るカラーフィルタの製造方法を提供することを目的とす
る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明のカラーフィルタは、透明ガラス基板
と、該透明ガラス基板上に拡散防止層を介して複数色の
着色パターンからなる着色層を備え、前記拡散防止層は
高融点の金属、金属酸化物あるいは金属窒化物を主体と
したものであり、前記着色層は少なくとも無機顔料を含
有する低融点ガラスからなるような構成とした。
るために、本発明のカラーフィルタは、透明ガラス基板
と、該透明ガラス基板上に拡散防止層を介して複数色の
着色パターンからなる着色層を備え、前記拡散防止層は
高融点の金属、金属酸化物あるいは金属窒化物を主体と
したものであり、前記着色層は少なくとも無機顔料を含
有する低融点ガラスからなるような構成とした。
【０００６】また、前記着色層を覆うように低融点ガラ
ス層を備え、該低融点ガラス層を構成する低融点ガラス
の軟化点は、前記着色層を構成する低融点ガラスの軟化
点よりも低いような構成とした。
ス層を備え、該低融点ガラス層を構成する低融点ガラス
の軟化点は、前記着色層を構成する低融点ガラスの軟化
点よりも低いような構成とした。
【０００７】本発明のカラーフィルタの製造方法は、透
明ガラス基板上に高融点の金属、金属酸化物あるいは金
属窒化物を主体とした拡散防止層を形成し、有機バイン
ダに少なくとも低融点ガラス粉体と無機顔料粉体を分散
含有させたペーストを用いて前記拡散防止層上に所望の
パターンを形成し、その後、前記低融点ガラス粉体の軟
化点より高い温度で焼成して有機成分を除去することに
より着色層を形成するような構成とした。
明ガラス基板上に高融点の金属、金属酸化物あるいは金
属窒化物を主体とした拡散防止層を形成し、有機バイン
ダに少なくとも低融点ガラス粉体と無機顔料粉体を分散
含有させたペーストを用いて前記拡散防止層上に所望の
パターンを形成し、その後、前記低融点ガラス粉体の軟
化点より高い温度で焼成して有機成分を除去することに
より着色層を形成するような構成とした。
【０００８】上記のような本発明において、透明ガラス
基板と着色層の間に位置する拡散防止層は、高融点の金
属、金属酸化物あるいは金属窒化物を主体とするもので
あり、着色層形成時の焼成工程において着色層を構成す
る成分が透明ガラス基板内へ拡散するのを防止する。
基板と着色層の間に位置する拡散防止層は、高融点の金
属、金属酸化物あるいは金属窒化物を主体とするもので
あり、着色層形成時の焼成工程において着色層を構成す
る成分が透明ガラス基板内へ拡散するのを防止する。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、本発明の最良の実施形態に
ついて説明する。
ついて説明する。
【００１０】図１は本発明のカラーフィルタの一例を示
す縦断面図である。図１に示されるカラーフィルタ１
は、透明ガラス基板２上に形成された拡散防止層３を介
して着色層４を備えており、着色層４は赤色着色パター
ン４Ｒ、緑色着色パターン４Ｇ、青色着色パターン４
Ｂ、および、遮光層（ブラックマトリックス）としの黒
色着色パターン４ＢＭから構成されている。
す縦断面図である。図１に示されるカラーフィルタ１
は、透明ガラス基板２上に形成された拡散防止層３を介
して着色層４を備えており、着色層４は赤色着色パター
ン４Ｒ、緑色着色パターン４Ｇ、青色着色パターン４
Ｂ、および、遮光層（ブラックマトリックス）としの黒
色着色パターン４ＢＭから構成されている。
【００１１】透明ガラス基板２は、石英ガラス、無アル
カリガラス、アルカリガラス、鉛ガラス（青板ガラス）
等の市販されている各種のガラス材料からなる基板を使
用することができ、その厚みは、カラーフィルタ１の用
途等を考慮して適宜設定することができ、例えば、０．
３〜１０ｍｍ程度とすることができる。
カリガラス、アルカリガラス、鉛ガラス（青板ガラス）
等の市販されている各種のガラス材料からなる基板を使
用することができ、その厚みは、カラーフィルタ１の用
途等を考慮して適宜設定することができ、例えば、０．
３〜１０ｍｍ程度とすることができる。
【００１２】拡散防止層３は、着色層４を構成する低融
点ガラスの成分が透明ガラス基板２内に拡散することを
防止するためのものであり、透明ガラス基板２、およ
び、着色層を構成する後述の低融点ガラスと相溶性の小
さい材料、例えば、Ａｌ2 Ｏ3、ＴｉＯ2 、Ｔａ2 Ｏ
5 、Ｔｉ2 Ｏ3 、ＳｎＯ2 、ＺｒＯ2 、ＳｉＮx 、Ｔｉ
Ｎx 、ＢＮx 、Ｗ、Ｍｏ等の高融点の金属酸化物、金属
窒化物あるいは金属の１種または２種以上を主体とした
薄膜である。この拡散防止層３の厚みは５０〜５０００
Å、好ましくは１００〜２０００Å程度とすることがで
き、厚みが５０Å未満であると、上記の拡散防止作用が
十分に発現されず、また、５０００Åを超える拡散防止
作用の向上がなく材料、形成時間の浪費となる。このよ
うな拡散防止層３は、抵抗加熱蒸着法、スパッタリング
法、ＥＢ真空蒸着法、熱ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法等
により形成することができ、また、有機金属材料を塗布
した後焼成して有機成分を除去することにより形成する
ことができる。尚、拡散防止層３は単層構造であっても
よく、また、同種あるいは異種の材料を用いた多層構造
であってもよい。
点ガラスの成分が透明ガラス基板２内に拡散することを
防止するためのものであり、透明ガラス基板２、およ
び、着色層を構成する後述の低融点ガラスと相溶性の小
さい材料、例えば、Ａｌ2 Ｏ3、ＴｉＯ2 、Ｔａ2 Ｏ
5 、Ｔｉ2 Ｏ3 、ＳｎＯ2 、ＺｒＯ2 、ＳｉＮx 、Ｔｉ
Ｎx 、ＢＮx 、Ｗ、Ｍｏ等の高融点の金属酸化物、金属
窒化物あるいは金属の１種または２種以上を主体とした
薄膜である。この拡散防止層３の厚みは５０〜５０００
Å、好ましくは１００〜２０００Å程度とすることがで
き、厚みが５０Å未満であると、上記の拡散防止作用が
十分に発現されず、また、５０００Åを超える拡散防止
作用の向上がなく材料、形成時間の浪費となる。このよ
うな拡散防止層３は、抵抗加熱蒸着法、スパッタリング
法、ＥＢ真空蒸着法、熱ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法等
により形成することができ、また、有機金属材料を塗布
した後焼成して有機成分を除去することにより形成する
ことができる。尚、拡散防止層３は単層構造であっても
よく、また、同種あるいは異種の材料を用いた多層構造
であってもよい。
【００１３】着色層４は、低融点ガラス中に少なくとも
無機顔料が含有されたものである。着色層４を構成する
低融点ガラスとしては、軟化点が４００〜８００℃の範
囲にあるＰｂＯ−ＺｎＯ−Ｂ2 Ｏ3 ガラス組成系、
ＰｂＯ−Ｂ2 Ｏ3 −ＳｉＯ2ガラス組成系、ＰｂＯ−
ＳｉＯ2 −Ｂ2 Ｏ3 ガラス組成系、ＰｂＯ−Ｂ2 Ｏ3
−Ｚｎ2 Ｏガラス組成系等の低融点ガラス材料の１種ま
たは２種以上を混合して使用することができる。
無機顔料が含有されたものである。着色層４を構成する
低融点ガラスとしては、軟化点が４００〜８００℃の範
囲にあるＰｂＯ−ＺｎＯ−Ｂ2 Ｏ3 ガラス組成系、
ＰｂＯ−Ｂ2 Ｏ3 −ＳｉＯ2ガラス組成系、ＰｂＯ−
ＳｉＯ2 −Ｂ2 Ｏ3 ガラス組成系、ＰｂＯ−Ｂ2 Ｏ3
−Ｚｎ2 Ｏガラス組成系等の低融点ガラス材料の１種ま
たは２種以上を混合して使用することができる。
【００１４】また、着色層４において使用できる無機顔
料は、赤色着色パターン４Ｒ用としてベンガラ（Ｆｅ2
Ｏ3 ）、硫化カドミウム、硫化水銀カドミウム、金分散
赤ガラス、銅分散赤ガラス等が挙げられ、緑色着色パタ
ーン４Ｇ用として酸化クロム（Ｃｒ2 Ｏ3 ）、コバルト
グリーン（ＣｏＯ・８ＺｎＯ）、Ｃｏ−Ａｌ−Ｃｒ系酸
化物、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｃｕ系酸化物等が挙げられ、青色着
色パターン４Ｂ用として群青（２（Ａｌ2 Ｎａ2 Ｓｉ3
Ｏ10）Ｎａ2 Ｓ4 ）、コバルトブルー（ＣｏＯ・ｎＡｌ
2 Ｏ3 ）、Ｃｏ−Ａｌ−Ｚｎ−Ｓｉ系酸化物等が挙げら
れ、さらに、黒色着色パターン４ＢＭ用として金属Ｍ
ｎ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｃｏ、Ａｕ、Ａｇ等の微粉末の
単体および２種以上混合した材料等が挙げられる。
料は、赤色着色パターン４Ｒ用としてベンガラ（Ｆｅ2
Ｏ3 ）、硫化カドミウム、硫化水銀カドミウム、金分散
赤ガラス、銅分散赤ガラス等が挙げられ、緑色着色パタ
ーン４Ｇ用として酸化クロム（Ｃｒ2 Ｏ3 ）、コバルト
グリーン（ＣｏＯ・８ＺｎＯ）、Ｃｏ−Ａｌ−Ｃｒ系酸
化物、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｃｕ系酸化物等が挙げられ、青色着
色パターン４Ｂ用として群青（２（Ａｌ2 Ｎａ2 Ｓｉ3
Ｏ10）Ｎａ2 Ｓ4 ）、コバルトブルー（ＣｏＯ・ｎＡｌ
2 Ｏ3 ）、Ｃｏ−Ａｌ−Ｚｎ−Ｓｉ系酸化物等が挙げら
れ、さらに、黒色着色パターン４ＢＭ用として金属Ｍ
ｎ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｃｏ、Ａｕ、Ａｇ等の微粉末の
単体および２種以上混合した材料等が挙げられる。
【００１５】このような着色層４における無機顔料の含
有量は１〜３０重量％程度が好ましく、着色層４の厚み
は、カラーフィルタ１の用途等を考慮して１〜２０μｍ
の範囲で適宜設定することができる。着色層４は、上記
の低融点ガラスの粉体と所望の無機顔料とを、セルロー
ス系樹脂、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂あるいはブ
チラール系樹脂等の有機バインダおよび／またはエチレ
ングリコールモノブチルエーテルアセテート等の溶剤に
含有させたペーストを所定のパターンで拡散防止層３上
に印刷し、その後、焼成することにより形成することが
できる。この場合、使用する有機バインダや溶剤は、低
融点ガラスが加熱され燒結するまでに分解し、揮散ある
いは燃焼してしまう必要がある。
有量は１〜３０重量％程度が好ましく、着色層４の厚み
は、カラーフィルタ１の用途等を考慮して１〜２０μｍ
の範囲で適宜設定することができる。着色層４は、上記
の低融点ガラスの粉体と所望の無機顔料とを、セルロー
ス系樹脂、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂あるいはブ
チラール系樹脂等の有機バインダおよび／またはエチレ
ングリコールモノブチルエーテルアセテート等の溶剤に
含有させたペーストを所定のパターンで拡散防止層３上
に印刷し、その後、焼成することにより形成することが
できる。この場合、使用する有機バインダや溶剤は、低
融点ガラスが加熱され燒結するまでに分解し、揮散ある
いは燃焼してしまう必要がある。
【００１６】図２は本発明のカラーフィルタの他の例を
示す縦断面図である。図２に示されるカラーフィルタ１
１は、透明ガラス基板１２上に形成された拡散防止層１
３を介して着色層１４を備え、さらに、この着色層１４
を覆うように低融点ガラス層１５を備えいる。着色層１
４は赤色着色パターン１４Ｒ、緑色着色パターン１４
Ｇ、青色着色パターン１４Ｂ、および、遮光層（ブラッ
クマトリックス）としの黒色着色パターン１４ＢＭから
構成されている。そして、低融点ガラス層１５上には、
赤色着色パターン１４Ｒ、緑色着色パターン１４Ｇ、青
色着色パターン１４Ｂに対応する領域に透明電極１６が
形成されている。
示す縦断面図である。図２に示されるカラーフィルタ１
１は、透明ガラス基板１２上に形成された拡散防止層１
３を介して着色層１４を備え、さらに、この着色層１４
を覆うように低融点ガラス層１５を備えいる。着色層１
４は赤色着色パターン１４Ｒ、緑色着色パターン１４
Ｇ、青色着色パターン１４Ｂ、および、遮光層（ブラッ
クマトリックス）としの黒色着色パターン１４ＢＭから
構成されている。そして、低融点ガラス層１５上には、
赤色着色パターン１４Ｒ、緑色着色パターン１４Ｇ、青
色着色パターン１４Ｂに対応する領域に透明電極１６が
形成されている。
【００１７】このカラーフィルタ１１の透明ガラス基板
１２、拡散防止層１３および着色層１４は、上述のカラ
ーフィルタ１と同様の構成とすることができるので、こ
こでの説明は省略する。
１２、拡散防止層１３および着色層１４は、上述のカラ
ーフィルタ１と同様の構成とすることができるので、こ
こでの説明は省略する。
【００１８】カラーフィルタ１１を構成する低融点ガラ
ス層１５は、各着色パターンからなる着色層１４の表面
の平坦性を更に向上させるものである。この低融点ガラ
ス層１５を構成する低融点ガラスは、着色層１４を構成
する低融点ガラスよりも軟化点が低いものであり、軟化
点が３５０〜５００℃の範囲にあるものを使用する。具
体的には、着色層１４を構成する低融点ガラスよりもＰ
ｂＯ成分を増加した（ＳｉＯ2 成分を減らした）Ｐｂ
Ｏ−ＺｎＯ−Ｂ2 Ｏ3 ガラス組成系、ＰｂＯ−Ｂ2 Ｏ
3 −ＳｉＯ2 ガラス組成系、ＰｂＯ−Ｂ2 Ｏ3 −Ｚｎ
Ｏガラス組成系等の低融点ガラス材料の１種または２種
以上を混合して使用して形成することができる。ここ
で、ＰｂＯ成分を増加したために低融点ガラスの熱膨張
係数が大きくなるので、低熱膨張材料として、チタン酸
鉛（ＰｂＴｉＯ3 ）、コージェライト（Ｍｇ2 Ａｌ4 Ｓ
ｉ5 Ｏ18）、ウイルマイト（Ｚｎ2 ＳｉＯ4 ）、ジルコ
ン（ＺｒＳｉＯ4 ）等を添加して熱膨張係数を調整する
ことが好ましい。
ス層１５は、各着色パターンからなる着色層１４の表面
の平坦性を更に向上させるものである。この低融点ガラ
ス層１５を構成する低融点ガラスは、着色層１４を構成
する低融点ガラスよりも軟化点が低いものであり、軟化
点が３５０〜５００℃の範囲にあるものを使用する。具
体的には、着色層１４を構成する低融点ガラスよりもＰ
ｂＯ成分を増加した（ＳｉＯ2 成分を減らした）Ｐｂ
Ｏ−ＺｎＯ−Ｂ2 Ｏ3 ガラス組成系、ＰｂＯ−Ｂ2 Ｏ
3 −ＳｉＯ2 ガラス組成系、ＰｂＯ−Ｂ2 Ｏ3 −Ｚｎ
Ｏガラス組成系等の低融点ガラス材料の１種または２種
以上を混合して使用して形成することができる。ここ
で、ＰｂＯ成分を増加したために低融点ガラスの熱膨張
係数が大きくなるので、低熱膨張材料として、チタン酸
鉛（ＰｂＴｉＯ3 ）、コージェライト（Ｍｇ2 Ａｌ4 Ｓ
ｉ5 Ｏ18）、ウイルマイト（Ｚｎ2 ＳｉＯ4 ）、ジルコ
ン（ＺｒＳｉＯ4 ）等を添加して熱膨張係数を調整する
ことが好ましい。
【００１９】低融点ガラス層１５の厚みは１〜２０μｍ
程度が好ましく、厚みが１μｍ未満であると、低融点ガ
ラス層を形成した効果が奏されず、２０μｍを超えると
カラーフィルタの透過特性が低下し、ひび割れ等が発生
しやすくなり好ましくない。この低融点ガラス層１５
は、上記の低融点ガラスの粉体を、セルロース系樹脂、
アクリル系樹脂、スチレン系樹脂あるいはブチラール系
樹脂等の有機バインダおよび／またはエチレングリコー
ルモノブチルエーテルアセテート等の溶剤に含有させた
ペーストを着色層１４上に塗布し、その後、焼成するこ
とにより形成することができる。この場合、使用する有
機バインダや溶剤は、低融点ガラスが加熱され燒結する
までに分解し、揮散あるいは燃焼してしまう必要があ
る。
程度が好ましく、厚みが１μｍ未満であると、低融点ガ
ラス層を形成した効果が奏されず、２０μｍを超えると
カラーフィルタの透過特性が低下し、ひび割れ等が発生
しやすくなり好ましくない。この低融点ガラス層１５
は、上記の低融点ガラスの粉体を、セルロース系樹脂、
アクリル系樹脂、スチレン系樹脂あるいはブチラール系
樹脂等の有機バインダおよび／またはエチレングリコー
ルモノブチルエーテルアセテート等の溶剤に含有させた
ペーストを着色層１４上に塗布し、その後、焼成するこ
とにより形成することができる。この場合、使用する有
機バインダや溶剤は、低融点ガラスが加熱され燒結する
までに分解し、揮散あるいは燃焼してしまう必要があ
る。
【００２０】次に、図２に示されるカラーフィルタ１１
を例に本発明のカラーフィルタ製造方法の一実施形態を
説明する。図３は本発明のカラーフィルタ製造方法の一
実施形態を説明するための工程図であり、図３におい
て、まず、透明ガラス基板１２上に拡散防止層用のペー
ストを印刷し、５００〜６００℃の所定の温度で焼成し
てペースト中の有機成分を除去して高融点の金属、金属
酸化物あるいは金属窒化物からなる拡散防止層１３を形
成する（図３（Ａ））。尚、この拡散防止層１３は、ス
パッタリング法、ＥＢ真空蒸着法、ＣＶＤ法等により形
成してもよい。
を例に本発明のカラーフィルタ製造方法の一実施形態を
説明する。図３は本発明のカラーフィルタ製造方法の一
実施形態を説明するための工程図であり、図３におい
て、まず、透明ガラス基板１２上に拡散防止層用のペー
ストを印刷し、５００〜６００℃の所定の温度で焼成し
てペースト中の有機成分を除去して高融点の金属、金属
酸化物あるいは金属窒化物からなる拡散防止層１３を形
成する（図３（Ａ））。尚、この拡散防止層１３は、ス
パッタリング法、ＥＢ真空蒸着法、ＣＶＤ法等により形
成してもよい。
【００２１】次に、この拡散防止層１３上に、少なくと
も低融点ガラスの粉体と所望の無機顔料とを有機バイン
ダ中に含有するペーストを所定のパターンで印刷し、パ
ターン１４´Ｒ、１４´Ｇ、１４´Ｂ、および、１４´
ＢＭを形成する（図３（Ｂ））。パターンの印刷は、ス
クリーン印刷、凹版オフセット印刷等で行うことができ
る。また、大面積で高精度が必要な場合は、全面にペー
ストのベタ膜を形成してからフォトリソグラフィ法によ
りパターンを形成してもよい。上記のペーストを構成す
る有機バインダは、パターンを乾燥した後、焼成する段
階で揮発あるいは分解してパターン中に炭化物を残存さ
せないような樹脂成分と溶剤を使用することができる。
このような樹脂成分としては、エチルセルロース、メチ
ルセルロース、ニトロセルロース、セルロースアセテー
ト、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート
等のセルロース系樹脂、メチル（メタ）アクリレート、
エチル（メタ）アクリレート、ノルマルブチル（メタ）
アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、イソ
プロピル（メタ）アクリレート、２−エチルメチル（メ
タ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アク
リレート等の重合体またはこれらの共重合体からなるポ
リ（メタ）アクリル酸エステル類、ポリ−α−メチルス
チレン、ポリビニルアルコール、ポリブテン等を挙げる
ことができる。また、上記ペースト中の低融点ガラス粉
体の含有量は５０〜８０重量％程度、無機顔料の含有量
は１〜２５重量％程度の範囲で設定することができ、低
融点ガラス粉体の平均粒径は０．３〜１０μｍ程度、無
機顔料の平均粒径は０．０１〜１．０μｍ程度とするこ
とができ、透過率を向上させるには微粒子ほど好まし
い。
も低融点ガラスの粉体と所望の無機顔料とを有機バイン
ダ中に含有するペーストを所定のパターンで印刷し、パ
ターン１４´Ｒ、１４´Ｇ、１４´Ｂ、および、１４´
ＢＭを形成する（図３（Ｂ））。パターンの印刷は、ス
クリーン印刷、凹版オフセット印刷等で行うことができ
る。また、大面積で高精度が必要な場合は、全面にペー
ストのベタ膜を形成してからフォトリソグラフィ法によ
りパターンを形成してもよい。上記のペーストを構成す
る有機バインダは、パターンを乾燥した後、焼成する段
階で揮発あるいは分解してパターン中に炭化物を残存さ
せないような樹脂成分と溶剤を使用することができる。
このような樹脂成分としては、エチルセルロース、メチ
ルセルロース、ニトロセルロース、セルロースアセテー
ト、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート
等のセルロース系樹脂、メチル（メタ）アクリレート、
エチル（メタ）アクリレート、ノルマルブチル（メタ）
アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、イソ
プロピル（メタ）アクリレート、２−エチルメチル（メ
タ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アク
リレート等の重合体またはこれらの共重合体からなるポ
リ（メタ）アクリル酸エステル類、ポリ−α−メチルス
チレン、ポリビニルアルコール、ポリブテン等を挙げる
ことができる。また、上記ペースト中の低融点ガラス粉
体の含有量は５０〜８０重量％程度、無機顔料の含有量
は１〜２５重量％程度の範囲で設定することができ、低
融点ガラス粉体の平均粒径は０．３〜１０μｍ程度、無
機顔料の平均粒径は０．０１〜１．０μｍ程度とするこ
とができ、透過率を向上させるには微粒子ほど好まし
い。
【００２２】その後、５００〜８００℃の色ガラスを作
る十分な高温度で焼成することにより、パターン１４´
Ｒ、１４´Ｇ、１４´Ｂ、および、１４´ＢＭの低融点
ガラス粉体を溶融し、かつ、有機成分を除去して、赤色
着色パターン１４Ｒ、緑色着色パターン１４Ｇ、青色着
色パターン１４Ｂ、および、黒色着色パターン１４ＢＭ
からなる着色層１４を形成する（図３（Ｃ））。この焼
成工程において、着色層１４を構成する成分が透明ガラ
ス基板１２内へ拡散することが拡散防止層１３によって
防止され、これにより、形成された着色層１４の表面形
状が平坦となり、無機顔料が低融点ガラスに分散して光
学特性に優れ色ムラのない均一な着色層１４となる。
る十分な高温度で焼成することにより、パターン１４´
Ｒ、１４´Ｇ、１４´Ｂ、および、１４´ＢＭの低融点
ガラス粉体を溶融し、かつ、有機成分を除去して、赤色
着色パターン１４Ｒ、緑色着色パターン１４Ｇ、青色着
色パターン１４Ｂ、および、黒色着色パターン１４ＢＭ
からなる着色層１４を形成する（図３（Ｃ））。この焼
成工程において、着色層１４を構成する成分が透明ガラ
ス基板１２内へ拡散することが拡散防止層１３によって
防止され、これにより、形成された着色層１４の表面形
状が平坦となり、無機顔料が低融点ガラスに分散して光
学特性に優れ色ムラのない均一な着色層１４となる。
【００２３】次に、着色層１４を覆うように、少なくと
も低融点ガラス粉体を有機バインダ中に含有する低融点
ガラス層用のペーストを印刷し、上記の着色層１４を構
成する低融点ガラスの融点よりも低い温度、例えば、４
５０〜７００℃の所望の温度で焼成することにより、低
融点ガラス粉体を溶融し、かつ、有機成分を除去して、
低融点ガラス層１５を形成する（図３（Ｄ））。低融点
ガラス層用のペーストの印刷は、スクリーン印刷、スプ
レーコート（静電塗装法）等により行うことができる。
尚、低融点ガラス層用のペーストには、上述の有機バイ
ンダから適切なものを選択して使用することができ、ま
た、低融点ガラス層用のペースト中の低融点ガラス粉体
の含有量は７０〜８５重量％程度の範囲で設定すること
ができ、低融点ガラス粉体の平均粒径は０．３〜１０μ
ｍ程度とすることができる。
も低融点ガラス粉体を有機バインダ中に含有する低融点
ガラス層用のペーストを印刷し、上記の着色層１４を構
成する低融点ガラスの融点よりも低い温度、例えば、４
５０〜７００℃の所望の温度で焼成することにより、低
融点ガラス粉体を溶融し、かつ、有機成分を除去して、
低融点ガラス層１５を形成する（図３（Ｄ））。低融点
ガラス層用のペーストの印刷は、スクリーン印刷、スプ
レーコート（静電塗装法）等により行うことができる。
尚、低融点ガラス層用のペーストには、上述の有機バイ
ンダから適切なものを選択して使用することができ、ま
た、低融点ガラス層用のペースト中の低融点ガラス粉体
の含有量は７０〜８５重量％程度の範囲で設定すること
ができ、低融点ガラス粉体の平均粒径は０．３〜１０μ
ｍ程度とすることができる。
【００２４】次に、上記の低融点ガラス層１５上に酸化
インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化
スズ（ＳｎＯ2 ）等の透明導電性物質からなる透明導電
性薄膜を形成し、その後、フォトリソグラフィによりパ
ターニングして透明電極１６を形成する（図３
（Ｅ））。上記の透明導電性薄膜の形成は、スパッタリ
ング法、真空蒸着法、ＣＶＤ法等の一般的な成膜方法に
より行うことができ、厚みは５００〜５０００Å程度が
好ましい。
インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化
スズ（ＳｎＯ2 ）等の透明導電性物質からなる透明導電
性薄膜を形成し、その後、フォトリソグラフィによりパ
ターニングして透明電極１６を形成する（図３
（Ｅ））。上記の透明導電性薄膜の形成は、スパッタリ
ング法、真空蒸着法、ＣＶＤ法等の一般的な成膜方法に
より行うことができ、厚みは５００〜５０００Å程度が
好ましい。
【００２５】このように作製された本発明のカラーフィ
ルタ１１は、ＣＲＴディスプレイ、電子放出ディスプレ
イパネル、プラズマディスプレイパネル等に使用するこ
とができる。
ルタ１１は、ＣＲＴディスプレイ、電子放出ディスプレ
イパネル、プラズマディスプレイパネル等に使用するこ
とができる。
【００２６】例えば、電子放出ディスプレイパネル（Ｆ
ＥＤ）に使用する場合、透明電極上に着色層１４の各色
に対応させて赤色発光性、緑色発光性、青色発光性の各
蛍光体層を形成して発光基板とする。次いで、電子放出
素子、引出電極等が形成された電子放出基板と上記の発
光基板とを対向させ、ガラス粉体を含有したシール剤に
より両基板を貼り合わせ、４５０〜５００℃の所定の温
度で焼成してシールを行い、その後、両基板間を高真空
状態とすることによりＦＥＤとする。
ＥＤ）に使用する場合、透明電極上に着色層１４の各色
に対応させて赤色発光性、緑色発光性、青色発光性の各
蛍光体層を形成して発光基板とする。次いで、電子放出
素子、引出電極等が形成された電子放出基板と上記の発
光基板とを対向させ、ガラス粉体を含有したシール剤に
より両基板を貼り合わせ、４５０〜５００℃の所定の温
度で焼成してシールを行い、その後、両基板間を高真空
状態とすることによりＦＥＤとする。
【００２７】また、本発明のカラーフィルタ１１をＡＣ
型のプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）に使用する
場合、透明電極上にバス電極を形成し、誘電層と保護層
（酸化マグネシウム）を形成して前面基板とする。次い
で、この前面基板を背面基板と対向させ、ガラス粉体を
含有したシール剤により両基板を貼り合わせ、４５０〜
５００℃の所定の温度で焼成してシールを行い、その
後、両基板間を高真空状態にした後に不活性ガス（Ｈ
ｅ、Ｎｅ、Ａｒ、Ｘｅ）を注入することによりＰＤＰと
する。
型のプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）に使用する
場合、透明電極上にバス電極を形成し、誘電層と保護層
（酸化マグネシウム）を形成して前面基板とする。次い
で、この前面基板を背面基板と対向させ、ガラス粉体を
含有したシール剤により両基板を貼り合わせ、４５０〜
５００℃の所定の温度で焼成してシールを行い、その
後、両基板間を高真空状態にした後に不活性ガス（Ｈ
ｅ、Ｎｅ、Ａｒ、Ｘｅ）を注入することによりＰＤＰと
する。
【００２８】
【実施例】次に、実施例を示して本発明を更に詳細に説
明する。 （実施例１）透明ガラス基板として、無アルカリガラス
基板（コーニング社製 ７０５９ガラス（厚み１．１ｍ
ｍ、歪点５９３℃、軟化点８４４℃））を準備した。こ
の無アルカリガラス基板上に熱ＣＶＤ法（基板温度４０
０℃）によりＳｎＯ2 からなる拡散防止層（厚み１００
０Å）を形成した（図３（Ａ）に相当）。
明する。 （実施例１）透明ガラス基板として、無アルカリガラス
基板（コーニング社製 ７０５９ガラス（厚み１．１ｍ
ｍ、歪点５９３℃、軟化点８４４℃））を準備した。こ
の無アルカリガラス基板上に熱ＣＶＤ法（基板温度４０
０℃）によりＳｎＯ2 からなる拡散防止層（厚み１００
０Å）を形成した（図３（Ａ）に相当）。
【００２９】次に、拡散防止層上に下記組成の各着色パ
ターン用のペーストをスクリーン印刷法により印刷して
着色パターンを形成する（図３（Ｂ）に相当）。尚、こ
のペーストには低融点ガラス粉体として、ＰｂＯ−Ｓｉ
Ｏ2 −Ｂ2 Ｏ3 ガラス組成系（軟化点５００℃、平均粒
径１．０μｍ）を用いた。
ターン用のペーストをスクリーン印刷法により印刷して
着色パターンを形成する（図３（Ｂ）に相当）。尚、こ
のペーストには低融点ガラス粉体として、ＰｂＯ−Ｓｉ
Ｏ2 −Ｂ2 Ｏ3 ガラス組成系（軟化点５００℃、平均粒
径１．０μｍ）を用いた。
【００３０】 赤色着色パターン用ペーストの組成 ・低融点ガラス粉体 … ７４重量部 ・ベンガラ（Ｆｅ2 Ｏ3 ）平均粒径０．０４μｍ … ６重量部 ・有機バインダと溶剤の混合物 … ２０重量部 緑色着色パターン用ペーストの組成 ・低融点ガラス粉体 … ６８重量部 ・コバルトグリーン（ＣｏＯ・８ＺｎＯ） 平均粒径０．０３μｍ … １２重量部 ・有機バインダと溶剤の混合物 … ２０重量部 青色着色パターン用ペーストの組成 ・低融点ガラス粉体 … ７０重量部 ・コバルトブルー（Ｃｏ・Ａｌ2 Ｏ3 ） 平均粒径０．０２μｍ … １０重量部 ・有機バインダと溶剤の混合物 … ２０重量部 遮光層パターン用ペーストの組成 ・低融点ガラス粉体 … ７２重量部 ・銅粉＋コバルト粉 … ８重量部 ・有機バインダと溶剤の混合物 … ２０重量部 尚、上記の有機バインダと溶剤の混合物は、下記の組成
のものを使用した。
のものを使用した。
【００３１】 有機バインダと溶剤の混合物の組成 ・エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート … ８５重量部 ・ターピネオール … １０重量部 ・エチルセルロース … ４重量部 ・アクリル樹脂 … １重量部 次に、無アルカリガラス基板を低融点ガラスの軟化点よ
り十分に高い温度の７００℃に２０分間保持して焼成を
行って着色層（厚み１０μｍ）を形成した（図３（Ｃ）
に相当）。
り十分に高い温度の７００℃に２０分間保持して焼成を
行って着色層（厚み１０μｍ）を形成した（図３（Ｃ）
に相当）。
【００３２】このように作製したカラーフィルタの着色
層の表面形状の平坦性、着色層の光学特性を下記のよう
に評価した。その結果、平坦性は触針式の表面粗さ測定
機で最大凹凸（Ｒｍａｘ）は１〜２μｍであり、また、
光学特性は、Ｒ、Ｇ、Ｂの透過域では６０％以上であ
り、遮光域の透過率は３０％以下であった。さらに、遮
光層の光学濃度は１．５以上が達成されていた。
層の表面形状の平坦性、着色層の光学特性を下記のよう
に評価した。その結果、平坦性は触針式の表面粗さ測定
機で最大凹凸（Ｒｍａｘ）は１〜２μｍであり、また、
光学特性は、Ｒ、Ｇ、Ｂの透過域では６０％以上であ
り、遮光域の透過率は３０％以下であった。さらに、遮
光層の光学濃度は１．５以上が達成されていた。
【００３３】平坦性の評価方法 触針式表面粗さ測定機（タリステップ）で、カラーフィ
ルタの赤色着色パターン（Ｒ）、緑色着色パターン
（Ｇ）、青色着色パターン（Ｂ）の表面の凹凸を測定し
た。光学特性の評価方法 遮光層、赤色着色パターン（Ｒ）、緑色着色パターン
（Ｇ）、青色着色パターン（Ｂ）の分光透過率を測定し
た。
ルタの赤色着色パターン（Ｒ）、緑色着色パターン
（Ｇ）、青色着色パターン（Ｂ）の表面の凹凸を測定し
た。光学特性の評価方法 遮光層、赤色着色パターン（Ｒ）、緑色着色パターン
（Ｇ）、青色着色パターン（Ｂ）の分光透過率を測定し
た。
【００３４】・測定機：オリンパス光学工業（株）製 ・測定径：５０〜１００μｍ また、比較として、拡散防止層を形成しない他は、上記
のカラーフィルタと同様にしてカラーフィルタを作製し
た。このカラーフィルタについて同様に着色層の表面形
状の平坦性、着色層の光学特性を評価した。その結果、
平坦性は同じ触針式の表面粗さ測定機で最大凹凸（Ｒｍ
ａｘ）が４μｍであり、形状も不ぞろいであった。ま
た、光学特性は隣接する色成分が混合してカラーフィル
タとして実用に供し得ないものであった。 （実施例２）まず、実施例１と同様にしてカラーフィル
タを作製した。さらに、このカラーフィルタの着色層上
に、下記組成の低融点ガラス層用ペーストをスクリーン
印刷法により印刷し、その後、無アルカリガラス基板を
５５０℃に２０分間保持して焼成を行って低融点ガラス
層（厚み５μｍ）を形成した（図３（Ｄ）に相当）。
尚、このペーストには低融点ガラス粉体として、ＰｂＯ
−Ｂ2 Ｏ3 −ＳｉＯ2 ガラス組成系（軟化点３５０℃、
平均粒径５μｍ）を用いた。
のカラーフィルタと同様にしてカラーフィルタを作製し
た。このカラーフィルタについて同様に着色層の表面形
状の平坦性、着色層の光学特性を評価した。その結果、
平坦性は同じ触針式の表面粗さ測定機で最大凹凸（Ｒｍ
ａｘ）が４μｍであり、形状も不ぞろいであった。ま
た、光学特性は隣接する色成分が混合してカラーフィル
タとして実用に供し得ないものであった。 （実施例２）まず、実施例１と同様にしてカラーフィル
タを作製した。さらに、このカラーフィルタの着色層上
に、下記組成の低融点ガラス層用ペーストをスクリーン
印刷法により印刷し、その後、無アルカリガラス基板を
５５０℃に２０分間保持して焼成を行って低融点ガラス
層（厚み５μｍ）を形成した（図３（Ｄ）に相当）。
尚、このペーストには低融点ガラス粉体として、ＰｂＯ
−Ｂ2 Ｏ3 −ＳｉＯ2 ガラス組成系（軟化点３５０℃、
平均粒径５μｍ）を用いた。
【００３５】 低融点ガラス層用ペーストの組成 ・低融点ガラス粉体 … ８０重量部 ・有機バインダと溶剤の混合物 … ２０重量部 このカラーフィルタについて、実施例１と同様にして低
融点ガラス層の表面形状の平坦性を評価した結果、同じ
触針式の表面粗さ測定機で最大凹凸（Ｒｍａｘ）が０．
５〜１μｍであった。
融点ガラス層の表面形状の平坦性を評価した結果、同じ
触針式の表面粗さ測定機で最大凹凸（Ｒｍａｘ）が０．
５〜１μｍであった。
【００３６】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば高
融点の金属、金属酸化物あるいは金属窒化物を主体とし
た拡散防止層を透明ガラス基板上に形成し、この拡散防
止層上に、有機バインダに少なくとも低融点ガラス粉体
と無機顔料粉体を分散含有させたペーストを所望のパタ
ーンで形成し、その後、低融点ガラス粉体の軟化点より
高い温度で焼成して有機成分を除去して着色層を形成す
ることにより、透明ガラス基板上に拡散防止層を介して
複数色の着色パターンからなる着色層を備えたカラーフ
ィルタとするので、透明ガラス基板と着色層の間に位置
する拡散防止層によって、着色層形成時の焼成工程にお
いて着色層を構成する成分が透明ガラス基板内へ拡散す
ることが防止され、これにより、着色層の表面形状が平
坦となり、光学特性に優れ色ムラのない均一な着色層を
備えたカラーフィルタが可能となり、また、このような
カラーフィルタを得るための焼成温度範囲を広く設定す
ることができ、カラーフィルタ製造における工程管理が
大幅に簡略化できる。さらに、着色層を覆う低融点ガラ
ス層を備えたカラーフィルタでは、平坦性がより優れた
ものとなり、カラーフィルタ上に透明電極が形成する場
合にも、信頼性が極めて高いものとなる。
融点の金属、金属酸化物あるいは金属窒化物を主体とし
た拡散防止層を透明ガラス基板上に形成し、この拡散防
止層上に、有機バインダに少なくとも低融点ガラス粉体
と無機顔料粉体を分散含有させたペーストを所望のパタ
ーンで形成し、その後、低融点ガラス粉体の軟化点より
高い温度で焼成して有機成分を除去して着色層を形成す
ることにより、透明ガラス基板上に拡散防止層を介して
複数色の着色パターンからなる着色層を備えたカラーフ
ィルタとするので、透明ガラス基板と着色層の間に位置
する拡散防止層によって、着色層形成時の焼成工程にお
いて着色層を構成する成分が透明ガラス基板内へ拡散す
ることが防止され、これにより、着色層の表面形状が平
坦となり、光学特性に優れ色ムラのない均一な着色層を
備えたカラーフィルタが可能となり、また、このような
カラーフィルタを得るための焼成温度範囲を広く設定す
ることができ、カラーフィルタ製造における工程管理が
大幅に簡略化できる。さらに、着色層を覆う低融点ガラ
ス層を備えたカラーフィルタでは、平坦性がより優れた
ものとなり、カラーフィルタ上に透明電極が形成する場
合にも、信頼性が極めて高いものとなる。
【図１】本発明のカラーフィルタの一例を示す縦断面図
である。
である。
【図２】本発明のカラーフィルタの他の例を示す縦断面
図である。
図である。
【図３】本発明のカラーフィルタ製造方法の一実施形態
を説明するための工程図である。
を説明するための工程図である。
１，１１…カラーフィルタ ２，１２…透明ガラス基板 ３，１３…拡散防止層 ４，１４…着色層 １５…低融点ガラス層 １６…透明電極
Claims (3)
- 【請求項１】 透明ガラス基板と、該透明ガラス基板上
に拡散防止層を介して複数色の着色パターンからなる着
色層を備え、前記拡散防止層は高融点の金属、金属酸化
物あるいは金属窒化物を主体としたものであり、前記着
色層は少なくとも無機顔料を含有する低融点ガラスから
なることを特徴とするカラーフィルタ。 - 【請求項２】 前記着色層を覆うように低融点ガラス層
を備え、該低融点ガラス層を構成する低融点ガラスの軟
化点は、前記着色層を構成する低融点ガラスの軟化点よ
りも低いことを特徴とする請求項１に記載のカラーフィ
ルタ。 - 【請求項３】 透明ガラス基板上に高融点の金属、金属
酸化物あるいは金属窒化物を主体とした拡散防止層を形
成し、有機バインダに少なくとも低融点ガラス粉体と無
機顔料粉体を分散含有させたペーストを用いて前記拡散
防止層上に所望のパターンを形成し、その後、前記低融
点ガラス粉体の軟化点より高い温度で焼成して有機成分
を除去することにより着色層を形成することを特徴とす
るカラーフィルタの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28002596A JPH10104419A (ja) | 1996-10-01 | 1996-10-01 | カラーフィルタおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28002596A JPH10104419A (ja) | 1996-10-01 | 1996-10-01 | カラーフィルタおよびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10104419A true JPH10104419A (ja) | 1998-04-24 |
Family
ID=17619257
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28002596A Pending JPH10104419A (ja) | 1996-10-01 | 1996-10-01 | カラーフィルタおよびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10104419A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20120300324A1 (en) * | 2011-05-24 | 2012-11-29 | Chengdu Boe Optoelectronics Technology Co., Ltd. | Color filter substrate and method of manufacturing the same |
| JP2017515776A (ja) * | 2014-04-24 | 2017-06-15 | サン−ゴバン グラス フランス | プリントパターン及び保護下層を備えた一方向視認のためのガラス基材の製造方法 |
-
1996
- 1996-10-01 JP JP28002596A patent/JPH10104419A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20120300324A1 (en) * | 2011-05-24 | 2012-11-29 | Chengdu Boe Optoelectronics Technology Co., Ltd. | Color filter substrate and method of manufacturing the same |
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