JPH10104792A - ハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents
ハロゲン化銀写真感光材料Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 帯電防止性能と銀色調に優れ、かつ現像ムラ
の発生がない超迅速処理可能なハロゲン化銀写真感光材
料の提供。 【解決手段】 透明支持体の少なくとも一方の側に、
感光性ハロゲン化銀乳剤層と導電層を含む親水性コロイ
ド層を有するハロゲン化銀写真感光材料に於いて、該導
電層中には少なくとも1種の金属酸化物コロイドを含有
し、且つ、該親水性コロイド層中には少なくとも1種の
ロイコ化合物を含有することを特徴とするハロゲン化銀
写真感光材料。感光性ハロゲン化銀乳剤層の塗布銀量
が片面当たり0.5〜1.5g/m2であり、且つ、ゼ
ラチン量が全親水性コロイド層中のバインダー量の10
〜40重量%であることを特徴とする項記載のハロゲ
ン化銀写真感光材料。
の発生がない超迅速処理可能なハロゲン化銀写真感光材
料の提供。 【解決手段】 透明支持体の少なくとも一方の側に、
感光性ハロゲン化銀乳剤層と導電層を含む親水性コロイ
ド層を有するハロゲン化銀写真感光材料に於いて、該導
電層中には少なくとも1種の金属酸化物コロイドを含有
し、且つ、該親水性コロイド層中には少なくとも1種の
ロイコ化合物を含有することを特徴とするハロゲン化銀
写真感光材料。感光性ハロゲン化銀乳剤層の塗布銀量
が片面当たり0.5〜1.5g/m2であり、且つ、ゼ
ラチン量が全親水性コロイド層中のバインダー量の10
〜40重量%であることを特徴とする項記載のハロゲ
ン化銀写真感光材料。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はハロゲン化銀写真感
光材料(以下、単に感光材料という)に関し、詳しくは
帯電防止性能と銀色調性が優れ、且つ、現像ムラをなく
したハロゲン化銀写真感光材料に関する。
光材料(以下、単に感光材料という)に関し、詳しくは
帯電防止性能と銀色調性が優れ、且つ、現像ムラをなく
したハロゲン化銀写真感光材料に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、エレクトロニクスの進歩により映
像へのアクセスタイムの短縮化が飛躍的に進み、感光材
料へも益々迅速処理が要求されている。そのため感光材
料に対しては益々厳しい要求がなされてきているが、な
かでも厳しいのは感光材料の帯電防止性能が挙げられ
る。
像へのアクセスタイムの短縮化が飛躍的に進み、感光材
料へも益々迅速処理が要求されている。そのため感光材
料に対しては益々厳しい要求がなされてきているが、な
かでも厳しいのは感光材料の帯電防止性能が挙げられ
る。
【0003】従来、感光材料の帯電防止剤としては高分
子電解質や、界面活性剤などが用いられてきた。しか
し、これらの化合物は水溶性を持つために、現像処理時
に現像液中に溶出し、現像液を濁らしたり、スラッジを
生じたりする欠点を有していた。
子電解質や、界面活性剤などが用いられてきた。しか
し、これらの化合物は水溶性を持つために、現像処理時
に現像液中に溶出し、現像液を濁らしたり、スラッジを
生じたりする欠点を有していた。
【0004】従って、これらの高分子電解質や界面活性
剤はできるだけ水溶性の大きいものを選ぶか、或いは高
分子電解質を架橋する手段などがとられてきた。
剤はできるだけ水溶性の大きいものを選ぶか、或いは高
分子電解質を架橋する手段などがとられてきた。
【0005】しかしながら、近年、環境規制が厳しいこ
とから処理液の廃液量減少が要求されており、低補充で
処理した場合には、上記手段によっても濁りやスラッジ
の問題は解決できない。
とから処理液の廃液量減少が要求されており、低補充で
処理した場合には、上記手段によっても濁りやスラッジ
の問題は解決できない。
【0006】特公昭60−49894号では、このよう
な問題を避けるために非水溶性で結晶性を有する金属酸
化物粒子を、ビニリデン等の疎水性バインダーとともに
用いることを開示している。この場合、疎水性バインダ
ーは導電性がないので結晶性の金属酸化物粒子で導電性
を出すために、導電層中の金属酸化物粒子の充填率を上
げる必要がある。当該特許においては充填率を80重量
%以上としているが、結晶性の金属酸化物粒子は光を散
乱するため、80重量%以上の量を添加した場合には現
像処理後の透明フィルムが失透してしまう問題が起き
た。
な問題を避けるために非水溶性で結晶性を有する金属酸
化物粒子を、ビニリデン等の疎水性バインダーとともに
用いることを開示している。この場合、疎水性バインダ
ーは導電性がないので結晶性の金属酸化物粒子で導電性
を出すために、導電層中の金属酸化物粒子の充填率を上
げる必要がある。当該特許においては充填率を80重量
%以上としているが、結晶性の金属酸化物粒子は光を散
乱するため、80重量%以上の量を添加した場合には現
像処理後の透明フィルムが失透してしまう問題が起き
た。
【0007】これに対処するために特公平3−2465
6号では、結晶性の金属酸化物粒子とともに、親水性バ
インダーとポリオキシエチレン基を有するノニオン界面
活性剤を用いることを開示した。更に特公平3−246
57号では、親水性バインダーとフッ素系界面活性剤を
用いることを提案している。
6号では、結晶性の金属酸化物粒子とともに、親水性バ
インダーとポリオキシエチレン基を有するノニオン界面
活性剤を用いることを開示した。更に特公平3−246
57号では、親水性バインダーとフッ素系界面活性剤を
用いることを提案している。
【0008】しかしながら、これらの技術をもってして
も十分な導電性を持たせるためには、金属酸化物粒子の
充填率は50%以上必要であり、そのために失透性の問
題は解決されていないのが現状である。
も十分な導電性を持たせるためには、金属酸化物粒子の
充填率は50%以上必要であり、そのために失透性の問
題は解決されていないのが現状である。
【0009】一方、色増感効率或いは銀被覆力を与える
乳剤として平板状のハロゲン化銀粒子が広く知られてい
る。しかし、平板状ハロゲン化銀粒子は現像銀色調が純
黒調を得られず、黄色味を帯びるために医療用感光材料
のように銀画像観察者に不快な印象を与える欠点を有す
る。このような現象は微粒子乳剤や粒子厚みの薄い平板
状粒子に多く見られ、色調剤などによる対応が開示され
ている。
乳剤として平板状のハロゲン化銀粒子が広く知られてい
る。しかし、平板状ハロゲン化銀粒子は現像銀色調が純
黒調を得られず、黄色味を帯びるために医療用感光材料
のように銀画像観察者に不快な印象を与える欠点を有す
る。このような現象は微粒子乳剤や粒子厚みの薄い平板
状粒子に多く見られ、色調剤などによる対応が開示され
ている。
【0010】しかしながら従来から知られている色調剤
(例えばある種のメルカプト化合物など)では高感度乳
剤への適用は減感性が著しく実用化できない。
(例えばある種のメルカプト化合物など)では高感度乳
剤への適用は減感性が著しく実用化できない。
【0011】更に近年、感光材料の超迅速処理化のため
に、現像時間や乾燥時間の短縮が必須となっており、例
えばヒートローラーによる急速乾燥が行われている。
に、現像時間や乾燥時間の短縮が必須となっており、例
えばヒートローラーによる急速乾燥が行われている。
【0012】しかしながらフィルムの超迅速処理或いは
急速な乾燥を施すと、部分的に現像ムラや乾燥ムラを招
き、フィルム表面に光沢ムラとして現れ、銀色調と併せ
て画質を著しく劣化する結果となり更なる開発が望まれ
ていた。
急速な乾燥を施すと、部分的に現像ムラや乾燥ムラを招
き、フィルム表面に光沢ムラとして現れ、銀色調と併せ
て画質を著しく劣化する結果となり更なる開発が望まれ
ていた。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】従って本発明の目的は
十分な帯電防止性能を有し、且つ、銀色調が純黒調で優
れ、現像ムラを起こさない超迅速処理可能なハロゲン化
銀写真感光材料を提供することにある。
十分な帯電防止性能を有し、且つ、銀色調が純黒調で優
れ、現像ムラを起こさない超迅速処理可能なハロゲン化
銀写真感光材料を提供することにある。
【0014】
【課題を解決するための手段】本発明の上記の目的は下
記の構成により解決された。
記の構成により解決された。
【0015】(1)透明支持体の少なくとも一方の側
に、感光性ハロゲン化銀乳剤層と導電層を含む親水性コ
ロイド層を有するハロゲン化銀写真感光材料に於いて、
該導電層中には少なくとも1種の金属酸化物コロイドを
含有し、且つ、該親水性コロイド層中には少なくとも1
種のロイコ化合物を含有することを特徴とするハロゲン
化銀写真感光材料。
に、感光性ハロゲン化銀乳剤層と導電層を含む親水性コ
ロイド層を有するハロゲン化銀写真感光材料に於いて、
該導電層中には少なくとも1種の金属酸化物コロイドを
含有し、且つ、該親水性コロイド層中には少なくとも1
種のロイコ化合物を含有することを特徴とするハロゲン
化銀写真感光材料。
【0016】(2)感光性ハロゲン化銀乳剤層の塗布銀
量が片面当たり0.5〜1.5g/m2であり、且つ、
ゼラチン量が全親水性コロイド層中のバインダー量の1
0〜40重量%であることを特徴とする(1)項記載の
ハロゲン化銀写真感光材料。
量が片面当たり0.5〜1.5g/m2であり、且つ、
ゼラチン量が全親水性コロイド層中のバインダー量の1
0〜40重量%であることを特徴とする(1)項記載の
ハロゲン化銀写真感光材料。
【0017】以下、本発明を詳述する。
【0018】本発明に用いられる導電性の金属酸化物コ
ロイドとしては、結晶性金属酸化物粒子であり、酸素欠
陥を含むもの、及び用いられる金属酸化物に対してドナ
ーを形成する異種原子を含むものなどであってもよい。
ロイドとしては、結晶性金属酸化物粒子であり、酸素欠
陥を含むもの、及び用いられる金属酸化物に対してドナ
ーを形成する異種原子を含むものなどであってもよい。
【0019】本発明に係る導電層に用いられる金属酸化
物コロイドとしては、亜鉛、マグネシウム、ケイ素、カ
ルシウム、アルミニウム、ストロンチウム、バリウム、
ジルコニウム、チタン、マンガン、鉄、コバルト、ニッ
ケル、スズ、インジウム、モリブデン、バナジウムなど
の酸化物コロイドが用いられる。特にZnO、TiO2
及びSnO2、が好ましく、SnO2が特に好ましい。
物コロイドとしては、亜鉛、マグネシウム、ケイ素、カ
ルシウム、アルミニウム、ストロンチウム、バリウム、
ジルコニウム、チタン、マンガン、鉄、コバルト、ニッ
ケル、スズ、インジウム、モリブデン、バナジウムなど
の酸化物コロイドが用いられる。特にZnO、TiO2
及びSnO2、が好ましく、SnO2が特に好ましい。
【0020】また異種原子をドープした例としてはZn
Oに対してAl、In等、またTiO2に対してNb、
Ta等、SnO2に対してSb、Nb、ハロゲン元素等
が挙げられる。コロイド粒子の平均粒径は好ましくは
0.001〜1μmが分散安定上好ましい。
Oに対してAl、In等、またTiO2に対してNb、
Ta等、SnO2に対してSb、Nb、ハロゲン元素等
が挙げられる。コロイド粒子の平均粒径は好ましくは
0.001〜1μmが分散安定上好ましい。
【0021】本発明に用いる金属酸化物コロイド、特に
酸化第二錫からなるコロイド状SnO2ゾルの製造方法
に関しては、SnO2超微粒子を適当な溶媒に分散して
製造する方法、又は溶媒に可溶なSn化合物の溶媒中に
おける分解反応から製造する方法など、いずれの方法で
もよい。
酸化第二錫からなるコロイド状SnO2ゾルの製造方法
に関しては、SnO2超微粒子を適当な溶媒に分散して
製造する方法、又は溶媒に可溶なSn化合物の溶媒中に
おける分解反応から製造する方法など、いずれの方法で
もよい。
【0022】SnO2超微粒子の製造方法に関しては、
特に温度条件が重要で、高温度の熱処理を伴う方法は、
一次粒子の成長や、結晶性が高くなる現象を生じるので
好ましくなく、やむをえず熱処理を行う必要があるとき
には、300℃以下がよく、好ましくは200℃以下で
あり、更に好ましくは150℃以下で行なうべきであ
る。しかし、25℃から150℃までの加温は、バイン
ダー中への分散を考えた場合、好適に選ばれる手段であ
る。
特に温度条件が重要で、高温度の熱処理を伴う方法は、
一次粒子の成長や、結晶性が高くなる現象を生じるので
好ましくなく、やむをえず熱処理を行う必要があるとき
には、300℃以下がよく、好ましくは200℃以下で
あり、更に好ましくは150℃以下で行なうべきであ
る。しかし、25℃から150℃までの加温は、バイン
ダー中への分散を考えた場合、好適に選ばれる手段であ
る。
【0023】但し、バインダーとSnO2ゾルの溶媒と
の相溶性が悪い時には、溶媒置換の必要が生じるが、そ
のようなときには、SnO2ゾルの溶媒との相溶性又は
分散安定性の良好な他の化合物を適量添加し、SnO2
ゾルからSnO2超微粒子と適量添加された化合物とを
300℃以下、好ましくは200℃以下、更に好ましく
は150℃以下の加温により乾燥分離後、他の溶媒中へ
再分散する。
の相溶性が悪い時には、溶媒置換の必要が生じるが、そ
のようなときには、SnO2ゾルの溶媒との相溶性又は
分散安定性の良好な他の化合物を適量添加し、SnO2
ゾルからSnO2超微粒子と適量添加された化合物とを
300℃以下、好ましくは200℃以下、更に好ましく
は150℃以下の加温により乾燥分離後、他の溶媒中へ
再分散する。
【0024】溶媒に可溶なSn化合物の溶媒中における
分解反応から製造する方法に関しては以下に述べる。
分解反応から製造する方法に関しては以下に述べる。
【0025】ここで溶媒に可溶なSn化合物とはK2S
nO3・3H2Oのようなオキソ陰イオンを含む化合物、
SnCl4のような水溶性ハロゲン化物、R′2Sn
R2、R3SnX、R2SnX2の構造を有する化合物で
(ここで、R及びR′はアルキル基を表す)、例えば
(CH3)3SnCl・(ピリジン)、(C4H9)2Sn
(O2CC2H5)2などの有機金属化合物、Sn(S
O4)2・2H2Oなどのオキソ塩を挙げることができ
る。X、X2はハロゲン原子を表す。
nO3・3H2Oのようなオキソ陰イオンを含む化合物、
SnCl4のような水溶性ハロゲン化物、R′2Sn
R2、R3SnX、R2SnX2の構造を有する化合物で
(ここで、R及びR′はアルキル基を表す)、例えば
(CH3)3SnCl・(ピリジン)、(C4H9)2Sn
(O2CC2H5)2などの有機金属化合物、Sn(S
O4)2・2H2Oなどのオキソ塩を挙げることができ
る。X、X2はハロゲン原子を表す。
【0026】これらの溶媒に可溶なSn化合物を用いて
SnO2ゾルを製造する方法としては、溶媒に溶解後、
加熱、加圧などの物理的方法、酸化、還元、加水分解な
どの化学的方法、又は中間体を経由後、SnO2ゾルを
製造する方法などがある。例として特公昭35−661
6号に記載されたSnO2ゾルの製造方法を述べると、
SnCl4を100倍容量の蒸留水に溶解して、中間体
として水酸化第二錫の沈澱を作る。この水酸化第二錫に
アンモニア水を加え微アルカリ性となし溶解する。つい
でアンモニア臭の無くなるまで加温するとコロイド状S
nO2ゾルが得られる。なお、この例では、溶媒として
水を用いたが、メタノール、エタノール、イソプロパノ
ールなどのアルコール溶媒、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン、ジエチルエーテルなどのエーテル溶媒、ヘキサ
ン、ヘプタンなどの脂肪族有機溶媒、ベンゼン、ピリジ
ンなどの芳香族有機溶媒などSn化合物に応じて様々な
溶媒を用いることが可能であり、本発明は、溶媒に関し
て特に制限はない。好ましくは、水、アルコール類の溶
媒が選ばれる。
SnO2ゾルを製造する方法としては、溶媒に溶解後、
加熱、加圧などの物理的方法、酸化、還元、加水分解な
どの化学的方法、又は中間体を経由後、SnO2ゾルを
製造する方法などがある。例として特公昭35−661
6号に記載されたSnO2ゾルの製造方法を述べると、
SnCl4を100倍容量の蒸留水に溶解して、中間体
として水酸化第二錫の沈澱を作る。この水酸化第二錫に
アンモニア水を加え微アルカリ性となし溶解する。つい
でアンモニア臭の無くなるまで加温するとコロイド状S
nO2ゾルが得られる。なお、この例では、溶媒として
水を用いたが、メタノール、エタノール、イソプロパノ
ールなどのアルコール溶媒、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン、ジエチルエーテルなどのエーテル溶媒、ヘキサ
ン、ヘプタンなどの脂肪族有機溶媒、ベンゼン、ピリジ
ンなどの芳香族有機溶媒などSn化合物に応じて様々な
溶媒を用いることが可能であり、本発明は、溶媒に関し
て特に制限はない。好ましくは、水、アルコール類の溶
媒が選ばれる。
【0027】溶媒に可溶なSn化合物の溶媒中における
分解反応から製造する方法においてはプロセスの途中で
溶媒に可溶なSn以外の元素を含む化合物の添加も可能
である。例えば溶媒に可溶な弗素含有化合物の添加や、
溶媒に可溶な3価又は5価の配位数をとりうる金属化合
物の添加である。
分解反応から製造する方法においてはプロセスの途中で
溶媒に可溶なSn以外の元素を含む化合物の添加も可能
である。例えば溶媒に可溶な弗素含有化合物の添加や、
溶媒に可溶な3価又は5価の配位数をとりうる金属化合
物の添加である。
【0028】溶媒に可溶な弗素含有化合物とは、イオン
性弗化物又は共有性弗化物のいずれでもよい。例えばH
F、もしくはKHF2、SbF3、MoF6などの金属弗
化物、NH4MnF3、NH4BiF4などのフルオロ錯陰
イオンを生成する化合物、BrF3、SF4、SF6など
の無機分子性弗化物、CF3I、CF3COOH、P(C
F3)3などの有機弗素化合物を挙げることができるが、
溶媒が水の場合には、CaF2と硫酸との組み合わせの
ように、弗素含有化合物と不揮発性酸との組み合わせも
用いることができる。
性弗化物又は共有性弗化物のいずれでもよい。例えばH
F、もしくはKHF2、SbF3、MoF6などの金属弗
化物、NH4MnF3、NH4BiF4などのフルオロ錯陰
イオンを生成する化合物、BrF3、SF4、SF6など
の無機分子性弗化物、CF3I、CF3COOH、P(C
F3)3などの有機弗素化合物を挙げることができるが、
溶媒が水の場合には、CaF2と硫酸との組み合わせの
ように、弗素含有化合物と不揮発性酸との組み合わせも
用いることができる。
【0029】溶媒に可溶な3価もしくは5価の配位数を
とりうる金属の化合物とは、Al、Ga、In、Tlな
どのIIIb族元素もしくはP、As、Sb、Biなどの
V族元素、3価もしくは5価の配位数をとりうるNb、
V、Ti、Cr、Mo、Fe、Co、Niなどの遷移金
属を含む化合物群である。
とりうる金属の化合物とは、Al、Ga、In、Tlな
どのIIIb族元素もしくはP、As、Sb、Biなどの
V族元素、3価もしくは5価の配位数をとりうるNb、
V、Ti、Cr、Mo、Fe、Co、Niなどの遷移金
属を含む化合物群である。
【0030】本発明に使用する導電層のバインダーとし
ては、ゼラチン、誘導体ゼラチン、コロイド状アルブミ
ン、カゼイン等のタンパク質;カルボキシメチルセルロ
ース、ヒドロキシエチルセルロース、ジアセチルセルロ
ース、トリアセチルセルロース等のセルロース化合物;
寒天、アルギン酸ソーダ、でんぷん誘導体等の糖誘導
体;合成親水性コロイド例えばポリビニルアルコール、
ポリ−N−ビニルピロリドン、ポリアクリル酸共重合
体、ポリアクリルアミド又はこれらの誘導体、及び部分
加水分解物、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリル酸エステル
等のビニル重合体及びその共重合体、ロジン、シエラツ
ク等の天然物及びその誘導体、その他多くの合成樹脂類
が用いられる。またスチレン−ブタジエン共重合体、ポ
リアクリル酸、ポリアクリル酸エステル、及びその誘導
体、ポリ酢酸ビニル、酢酸ビニル−アクリル酸エステル
共重合体、ポリオレフィン、オレフィン−酢酸ビニル共
重合体等の水エマルジョンも使用することができる。そ
の他カーボネート系、ポリエステル系、ウレタン系、エ
ポシキ系樹脂、ポリ塩化ビニル及びポリピロールのごと
き有機半導体を使用することもできる。これらのバイン
ダーは2種以上を混合して使用することができる。
ては、ゼラチン、誘導体ゼラチン、コロイド状アルブミ
ン、カゼイン等のタンパク質;カルボキシメチルセルロ
ース、ヒドロキシエチルセルロース、ジアセチルセルロ
ース、トリアセチルセルロース等のセルロース化合物;
寒天、アルギン酸ソーダ、でんぷん誘導体等の糖誘導
体;合成親水性コロイド例えばポリビニルアルコール、
ポリ−N−ビニルピロリドン、ポリアクリル酸共重合
体、ポリアクリルアミド又はこれらの誘導体、及び部分
加水分解物、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリル酸エステル
等のビニル重合体及びその共重合体、ロジン、シエラツ
ク等の天然物及びその誘導体、その他多くの合成樹脂類
が用いられる。またスチレン−ブタジエン共重合体、ポ
リアクリル酸、ポリアクリル酸エステル、及びその誘導
体、ポリ酢酸ビニル、酢酸ビニル−アクリル酸エステル
共重合体、ポリオレフィン、オレフィン−酢酸ビニル共
重合体等の水エマルジョンも使用することができる。そ
の他カーボネート系、ポリエステル系、ウレタン系、エ
ポシキ系樹脂、ポリ塩化ビニル及びポリピロールのごと
き有機半導体を使用することもできる。これらのバイン
ダーは2種以上を混合して使用することができる。
【0031】製造時の取り扱い容易性や製品性質の観点
から、これらのバインダーの中でも特にポリアクリル酸
重合体、ポリアクリルアミド、ポリアクリロニトリル、
ポリアクリル酸エステル、ポリカーボネート、ポリエス
テル、ポリ塩化ビニル及びポリ塩化ビニリデンが好まし
い。
から、これらのバインダーの中でも特にポリアクリル酸
重合体、ポリアクリルアミド、ポリアクリロニトリル、
ポリアクリル酸エステル、ポリカーボネート、ポリエス
テル、ポリ塩化ビニル及びポリ塩化ビニリデンが好まし
い。
【0032】本発明における導電層の抵抗は、導電層中
の導電性粒子の体積含有率を調節することにより及び/
又は導電層の厚みを調節することにより10〜1010Ω
・cmの範囲に容易に調整することができる。しかしな
がら導電層としての強度を十分持たせるためには、バイ
ンダーの量は5重量%を下回らないことが好ましい。導
電性微粒子の割合は体積含有率で10〜70%、好まし
くは15〜50%であり、その使用量は0.05〜5.
0g/m2、好ましくは0.1〜2.0g/m2である。
の導電性粒子の体積含有率を調節することにより及び/
又は導電層の厚みを調節することにより10〜1010Ω
・cmの範囲に容易に調整することができる。しかしな
がら導電層としての強度を十分持たせるためには、バイ
ンダーの量は5重量%を下回らないことが好ましい。導
電性微粒子の割合は体積含有率で10〜70%、好まし
くは15〜50%であり、その使用量は0.05〜5.
0g/m2、好ましくは0.1〜2.0g/m2である。
【0033】導電層の塗布に際しては、溶剤を適宜選択
して上記の組成物の分散液を調製する。溶剤の選択は当
業者であれば容易に行うことができる。塗布方法には特
別な制限はなく公知の方法の中から任意に選択して採用
することができる。又、塗布に際してはサポニン、ドデ
シルベンゼンスルホン酸等の公知の塗布助剤や硬膜剤、
着色剤、紫外線吸収剤、熱線カット剤等を適宜必要に応
じて塗布液に加えることができる。又、支持体と導電層
との間の接着性を上げるために両者の間に下引層を設け
てもよい。
して上記の組成物の分散液を調製する。溶剤の選択は当
業者であれば容易に行うことができる。塗布方法には特
別な制限はなく公知の方法の中から任意に選択して採用
することができる。又、塗布に際してはサポニン、ドデ
シルベンゼンスルホン酸等の公知の塗布助剤や硬膜剤、
着色剤、紫外線吸収剤、熱線カット剤等を適宜必要に応
じて塗布液に加えることができる。又、支持体と導電層
との間の接着性を上げるために両者の間に下引層を設け
てもよい。
【0034】本発明のハロゲン化銀写真感光材料におい
て、導電層は感光材料構成層中の任意の位置に設けてよ
いが、より好ましくは下塗り層を施した支持体上に塗布
するのが本発明の効果を良好に奏する。
て、導電層は感光材料構成層中の任意の位置に設けてよ
いが、より好ましくは下塗り層を施した支持体上に塗布
するのが本発明の効果を良好に奏する。
【0035】本発明の感光材料の親水性コロイド層中に
は、少なくとも1種のロイコ化合物が含有される。ここ
で言うロイコ化合物とは銀画像に対応して青色染料を与
える化合物であり、銀画像の色調をニュートラルにする
色調剤の効果を有する化合物である。
は、少なくとも1種のロイコ化合物が含有される。ここ
で言うロイコ化合物とは銀画像に対応して青色染料を与
える化合物であり、銀画像の色調をニュートラルにする
色調剤の効果を有する化合物である。
【0036】具体的にはインドアニリン系ロイコ色素、
インダミン系ロイコ色素、トリフェニルメタン系ロイコ
色素、トリアリールメタン系ロイコ色素、スチリル系ロ
イコ色素、N−アシルオキサジン系ロイコ色素、N−ア
シルチアジン系ロイコ色素、N−アシルジアジン系ロイ
コ色素、キサンテン系ロイコ色素などを挙げることがで
きる。
インダミン系ロイコ色素、トリフェニルメタン系ロイコ
色素、トリアリールメタン系ロイコ色素、スチリル系ロ
イコ色素、N−アシルオキサジン系ロイコ色素、N−ア
シルチアジン系ロイコ色素、N−アシルジアジン系ロイ
コ色素、キサンテン系ロイコ色素などを挙げることがで
きる。
【0037】なお本発明において、迅速処理での現像ム
ラ防止にこれらのロイコ色素が極めて有効である。
ラ防止にこれらのロイコ色素が極めて有効である。
【0038】一般に超迅速処理においては、現像槽から
定着槽へ移る渡りローラー部分で、現像が進行し、その
ために現像ムラを発生し易いことが知られている。特に
迅速処理性を高めるために感光材料の膜膨潤度を上げた
り、帯電防止性能を高めるために界面活性剤を表面層に
用いた場合などには、この現像ムラが多く発生するよう
になる。
定着槽へ移る渡りローラー部分で、現像が進行し、その
ために現像ムラを発生し易いことが知られている。特に
迅速処理性を高めるために感光材料の膜膨潤度を上げた
り、帯電防止性能を高めるために界面活性剤を表面層に
用いた場合などには、この現像ムラが多く発生するよう
になる。
【0039】本発明において、ロイコ化合物と金属酸化
物の組み合わせにより現像ムラを防止する機構について
は明かではないが、現像主薬酸化体と反応するロイコ化
合物と金属酸化物を組み合わせた場合、フィルム表面又
は内部における界面活性剤の均一分散化或いは現像主薬
再生等に効果があるようで、迅速処理の際の現像ムラの
発生を殆ど防止することは予想しえなかったことであ
る。
物の組み合わせにより現像ムラを防止する機構について
は明かではないが、現像主薬酸化体と反応するロイコ化
合物と金属酸化物を組み合わせた場合、フィルム表面又
は内部における界面活性剤の均一分散化或いは現像主薬
再生等に効果があるようで、迅速処理の際の現像ムラの
発生を殆ど防止することは予想しえなかったことであ
る。
【0040】本発明において、親水性コロイド層中に用
いられるロイコ化合物は、下記一般式(1)で表される
化合物が好ましく用いられる。
いられるロイコ化合物は、下記一般式(1)で表される
化合物が好ましく用いられる。
【0041】
【化1】
【0042】〔式中、Wは−NR1R2、−OH又は−O
Zを表し、R1及びR2はそれぞれアルキル基又はアリー
ル基を表し、Zはアルカリ金属イオン又は第四級アンモ
ニウムイオンを表す。R3は水素原子、ハロゲン原子又
は1価の置換基を表し、nは1〜3の整数を表す。Z1
及びZ2はそれぞれ窒素原子又は=C(R3)−を表す。
XはZ1、Z2及びそれに隣接する炭素原子とともに5〜
6員の芳香族ヘテロ環を構築するのに必要な原子群を表
す。R4は水素原子、アシル基、スルホニル基、カルバ
モイル基、スルホ基、スルファモイル基、アルコキシカ
ルボニル基又はアリールオキシカルボニル基を表す。R
は脂肪族基又は芳香族基を表す。pは0〜2の整数を表
す。CP1は以下の基を表す。〕
Zを表し、R1及びR2はそれぞれアルキル基又はアリー
ル基を表し、Zはアルカリ金属イオン又は第四級アンモ
ニウムイオンを表す。R3は水素原子、ハロゲン原子又
は1価の置換基を表し、nは1〜3の整数を表す。Z1
及びZ2はそれぞれ窒素原子又は=C(R3)−を表す。
XはZ1、Z2及びそれに隣接する炭素原子とともに5〜
6員の芳香族ヘテロ環を構築するのに必要な原子群を表
す。R4は水素原子、アシル基、スルホニル基、カルバ
モイル基、スルホ基、スルファモイル基、アルコキシカ
ルボニル基又はアリールオキシカルボニル基を表す。R
は脂肪族基又は芳香族基を表す。pは0〜2の整数を表
す。CP1は以下の基を表す。〕
【0043】
【化2】
【0044】
【化3】
【0045】〔式中、R5〜R8はそれぞれ水素原子、ハ
ロゲン原子及びベンゼン環に置換可能な置換基を表す。
またR5とR6及びR7とR8は互いに結合して5〜7員の
環を形成しても良い。R9はR4と同義である。R10及び
R11はそれぞれアルキル基、アリール基又はヘテロ環基
を表す。R12はR4と同義である。R13及びR14はR10
及びR11と同義である。R15はR12と同義である。R16
はアルキル基、アリール基、スルホニル基、カルボキシ
基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニ
ル基、カルバモイル基又はシアノ基を表す。R17はR4
と同義である。R18はR3と同義であり、mは1〜3の
整数を表す。Y1は2つの窒素原子とともに5及び6員
の単環又は縮合環の含窒素ヘテロ環を構築するのに必要
な原子群を表す。R19及びR20はアルキル基又はアリー
ル基を表す。R21はR4と同義である。R22及びR23は
R19及びR20と同義である。R24はR21と同義である。
R25、R27及びR28は水素原子又は置換基を表す。R26
はR4と同義である。R29、R31及びR32はR25、R27
及びR28と同義である。R30はR26と同義である。
R34、R35及びR36はR25、R27及びR28と同義であ
る。R33はR26と同義である。R38、R39及びR40はR
25、R27及びR28と同義である。R37はR26と同義であ
る。R41、R42及びR43はR25、R27及びR28と同義で
ある。R44はR26と同義である。★は一般式(1)にお
けるCP1と他の部分構造との結合点を表す。〕 前記一般式(1)で表される化合物は、更に下記一般式
(2)で表される化合物であってもよい。
ロゲン原子及びベンゼン環に置換可能な置換基を表す。
またR5とR6及びR7とR8は互いに結合して5〜7員の
環を形成しても良い。R9はR4と同義である。R10及び
R11はそれぞれアルキル基、アリール基又はヘテロ環基
を表す。R12はR4と同義である。R13及びR14はR10
及びR11と同義である。R15はR12と同義である。R16
はアルキル基、アリール基、スルホニル基、カルボキシ
基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニ
ル基、カルバモイル基又はシアノ基を表す。R17はR4
と同義である。R18はR3と同義であり、mは1〜3の
整数を表す。Y1は2つの窒素原子とともに5及び6員
の単環又は縮合環の含窒素ヘテロ環を構築するのに必要
な原子群を表す。R19及びR20はアルキル基又はアリー
ル基を表す。R21はR4と同義である。R22及びR23は
R19及びR20と同義である。R24はR21と同義である。
R25、R27及びR28は水素原子又は置換基を表す。R26
はR4と同義である。R29、R31及びR32はR25、R27
及びR28と同義である。R30はR26と同義である。
R34、R35及びR36はR25、R27及びR28と同義であ
る。R33はR26と同義である。R38、R39及びR40はR
25、R27及びR28と同義である。R37はR26と同義であ
る。R41、R42及びR43はR25、R27及びR28と同義で
ある。R44はR26と同義である。★は一般式(1)にお
けるCP1と他の部分構造との結合点を表す。〕 前記一般式(1)で表される化合物は、更に下記一般式
(2)で表される化合物であってもよい。
【0046】
【化4】
【0047】〔式中、R1、R2、R3、R4、CP1、
n、R及びpは一般式(1)におけるR1、R2、R3、
R4、CP1、n、R及びpと同義である。〕 更に本発明では下記一般式(3)で表される化合物の少
なくとも一種とRSO3Hで表される化合物の少なくと
も一種を含有していてもよい。
n、R及びpは一般式(1)におけるR1、R2、R3、
R4、CP1、n、R及びpと同義である。〕 更に本発明では下記一般式(3)で表される化合物の少
なくとも一種とRSO3Hで表される化合物の少なくと
も一種を含有していてもよい。
【0048】
【化5】
【0049】〔式中、R3、n、R4、W、X、Z1、
Z2、及びCP1は一般式(1)におけるR3、n、
R4、W、X、Z1、Z2、及びCP1と同義である。〕 前記一般式(3)で表される化合物は、更に下記一般式
(4)で表される化合物であってもよい。
Z2、及びCP1は一般式(1)におけるR3、n、
R4、W、X、Z1、Z2、及びCP1と同義である。〕 前記一般式(3)で表される化合物は、更に下記一般式
(4)で表される化合物であってもよい。
【0050】
【化6】
【0051】〔式中、R1、R2、R3、R4、CP1及び
nは一般式(1)におけるR1、R2、R3、R4、CP1
及びnと同義である。〕 前記一般式(1)〜(4)で表される化合物において、
R4、R9、R12、R15、R17、R21、R24、R26、
R30、R33、R37及びR44で表される基の少なくとも1
つが、−COOM1及び−SO3M2(M1及びM2はそれ
ぞれ水素原子又はアルカリ金属を表す)から選ばれる少
なくとも1つで置換されている化合物であってもよい。
nは一般式(1)におけるR1、R2、R3、R4、CP1
及びnと同義である。〕 前記一般式(1)〜(4)で表される化合物において、
R4、R9、R12、R15、R17、R21、R24、R26、
R30、R33、R37及びR44で表される基の少なくとも1
つが、−COOM1及び−SO3M2(M1及びM2はそれ
ぞれ水素原子又はアルカリ金属を表す)から選ばれる少
なくとも1つで置換されている化合物であってもよい。
【0052】前記一般式(1)〜(4)において、R1
及びR2で表されるアルキル基としては、好ましくはメ
チル、エチル、プロピル、ブチル基等が挙げられる。こ
れらは更に置換されていてもよく好ましい置換基として
ヒドロキシ基、スルホンアミド基が挙げられる。R1及
びR2で表されるアリール基として好ましくはフェニル
基が挙げられる。
及びR2で表されるアルキル基としては、好ましくはメ
チル、エチル、プロピル、ブチル基等が挙げられる。こ
れらは更に置換されていてもよく好ましい置換基として
ヒドロキシ基、スルホンアミド基が挙げられる。R1及
びR2で表されるアリール基として好ましくはフェニル
基が挙げられる。
【0053】R3で挙げられる1価の置換基としてはア
ルキル基(例えばメチル、エチル、イソプロピル、ヒド
ロキシエチル、メトキシメチル、トリフルオロメチル、
t−ブチル基等)、シクロアルキル基(例えばシクロペ
ンチル、シクロヘキシル基等)、アラルキル基(例えば
ベンジル、2−フェネチル基等)、アリール基(例えば
フェニル、ナフチル、p−トリル、p−クロロフェニル
基等)、アルコキシル基(例えばメトキシ、エトキシ、
イソプロポキシ、n−ブトキシ基等)、アリールオキシ
基(例えばフェノキシ基等)、シアノ基、アシルアミノ
基(例えばアセチルアミノ、プロピオニルアミノ基
等)、アルキルチオ基(例えばメチルチオ、エチルチ
オ、n−ブチルチオ基等)、アリールチオ基(例えばフ
ェニルチオ基等)、スルホニルアミノ基(例えばメタン
スルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノ基等)、
ウレイド基(例えば3−メチルウレイド、3,3−ジメ
チルウレイド、1,3−ジメチルウレイド基等)、スル
ファモイルアミノ基(ジメチルスルファモイルアミノ基
等)、カルバモイル基(例えばメチルカルバモイル、エ
チルカルバモイル、ジメチルカルバモイル基等)、スル
ファモイル基(例えばエチルスルファモイル、ジメチル
スルファモイル基等)、アルコキシカルボニル基(例え
ばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル基等)、ア
リールオキシカルボニル基(例えばフェノキシカルボニ
ル基等)、スルホニル基(例えばメタンスルホニル、ブ
タンスルホニル、フェニルスルホニル基等)、アシル基
(例えばアセチル、プロパノイル、ブチロイル基等)、
アミノ基(メチルアミノ、エチルアミノ、ジメチルアミ
ノ基等)、ヒドロキシ基、ニトロ基、イミド基(例えば
フタルイミド基等)、ヘテロ環基(例えば、ピリジル、
ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリル、ベンズオキサ
ゾリル基等)が挙げられる。
ルキル基(例えばメチル、エチル、イソプロピル、ヒド
ロキシエチル、メトキシメチル、トリフルオロメチル、
t−ブチル基等)、シクロアルキル基(例えばシクロペ
ンチル、シクロヘキシル基等)、アラルキル基(例えば
ベンジル、2−フェネチル基等)、アリール基(例えば
フェニル、ナフチル、p−トリル、p−クロロフェニル
基等)、アルコキシル基(例えばメトキシ、エトキシ、
イソプロポキシ、n−ブトキシ基等)、アリールオキシ
基(例えばフェノキシ基等)、シアノ基、アシルアミノ
基(例えばアセチルアミノ、プロピオニルアミノ基
等)、アルキルチオ基(例えばメチルチオ、エチルチ
オ、n−ブチルチオ基等)、アリールチオ基(例えばフ
ェニルチオ基等)、スルホニルアミノ基(例えばメタン
スルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノ基等)、
ウレイド基(例えば3−メチルウレイド、3,3−ジメ
チルウレイド、1,3−ジメチルウレイド基等)、スル
ファモイルアミノ基(ジメチルスルファモイルアミノ基
等)、カルバモイル基(例えばメチルカルバモイル、エ
チルカルバモイル、ジメチルカルバモイル基等)、スル
ファモイル基(例えばエチルスルファモイル、ジメチル
スルファモイル基等)、アルコキシカルボニル基(例え
ばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル基等)、ア
リールオキシカルボニル基(例えばフェノキシカルボニ
ル基等)、スルホニル基(例えばメタンスルホニル、ブ
タンスルホニル、フェニルスルホニル基等)、アシル基
(例えばアセチル、プロパノイル、ブチロイル基等)、
アミノ基(メチルアミノ、エチルアミノ、ジメチルアミ
ノ基等)、ヒドロキシ基、ニトロ基、イミド基(例えば
フタルイミド基等)、ヘテロ環基(例えば、ピリジル、
ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリル、ベンズオキサ
ゾリル基等)が挙げられる。
【0054】R4で表されるアシル基として好ましく
は、アセチル基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル
基等が挙げられる。スルホニル基として好ましくは、メ
タンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基等が挙げられ
る。カルバモイル基として好ましくは、ジエチルカルバ
モイル基、フェニルカルバモイル基等が挙げられる。ス
ルファモイル基として好ましくは、ジエチルスルファモ
イル基等が挙げられる。アルコキシカルボニル基として
好ましくは、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニ
ル基が挙げられる。アリールオキシカルボニル基として
好ましくは、フェノキシカルボニル基等が挙げられる。
は、アセチル基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル
基等が挙げられる。スルホニル基として好ましくは、メ
タンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基等が挙げられ
る。カルバモイル基として好ましくは、ジエチルカルバ
モイル基、フェニルカルバモイル基等が挙げられる。ス
ルファモイル基として好ましくは、ジエチルスルファモ
イル基等が挙げられる。アルコキシカルボニル基として
好ましくは、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニ
ル基が挙げられる。アリールオキシカルボニル基として
好ましくは、フェノキシカルボニル基等が挙げられる。
【0055】Zで表されるアルカリ金属としてはナトリ
ウム、カリウム等が挙げられる。第四級アンモニウムと
しては、トリメチルベンジルアンモニウム、テトラブチ
ルアンモニウム、テトラデシルアンモニウム等の炭素総
数が8以上のアンモニウムが挙げられる。
ウム、カリウム等が挙げられる。第四級アンモニウムと
しては、トリメチルベンジルアンモニウム、テトラブチ
ルアンモニウム、テトラデシルアンモニウム等の炭素総
数が8以上のアンモニウムが挙げられる。
【0056】X、Z1、Z2及びそれに隣接する炭素原子
で構築される5〜6員の芳香族ヘテロ環としてはピリジ
ン環、ピリミジン環、ピリダジン環、ピラジン環、トリ
アジン環、テトラジン環、ピロール環、フラン環、チオ
フェン環、チアゾール環、オキサゾール環、イミダゾー
ル環、チアジアゾール環、オキサジアゾール環等が挙げ
られる。好ましくはピリジン環である。
で構築される5〜6員の芳香族ヘテロ環としてはピリジ
ン環、ピリミジン環、ピリダジン環、ピラジン環、トリ
アジン環、テトラジン環、ピロール環、フラン環、チオ
フェン環、チアゾール環、オキサゾール環、イミダゾー
ル環、チアジアゾール環、オキサジアゾール環等が挙げ
られる。好ましくはピリジン環である。
【0057】R5〜R8で表されるベンゼン環に置換可能
な置換基としては上述のR3で挙げられる1価の置換基
と同義の基を挙げることができる。好ましくはアルキル
基、アシルアミノ基である。
な置換基としては上述のR3で挙げられる1価の置換基
と同義の基を挙げることができる。好ましくはアルキル
基、アシルアミノ基である。
【0058】R5とR6及びR7とR8が互いに結合して形
成する5〜7員の環としては、芳香族炭素環及び複素環
が挙げられるが、好ましくはベンゼン環を挙げることが
できる。
成する5〜7員の環としては、芳香族炭素環及び複素環
が挙げられるが、好ましくはベンゼン環を挙げることが
できる。
【0059】R10及びR11で表されるアルキル基として
はメチル、エチル、プロピル、ブチル基等が挙げられ、
アリール基としてはフェニル基、ナフチル基等が挙げら
れ、ヘテロ環基としてはO、S、及びN原子の少なくと
も1種を環内に有する5〜6員の芳香族複素環(例え
ば、ピリジン、ピラジン、ピリミジン環等の6員環アジ
ン及びそのベンゼローグ:ピロール、チオフェン、フラ
ン及びそのベンゼローグ:イミダゾール、ピラゾール、
トリアゾール、テトラゾール、チアゾール、オキサゾー
ル、チアジアゾール、オキサジアゾール等の5員環アゾ
ール及びそのベンゼローグ等)が挙げられる。R10及び
R11として好ましくはフェニル基、ピラゾリル基、ピリ
ジル基等が挙げられる。
はメチル、エチル、プロピル、ブチル基等が挙げられ、
アリール基としてはフェニル基、ナフチル基等が挙げら
れ、ヘテロ環基としてはO、S、及びN原子の少なくと
も1種を環内に有する5〜6員の芳香族複素環(例え
ば、ピリジン、ピラジン、ピリミジン環等の6員環アジ
ン及びそのベンゼローグ:ピロール、チオフェン、フラ
ン及びそのベンゼローグ:イミダゾール、ピラゾール、
トリアゾール、テトラゾール、チアゾール、オキサゾー
ル、チアジアゾール、オキサジアゾール等の5員環アゾ
ール及びそのベンゼローグ等)が挙げられる。R10及び
R11として好ましくはフェニル基、ピラゾリル基、ピリ
ジル基等が挙げられる。
【0060】R16で表されるアルキル基としてはメチ
ル、イソプロピル、ペンチル、トリフルオロメチル、t
−ブチル基等が挙げられる。アリール基としてはフェニ
ル、ナフチル基等が挙げられる。スルホニル基としては
メチンスルホニル、ベンゼンスルホニル基等が挙げられ
る。アリールオキシカルボニル基としてはフェノキシカ
ルボニル基等が挙げられる。アルコキシカルボニル基と
してはエトキシカルボニル基等が挙げられる。カルバモ
イル基としてはジエチルアミノカルバモイル基等が挙げ
られる。
ル、イソプロピル、ペンチル、トリフルオロメチル、t
−ブチル基等が挙げられる。アリール基としてはフェニ
ル、ナフチル基等が挙げられる。スルホニル基としては
メチンスルホニル、ベンゼンスルホニル基等が挙げられ
る。アリールオキシカルボニル基としてはフェノキシカ
ルボニル基等が挙げられる。アルコキシカルボニル基と
してはエトキシカルボニル基等が挙げられる。カルバモ
イル基としてはジエチルアミノカルバモイル基等が挙げ
られる。
【0061】Y1で表される含窒素ヘテロ環としてはイ
ミダゾール、トリアゾール、テトラゾール等の各環及び
そのベンゾ縮合環を挙げることができる。
ミダゾール、トリアゾール、テトラゾール等の各環及び
そのベンゾ縮合環を挙げることができる。
【0062】R19及びR20で表されるアルキル基として
はメチル基、ペンチル基、t−ブチル基等が挙げられ
る。アリール基としてフェニル基、ナフチル基等が挙げ
られる。
はメチル基、ペンチル基、t−ブチル基等が挙げられ
る。アリール基としてフェニル基、ナフチル基等が挙げ
られる。
【0063】R25、R27及びR28で表される置換基とし
ては、フェニル、メチル、ベンゾイル、フェノキシ、エ
トキシ基等が挙げられる。
ては、フェニル、メチル、ベンゾイル、フェノキシ、エ
トキシ基等が挙げられる。
【0064】Rで表される脂肪族基としては、ヘキシル
基、ドデシル基等が挙げられる。芳香族基としては、p
−トルエン、ドデシルベンゼン等が挙げられる。
基、ドデシル基等が挙げられる。芳香族基としては、p
−トルエン、ドデシルベンゼン等が挙げられる。
【0065】以下、一般式(1)〜(4)で表される化
合物を具体的に列挙するがこれらに限定されるものでは
ない。
合物を具体的に列挙するがこれらに限定されるものでは
ない。
【0066】
【化7】
【0067】
【化8】
【0068】
【化9】
【0069】
【化10】
【0070】
【化11】
【0071】
【化12】
【0072】
【化13】
【0073】
【化14】
【0074】
【化15】
【0075】
【化16】
【0076】
【化17】
【0077】
【化18】
【0078】合成例1(例示化合物8の合成) 反応経路
【0079】
【化19】
【0080】(1)3.9gを酢酸エチル50mlに溶
解し、5%Pd/C0.5gを加え常圧接触水素添加を
おこなった。反応液の青色が消失し、(2)が生成し
た。
解し、5%Pd/C0.5gを加え常圧接触水素添加を
おこなった。反応液の青色が消失し、(2)が生成し
た。
【0081】次に反応液にトリエチルアミン1.2g、
及びアセチルクロリド1.5gを加え室温で2時間撹拌
した。触媒及び不溶物を濾別し、残渣を酢酸エチルから
再結晶して目的の例示化合物8を3.8g(収率89
%)得た。
及びアセチルクロリド1.5gを加え室温で2時間撹拌
した。触媒及び不溶物を濾別し、残渣を酢酸エチルから
再結晶して目的の例示化合物8を3.8g(収率89
%)得た。
【0082】構造はNMRスペクトル及びMassスペ
クトルにより確認した。
クトルにより確認した。
【0083】合成例2(例示化合物9の合成) 反応経路
【0084】
【化20】
【0085】合成例1の(1)3.9gを酢酸エチル5
0mlに溶解し、5%Pd/C0.5gを加え常圧接触
水素添加をおこなった。反応液の青色が消失し、(2)
が生成した。
0mlに溶解し、5%Pd/C0.5gを加え常圧接触
水素添加をおこなった。反応液の青色が消失し、(2)
が生成した。
【0086】次に反応液にトリエチルアミン1.2g、
及び無水トリフルオロ酢酸4.0gを加え室温で2時間
撹拌した。触媒及び不溶物を濾別し、残渣を酢酸エチル
から再結晶して目的の例示化合物9を4.0g(収率8
5%)得た。
及び無水トリフルオロ酢酸4.0gを加え室温で2時間
撹拌した。触媒及び不溶物を濾別し、残渣を酢酸エチル
から再結晶して目的の例示化合物9を4.0g(収率8
5%)得た。
【0087】構造はNMRスペクトル及びMassスペ
クトルにより確認した。
クトルにより確認した。
【0088】合成例3(例示化合物58の合成) 反応経路
【0089】
【化21】
【0090】メタノール30mlに例示化合物8を3.
5g溶解し、p−トルエンスルホン酸・1水和物2.6
gを加え撹拌する。
5g溶解し、p−トルエンスルホン酸・1水和物2.6
gを加え撹拌する。
【0091】次にこの反応液を水300mlにあけ、濾
取して目的の例示化合物58を4.1g(収率87%)
得た。
取して目的の例示化合物58を4.1g(収率87%)
得た。
【0092】構造はNMRスペクトル及びMassスペ
クトルにより確認した。
クトルにより確認した。
【0093】これ以外の化合物についても上記合成例と
同様の方法で容易に合成することができた。
同様の方法で容易に合成することができた。
【0094】上記のロイコ化合物の添加量はハロゲン化
銀写真感光材料構成層中の乳剤層又は親水性コロイド層
に添加する場合、5〜300mg/m2でよく、好まし
くは10〜100mg/m2でよい。
銀写真感光材料構成層中の乳剤層又は親水性コロイド層
に添加する場合、5〜300mg/m2でよく、好まし
くは10〜100mg/m2でよい。
【0095】ロイコ化合物を添加する層としてはハロゲ
ン化銀乳剤層、ハロゲン化銀乳剤層に隣接した保護層、
中間層、染料層、下塗り層或いは帯電防止層などの親水
性コロイド層に添加することが好ましい。特に好ましく
はハロゲン化銀乳剤層に含有させることである。
ン化銀乳剤層、ハロゲン化銀乳剤層に隣接した保護層、
中間層、染料層、下塗り層或いは帯電防止層などの親水
性コロイド層に添加することが好ましい。特に好ましく
はハロゲン化銀乳剤層に含有させることである。
【0096】ロイコ化合物を添加する際には水もしくは
親水性溶媒例えばアルコール類、エーテル類、グリコー
ル類、ケトン類、エステル類、アミド類などのうち、写
真特性に悪影響を及ぼさない溶媒を使用するのが好まし
い。
親水性溶媒例えばアルコール類、エーテル類、グリコー
ル類、ケトン類、エステル類、アミド類などのうち、写
真特性に悪影響を及ぼさない溶媒を使用するのが好まし
い。
【0097】添加方法としては上記の溶解物を直接添加
するか、もしくはカラー用カプラーを乳化して親水性コ
ロイド層中へ添加する方法でもよく、例えば有機溶媒で
溶解後、界面活性剤を用いて乳化分散し、その乳化分散
物を親水性コロイド中に添加してもよい。この場合、有
機溶媒は沸点約175℃以上の高沸点溶媒或いは沸点約
30℃ないし約150℃の低沸点溶媒をそれぞれ単独も
しくは両者を混合して用いてもよい。
するか、もしくはカラー用カプラーを乳化して親水性コ
ロイド層中へ添加する方法でもよく、例えば有機溶媒で
溶解後、界面活性剤を用いて乳化分散し、その乳化分散
物を親水性コロイド中に添加してもよい。この場合、有
機溶媒は沸点約175℃以上の高沸点溶媒或いは沸点約
30℃ないし約150℃の低沸点溶媒をそれぞれ単独も
しくは両者を混合して用いてもよい。
【0098】高沸点溶媒としてはジ−n−ブチルフタレ
ート、ベンジルフタレート、トリフェニルフタレート、
トリ−o−クレジルホスフェート、ジフェニルモノ−p
−tert−ブチルフェニルホスフェート、モノフェニ
ル−ジ−p−tert−ブチルフェニルホスフェート、
2,4−ジ−tert−アミルフェノール、N,N−ジ
エチルラウリルアミド、リン酸トリヘキシルなどを用い
ることができる。また低沸点溶媒としては前記の親水性
溶媒などを挙げることがでる。
ート、ベンジルフタレート、トリフェニルフタレート、
トリ−o−クレジルホスフェート、ジフェニルモノ−p
−tert−ブチルフェニルホスフェート、モノフェニ
ル−ジ−p−tert−ブチルフェニルホスフェート、
2,4−ジ−tert−アミルフェノール、N,N−ジ
エチルラウリルアミド、リン酸トリヘキシルなどを用い
ることができる。また低沸点溶媒としては前記の親水性
溶媒などを挙げることがでる。
【0099】又、ロイコ化合物は固体微粒子状に分散し
て添加してもよい。
て添加してもよい。
【0100】本発明のロイコ化合物を親水性コロイドに
導入する工程は、感光材料製造工程のいずれでもよく、
好ましくは塗布工程以前の時期でよく、とくに塗布液調
製時の工程が望ましい。
導入する工程は、感光材料製造工程のいずれでもよく、
好ましくは塗布工程以前の時期でよく、とくに塗布液調
製時の工程が望ましい。
【0101】本発明の感光材料の感光性ハロゲン化銀乳
剤層の塗布銀量は片面当たり0.5〜1.5g/m2で
あり、好ましくは0.7〜1.5g/m2である。
剤層の塗布銀量は片面当たり0.5〜1.5g/m2で
あり、好ましくは0.7〜1.5g/m2である。
【0102】また本発明の感光材料の感光性ハロゲン化
銀乳剤層の片面塗布ゼラチン量は、片面の全親水性コロ
イド層中のバインダー量の10〜40重量%であり、好
ましくは15〜35重量%である。具体的には片面当た
り0.5〜3.0g/m2であり、好ましくは10〜
2.5g/m2である。なお、ここでいう片面の全親水
性コロイド層とは感光性ハロゲン化銀乳剤層、保護層、
中間層、染料層、下塗り層或いは帯電防止層などの親水
性コロイド層を指す。
銀乳剤層の片面塗布ゼラチン量は、片面の全親水性コロ
イド層中のバインダー量の10〜40重量%であり、好
ましくは15〜35重量%である。具体的には片面当た
り0.5〜3.0g/m2であり、好ましくは10〜
2.5g/m2である。なお、ここでいう片面の全親水
性コロイド層とは感光性ハロゲン化銀乳剤層、保護層、
中間層、染料層、下塗り層或いは帯電防止層などの親水
性コロイド層を指す。
【0103】本発明の感光材料は両面の場合もこの片面
当たりの銀量及びゼラチン量を両面に塗布してX線用の
感光材料を調製する。
当たりの銀量及びゼラチン量を両面に塗布してX線用の
感光材料を調製する。
【0104】本発明の感光材料に用いられるバインダー
としてはゼラチン、ゼラチン誘導体を用いるのが有利で
ある。ゼラチンとしては石灰処理ゼラチンの他、Bul
l.Soc.Sci.Phot.Japan,No.1
6,30頁(1966年)に記載されたような酸処理ゼ
ラチンを用いてもよく、またゼラチンの加水分解物や酸
素分解物も用いることができる。ゼラチン誘導体として
はゼラチンに例えば酸ハライド、酸無水物、イソシアナ
ート類、ブロモ酢酸アルカンサルトン類、ビニルスルホ
ンアミド類、マレインイミド化合物類、ポリアルキレン
オキシド類、エポキシ化合物類等種々の化合物を反応さ
せて得られるものが用いられる。
としてはゼラチン、ゼラチン誘導体を用いるのが有利で
ある。ゼラチンとしては石灰処理ゼラチンの他、Bul
l.Soc.Sci.Phot.Japan,No.1
6,30頁(1966年)に記載されたような酸処理ゼ
ラチンを用いてもよく、またゼラチンの加水分解物や酸
素分解物も用いることができる。ゼラチン誘導体として
はゼラチンに例えば酸ハライド、酸無水物、イソシアナ
ート類、ブロモ酢酸アルカンサルトン類、ビニルスルホ
ンアミド類、マレインイミド化合物類、ポリアルキレン
オキシド類、エポキシ化合物類等種々の化合物を反応さ
せて得られるものが用いられる。
【0105】即ち、酸性法、アンモニア法、中性法など
の溶液条件にて順混合法、逆混合法、ダブルジェット
法、コントロールド・ダブルジェット法などの混合条
件、コンバージョン法、コア/シェル法などの粒子調製
条件及びこれらの組合わせ法を用いて製造することがで
きる。
の溶液条件にて順混合法、逆混合法、ダブルジェット
法、コントロールド・ダブルジェット法などの混合条
件、コンバージョン法、コア/シェル法などの粒子調製
条件及びこれらの組合わせ法を用いて製造することがで
きる。
【0106】本発明の感光材料に用いられる乳剤の好ま
しい実施態様としては、沃化銀を粒子内部に局在させた
単分散乳剤が挙げられる。ここで言う単分散とは、常法
により平均粒子直径を測定したとき、粒子数又は重量で
少なくとも95%の粒子が平均粒子径の±40%以内、
好ましくは±30%以内にあるハロゲン化銀粒子であ
る。
しい実施態様としては、沃化銀を粒子内部に局在させた
単分散乳剤が挙げられる。ここで言う単分散とは、常法
により平均粒子直径を測定したとき、粒子数又は重量で
少なくとも95%の粒子が平均粒子径の±40%以内、
好ましくは±30%以内にあるハロゲン化銀粒子であ
る。
【0107】ハロゲン化銀粒子の粒径分布は、狭い分布
を有した単分散乳剤或いは広い分布を有した多分散乳剤
の何れであってもよい。ハロゲン化銀の結晶構造は内部
と外部が異なったハロゲン化銀組成からなっていてもよ
く、例えば高沃化銀のコア部分に低沃化銀のシェル層を
被覆して明確な2層構造を有したコア/シェル型単分散
乳剤であってもよい。
を有した単分散乳剤或いは広い分布を有した多分散乳剤
の何れであってもよい。ハロゲン化銀の結晶構造は内部
と外部が異なったハロゲン化銀組成からなっていてもよ
く、例えば高沃化銀のコア部分に低沃化銀のシェル層を
被覆して明確な2層構造を有したコア/シェル型単分散
乳剤であってもよい。
【0108】本発明の感光材料に用いられる乳剤は、上
記の単分散乳剤を得るための方法として、例えば種晶を
用い、この種晶を成長核として銀イオン及びハライドイ
オンを供給し成長させた乳剤を用いてもよい。
記の単分散乳剤を得るための方法として、例えば種晶を
用い、この種晶を成長核として銀イオン及びハライドイ
オンを供給し成長させた乳剤を用いてもよい。
【0109】本発明の感光材料に用いられる乳剤は、ア
スペクト比(粒子径/粒子厚みの比)が3以上の平板状
粒子を用いてもよく、好ましくはアスペクト比4以上の
粒子が好ましい。このような平板状粒子の利点として
は、分光増感効率の向上や画像の粒状性及び鮮鋭性の改
良などが得られるとして、例えば英国特許2,112,
157号、米国特許4,414,310号、同4,43
4,226号などに開示されており、乳剤はこれらの公
報に記載の方法を参考に調製することができる。
スペクト比(粒子径/粒子厚みの比)が3以上の平板状
粒子を用いてもよく、好ましくはアスペクト比4以上の
粒子が好ましい。このような平板状粒子の利点として
は、分光増感効率の向上や画像の粒状性及び鮮鋭性の改
良などが得られるとして、例えば英国特許2,112,
157号、米国特許4,414,310号、同4,43
4,226号などに開示されており、乳剤はこれらの公
報に記載の方法を参考に調製することができる。
【0110】上述した乳剤は、粒子表面に潜像を形成す
る表面潜像型或いは粒子内部に潜像を形成する内部潜像
型、表面と内部の両方に潜像を形成する型の何れの乳剤
であってもよい。
る表面潜像型或いは粒子内部に潜像を形成する内部潜像
型、表面と内部の両方に潜像を形成する型の何れの乳剤
であってもよい。
【0111】これらの乳剤は物理熟成、或は粒子調製の
段階で、例えばカドミウム塩、鉛塩、亜鉛塩、タリウム
塩、イリジウム塩又はその錯塩、ロジウム塩又はその錯
塩、鉄塩又はその錯塩などを用いてもよい。
段階で、例えばカドミウム塩、鉛塩、亜鉛塩、タリウム
塩、イリジウム塩又はその錯塩、ロジウム塩又はその錯
塩、鉄塩又はその錯塩などを用いてもよい。
【0112】乳剤は可溶性塩類を除去するためにヌード
ル水洗法、フロキュレーション沈降法などの水洗方法が
なされてよい。好ましい水洗法としては、例えばスルホ
基を含む芳香族炭化水素系アルデヒド樹脂を用いる方
法、又は特開平2−7037号記載の凝集高分子剤例示
G−3、G−8などを用いる方法が特に好ましい脱塩法
として挙げられる。
ル水洗法、フロキュレーション沈降法などの水洗方法が
なされてよい。好ましい水洗法としては、例えばスルホ
基を含む芳香族炭化水素系アルデヒド樹脂を用いる方
法、又は特開平2−7037号記載の凝集高分子剤例示
G−3、G−8などを用いる方法が特に好ましい脱塩法
として挙げられる。
【0113】本発明に係るハロゲン化銀乳剤は、物理熟
成又は化学熟成前後の工程において、前記金属塩又はそ
の錯塩などの他、各種の写真用添加剤を用いることがで
きる。
成又は化学熟成前後の工程において、前記金属塩又はそ
の錯塩などの他、各種の写真用添加剤を用いることがで
きる。
【0114】本発明に係る感光材料に用いることのでき
る支持体としては、例えばRD−17643の28頁及
びRD−308119の1009頁に記載されているも
のが挙げられる。
る支持体としては、例えばRD−17643の28頁及
びRD−308119の1009頁に記載されているも
のが挙げられる。
【0115】適当な支持体としてはポリエチレンテレフ
タレートフィルムなどで、これら支持体の表面は塗布層
の接着をよくするために、下引層を設けたり、コロナ放
電、紫外線照射などを施してもよい。
タレートフィルムなどで、これら支持体の表面は塗布層
の接着をよくするために、下引層を設けたり、コロナ放
電、紫外線照射などを施してもよい。
【0116】本発明の感光材料の処理方法は、現像、定
着、水洗及び乾燥の工程を含む自動現像機で処理され、
現像から乾燥までの処理工程は45秒以内であり、好ま
しくは30秒以内である。
着、水洗及び乾燥の工程を含む自動現像機で処理され、
現像から乾燥までの処理工程は45秒以内であり、好ま
しくは30秒以内である。
【0117】
【実施例】以下、本発明を実施例にて説明する。
【0118】実施例1 (種乳剤EM−Aの調製)下記のようにして種乳剤EM
−Aを調製した。
−Aを調製した。
【0119】 A1 オセインゼラチン 100g 臭化カリウム 2.05g 水で 11.5lにする B1 オセインゼラチン 55g 臭化カリウム 65g 沃化カリウム 1.8g 0.2N硫酸 38.5ml 水で 2.6lにする C1 オセインゼラチン 75g 臭化カリウム 950g 沃化カリウム 27g 水で 3.0lにする D1 硝酸銀 95g 水で 2.7lにする E1 硝酸銀 1410g 水で 3.2lにする 反応釜の60℃に保温したA1液に、B1液とD1液を
コントロールダブルジェット法により、30分間かけて
添加し、その後、C1及びE1液をコントロールダブル
ジェット法により105分間かけて加えた。撹拌は、5
00rpmで行った。流速は、粒子の成長に伴い、新し
い核が発生せず、かついわゆるオストワルド熟成をおこ
し、粒径分布の広がらない流速で添加した。銀イオン液
及びハライドイオン液の添加時において、pAgは臭化
カリウム液を用い、8.3±0.05に調整し、pHは
硫酸を用いて2.0±0.1に調整した。添加終了後、
pHを6.0に合わせてから、過剰の塩類を除去するた
め、特公昭35−16086号記載の方法により脱塩処
理を行った。
コントロールダブルジェット法により、30分間かけて
添加し、その後、C1及びE1液をコントロールダブル
ジェット法により105分間かけて加えた。撹拌は、5
00rpmで行った。流速は、粒子の成長に伴い、新し
い核が発生せず、かついわゆるオストワルド熟成をおこ
し、粒径分布の広がらない流速で添加した。銀イオン液
及びハライドイオン液の添加時において、pAgは臭化
カリウム液を用い、8.3±0.05に調整し、pHは
硫酸を用いて2.0±0.1に調整した。添加終了後、
pHを6.0に合わせてから、過剰の塩類を除去するた
め、特公昭35−16086号記載の方法により脱塩処
理を行った。
【0120】この種乳剤を電子顕微鏡で観察したとこ
ろ、平均粒径0.27μm、粒径分布の広さ17%の角
がややかけた立方体形状の14面体単分散性乳剤であっ
た。
ろ、平均粒径0.27μm、粒径分布の広さ17%の角
がややかけた立方体形状の14面体単分散性乳剤であっ
た。
【0121】(Em−1の調製)種乳剤EM−Aと以下
に示す7種の溶液を用い、単分散性コア/シェル型乳剤
を調製した。
に示す7種の溶液を用い、単分散性コア/シェル型乳剤
を調製した。
【0122】 A2 オセインゼラチン 10g アンモニア水(28%) 28ml 氷酢酸 3ml 種乳剤EM−A 0.119モル相当 水で 600mlにする B2 オセインゼラチン 0.8g 臭化カリウム 5g 沃化カリウム 3g 水で 110mlにする C2 オセインゼラチン 2g 臭化カリウム 90g 水で 240mlにする D2 硝酸銀 9.9g アンモニア水(28%) 7.0ml 水で 110mlにする E2 硝酸銀 130g アンモニア水(28%) 100ml 水で 240mlにする F2 臭化カリウム 94g 水で 165mlにする G2 硝酸銀 9.9g アンモニア水(28%) 7.0ml 水で 110mlにする A2液を40℃に保温し撹拌機で800rpmで撹拌を
行った。A2液のpHは酢酸を用い9.90に調整し、
種乳剤EM−Aを採取し分散懸濁させ、その後G2液を
7分間かけて等速で添加しpAgを7.3にした。更
に、B2液、D2液を同時に20分かけて添加した。こ
の時のpAgは7.3一定とした。更に10分間かけて
臭化カリウム溶液及び酢酸を用いてpH=8.83、p
Ag=9.0に調整した後、C2液、E2液を同時に3
0分間かけて添加した。
行った。A2液のpHは酢酸を用い9.90に調整し、
種乳剤EM−Aを採取し分散懸濁させ、その後G2液を
7分間かけて等速で添加しpAgを7.3にした。更
に、B2液、D2液を同時に20分かけて添加した。こ
の時のpAgは7.3一定とした。更に10分間かけて
臭化カリウム溶液及び酢酸を用いてpH=8.83、p
Ag=9.0に調整した後、C2液、E2液を同時に3
0分間かけて添加した。
【0123】この時、添加速度時と添加終了時の流量比
は1:10であり、時間とともに流速を上昇せしめた。
又、流量比に比例してpHを8.83から8.00まで
低下せしめた。又、C2液及びE2液が全体の2/3量
だけ添加された時に、F2液を追加注入し8分間かけて
等速で添加した。この時、pAgは9.0から11.0
まで上昇した。更に酢酸を加えてpHを6.0に調整し
た。
は1:10であり、時間とともに流速を上昇せしめた。
又、流量比に比例してpHを8.83から8.00まで
低下せしめた。又、C2液及びE2液が全体の2/3量
だけ添加された時に、F2液を追加注入し8分間かけて
等速で添加した。この時、pAgは9.0から11.0
まで上昇した。更に酢酸を加えてpHを6.0に調整し
た。
【0124】添加終了後、過剰な塩類を除去するため
に、デモール(花王アトラス社製)水溶液及び硫酸マグ
ネシウム水溶液を用いて沈澱脱塩を行い、pAg8.
5、40℃においてpH5.85の平均沃化銀含有率が
約2モル%の乳剤を得た。
に、デモール(花王アトラス社製)水溶液及び硫酸マグ
ネシウム水溶液を用いて沈澱脱塩を行い、pAg8.
5、40℃においてpH5.85の平均沃化銀含有率が
約2モル%の乳剤を得た。
【0125】得られた乳剤を電子顕微鏡にて観察したと
ころ、平均粒径0.55μm、粒径分布の広さが14%
の丸みを帯びた14面体単分散性コア/シェル型乳剤を
得た。
ころ、平均粒径0.55μm、粒径分布の広さが14%
の丸みを帯びた14面体単分散性コア/シェル型乳剤を
得た。
【0126】(六角平板状種乳剤の調製)以下の方法に
より純臭化銀の六角平板状種乳剤EM−Bを作成した。
より純臭化銀の六角平板状種乳剤EM−Bを作成した。
【0127】 A3 オセインゼラチン 60.2g 蒸留水 20.0l HO−(CH2CH2O)n−[CH(CH3)CH2O]17− (CH2CH2O)mH(n+m=5〜7)10%メタノール水溶液 5.6ml KBr 26.8g 10%H2SO4 144ml B3 硝酸銀 1487.5g 蒸留水で 3500mlにする C3 KBr 1050g 蒸留水で 3500mlにする D3 1.75N KBr水溶液 下記銀電位制御量 35℃において、特公昭58−58288号、同58−
58289号に示される混合撹拌機を用いて、溶液A3
に溶液B3及び溶液C3の各々64.1mlを同時混合
法により2分の時間を要して添加し、核形成を行った。
58289号に示される混合撹拌機を用いて、溶液A3
に溶液B3及び溶液C3の各々64.1mlを同時混合
法により2分の時間を要して添加し、核形成を行った。
【0128】溶液B3及び溶液C3の添加を停止した
後、60分の時間を要して溶液A3の温度を60℃に上
昇させ、再び溶液B3と溶液C3を同時混合法により、
各々68.5ml/minの流量で50分間添加した。
この間の銀電位(飽和銀−塩化銀電極を比較電極として
銀イオン選択電極で測定)を溶液Dを用いて+6mVに
なるように制御した。添加終了後3%KOHによってp
Hを6に合わせ、直ちに脱塩、水洗を行い種乳剤EM−
Bとした。このように作成した種乳剤EM−Bは、ハロ
ゲン化銀粒子の全投影面積の90%以上が最大隣接辺比
が1.0〜2.0の六角平板粒子よりなり、六角平板の
平均厚さ0.07μm、平均直径(円直径換算)は0.
5μm、変動係数は25%であることが電子顕微鏡観察
により判明した。
後、60分の時間を要して溶液A3の温度を60℃に上
昇させ、再び溶液B3と溶液C3を同時混合法により、
各々68.5ml/minの流量で50分間添加した。
この間の銀電位(飽和銀−塩化銀電極を比較電極として
銀イオン選択電極で測定)を溶液Dを用いて+6mVに
なるように制御した。添加終了後3%KOHによってp
Hを6に合わせ、直ちに脱塩、水洗を行い種乳剤EM−
Bとした。このように作成した種乳剤EM−Bは、ハロ
ゲン化銀粒子の全投影面積の90%以上が最大隣接辺比
が1.0〜2.0の六角平板粒子よりなり、六角平板の
平均厚さ0.07μm、平均直径(円直径換算)は0.
5μm、変動係数は25%であることが電子顕微鏡観察
により判明した。
【0129】(純臭化銀乳剤EM−2の調製)以下の4
種類の溶液を用いて平板状純臭化銀乳剤を作成した。
種類の溶液を用いて平板状純臭化銀乳剤を作成した。
【0130】 A4 オセインゼラチン 29.4g HO−(CH2CH2O)n−[CH(CH3)CH2O]17− (CH2CH2O)mH (n+m=5〜7)10%メタノール水溶液 1.25ml 種乳剤EM−B 2.65モル相当 蒸留水で 3000mlとする B4 3.50N AgNO3水溶液 1760ml C4 KBr 737g 蒸留水で 1760mlにする D4 1.75N KBr水溶液 下記銀電位制御量 60℃において、特公昭58−58288号に示される
混合撹拌機を用いて、溶液A4に溶液B4及び溶液C4
の全量を同時混合法(ダブルジェット法)により添加終
了時の流速が添加開始時の流速の3倍になるように11
0分の時間を要し添加成長を行った。この間の銀電位は
溶液D4を用いて+40mVになるように制御した。
混合撹拌機を用いて、溶液A4に溶液B4及び溶液C4
の全量を同時混合法(ダブルジェット法)により添加終
了時の流速が添加開始時の流速の3倍になるように11
0分の時間を要し添加成長を行った。この間の銀電位は
溶液D4を用いて+40mVになるように制御した。
【0131】添加終了後、過剰な塩類を除去するため、
以下に示す方法で沈澱脱塩を行った。
以下に示す方法で沈澱脱塩を行った。
【0132】1.混合終了した反応液を40℃にして、
凝集ゼラチン剤としてフェニルカルバモイル基で変性さ
れた(置換率90%)を20g/AgX1モル加え、5
6wt%酢酸を加えてpHを4.30まで落とし、静置
しデカンテーションを行う。
凝集ゼラチン剤としてフェニルカルバモイル基で変性さ
れた(置換率90%)を20g/AgX1モル加え、5
6wt%酢酸を加えてpHを4.30まで落とし、静置
しデカンテーションを行う。
【0133】2.40℃の純水1.8l/AgX1モル
を加え、10分間撹拌させた後、静置、デカンテーショ
ンを行う。
を加え、10分間撹拌させた後、静置、デカンテーショ
ンを行う。
【0134】3.上記2の工程をもう1回繰り返す。
【0135】4.後ゼラチン15g/AgX1モルと炭
酸ナトリウム、水を加え、pH6.0にして分散させ、
450ml/AgX1モルに仕上げる。
酸ナトリウム、水を加え、pH6.0にして分散させ、
450ml/AgX1モルに仕上げる。
【0136】得られた乳剤EM−2の約3000個を電
子顕微鏡により観察・測定し形状を分析したところ、平
均円相当直径0.59μm、平均厚さ0.17μmの六
角平板状粒子であり、変動係数は24%であった。
子顕微鏡により観察・測定し形状を分析したところ、平
均円相当直径0.59μm、平均厚さ0.17μmの六
角平板状粒子であり、変動係数は24%であった。
【0137】 (塩化銀乳剤の調製) EM−C(塩化銀平板状種乳剤)の調製 A5 オセインゼラチン 37.5g KI 0.625g NaCl 16.5g 蒸留水で 7500mlとする B5 硝酸銀 1500g 蒸留水で 2500mlとする C5 KI 4g NaCl 140g 蒸留水で 684mlとする D5 NaCl 375g 蒸留水で 1816mlとする 40℃において、特公昭58−58288号、同58−
58289号に示される混合撹拌機中の溶液A5に、溶
液B5の684mlと溶液C5の全量を1分間かけて添
加した。EAgを149mVに調整し、20分間オスト
ワルド熟成した後に溶液A5の残り全量と溶液D5の全
量を40分かけて添加した。その間、EAgは149m
Vに制御した。
58289号に示される混合撹拌機中の溶液A5に、溶
液B5の684mlと溶液C5の全量を1分間かけて添
加した。EAgを149mVに調整し、20分間オスト
ワルド熟成した後に溶液A5の残り全量と溶液D5の全
量を40分かけて添加した。その間、EAgは149m
Vに制御した。
【0138】添加終了後、直ちに脱塩、水洗を行い種乳
剤EM−Cとした。このように作成した種乳剤EM−C
は、ハロゲン化銀粒子の全投影面積の60%以上が(1
00)面を主平面とする平板状粒子よりなり、平均厚さ
0.07μm、平均直径は0.5μm、変動係数は25
%であることが電子顕微鏡観察により判明した。
剤EM−Cとした。このように作成した種乳剤EM−C
は、ハロゲン化銀粒子の全投影面積の60%以上が(1
00)面を主平面とする平板状粒子よりなり、平均厚さ
0.07μm、平均直径は0.5μm、変動係数は25
%であることが電子顕微鏡観察により判明した。
【0139】(塩化銀乳剤EM−3の調製)以下の4種
類の溶液を用いて平板状純塩化銀乳剤を作成した。
類の溶液を用いて平板状純塩化銀乳剤を作成した。
【0140】 A6 オセインゼラチン 29.4g HO−(CH2CH2O)n−[CH(CH3)CH2O]17− (CH2CH2O)mH (n+m=5〜7)10%メタノール水溶液 1.25ml 種乳剤EM−C 0.98モル相当 蒸留水で 3000mlとする B6 3.50N AgNO3水溶液 2240ml C6 NaCl 455g 蒸留水で 2240mlにする D6 1.75N NaCl水溶液 下記銀電位制御量 40℃において、特公昭58−58288号に示される
混合撹拌機を用いて、溶液A6に溶液B6及び溶液C6
の全量を同時混合法(ダブルジェット法)により添加終
了時の流速が添加開始時の流速の3倍になるように11
0分の時間を要し添加成長を行った。この間の銀電位は
溶液D6を用いて+120mVになるように制御した。
添加終了後、過剰な塩類を除去するため、EM−1同様
の方法で沈澱脱塩を行った。
混合撹拌機を用いて、溶液A6に溶液B6及び溶液C6
の全量を同時混合法(ダブルジェット法)により添加終
了時の流速が添加開始時の流速の3倍になるように11
0分の時間を要し添加成長を行った。この間の銀電位は
溶液D6を用いて+120mVになるように制御した。
添加終了後、過剰な塩類を除去するため、EM−1同様
の方法で沈澱脱塩を行った。
【0141】得られた乳剤EM−3の約3000個を電
子顕微鏡により観察・測定し形状を分析したところ、全
投影面積の80%以上が(100)面を主平面とする、
平均直径1.17μm、平均厚さ0.12μmの平板状
粒子であり、変動係数は24%であった。
子顕微鏡により観察・測定し形状を分析したところ、全
投影面積の80%以上が(100)面を主平面とする、
平均直径1.17μm、平均厚さ0.12μmの平板状
粒子であり、変動係数は24%であった。
【0142】(EM−4〔AgBr0.45 Cl0.55平板
状粒子〕の調製)EM−3の調製方法において、溶液C
6中に臭化カリウム473gを加え、溶液B6、溶液C
6添加中の銀電位を+100mVに制御する以外は、全
く同様に行うことで平板状粒子EM−4を調製した。
状粒子〕の調製)EM−3の調製方法において、溶液C
6中に臭化カリウム473gを加え、溶液B6、溶液C
6添加中の銀電位を+100mVに制御する以外は、全
く同様に行うことで平板状粒子EM−4を調製した。
【0143】得られた乳剤EM−4の約3000個を電
子顕微鏡により観察・測定し形状を分析したところ、全
投影面積の80%以上が(100)面を主平面とする、
平均直径1.17μm、平均厚さ0.12μmの平板状
粒子であり、変動係数は24%であった。
子顕微鏡により観察・測定し形状を分析したところ、全
投影面積の80%以上が(100)面を主平面とする、
平均直径1.17μm、平均厚さ0.12μmの平板状
粒子であり、変動係数は24%であった。
【0144】 (沃化銀微粒子の調製) A7 オセインゼラチン 100g KI 8.5g 蒸留水で 2000mlにする B7 AgNO3 360g 蒸留水で 605mlにする C7 KI 352g 蒸留水で 605mlにする 反応容器に溶液A7を加え、40℃に保ち撹拌しなが
ら、溶液B7及び溶液C7を同時混合法により30分を
要して定速で添加した。添加中のpAgは常法のpAg
制御手段で13.5に保った。生成した沃化銀は平均粒
径0.06μmのβ−AgIとγ−AgIの混合物であ
った。この乳剤を沃化銀微粒子乳剤という。
ら、溶液B7及び溶液C7を同時混合法により30分を
要して定速で添加した。添加中のpAgは常法のpAg
制御手段で13.5に保った。生成した沃化銀は平均粒
径0.06μmのβ−AgIとγ−AgIの混合物であ
った。この乳剤を沃化銀微粒子乳剤という。
【0145】(分光増感色素の固体微粒子分散物の調
製)下記分光増感色素(A)及び(B)を100:1の
比率で予め27℃に調温した水に加え、高速撹拌機(デ
ィゾルバー)で3,500rpmにて30〜120分間
にわたって撹拌することによって、分光増感色素の固体
微粒子状の分散物を得た。このとき増感色素(A)の濃
度が2%になるように調整した。
製)下記分光増感色素(A)及び(B)を100:1の
比率で予め27℃に調温した水に加え、高速撹拌機(デ
ィゾルバー)で3,500rpmにて30〜120分間
にわたって撹拌することによって、分光増感色素の固体
微粒子状の分散物を得た。このとき増感色素(A)の濃
度が2%になるように調整した。
【0146】増感色素(A):5,5′−ジクロロ−9
−エチル−3,3′−ジ−(3−スルホプロピル)オキ
サカルボシアニンナトリウム塩 無水物 増感色素(B):5,5′−ジ−(ブトキシカルボニ
ル)−1,1′−ジエチル−3,3′−ジ−(4−スル
ホブチル)ベンゾイミダゾロカルボシアニンナトリウム
塩 無水物 (セレン増感)各乳剤EM−1〜EM−4を以下の方法
で分光増感及び化学増感を施した。
−エチル−3,3′−ジ−(3−スルホプロピル)オキ
サカルボシアニンナトリウム塩 無水物 増感色素(B):5,5′−ジ−(ブトキシカルボニ
ル)−1,1′−ジエチル−3,3′−ジ−(4−スル
ホブチル)ベンゾイミダゾロカルボシアニンナトリウム
塩 無水物 (セレン増感)各乳剤EM−1〜EM−4を以下の方法
で分光増感及び化学増感を施した。
【0147】乳剤を60℃にした後、増感色素(A)が
銀1モル当たり460mgになるように、上記固体微粒
子分散物を加えた後に、チオシアン酸アンモニウム塩を
銀1モル当たり7.0×10-4モルを加え、塩化金酸カ
リウムとチオ硫酸ナトリウム及びトリフェニルフォスフ
ィンセレナイドを銀1モル当たり3.0×10-6モル、
添加して最適に化学熟成を行い、上記沃化銀微粒子乳剤
を3×10-3モル/Ag1モル添加後、4−ヒドロキシ
−6−メチル−1,3,3a,7−テトラザインデン
(TAI)3×10-2モルで安定化した。
銀1モル当たり460mgになるように、上記固体微粒
子分散物を加えた後に、チオシアン酸アンモニウム塩を
銀1モル当たり7.0×10-4モルを加え、塩化金酸カ
リウムとチオ硫酸ナトリウム及びトリフェニルフォスフ
ィンセレナイドを銀1モル当たり3.0×10-6モル、
添加して最適に化学熟成を行い、上記沃化銀微粒子乳剤
を3×10-3モル/Ag1モル添加後、4−ヒドロキシ
−6−メチル−1,3,3a,7−テトラザインデン
(TAI)3×10-2モルで安定化した。
【0148】次にこのようにして増感を施した乳剤EM
−1〜EM−4に、後記する添加剤を加え乳剤層塗布液
とした。また同時に保護層塗布液も調製した。
−1〜EM−4に、後記する添加剤を加え乳剤層塗布液
とした。また同時に保護層塗布液も調製した。
【0149】〈導電性粒子の作成〉 (導電性粒子P1の分散液)塩化第二スズ水和物65g
を水溶液2000ccに溶解し均一溶液を得た。次いで
これを煮沸し共沈澱物を得た。生成した沈殿物をデカン
テーションにより取り出し、蒸留水にて沈澱を何度も水
洗する。沈澱を洗浄した蒸留水中に硝酸銀を滴下し塩素
イオンの反応がないことを確認する。この沈澱物を蒸留
水1000cc中に添加して分散後、全量を2000c
cとする。更に30%アンモニア水を40cc加え、水
浴中で加温すると、SnO2ゾル溶液が生成する。
を水溶液2000ccに溶解し均一溶液を得た。次いで
これを煮沸し共沈澱物を得た。生成した沈殿物をデカン
テーションにより取り出し、蒸留水にて沈澱を何度も水
洗する。沈澱を洗浄した蒸留水中に硝酸銀を滴下し塩素
イオンの反応がないことを確認する。この沈澱物を蒸留
水1000cc中に添加して分散後、全量を2000c
cとする。更に30%アンモニア水を40cc加え、水
浴中で加温すると、SnO2ゾル溶液が生成する。
【0150】塗布液として用いるときには、このゾル溶
液へアンモニアを吹き込みながら濃度約8%に濃縮して
用いる。また、このゾル溶液に含まれる粒子の体積固有
抵抗については、ゾル溶液を用いてシリカガラス上に薄
膜を形成し、四端子法で測定した値を粒子の体積固有抵
抗値とした。測定された体積固有抵抗は3.4×104
Ωcmであった。
液へアンモニアを吹き込みながら濃度約8%に濃縮して
用いる。また、このゾル溶液に含まれる粒子の体積固有
抵抗については、ゾル溶液を用いてシリカガラス上に薄
膜を形成し、四端子法で測定した値を粒子の体積固有抵
抗値とした。測定された体積固有抵抗は3.4×104
Ωcmであった。
【0151】(導電性粒子P2の分散液)塩化第二スズ
水和物65gと三塩化アンチモン1.0gを水溶液20
00ccに溶解し均一溶液を得た。次いでこれを煮沸し
共沈殿物を得た。生成した沈殿物をデカンテーションに
より取り出し、蒸留水にて沈澱を何度も水洗いする。沈
澱を洗浄した蒸留水中に硝酸銀を滴下し塩素イオンの反
応がないことを確認する。この沈澱物を蒸留水1000
cc中に添加して分散後、全量を2000ccとする。
更に30%アンモニア水を40cc加え、水溶中で加温
すると、SnO2ゾル溶液が生成する。
水和物65gと三塩化アンチモン1.0gを水溶液20
00ccに溶解し均一溶液を得た。次いでこれを煮沸し
共沈殿物を得た。生成した沈殿物をデカンテーションに
より取り出し、蒸留水にて沈澱を何度も水洗いする。沈
澱を洗浄した蒸留水中に硝酸銀を滴下し塩素イオンの反
応がないことを確認する。この沈澱物を蒸留水1000
cc中に添加して分散後、全量を2000ccとする。
更に30%アンモニア水を40cc加え、水溶中で加温
すると、SnO2ゾル溶液が生成する。
【0152】このゾル溶液を400℃に加熱した電気炉
中に噴霧し導電性粉末を合成した。得られた粉末を錠剤
成型機にて成形後、4端子法で測定された体積固有抵抗
は1.5×101Ωcmであった。
中に噴霧し導電性粉末を合成した。得られた粉末を錠剤
成型機にて成形後、4端子法で測定された体積固有抵抗
は1.5×101Ωcmであった。
【0153】この導電性粉末をpH10のアンモニア水
に濃度8wt%となるように分散した。
に濃度8wt%となるように分散した。
【0154】(ハロゲン化銀写真感光材料用支持体の作
成) (支持体1)2軸延伸・熱固定後の厚さ175μm、濃
度0.15に青色着色したポリエチレンテレフタレート
フィルムの両面に8W分/m2のコロナ放電処理を施
し、一方の面に特開昭59−19941号公報記載のよ
うに下記下引き塗布液B−1を乾燥膜厚0.8μmにな
るように下引き層B−1として塗布し、100℃1分間
乾燥した。またポリエチレンテレフタレートフィルムに
対し下引き層B−1と反対側の面に特開昭59−774
39号公報記載のように下記下引き塗布液B−2を下引
き層B−2−1として塗布110℃1分間乾燥した。
成) (支持体1)2軸延伸・熱固定後の厚さ175μm、濃
度0.15に青色着色したポリエチレンテレフタレート
フィルムの両面に8W分/m2のコロナ放電処理を施
し、一方の面に特開昭59−19941号公報記載のよ
うに下記下引き塗布液B−1を乾燥膜厚0.8μmにな
るように下引き層B−1として塗布し、100℃1分間
乾燥した。またポリエチレンテレフタレートフィルムに
対し下引き層B−1と反対側の面に特開昭59−774
39号公報記載のように下記下引き塗布液B−2を下引
き層B−2−1として塗布110℃1分間乾燥した。
【0155】 下引き第1層 〈下引き塗布液B−1〉 ブチルアクリレート30重量%、t−ブチルアクリレート20重量%、 スチレン25重量%及び2−ヒドロキシエチルアクリレート25重量%の 共重合体ラテックス液(固形分30%) 270g 化合物A 0.6g ヘキサメチレン−1,6−ビス(エチレンウレア) 0.8g 水で1lに仕上げる。
【0156】 〈下引き塗布液B−2−1〉 ブチルアクリレート40重量%、スチレン20重量%及び グリシジルアクリレート40重量%の共重合体ラテックス液 (固形分30%) 23g 導電性P1分散液 415g ポリエチレングリコール(分子量600) 0.12g 水 568g 下引き第2層 更に上記下引き層B−1及びB−2−1の上に8W分/
m2のコロナ放電を施し、下記塗布液B−3を乾燥膜厚
0.1μmになるように塗布し、100℃1分間乾燥し
た。
m2のコロナ放電を施し、下記塗布液B−3を乾燥膜厚
0.1μmになるように塗布し、100℃1分間乾燥し
た。
【0157】 〈下引き塗布液B−3〉 ゼラチン 10g 化合物A 0.4g 化合物B 0.1g 平均粒径3μmのシリカ粒子 0.1g 水で1lに仕上げる。
【0158】
【化22】
【0159】(支持体2)試料作成条件は、上記下引き
塗布液B−2−1の代わりに下記下引き塗布液B−2−
2を用いた以外は、支持体1と同様に作成した。
塗布液B−2−1の代わりに下記下引き塗布液B−2−
2を用いた以外は、支持体1と同様に作成した。
【0160】 〈下引き塗布液B−2−2〉 ブチルアクリレート40重量%、スチレン20重量%、 グリシジルアクリレート40重量%の共重合体ラテックス液 (固形分30%) 23g ポリエチレングリコール(分子量600) 1.65g 水 700g 導電性粒子P2分散液 760g (支持体3)試料作成条件は、上記下引き塗布液B−2
−2の代わりに下記下引き塗布液B−3−1を用いた以
外は、支持体1と同様に作成した。
−2の代わりに下記下引き塗布液B−3−1を用いた以
外は、支持体1と同様に作成した。
【0161】 〈下引き塗布液B−3−1〉 ブチルアクリレート40重量%、スチレン20重量%、 グリシジルアクリレート40重量%の共重合体ラテックス液 (固形分30%) 23g 五酸化バナジウム 296g ポリエチレングリコール(分子量600) 1.65g 水 700g (比較支持体)比較の支持体としては、グリシジルメタ
クリレート50wt%、メチルアクリレート10wt
%、ブチルメタクリレート40wt%の3種のモノマー
からなる共重合体の濃度が10wt%になるように希釈
して得た共重合体水性分散液を下引き液として175μ
mのX線フィルム用の濃度0.160に青色着色したポ
リエチレンテレフタレートフィルムベースを用いた。
クリレート50wt%、メチルアクリレート10wt
%、ブチルメタクリレート40wt%の3種のモノマー
からなる共重合体の濃度が10wt%になるように希釈
して得た共重合体水性分散液を下引き液として175μ
mのX線フィルム用の濃度0.160に青色着色したポ
リエチレンテレフタレートフィルムベースを用いた。
【0162】(試料の作成)上記、支持体の両面に下記
のクロスオーバーカット層、乳剤層、中間層、保護層の
順に、両面に均一に塗布乾燥して試料を作成した。下記
の所定の塗布量になるように同時重層塗布した。
のクロスオーバーカット層、乳剤層、中間層、保護層の
順に、両面に均一に塗布乾燥して試料を作成した。下記
の所定の塗布量になるように同時重層塗布した。
【0163】 第1層(クロスオーバーカット層) 固体微粒子分散体染料(AH) 20mg/m2 ゼラチン 0.2g/m2 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 5mg/m2 化合物(I) 5mg/m2 2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−1,3,5−トリアジンナトリウム塩 5mg/m2 コロイダルシリカ(平均粒径0.014μm) 10mg/m2 第2層(乳剤層)上記で得た各々の乳剤に下記の各種添
加剤を加えた。
加剤を加えた。
【0164】 化合物(G) 0.5mg/m2 2,6−ビス(ヒドロキシアミノ)−4−ジエチルアミノ− 1,3,5−トリアジン 5mg/m2 t−ブチル−カテコール 130mg/m2 ポリビニルピロリドン(分子量10,000) 35mg/m2 スチレン−無水マレイン酸共重合体 80mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 80mg/m2 トリメチロールプロパン 350mg/m2 ジエチレングリコール 50mg/m2 ロイコ化合物 表1に示す量 ニトロフェニル−トリフェニル−ホスホニウムクロリド 20mg/m2 1,3−ジヒドロキシベンゼン−4−スルホン酸アンモニウム 500mg/m2 2−メルカプトベンツイミダゾール−5−スルホン酸ナトリウム 5mg/m2 化合物(H) 0.5mg/m2 n-C4H9OCH2CH(OH)CH2N(CH2COOH)2 350mg/m2 化合物(M) 5mg/m2 化合物(N) 5mg/m2 コロイダルシリカ 0.5g/m2 ラテックス(L) 0.2g/m2 デキストリン(平均分子量1000) 0.2g/m2 デキストラン(平均分子量40000) 0.1g/m2 ただし、ゼラチンとしては1.0g/m2になるように
調整した。
調整した。
【0165】 第3層(中間層) ゼラチン 0.4g/m2 ホルムアルデヒド 10mg/m2 2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−1,3,5−トリアジンナトリウム塩 5mg/m2 ビス−ビニルスルホニルメチルエーテル 18mg/m2 ラテックス(L) 0.05g/m2 ポリアクリル酸ナトリウム 10mg/m2 化合物(S−1) 3mg/m2 化合物(K) 5mg/m2 硬膜剤(B) 1mg/m2 第4層(保護層) ゼラチン 0.4g/m2 ポリメチルメタクリレートからなるマット剤(面積平均粒径7.0μm) 50mg/m2 ホルムアルデヒド 10mg/m2 2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−1,3,5−トリアジンナトリウム塩 5mg/m2 ビス−ビニルスルホニルメチルエーテル 18mg/m2 ラテックス(L) 0.1g/m2 ポリアクリルアミド(平均分子量10000) 0.05g/m2 ポリアクリル酸ナトリウム 20mg/m2 ポリシロキサン(SI) 20mg/m2 化合物(I) 12mg/m2 化合物(J) 2mg/m2 化合物(S−1) 7mg/m2 化合物(K) 15mg/m2 化合物(O) 50mg/m2 化合物(S−2) 5mg/m2 C9F19−O−(CH2CH2O)11−H 3mg/m2 S−3 2mg/m2 S−4 1mg/m2 硬膜剤(B) 1.5mg/m2 なお、素材の付量は片面分であり、塗布銀量は片面分と
して表1になるように調整した。
して表1になるように調整した。
【0166】
【化23】
【0167】
【化24】
【0168】
【化25】
【0169】(帯電防止性能の評価:灰付着テスト法)
23℃、20%RHの条件下で、現像済み試料の乳剤面
側をゴムローラーで数回こすり、タバコの灰を近づけ
て、フィルムにくっつくかどうかを下記評価に従って調
べた。
23℃、20%RHの条件下で、現像済み試料の乳剤面
側をゴムローラーで数回こすり、タバコの灰を近づけ
て、フィルムにくっつくかどうかを下記評価に従って調
べた。
【0170】4:1cm未満まで近づけても全く付着し
ない 3:1〜4cmまで近づけると付着する 2:4〜10cmまで近づけると付着する 1:10cm以上でも付着する。
ない 3:1〜4cmまで近づけると付着する 2:4〜10cmまで近づけると付着する 1:10cm以上でも付着する。
【0171】(現像ムラの評価)SRX−503自動現
像機を以下の処理時間になるように改造した自動現像機
を用いてSR−DF処理液(いずれもコニカ〔株〕製)
で処理した。
像機を以下の処理時間になるように改造した自動現像機
を用いてSR−DF処理液(いずれもコニカ〔株〕製)
で処理した。
【0172】得られたフィルム試料の大角サイズ(3
5.6×35.6cm)を濃度が1.0になるように均
一にX線露光し、これを50枚連続処理した。この現像
処理済み試料をシャーカステンで観察したときに見える
現像ムラを下記の4段階に分け、現像ムラとして評価し
た。処理液の補充量は現像液、定着液ともに125ml
/m2で処理した。
5.6×35.6cm)を濃度が1.0になるように均
一にX線露光し、これを50枚連続処理した。この現像
処理済み試料をシャーカステンで観察したときに見える
現像ムラを下記の4段階に分け、現像ムラとして評価し
た。処理液の補充量は現像液、定着液ともに125ml
/m2で処理した。
【0173】現像時間:8秒(現像温度35℃) 定着時間:6.2秒 水洗時間:4秒 水洗−乾燥間(スクイズ):3.2秒 乾燥時間:8.6秒 全処理時間:30秒 このとき乾燥温度は、ヒートローラーの表面温度が60
℃で乾燥を行った。ヒートローラーはアルミテフロンコ
ートした熱源としてハロゲンヒーターを使用したものを
用いた。
℃で乾燥を行った。ヒートローラーはアルミテフロンコ
ートした熱源としてハロゲンヒーターを使用したものを
用いた。
【0174】4:ムラが全く認められない 3:ムラが少し認められる 2:ムラが相当認められる 1:ムラが全面に認められる。
【0175】(銀色調の評価)得られたフィルム試料の
大角サイズ(35.6×35.6cm)を濃度が1.2
になるように均一にX線露光し、上記と同様に現像処理
した。この現像処理済み試料を50℃、80%RHの温
湿度下で7日間放置してからシャーカステンで観察し、
透過光による銀色調を目視により評価した。
大角サイズ(35.6×35.6cm)を濃度が1.2
になるように均一にX線露光し、上記と同様に現像処理
した。この現像処理済み試料を50℃、80%RHの温
湿度下で7日間放置してからシャーカステンで観察し、
透過光による銀色調を目視により評価した。
【0176】4:純黒色 3:やや赤味を帯びた黒色 2:赤味を帯びた黒色 1:黄色味を帯びた黒色 得られた結果を下記の表1に示す。
【0177】
【表1】
【0178】表1の結果から明かなように、本発明の試
料は帯電防止性能が優れ、かつ現像ムラの少ない銀色調
の純黒色な画像を有するハロゲン化銀写真感光材料を得
られた。
料は帯電防止性能が優れ、かつ現像ムラの少ない銀色調
の純黒色な画像を有するハロゲン化銀写真感光材料を得
られた。
【0179】
【発明の効果】実施例で実証した如く、本発明によれば
帯電防止性能が優れ、かつ、超迅速処理に際しても現像
処理ムラが少なく、銀色調の優れたハロゲン化銀写真感
光材料を提供できた。
帯電防止性能が優れ、かつ、超迅速処理に際しても現像
処理ムラが少なく、銀色調の優れたハロゲン化銀写真感
光材料を提供できた。
Claims (2)
- 【請求項1】 透明支持体の少なくとも一方の側に、感
光性ハロゲン化銀乳剤層と導電層を含む親水性コロイド
層を有するハロゲン化銀写真感光材料に於いて、該導電
層中には少なくとも1種の金属酸化物コロイドを含有
し、且つ、該親水性コロイド層中には少なくとも1種の
ロイコ化合物を含有することを特徴とするハロゲン化銀
写真感光材料。 - 【請求項2】 感光性ハロゲン化銀乳剤層の塗布銀量が
片面当たり0.5〜1.5g/m2であり、且つ、ゼラ
チン量が全親水性コロイド層中のバインダー量の10〜
40重量%であることを特徴とする請求項1記載のハロ
ゲン化銀写真感光材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19858397A JPH10104792A (ja) | 1996-08-06 | 1997-07-24 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8-207185 | 1996-08-06 | ||
| JP20718596 | 1996-08-06 | ||
| JP19858397A JPH10104792A (ja) | 1996-08-06 | 1997-07-24 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10104792A true JPH10104792A (ja) | 1998-04-24 |
Family
ID=26511061
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19858397A Pending JPH10104792A (ja) | 1996-08-06 | 1997-07-24 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10104792A (ja) |
-
1997
- 1997-07-24 JP JP19858397A patent/JPH10104792A/ja active Pending
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